JPH07180086A - Nickel plating method and nickel plating rack - Google Patents

Nickel plating method and nickel plating rack

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JPH07180086A
JPH07180086A JP32888093A JP32888093A JPH07180086A JP H07180086 A JPH07180086 A JP H07180086A JP 32888093 A JP32888093 A JP 32888093A JP 32888093 A JP32888093 A JP 32888093A JP H07180086 A JPH07180086 A JP H07180086A
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rack
plating
plated
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Abstract

PURPOSE:To easily reduce the supply of a plating soln. and to form a good multiple glossy plating by dipping a material to be plated in the preceding plating tank, then pulling up the material, applying spray cleaning and draining and then sending the material to the succeeding plating tank. CONSTITUTION:A rack 16 holding a material 19 to be plated through a hooking member is suspended from a hook 18 fixed to the main body 12 of a conveyor provided with a liq. splash preventive plate 13. This rack conveyor 11 is horizontally moved, and semigloss nickel plating, glossy nickel plating and nonconductive fine particle-dispersed nickel plating are successively conducted. In this triple glossy nickel plating method, when the material 19 is dipped in a glossy nickel plating tank (not shown in the figure), plated with nickel and pulled up with the hook 18, a cleaning soln. and a gas are sprayed from a shower 14 and an air gun 15 to sufficiently clean and drain the material 19. The material 19 is then conveyed to the nonconductive fine particle-dispersed nickel plating tank by the conveyor 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ラック式のニッケルめ
っきの形成方法およびラック式のニッケルめっきの形成
方法に用いられてなるニッケルめっき用ラックに関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rack-type nickel plating forming method and a nickel-plating rack used in the rack-type nickel plating forming method.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、被めっき物上にめっきを行うた
めの手法としては、大きく分けて電気めっきと無電解め
っきとに分類することができる。これらのうち、電気め
っきは、めっき液としての金属塩を溶解させた水溶液ま
たは非水溶液中に、カソードの一部として被めっき物を
浸漬し、電極により通電を行い、該めっき液から電気分
解によりカソードの被めっき物上に金属、例えば、ニッ
ケル、クロム、銅などを析出させるものである。
2. Description of the Related Art In general, methods for plating on an object to be plated can be roughly classified into electroplating and electroless plating. Among these, electroplating is performed by immersing an object to be plated as a part of a cathode in an aqueous solution or a non-aqueous solution in which a metal salt is dissolved as a plating solution, energizing the electrodes, and electrolyzing the plating solution. A metal, for example, nickel, chromium, copper, or the like is deposited on the object to be plated of the cathode.

【0003】かかる電気めっきの1つであるニッケルめ
っきは、鉄鋼、銅、銅合金、亜鉛ダイカスト上に防食お
よび装飾用として用いられているが、ニッケルは、変色
しやすいので、通常、ニッケルの上にクロムめっきが施
されるもので、一般的には、装飾・防食用および工業用
クロムめっきの下地めっきとして用いられている。
Nickel plating, which is one of such electroplating methods, is used on steel, copper, copper alloys, and zinc die castings for anticorrosion and for decoration. However, nickel is usually discolored, so that it is usually over nickel. Is plated with chrome, and is generally used as a base plating for decorative / corrosion protection and industrial chrome plating.

【0004】上記装飾・防食装用クロムめっきの構成
は、図8に示すように、鉄鋼などの素材の表面を前処理
してなる被めっき物52上に銅めっき53、半光沢ニッ
ケルめっき54、光沢ニッケルめっき55、非導電性微
粒子分散ニッケルめっき56およびクロムめっき57が
順に形成されてなる多層めっきとなっている。このうち
外装用として、装飾・防食装用クロムめっきを用いる場
合には、めっき仕上げ後の被めっき物の外観上の美観の
みならず、良好な耐食性も必要となる。
As shown in FIG. 8, the structure of the chrome plating for decoration and anticorrosion equipment is as follows. Copper plating 53, semi-bright nickel plating 54, gloss This is a multi-layer plating in which a nickel plating 55, a non-conductive fine particle dispersed nickel plating 56 and a chromium plating 57 are sequentially formed. In the case of using chrome plating for decoration / corrosion-proof equipment as the exterior material, good corrosion resistance is required as well as the appearance of the plated object after plating.

【0005】かかる耐食性向上の手法としては、各めっ
き層の厚膜化、腐食電流を分散させることによって耐食
性を向上させるためにクロムめっき層に生成させる表面
微孔数の適正化(通常、15000〜25000個/c
2 程度)およびニッケルめっき層間の電位管理の適正
化が挙げられる。
As a method of improving the corrosion resistance, the thickness of each plating layer is increased, and the number of surface micropores generated in the chromium plating layer is optimized in order to improve the corrosion resistance by dispersing the corrosion current (generally 15000 to 1500). 25,000 pieces / c
m 2 ) and optimization of potential control between nickel plating layers.

【0006】しかしながら、近年、顧客ニーズの高まり
により、製品の外装用部材に求められる外観品質、耐久
品質を長期間、安定して維持することが必要になってき
ており、耐食性の向上のために形成したはずの表面微孔
が、腐食の進行による表面微孔径58(図8に示す)の
拡大により、外観上の美観を損なうなどにより不具合と
して指摘されるケースも出てきており、表面微孔径58
の拡大防止がポイントとなっている。
However, in recent years, due to the increasing needs of customers, it has become necessary to stably maintain the appearance quality and the durability quality required for exterior members of products for a long period of time, and in order to improve the corrosion resistance. In some cases, the surface micropores that should have been formed are pointed out as a defect due to the expansion of the surface micropore diameter 58 (shown in FIG. 8) due to the progress of corrosion, which impairs the appearance and the like. 58
The key is to prevent the expansion.

【0007】上記表面微孔径58の拡大を防止する手段
としては、光沢ニッケルめっき液中に添加剤として、例
えば、1,5−ナフタリンジスルホン酸ナトリウム、
1,3,6−ナフタリントリスルホン酸ナトリウム、サ
ッカリンなどを加え、析出する光沢ニッケルめっき層中
に硫黄などを含有させることにより、光沢ニッケルめっ
き層を非導電性微粒子分散ニッケルめっき層よりも卑な
電位に形成、保持させることにより、図9に示すように
表面微孔における腐食を、表面微孔径58の拡大につな
がる横方向(表面微孔の径方向)でなく、むしろ縦方向
(表面微孔の深さ方向)に進行させることが有効である
ことが知られている。
As a means for preventing the expansion of the surface micropore diameter 58, an additive such as sodium 1,5-naphthalene disulfonate in a bright nickel plating solution is used.
Sodium 1,3,6-naphthalenetrisulfonate, saccharin, etc. are added, and sulfur is contained in the deposited bright nickel plating layer, so that the bright nickel plating layer is less base than the non-conductive fine particle-dispersed nickel plating layer. By forming and maintaining the potential, corrosion in the surface micropores as shown in FIG. 9 is not in the lateral direction (radial direction of the surface micropores) which leads to the expansion of the surface micropore diameter 58, but rather in the vertical direction (surface micropores). It is known that it is effective to proceed in the direction of depth.

