JPH07159923A - Image recording article - Google Patents

Image recording article

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Publication number
JPH07159923A
JPH07159923A JP5305440A JP30544093A JPH07159923A JP H07159923 A JPH07159923 A JP H07159923A JP 5305440 A JP5305440 A JP 5305440A JP 30544093 A JP30544093 A JP 30544093A JP H07159923 A JPH07159923 A JP H07159923A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
image recording
photochromic
polymer
transparent protective
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5305440A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masataka Nakamura
正孝 中村
和彦 ▲はし▼阪
Kazuhiko Hashisaka
Tadayoshi Matsunaga
忠與 松永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP5305440A priority Critical patent/JPH07159923A/en
Publication of JPH07159923A publication Critical patent/JPH07159923A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To increase the surface hardness and to improve cleaning characteristics by forming a polymer layer containing an org. photochromic compd. and a transparent protective layer comprising a three-dimensional crosslinked polymer on a base body having specified or higher reflectance for visible rays. CONSTITUTION:A polymer layer containing an org. photochromic compd. and a transparent protective layer comprising three-dimensional crosslinked polymer are formed in this order on a base body having >=30% reflectance for visible rays. As for the photochromic layer, such a structure that the photochromic compd. is dispersed in a polymer or incorporated into the polymer by covalent bonding may be used. Further, it is preferable that the three-dimensional crosslinked polymer has hard coating property. As for the three-dimensional crosslinked polymer having hard coating property, such materials as melamine resin, epoxy resin, diethyleneglycol bisallylcarbonate resin, divinylbenzene resin and organopolysiloxane hardened material are used.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、被写体を通して照射さ
れた電磁波を感受することにより、直接可視画像を記録
することができる画像記録部品に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording component capable of recording a visible image directly by sensing an electromagnetic wave emitted through a subject.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、被写体を通して照射された電磁波
を感受することにより、可視画像を記録する際には、銀
塩フィルムを湿式現像してから、ようやく可視画像とし
て観察していた。すなわち、撮影後すぐには可視画像が
得られなかった。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a visible image is recorded by sensing an electromagnetic wave emitted through a subject, a silver salt film is wet-developed and then finally observed as a visible image. That is, a visible image could not be obtained immediately after photographing.

【0003】それに対し、特開平2−5403号公報、
特開平2−293745号公報には、フォトクロミック
性被膜を表面に有する画像記録物品が示され、従来の被
照射面上の光量分布を受光素子で直接測定して電気信号
に変換するのに変えて、電磁波を照射することにより、
画像を直接観察することが可能な画像記録に関する技術
が開示されている。
On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-5403,
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-293745 discloses an image recording article having a photochromic coating on its surface. Instead of the conventional method of directly measuring the light amount distribution on the irradiated surface with a light receiving element and converting it into an electric signal. , By radiating electromagnetic waves,
A technique relating to image recording capable of directly observing an image is disclosed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】フォトクロミック層と
しては、スピロピラン等のフォトクロミック性を有する
化合物をポリメチルメタクリレート等の樹脂中に分散さ
せたものが一般的であるが、これらの樹脂は非常に軟ら
かいため、取扱う際の不注意によりフォトクロミック層
表面に傷が付きやすかった。また、表面に汚れが付着し
た際にも傷が付きやすいため表面を拭き取ることができ
ず、その結果使用回数が増加するにつれてコントラスト
が低下するという問題があった。
As the photochromic layer, a compound having a photochromic property such as spiropyran dispersed in a resin such as polymethylmethacrylate is generally used, but these resins are very soft. , The photochromic layer surface was easily scratched due to careless handling. Further, even when dirt is attached to the surface, the surface is not easily wiped off because of scratches, and as a result, the contrast decreases as the number of times of use increases.

【0005】本発明は、かかる従来技術の問題を解決し
ようとするものであり、表面硬度が高く、清拭特性の優
れた画像記録物品を提供することを目的とする。
The present invention is intended to solve the problems of the prior art, and an object thereof is to provide an image recording article having high surface hardness and excellent wiping characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために下記の構成を有する。
[Means for Solving the Problems] The present invention has the following constitution in order to achieve the above object.

