JPH07169820A - 密閉容器の覗き窓 - Google Patents
密閉容器の覗き窓Info
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- JPH07169820A JPH07169820A JP34189393A JP34189393A JPH07169820A JP H07169820 A JPH07169820 A JP H07169820A JP 34189393 A JP34189393 A JP 34189393A JP 34189393 A JP34189393 A JP 34189393A JP H07169820 A JPH07169820 A JP H07169820A
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】密閉容器内の移動体の停止位置の測定を再現性
良く行う。 【構成】密閉容器の壁面の一部に設けられた透明な窓６
が位置測定手段２８，２９を備え、密閉容器の内部に収
納された任意の対象物２６は、前記位置測定手段により
位置関係が測定される。
良く行う。 【構成】密閉容器の壁面の一部に設けられた透明な窓６
が位置測定手段２８，２９を備え、密閉容器の内部に収
納された任意の対象物２６は、前記位置測定手段により
位置関係が測定される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置等の密閉
容器内に於ける基板等の移動体の位置測定を可能とした
密閉容器の覗き窓に関するものである。
容器内に於ける基板等の移動体の位置測定を可能とした
密閉容器の覗き窓に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】先ず、図７に於いて示される枚葉式エッ
チング装置について説明する。
チング装置について説明する。
【０００３】気密な搬送室１の周りにロードカセット室
２、アンロードカセット室３、反応室４、反応室５が気
密に設けられ、前記ロードカセット室２と前記アンロー
ドカセット室３、前記反応室４と前記反応室５は、前記
搬送室１を挟み、それぞれ相対向する様配設されてい
る。又、前記搬送室１の天井壁の一部には透明な覗き窓
６が気密に設けられている。
２、アンロードカセット室３、反応室４、反応室５が気
密に設けられ、前記ロードカセット室２と前記アンロー
ドカセット室３、前記反応室４と前記反応室５は、前記
搬送室１を挟み、それぞれ相対向する様配設されてい
る。又、前記搬送室１の天井壁の一部には透明な覗き窓
６が気密に設けられている。
【０００４】図８は、図７で示した枚葉式エッチング装
置の内部を示した図である。
置の内部を示した図である。
【０００５】前記搬送室１の内部中央部にペデスタル９
が設置され、該ペデスタル９を挟みロボット７、ロボッ
ト８が相対向して設置されている。
が設置され、該ペデスタル９を挟みロボット７、ロボッ
ト８が相対向して設置されている。
【０００６】前記ロボット７、ロボット８は、回転座１
９，２０に対して回転自在に設けられた第１アーム２
１，２２、該第１アーム２１，２２に対して回転自在に
設けられた第２アーム２３，２４、該第２アーム２３，
２４に対して回転自在に設けられた二股状のプレートア
ーム２５，２６から構成され、回転且伸縮自在となって
いる。
９，２０に対して回転自在に設けられた第１アーム２
１，２２、該第１アーム２１，２２に対して回転自在に
設けられた第２アーム２３，２４、該第２アーム２３，
２４に対して回転自在に設けられた二股状のプレートア
ーム２５，２６から構成され、回転且伸縮自在となって
いる。
【０００７】前記ロードカセット室２の内部には、処理
する基板１０を収納するロードカセット１１が図示しな
いカセットエレベータ上に載置されている。前記アンロ
ードカセット室３の内部には、処理済みの基板１０を収
納するアンロードカセット１２が図示しないカセットエ
レベータ上に載置されている。
する基板１０を収納するロードカセット１１が図示しな
いカセットエレベータ上に載置されている。前記アンロ
ードカセット室３の内部には、処理済みの基板１０を収
納するアンロードカセット１２が図示しないカセットエ
レベータ上に載置されている。
【０００８】前記反応室４の内部には基板１０を載置す
る為の試料台１３が設置されており、前記反応室５内部
にも基板１０を載置する為の試料台１４が載置されてい
る。
る為の試料台１３が設置されており、前記反応室５内部
にも基板１０を載置する為の試料台１４が載置されてい
る。
【０００９】又、前記ロードカセット室２、アンロード