【0008】しかしながら、従来の装飾・防食用クロム
めっきにおけるニッケルめっき製造ラインでは、図10
に示すように、銅めっき槽22、水洗槽23、半光沢ニ
ッケルめっき槽24、光沢ニッケルめっき槽25、非導
電性微粒子分散ニッケルめっき槽26および水洗槽27
を備えた製造ラインで構成されており、光沢ニッケルめ
っき槽25と非導電性微粒子分散ニッケルめっき槽26
の間に水洗槽がないラインとなっている。こうしたライ
ンの多くでは、設備レイアウト上、光沢ニッケルめっき
槽25と非導電性微粒子分散ニッケルめっき槽26の間
に水洗槽を設置することは困難であり、そのため上記表
面微孔径の拡大防止手段として、光沢ニッケルめっき液
中に添加剤を加えても、かかる光沢ニッケルめっき液
が、被めっき物に同伴されて非導電性微粒子分散ニッケ
ルめっき槽26に持ち込まれるため、前記添加剤の効力
が有効に発揮されず、形成される非導電性微粒子分散ニ
ッケルめっき層の電位の方が卑となってしまうため、防
止効果が得られず、表面微孔径が拡大しやすくなってし
まうという問題点があった。
However, in the nickel plating production line in the conventional chrome plating for decoration / corrosion protection, as shown in FIG.
As shown in FIG. 3, a copper plating tank 22, a water washing tank 23, a semi-bright nickel plating tank 24, a bright nickel plating tank 25, a non-conductive fine particle dispersed nickel plating tank 26 and a water washing tank 27.
The production line is equipped with a bright nickel plating bath 25 and a non-conductive fine particle dispersed nickel plating bath 26.
There is no washing tank between the lines. In many of these lines, it is difficult to install a water washing tank between the bright nickel plating tank 25 and the non-conductive fine particle dispersion nickel plating tank 26 in terms of equipment layout. Therefore, as a means for preventing the expansion of the surface micropore diameter, Even if an additive is added to the bright nickel plating solution, since the bright nickel plating solution is carried along with the object to be plated and brought into the non-conductive fine particle-dispersed nickel plating bath 26, the effect of the additive is effectively exhibited. However, since the potential of the formed non-conductive fine particle-dispersed nickel plating layer becomes base, the preventive effect cannot be obtained and the surface micropore diameter tends to increase.

【0009】さらに、上述したような被めっき物上に多
重の光沢めっきを行うニッケルめっきの形成方法におい
ては、通常、被めっき物の保持および通電のための電極
にめっき用ラックが使われている。本明細書において
は、かかるめっき用ラックを用いてなるものを、単に
「ラック式」と称する。
Further, in the method of forming nickel plating for performing multiple bright plating on an object to be plated as described above, a plating rack is usually used as an electrode for holding and energizing the object to be plated. . In the present specification, the one using such a plating rack is simply referred to as "rack type".

【0010】図11は、従来のニッケルめっき用ラック
の一実施態様を表す概略説明図であり、図12は、図1
1のめっき用ラックを用いてなる従来のラック式のニッ
ケルめっき装置の1種である光沢ニッケルめっき装置の
一実施態様を表す概略説明図を示す。
FIG. 11 is a schematic explanatory view showing an embodiment of a conventional nickel plating rack, and FIG.
FIG. 1 is a schematic explanatory view showing an embodiment of a bright nickel plating apparatus which is one type of conventional rack type nickel plating apparatus using the plating rack of No. 1.

【0011】図12より、ラック式の光沢ニッケルめっ
き槽48の内部には、光沢ニッケルめっき液49が入れ
られている。また、光沢ニッケルめっき槽48の上方に
位置するアノード用導電性支持体50には、ニッケルめ
っき主成分となるニッケルチップ51等を入れたチタン
等の材質からなるアノードケース47がめっき液49中
に浸漬するまで吊り下げられ、さらにめっき槽48の上
方でかつアノード用導電性支持体50に平行に対峙した
位置にあるカソード用導電性支持体45には、被めっき
物19を引っ掛けたニッケルめっき用ラック本体41が
めっき液49中に浸漬するまで吊り下げられている。こ
うした状態において、電極に通電を行うことにより、め
っきを行う。その際、被めっき物19に光沢ニッケルめ
っきによりニッケルが析出されるだけでなく、ニッケル
めっき用ラック16の引っ掛け部材40にもめっきによ
りニッケルが析出される。なお、引っ掛け部材40およ
びカソード用導電性支持体45との接触部46以外の部
分は、ポリ塩化ビニルなどの被導電性材料を用いてコー
ティングを施してあるので光沢ニッケルめっきによりニ
ッケルは析出しない。
As shown in FIG. 12, a bright nickel plating solution 49 is contained in the rack-type bright nickel plating bath 48. Further, in the anode conductive support 50 located above the bright nickel plating tank 48, an anode case 47 made of a material such as titanium containing a nickel chip 51 as a main component of nickel plating is placed in a plating solution 49. For nickel plating on which the object to be plated 19 is hooked, the cathode conductive support 45, which is suspended until it is immersed, is located above the plating tank 48 and in parallel with the anode conductive support 50. The rack body 41 is suspended until it is immersed in the plating solution 49. In such a state, the electrodes are energized to perform plating. At that time, not only nickel is deposited on the object to be plated 19 by bright nickel plating, but also nickel is deposited on the hooking member 40 of the nickel plating rack 16 by plating. The portions other than the contact portion 46 with the hooking member 40 and the cathode conductive support 45 are coated with a conductive material such as polyvinyl chloride, so that nickel is not deposited by bright nickel plating.

【0012】しかしながら、このような従来のニッケル
めっき用ラック16にあっては、繰り返しの使用により
引っ掛け部材40にニッケルめっきにより析出したニッ
ケルが何層にも重なって被覆形成されてしまい、被めっ
き物19を引っ掛けられなくなるため、引っ掛け部材4
0に析出したニッケルめっきを物理的、化学的あるいは
電気化学的に除去しなければならず、その除去工数の増
大および除去したニッケル分の廃棄量の増大という問題
点もあった。
However, in such a conventional nickel plating rack 16 as described above, the nickel deposited by the nickel plating is overlapped and formed on the hooking member 40 by repeated use, so that the object to be plated is coated. Since it is not possible to hook 19, the hook member 4
The nickel plating deposited at 0 had to be removed physically, chemically or electrochemically, and there was also a problem that the number of removal steps and the amount of nickel removed was increased.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、ニッケ
ルめっき用ラックを用いて、被めっき物上に多重光沢め
っきを行うラック式ニッケルめっき方法において、光沢
ニッケルめっき槽と非導電性微粒子分散ニッケルめっき
槽の間に水洗槽を有していないような既存の設備、工程
を大きく変更することなく、非導電性微粒子分散ニッケ
ルめっき液への光沢ニッケルめっき液の持ち込み量を減
らし、被めっき物表面に良好な多重光沢めっきを形成し
得る方法を提供することを目的とする。。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and is a rack type in which a nickel plating rack is used to perform multiple gloss plating on an object to be plated. In the nickel plating method, the non-conductive fine particle-dispersed nickel plating solution can be used without significantly changing the existing equipment or process that does not have a washing bath between the bright nickel plating tank and the non-conductive fine particle-dispersed nickel plating tank. It is an object of the present invention to provide a method capable of reducing the amount of a bright nickel plating solution brought into a substrate and forming a good multiple bright plating on the surface of an object to be plated. .

【0014】また、本発明は、被めっき物上に多重光沢
めっきを行う際に用いられるニッケルめっき用ラックに
おいて、被めっき物の引っ掛け部材に付着したニッケル
めっきを効率よくかつめっき作業中に除去し得る構成と
したニッケルめっき用ラックを提供することを目的とす
るものである。
Further, according to the present invention, in a nickel plating rack used when performing multi-gloss plating on an object to be plated, the nickel plating attached to the hooking member of the object to be plated can be efficiently removed during the plating operation. It is an object of the present invention to provide a nickel plating rack having the obtained structure.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明は、ニッケルめっき用ラックを用いて、被
めっき物上に多重光沢めっきを行うラック式ニッケルめ
っき方法において、前段のニッケルめっき槽へ被めっき
物を浸漬して被めっき物上へニッケルめっきした後、前
記被めっき物を前記前段のニッケルめっきの槽よりラッ
ク搬送機を用いて引き揚げた際に、前記前段のニッケル
めっきの槽上において、被めっき物に洗浄液および気体
を噴霧し、前記被めっき物の洗浄、液きりを行い、その
後、後段のニッケルめっき槽へ搬送することを特徴とす
るものである。
In order to solve the above problems, the present invention provides a rack-type nickel plating method for performing multiple-brightness plating on an object to be plated by using a nickel plating rack. After immersing the object to be plated in a plating tank and nickel-plating the object to be plated, when the object to be plated is lifted up from the nickel plating tank in the preceding stage using a rack transporter, In the bath, a cleaning liquid and gas are sprayed on the object to be plated, the object to be plated is cleaned and drained, and then transferred to a nickel plating tank at a subsequent stage.

