JPH07164041A - Method for drawing duct and device therefor - Google Patents

Method for drawing duct and device therefor

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JPH07164041A
JPH07164041A JP31646793A JP31646793A JPH07164041A JP H07164041 A JPH07164041 A JP H07164041A JP 31646793 A JP31646793 A JP 31646793A JP 31646793 A JP31646793 A JP 31646793A JP H07164041 A JPH07164041 A JP H07164041A
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JP
Japan
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duct
plug
gas
drawn
die
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Application number
JP31646793A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshiaki Kobari
利明 小針
Nobuo Hirano
暢夫 平野
Manabu Matsumoto
学 松本
Mamoru Katane
守 片根
Hiroaki Sakurahata
広明 桜畠
Shiro Matsuzaki
四郎 松崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a drawing method for a duct by which the inside surface with reduced gas release and light stimulating release by radiated light irradiation under high vacuum can be formed, a drawing device for executing the method and a vacuum duct which is produced by the device. CONSTITUTION:A material to be drawn 4 is drawn and simultaneously the inside surface of the drawn duct is ground using a die 3 and a plug 1. The drawing device consists of the die 3 which is a taper holed tool and the plug 1 which is inserted in the taper hole of the die 3 and provided with a grinding surface 2 on its outer circumference. A beam duct is produced by drawing the duct using the drawing device.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ダクトを引抜き加工す
る引抜き加工法及びその装置に係わり、特に真空容器と
して用いられるダクトの引抜き加工法及び装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a drawing method and apparatus for drawing a duct, and more particularly to a drawing method and apparatus for a duct used as a vacuum container.

【0002】[0002]