カセット室３、反応室４、反応室５と前記搬送室１の間
はそれぞれゲート弁１５，１５が設けられている。
カセット室３、反応室４、反応室５と前記搬送室１の間
はそれぞれゲート弁１５，１５が設けられている。
【００１０】次に、上記した枚葉式エッチング装置に於
ける基板搬送動作について説明する。
ける基板搬送動作について説明する。
【００１１】反応室４、反応室５、搬送室１、ロードカ
セット室２、アンローロカセット室３を図示しない真空
ポンプで真空引きした後、前記ゲート弁１５を開いて基
板１０の入替えを行う。反応室４及び反応室５には基板
１０が挿入され、処理中であるとする。
セット室２、アンローロカセット室３を図示しない真空
ポンプで真空引きした後、前記ゲート弁１５を開いて基
板１０の入替えを行う。反応室４及び反応室５には基板
１０が挿入され、処理中であるとする。
【００１２】反応室４内で基板１０の処理が終了する
と、ロボット８の回転座２０、第１アーム２２、第２ア
ーム２４、プレートアーム２６による回転伸縮動作と反
応室４内の図示しないペデスタルとの協働で、試料台１
３上の基板１０を前記プレートアーム２６が受取り、前
記したロボット８の回転伸縮動作とペデスタル９の上下
動との協働で、前記プレートアーム２６上の基板１０を
ペデスタル９上に載せる。続いて、前記ペデスタル９の
上下動と、ロボット７の回転座１９、第１アーム２１、
第２アーム２３、プレートアーム２５による回転伸縮動
作との協働で、ペデスタル９上の基板１０を前記プレー
トアーム２５が受取り、ロボット７とアンロードカセッ
ト室３内の図示しないカセットエレベータとの協働で、
ロボット７上の基板１０をアンロードカセット１２に収
納する。
と、ロボット８の回転座２０、第１アーム２２、第２ア
ーム２４、プレートアーム２６による回転伸縮動作と反
応室４内の図示しないペデスタルとの協働で、試料台１
３上の基板１０を前記プレートアーム２６が受取り、前
記したロボット８の回転伸縮動作とペデスタル９の上下
動との協働で、前記プレートアーム２６上の基板１０を
ペデスタル９上に載せる。続いて、前記ペデスタル９の
上下動と、ロボット７の回転座１９、第１アーム２１、
第２アーム２３、プレートアーム２５による回転伸縮動
作との協働で、ペデスタル９上の基板１０を前記プレー
トアーム２５が受取り、ロボット７とアンロードカセッ
ト室３内の図示しないカセットエレベータとの協働で、
ロボット７上の基板１０をアンロードカセット１２に収
納する。
【００１３】次に、ロボット７とロードカセット室２の
図示しないカセットエレベータとの協働で、ロードカセ
ット１１の基板１０をプレートアーム２５が受取り、ロ
ボット７の回転伸縮動作とペデスタル９の上下動との協
働で、前記プレートアーム２５上の基板１０をペデスタ
ル９上に載せる。続いて、ロボット８の回転伸縮動作と
ペデスタル９の上下動との協働で、ペデスタル９上の基
板１０をプレートアーム２６が受取り、ロボット８の回
転伸縮動作と反応室４内の図示しないペデスタルとの協
働で、前記プレートアーム２６上の基板１０を試料台１
３上に載置する。前記プレートアーム２６が後退した
後、ゲート弁１５を閉じ、反応室４内での基板１０の処
理を行う。
図示しないカセットエレベータとの協働で、ロードカセ
ット１１の基板１０をプレートアーム２５が受取り、ロ
ボット７の回転伸縮動作とペデスタル９の上下動との協
働で、前記プレートアーム２５上の基板１０をペデスタ
ル９上に載せる。続いて、ロボット８の回転伸縮動作と
ペデスタル９の上下動との協働で、ペデスタル９上の基
板１０をプレートアーム２６が受取り、ロボット８の回
転伸縮動作と反応室４内の図示しないペデスタルとの協
働で、前記プレートアーム２６上の基板１０を試料台１
３上に載置する。前記プレートアーム２６が後退した
後、ゲート弁１５を閉じ、反応室４内での基板１０の処
理を行う。
【００１４】反応室５内での処理終了後の基板１０の入
替えは、前述した反応室４に於ける基板入替え動作と同
様であるので説明を省略する。
替えは、前述した反応室４に於ける基板入替え動作と同
様であるので説明を省略する。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、反応室４，
５の試料台１３，１４上に基板１０が載置された後、該
基板１０のＸ方向、Ｙ方向の位置はプロセスの関係で所
定の位置及び方向に精度良く収められなければならず、
従って反応室４，５内の基板１０を入替える際の入替え
途中の基板載置位置及び方向、例えばペデスタル９上、
プレートアーム２５，２６上の基板１０のＸ方向、Ｙ方