【0007】「可視光線反射率が30%以上の基材上
に、有機フォトクロミック化合物を含有する高分子層、
三次元架橋高分子からなる透明保護層をこの順序で有す
ることを特徴とする画像記録物品。」 本発明において、基材としては特に限定されず、有機お
よび無機のいずれの材料も使用可能であるが、中でも着
色部と非着色部のコントラストが大きくなるという点
で、可視光線反射率が30%以上の基材において好適で
ある。
"A polymer layer containing an organic photochromic compound on a substrate having a visible light reflectance of 30% or more,
An image recording article having a transparent protective layer composed of a three-dimensional crosslinked polymer in this order. In the present invention, the base material is not particularly limited, and both organic and inorganic materials can be used. Among them, the visible light reflectance is 30 in that the contrast between the colored portion and the non-colored portion becomes large. % Or more of the base material is suitable.

【0008】有機材料としてはポリエチレン系樹脂、ポ
リプロピレン系樹脂などのオレフィン系樹脂;スチレン
系樹;ポリエステル系樹脂;塩化ビニル系樹脂、酢酸ビ
ニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂などのビニル
系樹脂;ナイロン系樹脂などのポリアミド系樹脂;アク
リル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネート系樹脂;ポリイミド系樹
脂;ポリフェニレンスルフィド系樹脂;エポキシ系樹
脂;ウレタン系樹脂等の各樹脂が挙げられる。一方、基
材の平面性および熱安定性の点からは無機材料が好まし
く、ソーダ石灰ガラス、石英ガラス、アルミノケイ酸塩
ガラス、高ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス等のガラス
基材およびシリコン等の無機結晶板等が好ましく使用さ
れる。中でも高純度で、アルカリ金属、アルカリ土類金
属等のイオンを含まず、しかもコントラスト向上に必要
な高反射率を有するという点でシリコンウエハがより好
ましく、TTV(Total Thickness V
ariation)、LTV(Local Thick
ness Variation)等によって示される基
材の平面度に優れる、高精度加工シリコンウエハが最も
好ましい。
As the organic material, olefin resin such as polyethylene resin and polypropylene resin; styrene resin; polyester resin; vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin and other vinyl resin; nylon resin Examples of the resin include polyamide resins such as resins; acrylic resins; polycarbonate resins; diethylene glycol bisallyl carbonate resins; polyimide resins; polyphenylene sulfide resins; epoxy resins; urethane resins. On the other hand, from the viewpoint of the flatness and heat stability of the substrate, an inorganic material is preferable, soda lime glass, quartz glass, aluminosilicate glass, high silicate glass, borosilicate glass and other glass substrates and silicon and other inorganic materials. A crystal plate or the like is preferably used. Above all, a silicon wafer is more preferable in that it has high purity, does not contain ions of alkali metal, alkaline earth metal, and the like, and has a high reflectance necessary for improving contrast, and TTV (Total Thickness V)
), LTV (Local Thick)
A highly-accurate processed silicon wafer, which has excellent flatness of the base material indicated by “Nest Variation” and the like, is most preferable.

【0009】また、基材表面にAl等の金属を主成分と
する反射膜や、無機薄膜等が設けられていても、好まし
く使用することができる。
Further, even if a reflection film containing a metal such as Al as a main component or an inorganic thin film is provided on the surface of the substrate, it can be preferably used.

【0010】本発明は、基材上に有機フォトクロミック
化合物を含有する高分子層(以下、フォトクロミック層
という)を設けてなるものである。
In the present invention, a polymer layer containing an organic photochromic compound (hereinafter referred to as a photochromic layer) is provided on a substrate.

【0011】フォトクロミック化合物としては、特に限
定されるものではなく、スピロピラン系化合物、スピロ
オキサジン系化合物、クロメン系化合物、ジアリールエ
テン系化合物、アゾ系化合物、フルギド系化合物、トリ
アリールメタン系化合物、サリチリデンアニリン系化合
物、ジチゾン水銀系化合物等が挙げられる。中でも、コ
ントラスト、記録保存性等に優れるスピロピラン化合物
が好ましく使用される。
The photochromic compound is not particularly limited, and spiropyran compounds, spirooxazine compounds, chromene compounds, diarylethene compounds, azo compounds, fulgide compounds, triarylmethane compounds, salicylidene compounds. Examples thereof include aniline compounds and dithizone mercury compounds. Among them, spiropyran compounds, which are excellent in contrast and record storability, are preferably used.

【0012】本発明において、フォトクロミック層とし
ては、ポリマ中に分散させたもの、あるいは、フォトク
ロミック化合物を共有結合によってポリマ中に含有させ
たもの等を使用することができる。
In the present invention, as the photochromic layer, those dispersed in a polymer, those containing a photochromic compound in a polymer by a covalent bond, or the like can be used.