【0016】また、本発明は、被めっき物上に多重光沢
めっきを行うラック式ニッケルめっき方法において用い
られるニッケルめっき用ラックにおいて、被めっき物支
持用の引っ掛け部材が、ニッケルめっきを行う際に用い
るアノードケースと同材質であり、かつラック本体に脱
着自在に取付けられていることを特徴とするものであ
る。
Further, according to the present invention, in a rack for nickel plating used in a rack type nickel plating method for performing multiple gloss plating on an object to be plated, a hook member for supporting the object to be plated is used when performing nickel plating. It is characterized in that it is made of the same material as the anode case and is detachably attached to the rack body.

【0017】[0017]

【作用】本発明方法の構成によれば、被めっき物上に光
沢ニッケルめっきを形成後、ラック搬送機に設置した液
体噴霧装置および気体吹付け装置により、光沢ニッケル
めっき槽上で、被めっき物に付着した光沢ニッケルめっ
き液の水洗・水きりを同時に行うようにしたため、光沢
ニッケルめっき槽と非導電性微粒子分散ニッケルめっき
槽との間に新たに水洗槽を設けることなく、非導電性微
粒子分散ニッケルめっき液への光沢ニッケルめっき液の
持ち込み量を大幅に減少でき、形成される光沢ニッケル
めっき層を非導電性微粒子分散ニッケルめっき層よりも
卑な電位に維持できる。
According to the constitution of the method of the present invention, after the bright nickel plating is formed on the object to be plated, the object to be plated is placed on the bright nickel plating tank by the liquid spraying device and the gas spraying device installed in the rack transporter. Since the bright nickel plating solution adhered to the water is washed and drained at the same time, the non-conductive fine particle-dispersed nickel is not required to be installed between the bright nickel plating tank and the non-conductive fine particle-dispersed nickel plating tank. The amount of the bright nickel plating solution carried into the plating solution can be significantly reduced, and the formed bright nickel plating layer can be maintained at a base potential lower than that of the non-conductive fine particle-dispersed nickel plating layer.

【0018】また本発明のニッケルめっき用ラックの構
成によれば、引っ掛け部材をニッケルめっきを行う際に
用いるアノードケースと同材質で構成しかつラック本体
より脱着自在としたため、引っ掛け部材にニッケルめっ
きが何層にも析出して厚くなる前に、前記ラックより引
っ掛け部材を取り外し、アノードケースの中に投入して
ニッケルめっき用アノードの一部として再利用、すなわ
ち、引っ掛け部材に付着したニッケルめっきの剥離をニ
ッケルめっき作業中に行うことができるようになり、引
っ掛け部材に付着したニッケルめっきを別途、物理的、
化学的あるいは電気化学的な方法により除去する必要が
なくなる。
According to the structure of the rack for nickel plating of the present invention, the hook member is made of the same material as the anode case used for nickel plating and is detachable from the rack body. Before depositing multiple layers and becoming thicker, remove the hooking member from the rack, put it in the anode case and reuse it as a part of the nickel plating anode, that is, peeling off the nickel plating adhering to the hooking member. Can be performed during the nickel plating work, and the nickel plating attached to the hook member can be
There is no need to remove it by chemical or electrochemical methods.

【0019】[0019]

【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】図1は、本発明に係るラック式ニッケルめ
っき方法に用いられるラック搬送機の一実施例を示す概
略説明図である。なお、本明細書中の図1〜図12にお
いては、すべて同一部材には同一符号を付している。
FIG. 1 is a schematic explanatory view showing an embodiment of a rack carrier used in the rack type nickel plating method according to the present invention. 1 to 12 in the present specification, the same members are allotted with the same reference numerals.

【0021】図1に示すラック搬送機11には、ラック
搬送機本体12の外周面より下方に向けて延長された矩
形枠状の液はね防止用板13が取り付けられており、両
側面の液はね防止用板13の下部には、それぞれ液体噴
霧装置としての水洗用シャワー14が設置され、さらに
該水洗用シャワー14の上部近傍に気体吹付け装置とし
てのエアガン15が設置されている。またラック搬送機
本体12の下面中央部には、ニッケルめっき用ラック1
6のカソード用導電性支持体17を支持するためのフッ
ク18が取り付けられている。
The rack carrier 11 shown in FIG. 1 is provided with a rectangular frame-shaped liquid splash prevention plate 13 extending downward from the outer peripheral surface of the rack carrier body 12, and is provided on both side surfaces. A water-washing shower 14 as a liquid spraying device is installed below the liquid splash prevention plate 13, and an air gun 15 as a gas spraying device is installed near the upper portion of the water-washing shower 14. Further, at the center of the lower surface of the rack carrier body 12, the nickel plating rack 1
A hook 18 for supporting the cathode conductive support 17 of 6 is attached.

【0022】次に、図2は、図1に示すラック搬送機を
利用した際のニッケルめっき製造ラインを含む外装用ク
ロムめっき製造ラインを表す概略説明図である。
Next, FIG. 2 is a schematic explanatory view showing an exterior chrome plating production line including a nickel plating production line when the rack transporter shown in FIG. 1 is used.

【0023】図2より、本発明を利用した外装用クロム
めっき製造ラインでは、前処理槽20、水洗槽21、銅
めっき槽22、水洗槽23、半光沢ニッケルめっき槽2
4、光沢ニッケルめっき槽25、非導電性微粒子分散ニ
ッケルめっき槽26、水洗槽27、クロムめっき槽2
8、水洗槽29および乾燥室30を備えた製造ラインで
構成されており、光沢ニッケルめっき槽25と非導電性
微粒子分散ニッケルめっき槽26の間に水洗槽がないラ
インとなっている。さらに、それぞれの槽もしくは室の
上方には、順に第1レール部材31、第2レール部材3
2、第3レール部材33および第4レール部材34まで
が互いに重複しないように敷設されており、各レール部
材ごとに第1ラック搬送機11a、第2ラック搬送機1
1b、第3ラック搬送機11cおよび第4ラック搬送機
11dが取り付けられており、このうち、第3レール部
材33に取り付けられている第3ラック搬送機11cに
は、図1にて説明したところの本発明に係るラック式ニ
ッケルめっき方法に用いられるラック搬送機11に相当
する構成を有するものが用いられている。
As shown in FIG. 2, in the chrome plating production line for exteriors utilizing the present invention, the pretreatment bath 20, the water washing bath 21, the copper plating bath 22, the water washing bath 23, the semi-bright nickel plating bath 2 are used.
4, bright nickel plating tank 25, non-conductive fine particle dispersion nickel plating tank 26, water washing tank 27, chrome plating tank 2
8. The manufacturing line includes a washing bath 29 and a drying chamber 30, and there is no washing bath between the bright nickel plating bath 25 and the non-conductive fine particle dispersion nickel plating bath 26. Further, the first rail member 31 and the second rail member 3 are provided in order above the respective tanks or chambers.
2, the third rail member 33 and the fourth rail member 34 are laid so as not to overlap each other, and the first rack carrier 11a and the second rack carrier 1 are provided for each rail member.
1b, the third rack transporter 11c, and the fourth rack transporter 11d are attached, and among them, the third rack transporter 11c attached to the third rail member 33 is the one described in FIG. The rack carrier 11 used in the rack-type nickel plating method according to the present invention is used.