向の位置が精度良く収められなければならない。
５の試料台１３，１４上に基板１０が載置された後、該
基板１０のＸ方向、Ｙ方向の位置はプロセスの関係で所
定の位置及び方向に精度良く収められなければならず、
従って反応室４，５内の基板１０を入替える際の入替え
途中の基板載置位置及び方向、例えばペデスタル９上、
プレートアーム２５，２６上の基板１０のＸ方向、Ｙ方
向の位置が精度良く収められなければならない。
【００１６】そこで従来は、反応室４，５内の基板１０
を入替える際、入替え途中の基板載置位置及び方向の粗
いチェックは、前記覗き窓６の上に金尺１６等を載せ、
上方から目視で測定対象物１７の位置を測定することに
よって行っていた（図９参照）。しかし、この場合測定
者の目８の位置は定まりにくく、図９に示す様に目１８
の位置が変わると測定値も変わってしまい、再現性良く
測定することは著しく困難であった。
を入替える際、入替え途中の基板載置位置及び方向の粗
いチェックは、前記覗き窓６の上に金尺１６等を載せ、
上方から目視で測定対象物１７の位置を測定することに
よって行っていた（図９参照）。しかし、この場合測定
者の目８の位置は定まりにくく、図９に示す様に目１８
の位置が変わると測定値も変わってしまい、再現性良く
測定することは著しく困難であった。
【００１７】本発明は斯かる実情に鑑み、密閉容器内の
移動体の停止位置測定を覗き窓から再現性良く行える様
にしたものである。
移動体の停止位置測定を覗き窓から再現性良く行える様
にしたものである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明は、密閉容器の壁
面の一部に設けられた透明な窓が位置測定手段を備えて
いることを特徴とするものである。
面の一部に設けられた透明な窓が位置測定手段を備えて
いることを特徴とするものである。
【００１９】
【作用】密閉容器の内部に収納された任意の対象物は、
覗き窓の位置測定手段により位置関係が測定される。
覗き窓の位置測定手段により位置関係が測定される。
【００２０】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の実施例を説
明する。
明する。
【００２１】尚、以下の説明中、図７〜図９中で示した
ものと同一機能を有するものには同符号を付し、説明を
省略する。
ものと同一機能を有するものには同符号を付し、説明を
省略する。
【００２２】図１、図２に於いて本発明の第１の実施例
を説明する。
を説明する。
【００２３】覗き窓６表面に、碁盤の目状の表スケール
２８を付設し、更に、該覗き窓６裏面に裏スケール２９
を水平方向で表裏同一位置になる様付設する。
２８を付設し、更に、該覗き窓６裏面に裏スケール２９
を水平方向で表裏同一位置になる様付設する。
【００２４】プレートアーム２６等の測定対象物の位置
測定方法について説明する。前記表スケール２８と裏ス
ケール２９の所定の交点３０の真上に測定者の目が位置
する様に前記プレートアーム２６を表スケール２８と裏
スケール２９を付けた覗き窓６越しに測定する。表スケ
ール２８と裏スケール２９の交点が合致した状態が測定
者の視線が適正な状態であり、測定者の視線が測定点に
対して適正でなければ視野角を生じ、表裏でスケール２
８，２９がずれて見える。即ち、視点と合致しない表ス
ケール２８と裏スケール２９の線は、それぞれ視野角の
相違でずれて見える。
測定方法について説明する。前記表スケール２８と裏ス
ケール２９の所定の交点３０の真上に測定者の目が位置
する様に前記プレートアーム２６を表スケール２８と裏
スケール２９を付けた覗き窓６越しに測定する。表スケ
ール２８と裏スケール２９の交点が合致した状態が測定
者の視線が適正な状態であり、測定者の視線が測定点に
対して適正でなければ視野角を生じ、表裏でスケール２
８，２９がずれて見える。即ち、視点と合致しない表ス
ケール２８と裏スケール２９の線は、それぞれ視野角の
相違でずれて見える。
【００２５】而して、測定対象物の位置を測定する際の
測定者の目の位置を再現性良く決めることができる。
又、前記表スケール２８、裏スケール２９に目盛りを付
ければ更に定量的で緻密な測定が可能となり、表裏で線
種を異ならせば、例えば図２で示される如く表が実線、
裏が破線の様にすれば判別が容易になる。尚、表裏のス
ケールは覗き窓全面にでなく、測定箇所に対応する所要
の範囲に部分的に付設してもよい。
測定者の目の位置を再現性良く決めることができる。
又、前記表スケール２８、裏スケール２９に目盛りを付
ければ更に定量的で緻密な測定が可能となり、表裏で線