【0013】ポリマ中に分散させる場合は、簡便にフォ
トクロミック層を製造することができる点から有用であ
る。この場合のフォトクロミック化合物を分散させるた
めに使用可能なポリマとしては、アクリル系樹脂、スチ
レン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレ
タン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、セル
ロース誘導体、メラミン系樹脂、ポリカーボネート系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。中でも、透
明性、汎用性に優れるポリメチルメタクリレートが好ま
しく使用される。なお、使用可能なポリマはこれらに限
定されるものではない。これらのポリマは単独で使用し
ても、2種以上を混合して使用してもよい。
When dispersed in a polymer, it is useful because the photochromic layer can be easily produced. Polymers that can be used to disperse the photochromic compound in this case include acrylic resins, styrene resins, vinyl resins, polyester resins, urethane resins, epoxy resins, polyamide resins, cellulose derivatives, and melamine resins. Examples thereof include resins, polycarbonate-based resins, polyolefin-based resins and the like. Among them, polymethyl methacrylate, which is excellent in transparency and versatility, is preferably used. The usable polymers are not limited to these. These polymers may be used alone or in combination of two or more.

【0014】フォトクロミック化合物はポリマ中に通常
0.1〜25wt%分散させることが好ましい、0.1
wt%未満の場合はコントラストが低く、また、25w
t%を越える場合にはフォトクロミック化合物が樹脂中
にうまく分散しない傾向がある。5〜20wt%の範囲
が両者のバランスの点でより好ましい。
The photochromic compound is usually preferably dispersed in a polymer in an amount of 0.1 to 25 wt%, 0.1
When the content is less than wt%, the contrast is low and 25w
If it exceeds t%, the photochromic compound tends not to be well dispersed in the resin. The range of 5 to 20 wt% is more preferable in terms of the balance between the two.

【0015】本発明において、フォトクロミック層は塗
布することにより好ましく設けられる。塗布する際に使
用されるフォトクロミック化合物の溶媒としては、メチ
ルアルコール、エチルアルコール、ノルマルプロピルア
ルコール、イソプロピルアルコール、ノルマルブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、tert−ブチルア
ルコール等のアルコール系溶剤、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の
グリコールエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、
酢酸アミル、乳酸エチル、安息香酸メチル等のエステル
系溶剤、ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン、ノルマ
ルオクタン等の脂肪族炭化水素系溶剤、シクロへキサ
ン、エチルシクロへキサン等の脂環族炭化水素系溶剤、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶剤、石油系溶剤等各種のものが使
用可能であり、これらは単独あるいは混合して使用する
ことができる。
In the present invention, the photochromic layer is preferably provided by coating. As the solvent of the photochromic compound used when applying, alcohol solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, normal propyl alcohol, isopropyl alcohol, normal butyl alcohol, isobutyl alcohol, tert-butyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, Glycol ether solvents such as isopropyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate,
Amyl acetate, ethyl lactate, ester solvents such as methyl benzoate, normal hexane, normal heptane, aliphatic hydrocarbon solvents such as normal octane, cyclohexane, alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane,
Various solvents such as ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbon-based solvents such as benzene, toluene and xylene, petroleum-based solvents can be used, and these may be used alone or in combination. You can

【0016】なお、本発明にかかるフォトクロミック層
においては、耐光性および着色濃度の向上を目的とし、
該フォトクロミック層の塗布に用いるポリマ溶液中に、
ニッケル塩に代表される一重項酸素クエンチャー、ニト
ロキシラジカル化合物、ヒンダードアミン系化合物また
はそのポリマーで代表される酸化防止剤、紫外線吸収剤
および三重項消光剤などの光安定剤および増感剤等が添
加されていても良い。また、かかる溶液中の固形分濃度
は、適用する塗布方法、塗布条件等により異なるが、5
〜45wt%の範囲が好ましい。
In the photochromic layer according to the present invention, the purpose is to improve light resistance and color density.
In the polymer solution used for coating the photochromic layer,
Singlet oxygen quenchers represented by nickel salts, nitroxy radical compounds, antioxidants represented by hindered amine compounds or polymers thereof, light stabilizers such as ultraviolet absorbers and triplet quenchers, and sensitizers It may be added. Further, the solid content concentration in the solution varies depending on the applied coating method, coating conditions, etc.
The range of -45 wt% is preferable.