【従来の技術】引抜き加工法によって製作されるダクト
の一例として、荷電粒子加速器の一種である電子あるい
は陽電子蓄積リングのビームダクトを例に、従来の技術
について説明する。従来のビームダクトは、高エネルギ
ー物理学研究所レポート、No. 81-2(1981年)72頁から7
3頁において論じられているように、きわめて細長い環
状の容器からなり、内部は超高真空に保たれている。ビ
ームダクトは、電子あるいは陽電子をコントロールする
ための、二極や四極そして六極マグネット等の内部に設
置されている。電子あるいは陽電子は、ビームダクト内
部で加速あるいは蓄積されるが、これらのマグネット部
では、電子や陽電子が制動輻射を受け、放射光を発生す
る。利用のために蓄積リングから取り出される放射光以
外の光は、ビームダクトの内壁を照射し、光刺激脱離と
呼ばれるビームダクト表面からのガス放出を引き起こ
す。光刺激脱離に関しては、例えば、文献バキューム、
ボリューム33、ナンバー7(1983)、第397頁
から第406頁(Vacuum,volume33, number7(1983) p
age 397 to 406)で述べられている。光刺激脱離によっ
て生じたガス放出は、ビームダクト内部の圧力を上昇さ
せる。この結果、ガスと電子あるいは陽電子が衝突して
蓄積電子の減少が起こり、衝突型加速器では衝突頻度の
減少、放射光利用では放射光輝度の低下という問題を引
き起こす。この問題を解決するために、従来はビームダ
クト内面の化学処理などが行われてきた。例えば、化学
処理の例としては、文献:バキューム、ボリューム3
8、ナンバー8-10(1988)、第933頁から第
936頁(Vacuum, volume38, number8-10(1988) pag
e 933 to 936)で述べられている。これらの処理によっ
てダクト表面を清浄化して、光刺激脱離を減少させる試
みがなされてきた。
2. Description of the Related Art As an example of a duct manufactured by a drawing method, a conventional beam duct of an electron or positron storage ring which is a kind of charged particle accelerator will be described as a conventional technique. Conventional beam ducts are reported in Institute of High Energy Physics, No. 81-2 (1981), pp. 72-7.
As discussed on page 3, it consists of a very elongated, annular container with an ultrahigh vacuum inside. The beam duct is installed inside a dipole, quadrupole, and hexapole magnet for controlling electrons or positrons. Electrons or positrons are accelerated or accumulated inside the beam duct, but in these magnets, the electrons or positrons receive bremsstrahlung and generate radiated light. Light other than the emitted light that is extracted from the storage ring for use illuminates the inner wall of the beam duct, causing outgassing from the beam duct surface, called photostimulated desorption. Regarding photostimulation desorption, for example, literature vacuum,
Volume 33, number 7 (1983), pages 397 to 406 (Vacuum, volume33, number7 (1983) p
age 397 to 406). Outgassing caused by photostimulated desorption increases the pressure inside the beam duct. As a result, the gas and electrons or positrons collide with each other to reduce the number of accumulated electrons, which causes a problem that the collision frequency is reduced in the collider and the radiance is reduced in the case of utilizing synchrotron radiation. In order to solve this problem, conventionally, the inner surface of the beam duct has been chemically treated. For example, as an example of chemical treatment, reference is made to: Vacuum, Volume 3
8, number 8-10 (1988), pages 933 to 936 (Vacuum, volume38, number8-10 (1988) pag
e 933 to 936). Attempts have been made to clean the duct surface with these treatments to reduce photostimulated desorption.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の荷電粒
子加速器のビームダクト等の真空容器では、ビレットな
どの素材からダクト成形を行う押し出し加工時に、素材
とプラグ等の工具間の摩擦を減少させる目的で潤滑剤を
用いる場合があるので、この潤滑剤によってダクト内表
面にガス放出や光刺激脱離の原因となる分子等を保留し
た汚染層が形成される場合がある。さらに、熱間押し出
しなどによってダクトを成形する際に、高温で成形され
た表面と空気や不純物が反応し、ガス放出源となる汚染
層を形成する場合もあった。これらの汚染層からのガス
放出や、光刺激脱離を減少させることを目的とした表面
の化学処理は、材料によって表面化学処理法を変える必
要があったり、あるいは、化学薬品を使用するために、
ガス放出層の除去と同時に表面を粗くしてしまうなどの
問題、さらに、化学薬品を使用するために、処理後の洗
浄設備、環境汚染防止設備等の施設が必要となり、処理
に必要な設備の規模が大きくなる等の問題があった。ま
た、表面化学処理を施すことによって、逆にビームダク
ト表面にガス放出源となる化合物層を生成してしまうな
どの問題もあった。
In the vacuum container such as the beam duct of the charged particle accelerator of the above-mentioned prior art, friction between the material and a tool such as a plug is reduced at the time of extrusion processing for forming a duct from a material such as a billet. Since a lubricant may be used for the purpose, this lubricant may form a contaminated layer on the inner surface of the duct, in which molecules causing gas release or photostimulation desorption are retained. Further, when a duct is formed by hot extrusion or the like, the surface formed at a high temperature may react with air or impurities to form a contaminated layer serving as a gas emission source. Chemical treatment of the surface for the purpose of reducing gas emission and photostimulated desorption from these contaminated layers requires that the surface chemical treatment method be changed depending on the material, or that the chemical agent is used. ,
Problems such as roughening the surface at the same time as removing the gas release layer.Furthermore, since chemicals are used, facilities such as post-treatment cleaning equipment and environmental pollution prevention equipment are required. There was a problem that the scale became large. In addition, there is also a problem that the surface chemical treatment causes a compound layer which becomes a gas emission source to be generated on the surface of the beam duct.