種を異ならせば、例えば図２で示される如く表が実線、
裏が破線の様にすれば判別が容易になる。尚、表裏のス
ケールは覗き窓全面にでなく、測定箇所に対応する所要
の範囲に部分的に付設してもよい。
【００２６】次に、図３、図４に於いて本発明の第２の
実施例を説明する。図３は、覗き窓６に位置測定器３１
を取付けた状態を示している。
実施例を説明する。図３は、覗き窓６に位置測定器３１
を取付けた状態を示している。
【００２７】前記位置測定器３１について詳述する。目
盛り３６を付けたＸ方向スケール軸３２にＸ方向スライ
ダ３４を摺動自在に取付ける。該Ｘ方向スライダ３４に
Ｘ方向バーニャ３８を設け、該Ｘ方向バーニャ３８の上
面端部に尖端を有する突片４０、下面端部に尖端を有す
る突片４１を対峙させ設け、上突片４０の尖端と下突片
４１の尖端の水平位置は合致させる。
盛り３６を付けたＸ方向スケール軸３２にＸ方向スライ
ダ３４を摺動自在に取付ける。該Ｘ方向スライダ３４に
Ｘ方向バーニャ３８を設け、該Ｘ方向バーニャ３８の上
面端部に尖端を有する突片４０、下面端部に尖端を有す
る突片４１を対峙させ設け、上突片４０の尖端と下突片
４１の尖端の水平位置は合致させる。
【００２８】又、目盛り３７を付けたＹ方向スケール軸
３３を覗き窓６の周端に固着し、Ｙ方向スライダ３５を
摺動自在に取付ける。該Ｙ方向スライダ３５にＹ方向バ
ーニャ３９を設け、該Ｙ方向バーニャ３９と、前記Ｘ方
向スケール軸３２の一端とを固定する。
３３を覗き窓６の周端に固着し、Ｙ方向スライダ３５を
摺動自在に取付ける。該Ｙ方向スライダ３５にＹ方向バ
ーニャ３９を設け、該Ｙ方向バーニャ３９と、前記Ｘ方
向スケール軸３２の一端とを固定する。
【００２９】プレートアーム２６等の測定対象物の位置
測定方法について説明する。前記覗き窓６の上方から前
記位置測定器３１とプレートアーム２６に測定者の目の
焦点を交互に合わせながら、前記Ｘ方向スライダ３４、
Ｙ方向スライダ３５の摺動によって、プレートアーム２
６の所要の測定点に前記突片４０、突片４１の尖端及び
測定点が合致する様に視線の方向を調整する（図４参
照）。突片４０、突片４１の尖端及び測定点の３点が合
致した状態での目盛り３６、Ｘ方向バーニャ３８、目盛
り３７、Ｙ方向バーニャ３９を読むことにより、測定対
象物の所要の測定点の位置を再現性良く測定することが
可能となる。
測定方法について説明する。前記覗き窓６の上方から前
記位置測定器３１とプレートアーム２６に測定者の目の
焦点を交互に合わせながら、前記Ｘ方向スライダ３４、
Ｙ方向スライダ３５の摺動によって、プレートアーム２
６の所要の測定点に前記突片４０、突片４１の尖端及び
測定点が合致する様に視線の方向を調整する（図４参
照）。突片４０、突片４１の尖端及び測定点の３点が合
致した状態での目盛り３６、Ｘ方向バーニャ３８、目盛
り３７、Ｙ方向バーニャ３９を読むことにより、測定対
象物の所要の測定点の位置を再現性良く測定することが
可能となる。
【００３０】更に、図５、図６に於いて本発明の第３の
実施例を説明する。図５は、覗き窓６に位置測定器４２
を取付けた状態を示している。
実施例を説明する。図５は、覗き窓６に位置測定器４２
を取付けた状態を示している。
【００３１】前記位置測定器４２について詳述する。目
盛り４５を付けた回動スケール軸４３にスライダ４４を
摺動自在に取付ける。該スライダ４４にバーニャ４６を
設け、該バーニャ４６の上面端部に尖端を有する突片４
０、下面端部に尖端を有する突片４１を対峙させ設け、
上突片４０の尖端と下突片４１の尖端の水平位置は合致
させる。
盛り４５を付けた回動スケール軸４３にスライダ４４を
摺動自在に取付ける。該スライダ４４にバーニャ４６を
設け、該バーニャ４６の上面端部に尖端を有する突片４
０、下面端部に尖端を有する突片４１を対峙させ設け、
上突片４０の尖端と下突片４１の尖端の水平位置は合致
させる。
【００３２】前記覗き窓６の一隅に回転ベース５０を設
け、前記回動スケール軸４３の一端を回転軸４９を介し
て前記回転ベース５０に回転自在に支持する。又、前記
覗き窓６上に、前記回動スケール軸４３先端の回転軌道
を弧とする円弧状の角度目盛り５１を付設する。
け、前記回動スケール軸４３の一端を回転軸４９を介し
て前記回転ベース５０に回転自在に支持する。又、前記
覗き窓６上に、前記回動スケール軸４３先端の回転軌道
を弧とする円弧状の角度目盛り５１を付設する。
【００３３】プレートアーム２６等の測定対象物の位置
測定方法について説明する。前記覗き窓６の上方から、
前記回動スケール軸４３の回転と、前記スライダ４４の
摺動によってプレートアーム２６の所要の測定点に前記