【0017】フォトクロミック層を形成するために使用
されるフォトクロミック溶液中に含まれるNa、K、F
e、Ca含有量は、クリーンルームの汚染を防止する意
味から、1.0ppm以下であることが好ましい。さら
に好ましくは、0.1ppm以下である フォトクロミック層を形成するために使用されるフォト
クロミック溶液中に含まれる0.5μm以上のパーティ
クルは100個/ml以下であることが好ましい。10
0個以上の場合は、フォトクロミック層を形成する際の
コーティングのムラや、表面欠陥の原因になる傾向があ
り、さらに好ましくは50個/ml以下である。
Na, K, F contained in the photochromic solution used to form the photochromic layer.
The content of e and Ca is preferably 1.0 ppm or less in order to prevent contamination of the clean room. More preferably, it is 0.1 ppm or less. The number of particles of 0.5 μm or more contained in the photochromic solution used for forming the photochromic layer is preferably 100 particles / ml or less. 10
When the number is 0 or more, it tends to cause coating unevenness and surface defects when forming the photochromic layer, and more preferably 50 or less.

【0018】フォトクロミック溶液の塗布は、通常行わ
れている浸漬法、噴霧法、スピンコート法、バーコート
法、ローラーコート法、フローコート法、オフセット印
刷法、スクリーン印刷法等いずれの方法によっても可能
であるが、薄い塗布膜を精度良く得るという観点からス
ピンコート法が最も好ましい。
The photochromic solution can be applied by any of the commonly used methods such as dipping, spraying, spin coating, bar coating, roller coating, flow coating, offset printing and screen printing. However, the spin coating method is most preferable from the viewpoint of accurately obtaining a thin coating film.

【0019】かかるフォトクロミック層の膜厚は、使用
されるフォトクロミック化合物の種類および照射装置の
特性等によって決定されるべきものであるが、通常は
0.2〜10μmの範囲で好ましく使用される。とく
に、コントラストや機械操作性の点から0.5〜5μm
であることが好ましい。
The thickness of the photochromic layer should be determined according to the type of photochromic compound used and the characteristics of the irradiation device, but it is usually preferably in the range of 0.2 to 10 μm. In particular, 0.5 to 5 μm from the viewpoint of contrast and machine operability.
Is preferred.

【0020】本発明においては、表面硬度の向上を目的
としてフォトクロミック層の表面に三次元架橋高分子か
らなる透明保護層を設けることが必要である。
In the present invention, it is necessary to provide a transparent protective layer made of a three-dimensional crosslinked polymer on the surface of the photochromic layer for the purpose of improving the surface hardness.

【0021】本発明における三次元架橋高分子として
は、ハードコート性を有することが好ましく、ハードコ
ート性を有する三次元架橋高分子としては、メラミン系
樹脂、エポキシ系樹脂、ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート系樹脂、ジビニルベンゼン系樹脂および
オルガノポリシロキサン系硬化物などが挙げられるが、
硬度および形成のしやすさの点でオルガノポリシロキサ
ン系硬化物が好ましく、とりわけ少なくとも下記一般式
(A)で示される有機ケイ素化合物および/またはその
加水分解物を含む組成物の硬化物が好ましい。 R1 a 2 b SiX4-a-b (A) (式中、R1 およびR2 は、各々アルキル基、アルケニ
ル基 、アラルキル基、アリール基、ハロ基、グリシド
キシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、(メ
タ)アクリロイルオキシ基およびシアノ基から選ばれた
置換基を表わし、Xは加水分解性基を表わし、aおよび
bは各々0または1を表わす。)一般式(A)で表わさ
れる有機ケイ素化合物の中でも、密着性、表面硬度向
上、耐熱性、耐候性などの点からR1 およびR2 として
は炭素数1〜4のアルキル基、アルケニル基、フェニル
基、エポキシ基またはグリシドキシ基を有する有機基が
好ましい。
The three-dimensional crosslinked polymer in the present invention preferably has a hard coat property, and as the three-dimensional crosslinked polymer having a hard coat property, a melamine resin, an epoxy resin, a diethylene glycol bisallyl carbonate resin. , Divinylbenzene-based resins and organopolysiloxane-based cured products,
In terms of hardness and easiness of formation, an organopolysiloxane-based cured product is preferable, and a cured product of a composition containing at least an organosilicon compound represented by the following general formula (A) and / or a hydrolyzate thereof is particularly preferable. R 1 a R 2 b SiX 4-ab (A) (In the formula, R 1 and R 2 are each an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, a halo group, a glycidoxy group, an epoxy group, an amino group, and a mercapto. Group, a substituent selected from a (meth) acryloyloxy group and a cyano group, X represents a hydrolyzable group, and a and b each represent 0 or 1.) Organic compound represented by the general formula (A) Among the silicon compounds, R 1 and R 2 each have an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, an epoxy group or a glycidoxy group having 1 to 4 carbon atoms from the viewpoints of adhesion, surface hardness improvement, heat resistance, weather resistance and the like. Organic groups are preferred.