【0004】本発明の目的は、高真空下でガス放出及び
放射光照射による光刺激脱離を低減する内面の形成が可
能なダクトの引抜き加工法及びこの加工法を行う引抜き
加工装置と、この引抜き加工装置によって作られる真空
ダクトを提供することにある。
An object of the present invention is to perform a duct drawing method capable of forming an inner surface for reducing gas emission and photostimulated desorption due to irradiation of radiant light under a high vacuum, and a drawing apparatus for performing the method. It is to provide a vacuum duct made by a drawing machine.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的は、ダイス及び
プラグを用いて引抜き材の引抜き加工によりダクトを製
造するダクトの引抜き加工法において、前記引抜き材の
引抜きと同時に前記ダクトの内面を研削することにより
達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION In the duct drawing method for manufacturing a duct by drawing a drawn material using a die and a plug, the above-mentioned object is to grind the inner surface of the duct simultaneously with the drawing of the drawn material. It is achieved by

【0006】前記引抜き材の引抜き及び前記ダクトの内
面研削時に、ガスを供給することが望ましい。
It is desirable to supply gas during the drawing of the drawn material and the grinding of the inner surface of the duct.

【0007】前記ガスは不活性ガスであることが望まし
い。
The gas is preferably an inert gas.

【0008】上記目的は、工具に先細り穴をあけたダイ
スと、該ダイスの先細り穴に挿入するプラグとを備えた
ダクトの引抜き加工装置において、前記プラグの外周面
に研削加工手段を設けたことにより達成される。
The above-mentioned object is to provide a duct drawing apparatus provided with a die having a tapered hole in a tool and a plug inserted into the tapered hole of the die, wherein grinding means is provided on the outer peripheral surface of the plug. Achieved by

【0009】真空ダクトは前記ダクトの引抜き加工装置
により製造された前記ダクトの両端にフランジを設けた
構造が望ましい。
It is desirable that the vacuum duct has a structure in which flanges are provided at both ends of the duct manufactured by the duct drawing apparatus.

【0010】荷電粒子加速器のビームダクトには前記真
空ダクトを用いることが望ましい。
It is desirable to use the vacuum duct as the beam duct of the charged particle accelerator.

【0011】[0011]

【作用】引抜き材の引抜きと同時にダクトの内面を研削
することにより、引抜きの際に形成され真空容器からの
ガス放出及び放射光照射による光刺激脱離などのガス放
出源となる表面汚染層を除去できる。
[Function] By grinding the inner surface of the duct at the same time as the drawing of the drawn material, the surface contamination layer which is formed during the drawing and serves as a gas discharge source such as gas discharge from the vacuum container and photostimulated desorption due to irradiation of radiant light is removed. Can be removed.

【0012】そして、表面化学処理が不要となりそれに
要する設備も不要となる。
Further, the surface chemical treatment becomes unnecessary and the equipment required therefor becomes unnecessary.

【0013】また、化学処理によって表面を粗にした
り、ガス放出源となる化合物層を生成する恐れもない。
Further, there is no fear that the surface will be roughened by the chemical treatment and a compound layer which will be a gas emission source will be formed.

【0014】さらに、上記ダクトの両端にフランジを設
けて真空容器とすることにより、ガス放出や放射光の照
射による光刺激脱離を低減できる荷電粒子加速器のビー
ムダクトが得られる。
Further, by providing flanges at both ends of the duct to form a vacuum container, a beam duct of a charged particle accelerator can be obtained which can reduce photostimulation and desorption due to gas emission and irradiation of radiant light.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】先ず本実施例になる装置を説明する。First, the apparatus according to this embodiment will be described.

【0017】図1は本発明の実施例の引抜き加工装置を
説明する説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view for explaining a drawing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【0018】本図に示されるように、ダイス3、プラグ
1、このプラグを固定するプラグ支持装置5、さらに引
抜き材4を引張り力により前方に引き抜く引っ張り装置
6からなる。真空容器として用いられるダクト及び電子
や陽電子を加速・蓄積するためのビームダクトは、通
常、押し出し加工後に、引抜き加工によって所望の断面
形状に成形される。ダクト材質は通常、ステンレス鋼、
アルミニウム合金、銅などである。
As shown in the figure, it comprises a die 3, a plug 1, a plug supporting device 5 for fixing the plug, and a pulling device 6 for pulling the pulling member 4 forward by a pulling force. A duct used as a vacuum container and a beam duct for accelerating and accumulating electrons and positrons are usually formed into a desired cross-sectional shape by drawing after extrusion. Duct material is usually stainless steel,
Aluminum alloy, copper, etc.