【0024】尚、上記の各レール部材の敷設範囲は、特
に限定されるものでなく、めっき製造ライン全体を1つ
のレール部材だけを用いて行うこともできるが、好まし
くは、銅めっき液、ニッケルめっき液およびクロムめっ
き液が相互に混ざらないように、図2に示す実施態様の
ように複数のレール部材が敷設されていることが望まし
い。
The laying range of each of the above rail members is not particularly limited, and the entire plating production line can be carried out using only one rail member, but preferably a copper plating solution, nickel. It is desirable that a plurality of rail members be laid as in the embodiment shown in FIG. 2 so that the plating solution and the chrome plating solution do not mix with each other.

【0025】次に、上記外装用クロムめっき製造ライン
において、本発明に係るニッケルめっき方法によりニッ
ケルめっきを行う場合には、前処理がなされた被めっき
物上に銅めっき、水洗、半光沢ニッケルめっき、さらに
光沢ニッケルめっきを施した後、図3に示すラック搬送
機の動きを表す概略図にあるように、第3レール部材3
3に取り付けられた第3ラック搬送機11cの動きにあ
わせて、以下〜に示す工程を行う。
Next, in the above-mentioned exterior chrome plating production line, when nickel plating is performed by the nickel plating method according to the present invention, copper plating, water washing, semi-bright nickel plating are performed on the pretreated object to be plated. After further applying the bright nickel plating, as shown in the schematic diagram showing the movement of the rack transporter shown in FIG. 3, the third rail member 3
The following steps (1) to (3) are performed in accordance with the movement of the third rack carrier 11c attached to the No. 3 rack.

【0026】まず、第3レール部材33に沿って第3
ラック搬送機11cを半光沢ニッケルめっき槽24の上
方まで横移動させる。この段階では、第3ラック搬送機
11cのフック18は、上部に格納されている。
First, the third rail member 33 is moved along the third
The rack carrier 11c is laterally moved to above the semi-bright nickel plating tank 24. At this stage, the hook 18 of the third rack carrier 11c is stored in the upper part.

【0027】第3ラック搬送機11cのフック18を
下降させる。
The hook 18 of the third rack carrier 11c is lowered.

【0028】次に、第3レール部材33に沿って第3
ラック搬送機11cを光沢ニッケルめっき槽25の上方
まで横移動させ、第3ラック搬送機11cのフック18
を光沢ニッケルめっき槽25に固定されてなるニッケル
めっき用ラック16のカソード用導電性支持体17部分
に引っ掛ける。
Next, along the third rail member 33,
The rack carrier 11c is laterally moved to above the bright nickel plating bath 25, and the hook 18 of the third rack carrier 11c is moved.
Is hooked on the cathode conductive support 17 of the nickel plating rack 16 fixed in the bright nickel plating tank 25.

【0029】第3ラック搬送機11cのフック18を
上昇させ、光沢ニッケルめっき槽25上方にニッケルめ
っき用ラック16全体を引き揚げる。
The hook 18 of the third rack carrier 11c is raised to lift the entire nickel plating rack 16 above the bright nickel plating tank 25.

【0030】この際に、図1に示す構成と同様の構成を
有する第3ラック搬送機11cにより光沢ニッケルめっ
き槽25からニッケルめっき用ラック16のカソード用
導電性支持体17部分にフック18を掛けて光沢ニッケ
ルめっき槽25の上方に引き揚げるときにのみ水洗用シ
ャワー14より水洗水を、さらにエアガン15より高圧
エアをそれぞれ吹き出すように制御されてなる水洗用シ
ャワー14およびエアガン15によりニッケルめっき用
ラック16および該ラック16に保持された被めっき物
19に付着している光沢ニッケルめっき液を水洗水によ
り洗い流し、エアにより水きりを行う。水洗中、光沢ニ
ッケルめっき液含有の水洗水は、液はね防止用板13に
より、周囲に飛び散ることなく、光沢ニッケルめっき槽
25内に落下、回収される。
At this time, the hook 18 is hooked from the bright nickel plating tank 25 to the cathode conductive support 17 portion of the nickel plating rack 16 by the third rack carrier 11c having the same configuration as that shown in FIG. The rack 16 for nickel plating is controlled by the shower 14 for washing and the air gun 15 which are controlled so as to blow out washing water from the shower 14 for washing and high-pressure air from the air gun 15 only when they are lifted above the bright nickel plating tank 25. And, the bright nickel plating solution adhering to the object to be plated 19 held on the rack 16 is washed off with washing water and drained with air. During the washing with water, the washing water containing the bright nickel plating solution is dropped and collected in the bright nickel plating tank 25 by the spatter prevention plate 13 without being scattered around.

【0031】洗浄後、第3レール部材33に沿って水
洗、水きりされたニッケルめっき用ラック16(被めっ
き物19を含む)全体を支持した第3ラック搬送機11
cを非導電性微粒子分散ニッケルめっき槽26の上方ま
で横移動させる。
After cleaning, the third rack carrier 11 supports the entire nickel plating rack 16 (including the object to be plated 19) which has been rinsed and drained along the third rail member 33.
c is laterally moved to above the non-conductive fine particle-dispersed nickel plating bath 26.

【0032】第3ラック搬送機11cのフック18を
下降させ、ニッケルめっき用ラック16全体を非導電性
微粒子分散ニッケルめっき槽26内に移し、固定する。
該固定方法としては、例えば、ニッケルめっき用ラック
16のカソード用導電性支持体17の両端が非導電性微
粒子分散ニッケルめっき槽26の上縁部に引っ掛かり、
該ニッケルめっき用ラック16が非導電性微粒子分散ニ
ッケルめっき槽26めっき液中に吊り下げげられて固定
された状態とする方法などがある。
The hook 18 of the third rack carrier 11c is lowered, and the entire nickel plating rack 16 is moved into the non-conductive fine particle dispersed nickel plating tank 26 and fixed therein.
As the fixing method, for example, both ends of the cathode conductive support 17 of the nickel plating rack 16 are caught on the upper edge of the non-conductive fine particle dispersed nickel plating tank 26,
There is a method in which the rack 16 for nickel plating is suspended and fixed in a plating solution of nickel plating tank 26 in which non-conductive fine particles are dispersed.

【0033】第3ラック搬送機11cのフック18を
ニッケルめっき用ラック16のカソード用導電性支持体
17部分より取り外す。以降、従来法と同様にして非導
電性微粒子分散ニッケルめっき、水洗、クロムめっき、
水洗および乾燥が行われる。
The hook 18 of the third rack carrier 11c is removed from the conductive support 17 for cathode of the rack 16 for nickel plating. Thereafter, similarly to the conventional method, non-conductive fine particle dispersed nickel plating, water washing, chrome plating,
Washing and drying are performed.