突片４０、突片４１の尖端及び測定点が合致する様に視
線の方向を調整する（図６参照）。突片４０、突片４１
の尖端及び測定点の３点が合致した状態での目盛り４
５，バーニャ４６、角度目盛り５１を読むことにより、
測定対象物の所要の測定点の位置を再現性良く測定する
ことができる。尚、角度目盛り５１は回転ベース５０に
設けてもよく、回転軸４９に角度目盛り用のバーニャを
設けてもよい。
測定方法について説明する。前記覗き窓６の上方から、
前記回動スケール軸４３の回転と、前記スライダ４４の
摺動によってプレートアーム２６の所要の測定点に前記
突片４０、突片４１の尖端及び測定点が合致する様に視
線の方向を調整する（図６参照）。突片４０、突片４１
の尖端及び測定点の３点が合致した状態での目盛り４
５，バーニャ４６、角度目盛り５１を読むことにより、
測定対象物の所要の測定点の位置を再現性良く測定する
ことができる。尚、角度目盛り５１は回転ベース５０に
設けてもよく、回転軸４９に角度目盛り用のバーニャを
設けてもよい。
【００３４】更に、第２、第３の実施例では視線調整手
段として３角突片を設けたが、Ｖノッチを刻設した突
片、ピンホールを穿設した突片、或は突片の代わりにク
ロスの視準線を刻設したガラスを設けてもよく、或は簡
単な望遠鏡をスケール軸に摺動自在に設けてもよい。或
は又、ガラスの裏面に碁盤状のスケールを付設し、スラ
イダに碁盤状のスケールを付設した透明な小片を設けて
もよく、更に、これら視線調整手段を適宜組合わせても
よい。
段として３角突片を設けたが、Ｖノッチを刻設した突
片、ピンホールを穿設した突片、或は突片の代わりにク
ロスの視準線を刻設したガラスを設けてもよく、或は簡
単な望遠鏡をスケール軸に摺動自在に設けてもよい。或
は又、ガラスの裏面に碁盤状のスケールを付設し、スラ
イダに碁盤状のスケールを付設した透明な小片を設けて
もよく、更に、これら視線調整手段を適宜組合わせても
よい。
【００３５】更に上記した第１〜第３の実施例に於い
て、覗き窓６を図７に示した如く反応室４と反応室５と
の間に位置すると想定して説明したが、所要な位置に適
宜配設可能であることは言う迄もない。
て、覗き窓６を図７に示した如く反応室４と反応室５と
の間に位置すると想定して説明したが、所要な位置に適
宜配設可能であることは言う迄もない。
【００３６】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、密閉容
器内の移動体の停止位置の粗い測定を再現性良く行うこ
とができるので、半導体製造装置等の保守、調整の精度
が向上する。
器内の移動体の停止位置の粗い測定を再現性良く行うこ
とができるので、半導体製造装置等の保守、調整の精度
が向上する。
【図１】本発明の第１の実施例に係る密閉容器の覗き窓
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図２】同前実施例に於ける測定状態を示す説明図であ
る。
る。
【図３】本発明の第２の実施例に係る密閉容器の覗き窓
を示す斜視説明図である。
を示す斜視説明図である。
【図４】同前実施例に於ける測定状態を示す説明図であ
る。
る。
【図５】本発明の第３の実施例に係る密閉容器の覗き窓
を示す斜視説明図である。
を示す斜視説明図である。
【図６】同前実施例に於ける測定状態を示す説明図であ
る。
る。
【図７】枚葉式エッチング装置の概略外観図である。
【図８】枚葉式エッチング装置内部の概略説明図であ
る。
る。
【図９】従来例に於ける測定状態を示す説明図である。
６ 覗き窓 ２６ プレートアーム ２８ 表スケール ２９ 裏スケール ３０ 交点
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 5/06 Ａ 7362−4Ｅ
Claims (10)
- 【請求項１】 密閉容器の壁面の一部に設けられた透明
な窓が位置測定手段を備えていることを特徴とする密閉
容器の覗き窓。 - 【請求項２】 位置測定手段が透明な窓の表裏に付設さ
れた碁盤の目状のスケールである請求項１の密閉容器の
覗き窓。 - 【請求項３】 位置測定手段が視線調整手段を有するス
ライダが摺動可能に設けられたＸ方向スケール軸と、該
Ｘ方向スケール軸が摺動可能に設けられたＹ方向スケー
ル軸とを具備する請求項１の密閉容器の覗き窓。 - 【請求項４】 位置測定手段が透明な窓の所要箇所に回
転自在に設けた回動スケール軸と、該回動スケール軸に
摺動自在に設けられ、視線調整手段を有するスライダと
を具備する請求項１の密閉容器の覗き窓。 - 【請求項５】 透明な窓に回動スケール軸先端の回転軌