【0019】始めに一般的な引抜き加工方法を説明す
る。
First, a general drawing method will be described.

【0020】図2は一般的な引抜き加工方法を説明する
部分断面図である。
FIG. 2 is a partial sectional view for explaining a general drawing method.

【0021】本図に示すように押出し加工などによって
製作された引抜き材4−1(引抜き前材)は、ダイス3
に挿入され、引抜き材内部にはプラグ1が挿入されてい
る。該プラグ1は、プラグ支持装置5によって固定され
ている。ダイス3に挿入された引抜き材は、図1に示す
引っ張り装置6によって、図面右方向に引き抜かれ、ダ
イス3とプラグ1の相対位置関係で決定される空間を通
過する際に塑性変形を受けて成形され、引抜き材4−2
(引抜き後材)となる。
As shown in the figure, the drawn material 4-1 (material before drawing) manufactured by extrusion processing is the die 3
And the plug 1 is inserted inside the drawing material. The plug 1 is fixed by a plug support device 5. The drawing material inserted into the die 3 is drawn rightward in the drawing by the pulling device 6 shown in FIG. 1, and undergoes plastic deformation when passing through a space determined by the relative positional relationship between the die 3 and the plug 1. Molded and drawn material 4-2
(Material after drawing).

【0022】次に本実施例になる引抜き加工方法を説明
する。
Next, the drawing method according to this embodiment will be described.

【0023】本発明の特徴の一つは引抜きと同時に引抜
き材の内面を研削することにあり、研削に用いるプラグ
について説明する。
One of the features of the present invention is that the inner surface of the drawn material is ground at the same time as the drawing, and the plug used for the grinding will be described.

【0024】図3は本発明の実施例のプラグ断面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional view of a plug according to an embodiment of the present invention.

【0025】本図に示すようにプラグ1の外周面の一部
は、図示せざるダクト内面と接し、引抜き材の内面形状
を整える働きをする。プラグ1の外周面は、引抜き材に
接して、該引抜き材内面を研削するための表面に突起や
凹凸を有する研削面2となっている。
As shown in the figure, a part of the outer peripheral surface of the plug 1 is in contact with the inner surface of the duct (not shown) and serves to adjust the inner surface shape of the drawn material. The outer peripheral surface of the plug 1 is a ground surface 2 that is in contact with the drawn material and has projections and irregularities on the surface for grinding the inner surface of the drawn material.

【0026】図4は図3のプラグ研削面の部分拡大断面
図である。
FIG. 4 is a partially enlarged sectional view of the ground surface of the plug shown in FIG.

【0027】プラグ1の表面にはダイアモンド粒子8を
包含する研削層7が形成されている。この研削層7は、
ニッケル膜上にダイアモンド粒子が電着などによって固
定されたものとなっている。このようなプラグ1を用い
て真空容器となるダクトの引抜き加工を行えば、断面形
状の成形と同時に、プラグによってダクト内面に押しだ
し加工時に形成された表面の汚染層を、研削によって除
去することが可能となる。この結果、ダクトからのガス
放出や、放射光照射に基づく光刺激脱離を減少させるこ
とが可能となる。このような汚染層の厚みは、数百μm
以下と考えられるので、ダイアモンド粒子によって十分
除去は可能である。
A grinding layer 7 containing diamond particles 8 is formed on the surface of the plug 1. This grinding layer 7 is
Diamond particles are fixed on the nickel film by electrodeposition or the like. When the duct that serves as a vacuum container is drawn by using such a plug 1, the contaminated layer formed on the inner surface of the duct by the plug at the time of the extruding process can be removed by grinding at the same time when the cross-sectional shape is formed. It will be possible. As a result, it is possible to reduce the gas emission from the duct and the photostimulation detachment due to the irradiation of radiant light. The thickness of such a contaminated layer is several hundred μm.
Since it is considered as follows, it can be sufficiently removed by diamond particles.