【0034】上記〜の一連の工程における第3ラッ
ク搬送機11cのフック18を光沢ニッケルめっき槽2
5に固定されたニッケルめっき用ラック16のカソード
用導電性支持体17部分に引っ掛け、また第3ラック搬
送機11cのフック18をニッケルめっき用ラック16
のカソード用導電性支持体17部分から取り外す操作と
しては、一般にフォークリフトで荷物を移動させる要領
で行なうことができる。すなわち、第3ラック搬送機1
1cのフック18を光沢ニッケルめっき槽25のニッケ
ルめっき用ラック16のカソード用導電性支持体17部
分に引っ掛ける際には、予め第3ラック搬送機11cの
フック18をニッケルめっき用ラック16のカソード用
導電性支持体17部分よりも低い位置まで真っ直ぐ下ろ
し、次に、第3ラック搬送機11cのフック18を先の
工程と同方向に横移動してニッケルめっき用ラック1
6のカソード用導電性支持体17部分の下側に潜り込ま
せ、その後、第3ラック搬送機11cのフック18を真
上に持ち上げることにより、ニッケルめっき用ラック1
6のカソード用導電性支持体17部分に第3ラック搬送
機11cのフック18を引っ掛ける(第3ラック搬送機
11cのフック18にニッケルめっき用ラック16のカ
ソード用導電性支持体17部分を乗せ、支持した状態と
する)ことができる。逆に第3ラック搬送機11cのフ
ック18をニッケルめっき用ラック16のカソード用導
電性支持体17部分から取り外す際には、ニッケルめっ
き用ラック16のカソード用導電性支持体17部分に第
3ラック搬送機11cのフック18を引っ掛けたまま
(第3ラック搬送機11cのフック18にニッケルめっ
き用ラック16のカソード用導電性支持体17部分を乗
せ、支持したまま)真っ直ぐに下ろし、ニッケルめっき
用ラック16全体が非導電性微粒子分散ニッケルめっき
槽26に移され、固定された状態(具体的には、例え
ば、ニッケルめっき用ラック16のカソード用導電性支
持体17の両端部が非導電性微粒子分散ニッケルめっき
槽26の上縁部に引っ掛かり、ニッケルめっき用ラック
16本体が非導電性微粒子分散ニッケルめっき槽26内
のめっき液中に吊り下げられ、固定された状態)となっ
た後、さらに第3ラック搬送機11cのフック18を下
ろして、ニッケルめっき用ラック16のカソード用導電
性支持体17部分より第3ラック搬送機11cのフック
18を離した後、第3ラック搬送機11cのフック18
をそのままの高さを保って、先の工程での横移動とは
逆の方向に、次工程で第3ラック搬送機11cのフック
18を引き上げる際に邪魔にならない位置まで横移動さ
せ、その後、第3ラック搬送機11cのフック18を真
上に引き上げることにより、第3ラック搬送機11cの
フック18をニッケルめっき用ラック16のカソード用
導電性支持体17部分から取り外せるものである。かか
る操作を行なうには、例えば、図4に示すめっき製造ラ
インの一部を表してなる概略図に例示したように、第3
レール部材33上部に駆動輪35を設置し、該駆動輪3
5に連結されたモータ36を第3ラック搬送機11cの
上部に固定することで、該モータ36の回転により第3
ラック搬送機11cを第3レール部材33に沿って前後
方向に自在に移動させることができ、第3ラック搬送機
11cに取付けられてなるフック18を横移動させるこ
とができる。また、フック18を上下方向に自在に移動
させるには、第3ラック搬送機11c側面の液はね防止
部材13にフック18の両端部にモータ駆動式のチェー
ン(図示せず)と組み合わせるなどの方法によりフック
18を上下方向に移動させることもできる。
The hooks 18 of the third rack carrier 11c in the above series of steps are set to the bright nickel plating tank 2
5 is hooked on the cathode conductive support 17 portion of the nickel plating rack 16 fixed to No. 5, and the hook 18 of the third rack carrier 11c is hooked on the nickel plating rack 16.
The operation for removing from the cathode conductive support 17 can be generally performed by moving a load with a forklift. That is, the third rack carrier 1
When hooking the hook 18 of 1c to the cathode conductive support 17 of the nickel plating rack 16 of the bright nickel plating tank 25, the hook 18 of the third rack carrier 11c is used for the cathode of the nickel plating rack 16 in advance. Straight down to a position lower than the conductive support 17 portion, and then horizontally move the hook 18 of the third rack carrier 11c in the same direction as the previous step to move the rack 1 for nickel plating.
The conductive support 17 for cathodes of No. 6 is made to go under, and the hook 18 of the 3rd rack conveyance machine 11c is lifted right above, and the rack 1 for nickel plating is carried out.
The hook 18 of the third rack carrier 11c is hooked on the cathode conductive support 17 of No. 6 (the cathode conductive support 17 of the nickel plating rack 16 is placed on the hook 18 of the third rack carrier 11c, Can be supported). Conversely, when removing the hook 18 of the third rack carrier 11c from the cathode conductive support 17 portion of the nickel plating rack 16, the third rack is attached to the cathode conductive support 17 portion of the nickel plating rack 16. With the hook 18 of the carrier 11c hooked (the conductive support 17 for cathode of the nickel plating rack 16 is placed on the hook 18 of the third rack carrier 11c, and is still supported), straight down and the rack for nickel plating The entire 16 is transferred to a non-conductive fine particle-dispersed nickel plating bath 26 and fixed (specifically, for example, both end portions of the cathode conductive support 17 of the nickel plating rack 16 are dispersed with non-conductive fine particles). The nickel plating rack 16 is caught in the upper edge portion of the nickel plating tank 26, and the main body of the nickel plating rack 16 is coated with non-conductive fine particles of nickel. After being suspended in the plating solution in the bath 26 and being fixed, the hook 18 of the third rack carrier 11c is further lowered, and the cathode conductive support 17 of the nickel plating rack 16 is provided. After releasing the hook 18 of the third rack carrier 11c, the hook 18 of the third rack carrier 11c is released.
While keeping the height as it is, in the direction opposite to the lateral movement in the previous step, laterally moves to a position that does not interfere with pulling up the hook 18 of the third rack transporter 11c in the next step, and then, By pulling the hook 18 of the third rack carrier 11c right above, the hook 18 of the third rack carrier 11c can be removed from the conductive support 17 for cathode of the rack 16 for nickel plating. To perform such an operation, for example, as shown in the schematic diagram showing a part of the plating production line shown in FIG.
A drive wheel 35 is installed above the rail member 33, and the drive wheel 3
By fixing the motor 36 connected to the No. 5 to the upper part of the third rack transporter 11c, the rotation of the motor 36 causes the third
The rack carrier 11c can be freely moved in the front-rear direction along the third rail member 33, and the hook 18 attached to the third rack carrier 11c can be laterally moved. In order to freely move the hook 18 in the vertical direction, the liquid splash prevention member 13 on the side surface of the third rack carrier 11c may be combined with a motor-driven chain (not shown) at both ends of the hook 18. It is also possible to move the hook 18 in the vertical direction by the method.

【0035】また、上記のような方法以外にも、図5に
示すニッケルめっき用ラック16のカソード用導電性支
持体17部分を第3ラック搬送機11cのフック18に
引っ掛ける際の断面概略状態図に表すように、第3ラッ
ク搬送機11cのフック18を光沢ニッケルめっき槽2
5に固定されたニッケルめっき用ラック16のカソード
用導電性支持体17部分に引っ掛け、また第3ラック搬
送機11cのフック18をニッケルめっき用ラック16
のカソード用導電性支持体17部分から取り外す操作と
しては、例えば、ニッケルめっき用ラック16のカソー
ド用導電性支持体17部分の一部に逆L字形のアーム部
37にしておき、対応する第3ラック搬送機11cのフ
ック18にもL字形のアーム部38を取付け、引っ掛け
る際には、上記と同様にして各々のアーム部37、38
を引っ掛けるが、取り外す際には、上記説明の方法以外
に、いずれか一方のアーム部の形が真っ直ぐなI字形に
なるように関節部分(図示せず)を設け、これを系外の
制御装置殻の信号等により、動作するようにすることに
よっても取り外すことが可能である。
In addition to the above-mentioned method, a schematic cross-sectional view showing a state in which the cathode conductive support 17 of the nickel plating rack 16 shown in FIG. 5 is hooked on the hook 18 of the third rack carrier 11c. As shown in, the hook 18 of the third rack carrier 11c is attached to the bright nickel plating tank 2
5 is hooked on the cathode conductive support 17 portion of the nickel plating rack 16 fixed to No. 5, and the hook 18 of the third rack carrier 11c is hooked on the nickel plating rack 16.
As an operation of removing from the cathode conductive support 17 part, for example, an inverted L-shaped arm portion 37 is formed on a part of the cathode conductive support 17 part of the nickel plating rack 16 and the corresponding third When the L-shaped arm portion 38 is attached to and hooked on the hook 18 of the rack transporter 11c, the arm portions 37, 38 are hooked in the same manner as described above.
In addition to the method described above, a joint portion (not shown) is provided so that the shape of one of the arm portions becomes a straight I-shape when removing it, and this is removed from the control device outside the system. It can also be removed by activating it by a signal from the shell or the like.