道を弧とする円弧状の角度目盛りを付設した請求項４の
密閉容器の覗き窓。 - 【請求項６】 回動スケール軸の回転支持部、スライダ
の少なくとも一方にバーニャを設けた請求項４の密閉容
器の覗き窓。 - 【請求項７】 スライダ、Ｙ方向スケール軸の少なくと
も一方にバーニャを設けた請求項３の密閉容器の覗き
窓。 - 【請求項８】 視線調整手段がスライダの上面、下面に
設けられ、尖端を有する一対の突片である請求項３又は
請求項４の密閉容器の覗き窓。 - 【請求項９】 視線調整手段がスライダの上面、下面に
設けられ、ノッチを有する一対の突片である請求項３又
は請求項４の密閉容器の覗き窓。 - 【請求項１０】 視線調整手段がスライダの上面、下面
に設けられ、視準線を有する一対の透明片である請求項
３又は請求項４の密閉容器の覗き窓。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34189393A JPH07169820A (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | 密閉容器の覗き窓 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34189393A JPH07169820A (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | 密閉容器の覗き窓 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07169820A true JPH07169820A (ja) | 1995-07-04 |
Family
ID=18349562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34189393A Pending JPH07169820A (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | 密閉容器の覗き窓 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07169820A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103241541A (zh) * | 2012-02-01 | 2013-08-14 | 株式会社安川电机 | 机器人 |
| JP2016046518A (ja) * | 2014-08-20 | 2016-04-04 | 丁炳鐵 | 半導体ウェハーティーチング治具 |
| CN112864071A (zh) * | 2021-01-18 | 2021-05-28 | 长鑫存储技术有限公司 | 校正半导体制造机台中晶圆位置的工具和方法 |
| CN113345819A (zh) * | 2021-06-03 | 2021-09-03 | 长鑫存储技术有限公司 | 校准工装及方法 |
-
1993
- 1993-12-13 JP JP34189393A patent/JPH07169820A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103241541A (zh) * | 2012-02-01 | 2013-08-14 | 株式会社安川电机 | 机器人 |
| JP2013158849A (ja) * | 2012-02-01 | 2013-08-19 | Yaskawa Electric Corp | ロボット |
| JP2016046518A (ja) * | 2014-08-20 | 2016-04-04 | 丁炳鐵 | 半導体ウェハーティーチング治具 |
| CN112864071A (zh) * | 2021-01-18 | 2021-05-28 | 长鑫存储技术有限公司 | 校正半导体制造机台中晶圆位置的工具和方法 |
| CN112864071B (zh) * | 2021-01-18 | 2022-04-01 | 长鑫存储技术有限公司 | 校正半导体制造机台中晶圆位置的工具和方法 |
| CN113345819A (zh) * | 2021-06-03 | 2021-09-03 | 长鑫存储技术有限公司 | 校准工装及方法 |
| CN113345819B (zh) * | 2021-06-03 | 2023-06-27 | 长鑫存储技术有限公司 | 校准工装及方法 |
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