【0028】図5は図3の他のプラグ研削面の部分拡大
断面図である。
FIG. 5 is a partially enlarged sectional view of another plug grinding surface of FIG.

【0029】図6は図5の部分斜視図である。FIG. 6 is a partial perspective view of FIG.

【0030】プラグ1の表面を凹凸状のやすり面9とす
ることにより、上記実施例同様に引抜き材内面を研削
し、汚染層を除去することが可能である。
By making the surface of the plug 1 the uneven file surface 9, it is possible to remove the contamination layer by grinding the inner surface of the drawn material as in the above-mentioned embodiment.

【0031】上記の実施例では、プラグ表面の研削面に
ついて、ダイアモンド粒子とやすり面の例について述べ
たが、引抜き材内面を研削するのが目的であり、プラグ
表面粗さが引抜き材表面粗さよりも粗ければ、他の研削
面とすることも可能である。
In the above embodiment, the examples of the diamond particles and the rasp surface of the ground surface of the plug have been described, but the purpose is to grind the inner surface of the drawn material, and the plug surface roughness is more than the surface roughness of the drawn material. If it is also rough, it can be another grinding surface.

【0032】図7は本発明の表面研削と従来の電解研磨
との実験結果を示す図表である。
FIG. 7 is a table showing the experimental results of the surface grinding of the present invention and the conventional electrolytic polishing.

【0033】本図は、2種類の表面処理を実施した無酸
素銅に放射光を照射した時の光刺激脱離を測定したもの
である。横軸は、放射光照射量の積分値で、全照射光子
数と同等の値である。縦軸はイールドと呼ばれるもの
で、1個の光子によって脱離した分子数を表し、ガス放
出量に相当する値である。イールド値は低い方が真空容
器からの光刺激脱離が少なく、高性能真空ダクトまたは
高性能ビームダクトということになる。電解研磨処理よ
り表面研削を行った方が、放射光の照射開始から全照射
領域においてイールド値は低い。これは表面を研削する
方法が、電解研磨よりもガス放出源となる汚染層を除去
する効果の大きいことを示している。
This figure shows the photostimulated desorption when oxygen-free copper subjected to two kinds of surface treatments was irradiated with radiant light. The horizontal axis is the integrated value of the radiant light irradiation amount, which is a value equivalent to the total irradiation photon number. The vertical axis is called the yield and represents the number of molecules desorbed by one photon, which is a value corresponding to the amount of gas released. The lower the yield value, the less the light stimulated desorption from the vacuum container, which means that it is a high performance vacuum duct or a high performance beam duct. When the surface grinding is performed rather than the electrolytic polishing treatment, the yield value is lower in the entire irradiation region from the start of irradiation of the radiant light. This indicates that the method of grinding the surface is more effective than the electrolytic polishing in removing the contaminated layer which is a gas emission source.

【0034】次に、引抜き加工時に、ダクト内部にガス
を導入する方法について説明する。
Next, a method of introducing gas into the duct during drawing will be described.

【0035】図8は本発明の他の実施例の引抜き加工方
法を説明する断面図である。
FIG. 8 is a sectional view for explaining a drawing method according to another embodiment of the present invention.