【0036】なお、本発明に用いられる液体噴霧装置お
よび気体吹付け装置は、図1に示すような水洗用シャワ
ー14およびエアガン15に限定されるものでなく、従
来公知の各装置を用いることができる。さらに上記水洗
用シャワー14のノズルおよびエアガン15のノズルの
形状も、特に限定されず、被めっき物19の形状に応じ
て適宜選定することができる。
The liquid spraying device and the gas spraying device used in the present invention are not limited to the washing shower 14 and the air gun 15 as shown in FIG. it can. Further, the shape of the nozzle of the washing shower 14 and the nozzle of the air gun 15 are not particularly limited, and can be appropriately selected according to the shape of the object to be plated 19.

【0037】さらに上記液体噴霧装置および気体吹付け
装置による洗浄、液切り方法についても、液体噴霧装置
および気体吹付け装置の取り付け位置との関係により、
適宜選択して用いることができ、例えば、液はね防止用
板13の両側に上部から下部に一定間隔で適当に水洗用
シャワー14およびエアガン15が設置されている場合
には、一旦、ニッケルめっき用ラック16を引き上げた
後、水洗用シャワー14によりニッケルめっき用ラック
16全体を水洗した後、水洗を停止し、続いてエアガン
15によりニッケルめっき用ラック16全体に付着した
水分を吹き飛ばして、水きりを行うなどの方法を用いて
も良いが、望ましくは、上述の実施態様に示す方法が、
洗浄工程に要する時間が短くてすむので望ましい。
Further, regarding the cleaning and draining methods by the liquid spraying device and the gas spraying device, depending on the mounting positions of the liquid spraying device and the gas spraying device,
It can be appropriately selected and used. For example, when the shower 14 for washing and the air gun 15 are appropriately installed at a constant interval from the upper side to the lower side on both sides of the plate 13 for preventing liquid splash, once the nickel plating is performed. After pulling up the rack 16 for water, after washing the entire rack 16 for nickel plating with the shower 14 for washing with water, the washing with water is stopped, and then the water attached to the entire rack 16 for nickel plating is blown off by the air gun 15 to remove water. A method such as performing may be used, but preferably, the method shown in the above embodiment is
It is desirable because the time required for the cleaning process can be short.

【0038】また、本発明に用いられる洗浄用液体とし
ては、用いる光沢ニッケルめっき液の組成の1種であっ
て、かかる洗浄液が、非導電性微粒子分散ニッケルめっ
き槽に持ち込まれることで、形成される非導電性微粒子
分散ニッケルめっき層の電位の方が卑とならないもので
あれば、特に制限されず、例えば、半光沢ニッケルめっ
きの前工程に用いている水洗水と同等な水あるいは温水
などを用いることができる。また、本発明に用いること
のできる吹付け用気体としては、特に制限されないが、
経済性の面からは、清浄化された空気を用いることが望
ましい。
The cleaning liquid used in the present invention is one of the compositions of the bright nickel plating solution used, and is formed by bringing this cleaning solution into a non-conductive fine particle-dispersed nickel plating bath. There is no particular limitation as long as the potential of the non-conductive fine particle-dispersed nickel plating layer does not become base, and for example, water or warm water equivalent to the washing water used in the previous step of semi-bright nickel plating can be used. Can be used. Further, the blowing gas that can be used in the present invention is not particularly limited,
From the economical aspect, it is desirable to use purified air.

【0039】洗浄液および気体の吹き出し量並びに吹き
出し圧力についても、被めっき物19の形状に応じて増
減することができ、その量および圧力を制御できるもの
が望ましい。
The blowing amount and blowing pressure of the cleaning liquid and gas can be increased or decreased according to the shape of the object to be plated 19, and it is desirable that the amount and pressure can be controlled.

【0040】また、前記水洗用シャワー14などの液体
噴霧装置へ洗浄液を供給する配管および前記エアガン1
5などの気体吹付け装置へと気体を供給する配管として
は、例えば、先に示した図4に図示したように、共に伸
縮自在のフレキシブルホースを用い、この水用のフレキ
シブルホース39aおよびエア用のフレキシブルホース
39bを、第3レール部材33の下面に別途設けた溝レ
ール内を走行するフック(図示せず)に適当な間隔ごと
に懸架することによって、レール部材33の前方部位
(前方部位は図示せず)および後方部位よりそれぞれの
液体噴霧装置および気体吹付け装置まで延長してくるこ
とにより、、第3ラック搬送機11cの動きを邪魔する
ことなく、第3ラック搬送機11cに追随して伸縮する
ことができるものとすることができる。また、各フレキ
シブルホース39aおよび39bへの洗浄液および気体
の供給は、例えば、めっき製造ラインに使用する目的で
設置している水およびエアの配管(図示せず)の一部を
分岐させ、かかる分岐部分(図示せず)に、上記フレキ
シブルホース39aおよび39bを取り付けることによ
り、洗浄液および気体(水およびエア)を供給できるも
のである。さらに該分岐部分に系外の制御装置などから
の信号により開閉するバルブ調節機構(図示せず)など
を設け、ニッケルめっき用ラック16の引き上げ時の
み、該バルブ調節機構が開くようにコントロールするこ
とにより、水洗用シャワー14およびエアガン15を引
き上げ時のみに動作させることができる。
The pipe for supplying the cleaning liquid to the liquid spraying device such as the shower 14 for washing with water and the air gun 1
As the pipe for supplying the gas to the gas spraying device such as 5, as shown in FIG. 4 described above, for example, a flexible hose that can expand and contract is used. By suspending the flexible hose 39b at a proper interval at a hook (not shown) running in a groove rail separately provided on the lower surface of the third rail member 33, the front portion of the rail member 33 (the front portion is (Not shown) and by extending from the rear part to the respective liquid spraying device and gas spraying device, the third rack carrier 11c can be followed without disturbing the movement of the third rack carrier 11c. Can be expanded and contracted. Further, the supply of the cleaning liquid and the gas to the flexible hoses 39a and 39b is performed by, for example, branching a part of water and air pipes (not shown) installed for the purpose of using the plating production line. By attaching the flexible hoses 39a and 39b to a portion (not shown), cleaning liquid and gas (water and air) can be supplied. Further, a valve adjusting mechanism (not shown) that opens and closes by a signal from a control device outside the system is provided at the branch portion, and the valve adjusting mechanism is controlled to open only when the nickel plating rack 16 is pulled up. Thereby, the shower 14 for washing with water and the air gun 15 can be operated only at the time of pulling up.

【0041】図6は、本発明に係るニッケルめっき用ラ
ックの一実施態様を示す概略説明図であり、図7は、図
6のニッケルめっき用ラックを用いためっき装置全体を
示す概略説明図である。図6よりニッケルめっき用ラッ
ク16は、引っ掛け部材40を図7に示すアノードケー
ス47と同材質のチタン等からなる材質を用い、ニッケ
ルめっき用ラック本体41と引っ掛け部材40との着脱
可能な結合構造をねじ式機構とすることによりニッケル
めっき用ラック本体41から引っ掛け部材40を着脱可
能とさせている。さらに引っ掛け部材40にはつば42
を取りつけ、ポリ塩化ビニル製などのシール材43をニ
ッケルめっき用ラック本体41との間に組み込むことに
より、図7に示しためっき槽48の内部に満たされたニ
ッケルめっき液49中でめっきするときにも、ニッケル
めっき用ラック本体41と引っ掛け部材40との結合部
であるねじ部44にめっき液49が入り込まないように
なっている。なお、これら以外の構成は、先述の図11
と同じ構成となっている。
FIG. 6 is a schematic explanatory view showing one embodiment of the nickel plating rack according to the present invention, and FIG. 7 is a schematic explanatory view showing the whole plating apparatus using the nickel plating rack of FIG. is there. 6, the rack 16 for nickel plating uses the hook member 40 made of a material such as titanium which is the same material as the anode case 47 shown in FIG. 7, and the nickel plating rack body 41 and the hook member 40 are attachable and detachable. By using a screw type mechanism, the hooking member 40 can be attached to and detached from the rack body 41 for nickel plating. Further, the hook member 40 has a brim 42.
And plating the sealing material 43 made of polyvinyl chloride or the like between the nickel plating rack body 41 and the nickel plating rack body 41 shown in FIG. In addition, the plating solution 49 is prevented from entering the threaded portion 44 that is the joint between the rack body 41 for nickel plating and the hooking member 40. Note that the configuration other than these is similar to that of FIG.
It has the same structure as.