【0022】一般式(A)で表わされる有機ケイ素化合
物および/またはその加水分解物の具体例としてはメチ
ルシリケート、エチルシリケート、n-プロピルシリケー
ト、イソプロピルシリケート、n-ブチルシリケート、se
c-ブチルシリケートおよびtert- ブチルシリケートなど
のテトラアルコキシシラン類および/またはその加水分
解物;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、メチルジメトキシエトキシシラン、メチルトリ
アセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルジメトキシエトキシ
シラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエ
トキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピル
トリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキ
シシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノ
エチルトリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラ
ン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルト
リエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシ
ラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グ
リシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキ
シエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチル
トリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエト
キシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グ
リシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
ブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジメトキシ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノ
キシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラ
ン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−
グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシド
キシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエ
トキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシ
ラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、
(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキ
シシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル
トリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β
−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプロ
ポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリブトキシシラン、β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルジメトキシエトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリフ
ェノキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、δ
−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメト
キシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)
ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン
類、トリアシルオキシシラン類およびトリフェノキシシ
ラン類および/またはそれらの加水分解物;ジメチルジ
メトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジ
メチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジ
アセトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラ
ン、メチルビニルジエトキシシラン、グリシドキシメチ
ルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチル
ジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメ
トキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシ
ラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルメトキシエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルエチルジプロポキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラ
ンなどのジアルコキシシラン類、ジフェノキシシラン類
およびジアシルオキシシラン類および/またはそれらの
加水分解物を挙げることができる。
Specific examples of the organosilicon compound represented by the general formula (A) and / or its hydrolyzate include methyl silicate, ethyl silicate, n-propyl silicate, isopropyl silicate, n-butyl silicate and se.
Tetraalkoxysilanes such as c-butyl silicate and tert-butyl silicate and / or hydrolysates thereof; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyldimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltriethylsilane Methoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyldimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane , Γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-methac Liloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl)
-Γ-aminopropyltrimethoxysilane, β-cyanoethyltriethoxysilane, methyltriphenoxysilane, chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, α -Glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α -Glycidoxypropyltriethoxysilane,
β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-glycidoxypropyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyldimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriphenoxysilane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-
Glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, δ- Glycidoxybutyltriethoxysilane,
(3,4-epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ) Ethyltriethoxysilane, β
-(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltripropoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltributoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyldimethoxyethoxysilane,
β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriphenoxysilane, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltriethoxysilane, δ
-(3,4-epoxycyclohexyl) butyltrimethoxysilane, δ- (3,4-epoxycyclohexyl)
Trialkoxysilanes such as butyltriethoxysilane, triacyloxysilanes and triphenoxysilanes and / or their hydrolysates; dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, γ -Chloropropylmethyldimethoxysilane, γ
-Chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, methyl Vinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyldiethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, β- Glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxypropyl Cyldiethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glyce Sidoxypropylmethyldipropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldibutoxysilane, γ-glycidoxypropylmethylmethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldimethoxysilane , Γ-glycidoxypropylethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldipropoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldiethoxysilane, γ-glycidoxy B pills phenyl dimethoxy silane, .gamma. dialkoxysilane such as glycidoxypropyl phenyl diethoxy silane, and di phenoxy silanes and diacyl oxy silanes and / or hydrolysates thereof.