【0036】本図に示す引抜き加工方法はプラグ1をプ
ラグ支持装置5により支持するは玉引きタイプであり、
プラグ1及びプラグ支持装置5の内部にガス導入路11
を設け、プラグ支持装置5の固定側からガスを供給し、
プラグ1先端からガスを吐出させる例である。吐出され
たガスは、図示せざる引抜き材内部に充満する。引抜き
方向の引抜き材先端を密封することによって、充満した
ガスは研削面2と引抜き材内面の隙間を通過して、プラ
グ支持装置5方向に流れる。ガスを流さない場合、プラ
グ1表面の研削面2が引抜き材内面を研削することによ
って引抜き材内面温度が上昇し、ダクト内部の空気や水
分と熱反応を起こしてガス放出源となる酸化物等を生成
する恐れがある。しかし、例えばアルゴンのような不活
性ガスを流すことによって、該ガスが、研削された清浄
面をシールドできるので、上述したような酸化物を生成
することがない。また、ガスを流すことによって、プラ
グ1及び引抜き材を冷却することにより、温度変化によ
る被研削面のばらつきを防止できる。
In the drawing method shown in this figure, the plug 1 is supported by the plug support device 5 is a ball-drawing type.
A gas introduction path 11 is provided inside the plug 1 and the plug support device 5.
To supply gas from the fixed side of the plug supporting device 5,
This is an example of discharging gas from the tip of the plug 1. The discharged gas fills the interior of the drawing material (not shown). By sealing the tip of the drawing material in the drawing direction, the filled gas passes through the gap between the grinding surface 2 and the inner surface of the drawing material and flows toward the plug support device 5. When the gas does not flow, the grinding surface 2 on the surface of the plug 1 grinds the inner surface of the drawn material, so that the inner surface temperature of the drawn material rises, and an oxide or the like which causes a thermal reaction with air or moisture inside the duct and becomes a gas release source. May generate. However, by flowing an inert gas such as, for example, argon, the gas can shield the ground clean surface, so that it does not form the oxides mentioned above. Further, by flowing the gas, the plug 1 and the drawn material are cooled, so that it is possible to prevent variations in the surface to be ground due to temperature changes.

【0037】図9は本発明の他の実施例の引抜き加工方
法を説明する断面図である。
FIG. 9 is a sectional view for explaining a drawing method according to another embodiment of the present invention.

【0038】本図に示す引抜き加工方法はプラグ1をプ
ラグ支持装置5により支持しない浮きプラグ引きタイプ
で、引抜き方向には引抜き材4−2(引抜き後材)を引
っ張るための図示せざる引っ張り装置があり、この引っ
張り装置側から引抜き材4−2(引抜き後材)内部に例
えばアルゴンのような不活性ガスを供給する。供給され
た不活性ガスが、プラグ1と引抜き材4の隙間を通って
図面左方向に流れるのは図8に示す実施例と同じであ
る。不活性ガスの供給により、引抜き材の被研削面の酸
化等を防止できる。
The pulling method shown in this figure is a floating plug pulling type in which the plug 1 is not supported by the plug supporting device 5, and a pulling device (not shown) for pulling the pulling material 4-2 (after-drawing material) in the pulling direction. From this pulling device side, an inert gas such as argon is supplied to the inside of the drawing material 4-2 (material after drawing). The supplied inert gas flows to the left in the drawing through the gap between the plug 1 and the drawing material 4, as in the embodiment shown in FIG. By supplying the inert gas, it is possible to prevent the surface to be ground of the drawn material from being oxidized.

【0039】上記のガスを供給する各実施例では、ガス
として不活性ガスを用いたが、被研削面に所望の膜を生
成するために、任意の元素ガスを導入することはもちろ
ん可能である。例えば、意図的に被研削面に安定な酸化
膜を生成するために、酸素ガスの導入も考えられる。
In each of the embodiments for supplying the above-mentioned gas, an inert gas was used as the gas, but it is of course possible to introduce any elemental gas in order to form a desired film on the surface to be ground. . For example, introduction of oxygen gas may be considered in order to intentionally form a stable oxide film on the surface to be ground.

【0040】図10は本発明の実施例の各種ダクトの引
抜き加工を説明する断面図である。
FIG. 10 is a sectional view for explaining the drawing process of various ducts according to the embodiment of the present invention.

【0041】本図に示すように円形ダクトから楕円ダク
トまたは矩形ダクトを熱間あるいは、冷間押し出し等に
よって押し出し後に、引抜き加工とにダクト内面の研削
加工を同時に実施する。
As shown in the figure, an elliptical duct or a rectangular duct is extruded from a circular duct by hot or cold extrusion, and then the duct inner surface and the duct inner surface are simultaneously ground.