【0042】なお、本発明に用いられる引っ掛け部材4
0を形成するアノードケース47と同材質の材料として
は、通常、チタン系材料など用いられるが、これらに特
に限定されず、例えば、工業用純チタンや0.15〜
0.20Pd−Ti、6Al−4V−Tiなどのチタン
合金、高純度の電気ニッケル板、炭素化ニッケルなども
その特性に応じて使用することができる。
The hook member 4 used in the present invention.
As the material of the same material as the anode case 47 forming 0, a titanium-based material or the like is usually used, but the material is not particularly limited thereto, and for example, industrial pure titanium or 0.15-
Titanium alloys such as 0.20Pd-Ti and 6Al-4V-Ti, high-purity electric nickel plates, and nickel carbide can also be used according to their characteristics.

【0043】また、本発明にも用いられるニッケルめっ
き用ラック本体41と引っ掛け部材40との着脱可能な
結合構造としては、上記ねじ式機構に限定されることな
く、例えば、引っ掛け部材40の結合部は、板ばね状の
突起物を設けた凸状構造とし、これに対応するニッケル
めっき用ラック本体41側の結合部は、差込孔の入口近
傍に突起を有する差込孔を設けた凹状構造としてなる板
バネ式機構、または引っ掛け部材40の結合部は、板ば
ね状の突起物を設けた凸状構造とし、これに対応するニ
ッケルめっき用ラック本体41側の結合部に落し込み溝
を設け、該落し込み溝の下部に突起を設けてなる凹状構
造としてなる落し込み式機構などを用いることもでき、
これらの機構に関しても適当な形状のつば42を取りつ
け、同様に適当な形状のシール材43をニッケルめっき
用ラック本体41との間に組み込むことが望ましい。
Further, the detachable connecting structure of the rack body 41 for nickel plating and the hooking member 40 used in the present invention is not limited to the above-mentioned screw type mechanism, and for example, the connecting portion of the hooking member 40 can be used. Is a convex structure provided with a leaf spring-like protrusion, and the corresponding coupling portion on the nickel plating rack main body 41 side has a concave structure provided with an insertion hole having a protrusion in the vicinity of the inlet of the insertion hole. The leaf spring type mechanism or the coupling portion of the hooking member 40 has a convex structure provided with a leaf spring-shaped protrusion, and a corresponding drop portion is provided in the nickel plating rack main body 41 side coupling portion. It is also possible to use a drop-down mechanism or the like having a concave structure in which a projection is provided at the lower part of the drop groove,
With respect to these mechanisms as well, it is desirable to attach a collar 42 of an appropriate shape and similarly incorporate a sealing material 43 of an appropriate shape between the nickel plating rack body 41 and the seal material 43.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上述べたように、本発明に係るラック
式ニッケルめっき方法によれば、ニッケルめっき用ラッ
クおよび被めっき物に付着している前段のニッケルめっ
き液(光沢ニッケルめっき液)を後段のニッケルめっき
液(非導電性微粒子分散ニッケルめっき液)中に持ち込
むのを低減することができ、先に形成されためっき層
(光沢ニッケルめっき層)を後に形成されるめっき層
(非導電性微粒子分散ニッケルめっき層)よりも卑な電
位に維持できるため、表面微孔径の拡大防止が達成で
き、優れた外観上の美観並びに良好な耐食性が得られ外
観品質、耐久品質を長期間、安定して維持することがで
きると共に、洗浄に供した洗浄液は、飛散することな
く、光沢ニッケルめっき液槽内に回収され、再利用する
こととなるため、光沢ニッケルめっき槽と非導電性微粒
子分散ニッケルめっき槽との間に水洗槽を設置した場合
に比較して排水処理の負担低減を行うことができ、従来
は、槽中の光沢ニッケルめっき液から蒸発した水分を別
途、補給して組成並びに温度調整するための工数を要し
ていたものを、洗浄液に適当量の温水を用いることでか
かる補給、調整工数を減少することができるという優れ
た効果を有するものである。
As described above, according to the rack type nickel plating method according to the present invention, the nickel plating solution (bright nickel plating solution) in the former stage attached to the rack for nickel plating and the object to be plated is treated in the latter stage. Of the nickel plating solution (non-conductive fine particle-dispersed nickel plating solution) can be reduced, and a plating layer (non-conductive fine particles) formed after the plating layer (bright nickel plating layer) formed earlier can be reduced. Since it can be maintained at a base electric potential lower than that of the dispersed nickel plating layer), it is possible to prevent the expansion of the surface micropore diameter, and it is possible to obtain excellent appearance aesthetics and good corrosion resistance, and to maintain the appearance quality and durability quality for a long period of time. In addition to being able to maintain the cleaning solution, the cleaning solution used for cleaning is collected in the bright nickel plating solution tank without scattering and is reused. The burden of wastewater treatment can be reduced compared to the case where a water washing tank is installed between the nickel plating tank and the non-conductive fine particle-dispersed nickel plating tank. Conventionally, it was evaporated from the bright nickel plating solution in the tank. It has an excellent effect that it is possible to reduce the number of man-hours for replenishment and adjustment by using an appropriate amount of warm water for the cleaning liquid, which required man-hours for separately replenishing water to adjust the composition and temperature. It is a thing.

【0045】また、本発明に係るニッケルめっき用ラッ
クによれば、繰り返し使用により引っ掛け部材にニッケ
ルが厚く析出した場合には、引っ掛け部材を取り外して
アノードケース中に投入して、ニッケルめっきアノード
の一部として使用することができ、引っ掛け部材に析出
したニッケルの剥離工数の低減が可能となり、従来は、
廃棄していたニッケル分を回収利用できるという優れた
効果を有するものである。
Further, according to the nickel plating rack of the present invention, when nickel is thickly deposited on the hooking member due to repeated use, the hooking member is removed and placed in the anode case to remove the nickel plating anode. It can be used as a part, and it is possible to reduce the number of man-hours for peeling nickel deposited on the hooking member.
It has an excellent effect that the discarded nickel component can be recovered and used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明のニッケルめっきの水洗機構を兼ね備
えたラック搬送機の概略説明図、
FIG. 1 is a schematic explanatory view of a rack transporter having a nickel plating water washing mechanism of the present invention.

【図2】 図1に示すラック搬送機を利用した際のニッ
ケルめっき製造ラインを含む外装用クロムめっき製造ラ
インを表す概略説明図、
2 is a schematic explanatory view showing a chromium plating production line for exterior including a nickel plating production line when the rack transporter shown in FIG. 1 is used,

【図3】 ラック搬送機の動きを表す概略図、FIG. 3 is a schematic diagram showing the movement of the rack transporter,

【図4】 めっき製造ラインの一部を表してなる概略
図、
FIG. 4 is a schematic view showing a part of a plating production line,

【図5】 ニッケルめっき用ラックのカソード用導電性
支持体部分を第3ラック搬送機のフックに引っ掛ける際
の断面概略状態図、
FIG. 5 is a schematic cross-sectional state diagram when the cathode conductive support portion of the nickel plating rack is hooked on the hook of the third rack transporter,

【図6】 本発明に係るニッケルめっき用ラックの一実
施例を示す概略説明図、
FIG. 6 is a schematic explanatory view showing an embodiment of a nickel plating rack according to the present invention,

【図7】 図6のニッケルめっき用ラックを用いためっ
き装置全体を示す概略説明図、
FIG. 7 is a schematic explanatory view showing the entire plating apparatus using the rack for nickel plating of FIG.