【0042】図11は本発明の実施例の真空ダクトの構
成を示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing the structure of the vacuum duct according to the embodiment of the present invention.

【0043】以上述べた様なダクト製作工程の後に、必
要な枝管やフランジを溶接等によって取付けて真空容器
として用いるビームダクトが完成する。このようにして
製作されたビームダクトは内面が研削加工を受け、光刺
激脱離などのガス放出を減少させることが可能となり、
蓄積リングなどの加速器における荷電粒子の減少を押さ
えた、高性能荷電粒子加速器を得ることができる。ま
た、表面化学処理が不要となり、それに要する設備も不
要となる。さらに、化学処理によって、表面を荒した
り、ガス放出源となる化合物層を生成する恐れもない。
After the duct manufacturing process as described above, necessary branch pipes and flanges are attached by welding or the like to complete a beam duct used as a vacuum container. The inner surface of the beam duct manufactured in this way is subjected to grinding processing, and it is possible to reduce gas emission such as photostimulation desorption,
It is possible to obtain a high-performance charged particle accelerator that suppresses the reduction of charged particles in an accelerator such as a storage ring. Further, the surface chemical treatment becomes unnecessary, and the equipment required for it becomes unnecessary. Furthermore, there is no risk of roughening the surface or forming a compound layer which becomes a gas emission source by the chemical treatment.

【0044】以上の実施例では、引抜き加工時のダクト
内面研削法について述べたが、当然、押し出し加工にお
いても、本実施例のように、プラグ外周面に研削面を設
けて、押し出し加工時にダクト内面研削を行うことは可
能である。
In the above embodiments, the duct inner surface grinding method at the time of drawing is described. Of course, even in the case of extrusion, the grinding surface is provided on the outer peripheral surface of the plug as in the present embodiment, and the duct at the time of extrusion is formed. It is possible to perform internal grinding.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明によれば、引抜き材の引抜きと同
時にダクトの内面を研削することにより、引抜きの際に
形成され高真空下でガス放出及び放射光照射による光刺
激脱離などのガス放出源となる表面汚染層を除去でき
る。
According to the present invention, the inner surface of the duct is ground at the same time as the drawing of the drawn material, so that the gas formed during the drawing is released under high vacuum, and the gas such as the photostimulated desorption due to the irradiation of radiant light is emitted. It is possible to remove the surface contamination layer which is the emission source.

【0046】上記ダクトの両端にフランジを設けて真空
容器とすることにより、ガス放出や放射光の照射による
光刺激脱離を低減できる荷電粒子加速器のビームダクト
が得られる。
By providing flanges at both ends of the above duct to form a vacuum container, a beam duct of a charged particle accelerator can be obtained which can reduce photostimulation desorption due to gas emission and irradiation of radiant light.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例の引抜き加工装置を説明する説
明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a drawing processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】一般的な引抜き加工方法を説明する部分断面図
である。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view illustrating a general drawing method.

【図3】本発明の実施例のプラグ断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a plug according to an embodiment of the present invention.

【図4】図3のプラグ研削面の部分拡大断面図である。FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view of the plug grinding surface of FIG.

【図5】図3の他のプラグ研削面の部分拡大断面図であ
る。
5 is a partially enlarged sectional view of another plug grinding surface of FIG.

【図6】図5の部分斜視図である。FIG. 6 is a partial perspective view of FIG.

【図7】本発明の表面研削と従来の電解研磨との実験結
果を示す図表である。
FIG. 7 is a chart showing experimental results of surface grinding of the present invention and conventional electrolytic polishing.

【図8】本発明の他の実施例の引抜き加工方法を説明す
る断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a drawing method according to another embodiment of the present invention.

【図9】本発明の他の実施例の引抜き加工方法を説明す
る断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a drawing method according to another embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施例の各種ダクトの引抜き加工を
説明する断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a drawing process of various ducts according to the embodiment of this invention.

【図11】本発明の実施例の真空ダクトの構成を示す斜
視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing a configuration of a vacuum duct according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プラグ 2 研削面 3 ダイス 4 引抜き材 4−1 引抜き前の引抜き材 4−2 引抜き後の引抜き材 5 プラグ支持装置 6 引っ張り装置 7 研削層 8 ダイアモンド粒子 9 やすり面 10 フランジ 11 ガス導入路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plug 2 Grinding surface 3 Die 4 Drawing material 4-1 Drawing material before drawing 4-2 Drawing material after drawing 5 Plug support device 6 Pulling device 7 Grinding layer 8 Diamond particle 9 Rasp surface 10 Flange 11 Gas introduction path

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 片根 守 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 桜畠 広明 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 (72)発明者 松崎 四郎 茨城県日立市幸町三丁目1番1号 株式会 社日立製作所日立工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Mamoru Katane 3-1-1, Saiwaicho, Hitachi-shi, Ibaraki Hitachi Ltd. Hitachi factory (72) Inventor Hiroaki Sakuraba, 3-chome, Saiwaicho, Hitachi-shi, Ibaraki 1st-1 Hitachi Ltd. Hitachi factory (72) Inventor Shiro Matsuzaki 3-1-1 1-1 Saiwaicho, Hitachi City, Ibaraki Hitachi Ltd. Hitachi factory

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ダイス及びプラグを用いて引抜き材の引
抜き加工によりダクトを製造するダクトの引抜き加工法
において、前記引抜き材の引抜きと同時に前記ダクトの
内面を研削することを特徴とするダクトの引抜き加工
法。
1. A duct drawing method for manufacturing a duct by drawing a drawn material using a die and a plug, wherein the inner surface of the duct is ground simultaneously with the drawing of the drawn material. Processing method.
【請求項2】 前記引抜き材の引抜き及び前記ダクトの
内面研削時に、ガスを供給することを特徴とする請求項
1に記載のダクトの引抜き加工法。
2. The duct drawing method according to claim 1, wherein a gas is supplied when the drawing material is drawn and the inner surface of the duct is ground.
【請求項3】 前記ガスが不活性ガスであることを特徴
とする請求項2に記載のダクトの引抜き加工法。
3. The duct drawing method according to claim 2, wherein the gas is an inert gas.
【請求項4】 工具に先細り穴をあけたダイスと、該ダ
イスの先細り穴に挿入するプラグとを備えたダクトの引
抜き加工装置において、前記プラグの外周面に研削加工
手段を設けたことを特徴とするダクトの引抜き加工装
置。
4. A duct drawing apparatus provided with a die having a tapered hole in a tool and a plug inserted into the tapered hole of the die, wherein grinding means is provided on an outer peripheral surface of the plug. Equipment for drawing ducts.
【請求項5】 前記プラグにガスを供給する手段を設け
たことを特徴とする請求項4に記載のダクトの引抜き加
工装置。
5. The duct drawing apparatus according to claim 4, further comprising means for supplying gas to the plug.
【請求項6】 前記プラグに不活性ガスを供給する手段
を設けたことを特徴とする請求項4に記載のダクトの引
抜き加工装置。
6. The duct drawing apparatus according to claim 4, further comprising means for supplying an inert gas to the plug.
【請求項7】 請求項4から請求項6のうちの何れかの
ダクトの引抜き加工装置により製造されたダクトの両端
にフランジを設けたことを特徴とする真空ダクト。
7. A vacuum duct, characterized in that flanges are provided at both ends of the duct manufactured by the duct drawing apparatus according to any one of claims 4 to 6.
【請求項8】 請求項7に記載の真空ダクトを用いたこ
とを特徴とする荷電粒子加速器のビームダクト。
8. A beam duct for a charged particle accelerator, wherein the vacuum duct according to claim 7 is used.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101354655B1 (en) * 2012-11-09 2014-01-21 박정우 Drawing plugs for polycrystalline diamond and manufacturing method thereof

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