【図8】 外装用クロムめっきの模式図、FIG. 8 is a schematic diagram of exterior chrome plating,

【図9】 図8に示す外装用クロムめっきの腐食進行を
示す模式図、
9 is a schematic diagram showing the progress of corrosion of the exterior chrome plating shown in FIG.

【図10】 外装用クロムめっきのライン構成を表す概
略説明図、
FIG. 10 is a schematic explanatory view showing a line configuration of exterior chrome plating,

【図11】 従来のニッケルめっき用ラックを示す概略
説明図、
FIG. 11 is a schematic explanatory view showing a conventional nickel plating rack,

【図12】 従来のめっき装置を示す概略説明図。FIG. 12 is a schematic explanatory view showing a conventional plating apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…ラック搬送機、 11a…第1ラ
ック搬送機、11b…第2ラック搬送機、 1
1c…第3ラック搬送機、11d…第4ラック搬送機、
12…ラック搬送機本体、13…液はね防止
用板、 14…水洗用シャワー、15…エ
アガン、 16…ニッケルめっき用
ラック、17…カソード用導電性支持体、 18…
フック、19…被めっき物、 20…
前処理槽、21…水洗槽、 22
…銅めっき槽、23…水洗槽、
24…半光沢ニッケルめっき槽、25…光沢ニッケルめ
っき槽、26…非導電性微粒子分散ニッケルめっき槽、
27…水洗槽、 28…クロムめ
っき槽、29…水洗槽、 30…
乾燥室、31…第1レール部材、 32…
第2レール部材、33…第3レール部材、
34…第4レール部材、35…駆動輪、
36…モータ、37…逆L字形のアーム部、
38…L字形のアーム部、39a…水用のフ
レキシブルホース 39b…エア用のフレキシブルホ
ース、40…引っ掛け部材、 41…ニ
ッケルめっき用ラック本体、42…つば、
43…シール材、44…ねじ部、
45…カソード用導電性支持体、46…
接触部、 47…アノードケー
ス、48…光沢ニッケルめっき槽、 49…光沢
ニッケルめっき液、50…アノード用導電性支持体、
51…ニッケルチップ、52…被めっき物、
53…銅めっき、54…半光沢ニッケルめ
っき、 55…光沢ニッケルめっき、56…非導
電性微粒子分散ニッケルめっき、57…クロムめっき、
58…表面微孔径。
11 ... Rack transporter, 11a ... 1st rack transporter, 11b ... 2nd rack transporter, 1
1c ... 3rd rack carrier, 11d ... 4th rack carrier,
12 ... Rack carrier main body, 13 ... Liquid splash prevention plate, 14 ... Water washing shower, 15 ... Air gun, 16 ... Nickel plating rack, 17 ... Cathode conductive support, 18 ...
Hook, 19 ... Object to be plated, 20 ...
Pretreatment tank, 21 ... Water washing tank, 22
… Copper plating tank, 23… Washing tank,
24 ... Semi-bright nickel plating tank, 25 ... Bright nickel plating tank, 26 ... Non-conductive fine particle dispersion nickel plating tank,
27 ... water washing tank, 28 ... chrome plating tank, 29 ... water washing tank, 30 ...
Drying room, 31 ... First rail member, 32 ...
2nd rail member, 33 ... 3rd rail member,
34 ... 4th rail member, 35 ... Drive wheel,
36 ... Motor, 37 ... Inverted L-shaped arm part,
38 ... L-shaped arm part, 39a ... Flexible hose for water 39b ... Flexible hose for air, 40 ... Hooking member, 41 ... Rack body for nickel plating, 42 ... Collar,
43 ... sealing material, 44 ... screw part,
45 ... Conductive support for cathode, 46 ...
Contact portion, 47 ... Anode case, 48 ... Bright nickel plating bath, 49 ... Bright nickel plating solution, 50 ... Anode conductive support,
51 ... Nickel chip, 52 ... Object to be plated,
53 ... Copper plating, 54 ... Semi-bright nickel plating, 55 ... Bright nickel plating, 56 ... Non-conductive fine particle dispersed nickel plating, 57 ... Chrome plating,
58 ... Surface micropore diameter.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ニッケルめっき用ラックを用いて、被め
っき物上に多重光沢めっきを行うラック式ニッケルめっ
き方法において、 前段のニッケルめっき槽へ被めっき物を浸漬して被めっ
き物上へニッケルめっきした後、 前記被めっき物を前記前段のニッケルめっき槽よりラッ
ク搬送機を用いて引き揚げた際に、前記前段のニッケル
めっき槽上において、被めっき物に洗浄液および気体を
噴霧し、前記被めっき物の洗浄、液きりを行い、 その後、後段のニッケルめっきの槽へ搬送することを特
徴とするニッケルめっき方法。
1. A rack-type nickel plating method for performing multiple-brightness plating on an object to be plated using a rack for nickel plating, wherein the object to be plated is immersed in a nickel plating tank in the preceding stage to perform nickel plating on the object to be plated. After that, when the object to be plated is lifted up from the nickel plating tank of the preceding stage using a rack carrier, on the nickel plating tank of the preceding stage, a cleaning liquid and a gas are sprayed onto the object to be plated, and the object to be plated is The method of nickel plating is characterized in that it is washed and drained, and then transferred to a nickel plating tank in the subsequent stage.
【請求項2】 前記多重光沢めっきが、半光沢ニッケル
めっき、光沢ニッケルめっきおよび非導電性微粒子分散
ニッケルめっきの三重光沢めっきである請求項1に記載
のニッケルめっき方法。
2. The nickel plating method according to claim 1, wherein the multiple bright plating is triple bright plating of semi-bright nickel plating, bright nickel plating and non-conductive fine particle dispersed nickel plating.
【請求項3】 前記前段のニッケルめっき槽が、光沢ニ
ッケルめっき槽である請求項1または2に記載のニッケ
ルめっき方法。
3. The nickel plating method according to claim 1, wherein the nickel plating bath in the preceding stage is a bright nickel plating bath.
【請求項4】 被めっき物上に多重光沢めっきを行うラ
ック式ニッケルめっき方法において用いられるニッケル
めっき用ラックにおいて、 被めっき物支持用の引っ掛け部材が、ニッケルめっきを
行う際に用いるアノードケースと同材質であり、かつラ
ック本体に脱着自在に取付けられていることを特徴とす
るニッケルめっき用ラック。
4. A rack for nickel plating used in a rack-type nickel plating method for performing multi-gloss plating on an object to be plated, wherein a hooking member for supporting the object to be plated is the same as an anode case used when performing nickel plating. A rack for nickel plating, which is made of a material and is detachably attached to the rack body.
【請求項5】 請求項4に記載のニッケルめっき用ラッ
クを用いてなるラック式ニッケルめっき方法において、
使用によりニッケルめっきの析出した前記引っ掛け部材
を、ニッケルめっき用ラックより取り外してニッケルめ
っき用アノードの一部として用いることを特徴とするニ
ッケルめっき方法。
5. A rack type nickel plating method using the rack for nickel plating according to claim 4,
A nickel plating method, characterized in that the hooking member on which nickel plating is deposited by use is removed from a nickel plating rack and used as a part of a nickel plating anode.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011127170A (en) * 2009-12-17 2011-06-30 Chuo Seisakusho Ltd Device for recovering treatment liquid
JP2021172866A (en) * 2020-04-28 2021-11-01 株式会社ファルテック Contact structure

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