【0023】これらの有機ケイ素化合物は1種または2
種以上使用することも可能である。かかる有機ケイ素化
合物は低温で硬化可能なこと、硬化時間が短いことなど
の点から加水分解して使用することが好ましい。加水分
解は通常の加水分解方法が適用可能であり、例えば純
水、塩酸、硫酸、酢酸などの酸性水溶液、あるいは水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなど
のアルカリ水溶液などの添加によって行われる。これら
の中で、クリーンルームの汚染の心配が少ないという点
で純水および酢酸水溶液がとくに好ましい。加水分解時
の温度は特に限定されるものではなく、目的に応じて必
要温度に制御して行われるべきものである。
These organosilicon compounds may be used alone or in combination.
It is also possible to use more than one species. The organosilicon compound is preferably hydrolyzed before use because it can be cured at a low temperature and the curing time is short. The hydrolysis can be carried out by an ordinary hydrolysis method, for example, by adding an acidic aqueous solution of pure water, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid or the like, or an alkaline aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide or the like. . Of these, pure water and acetic acid aqueous solution are particularly preferable in that there is little concern about contamination of the clean room. The temperature at the time of hydrolysis is not particularly limited and should be controlled to the required temperature according to the purpose.

【0024】本発明における三次元架橋高分子からなる
透明保護層の形成方法としては、塗液を通常行われてい
る浸漬法、噴霧法、スピンコート法、バーコート法、ロ
ーラーコート法、フローコート法、オフセット印刷法、
スクリーン印刷法等の方法で塗布し、続いて電子線照
射、電磁波照射または加熱によって硬化させることが可
能である。塗布方法としては、薄い塗布膜を精度良く得
るという観点からスピンコート法が最も好ましい。硬化
に用いる電磁波としてはγ線、X線、紫外線、赤外線お
よびマイクロ波などが適用できるが、安全性および硬化
時間の点で紫外線、赤外線およびマイクロ波が好まし
く、紫外線が最も好ましい。また加熱によって硬化を行
う場合、低温硬化および硬化時間短縮を目的に各種の硬
化触媒の添加が好ましい。硬化触媒としては、各種アミ
ン、各種アンモニウム塩、カルボン酸のアルカリ金属塩
やAl、Ti、Zrなどのキレート化合物が挙げられ
る。これらの中でクリーンルームの汚染の心配が少ない
という点で、各種アンモニウム塩、特に、テトラアルキ
ルアンモニウムヒドロキシドが好ましい。
The method for forming the transparent protective layer comprising the three-dimensional cross-linked polymer in the present invention is a dipping method, a spraying method, a spin coating method, a bar coating method, a roller coating method or a flow coating which is usually carried out with a coating liquid. Method, offset printing method,
It is possible to apply by a method such as a screen printing method and subsequently cure by electron beam irradiation, electromagnetic wave irradiation or heating. As the coating method, the spin coating method is most preferable from the viewpoint of obtaining a thin coating film with high accuracy. As electromagnetic waves used for curing, γ rays, X rays, ultraviolet rays, infrared rays and microwaves can be applied, but ultraviolet rays, infrared rays and microwaves are preferable and ultraviolet rays are most preferable in terms of safety and curing time. When curing is performed by heating, it is preferable to add various curing catalysts for the purpose of low temperature curing and shortening of curing time. Examples of the curing catalyst include various amines, various ammonium salts, alkali metal salts of carboxylic acids, and chelate compounds such as Al, Ti and Zr. Of these, various ammonium salts, particularly tetraalkylammonium hydroxide, are preferable because they are less likely to cause contamination of the clean room.

【0025】本発明における三次元架橋高分子からなる
透明保護層の膜厚は0.1〜0.8μmであることが好
ましい。0.1μm未満の場合には表面硬度が低く、ま
た、0.8μmを越えた場合には透明保護層中で露光光
の屈折が起こり、正確な画像記録が行えない傾向があ
る。
The thickness of the transparent protective layer formed of the three-dimensional crosslinked polymer in the present invention is preferably 0.1 to 0.8 μm. If it is less than 0.1 μm, the surface hardness is low, and if it exceeds 0.8 μm, the exposure light is refracted in the transparent protective layer, and accurate image recording tends to be impossible.

【0026】本発明では、ハードコート性を有する三次
元架橋高分子からなる透明保護層を形成する際、有機フ
ォトクロミック化合物を含有する高分子層との密着性向
上を目的に、あらかじめ有機フォトクロミック化合物を
含有する高分子層表面を前処理することも可能である。
前処理方法としてはフォトクロミック化合物の分解を防
ぎ、密着性の向上を発現させる点で活性化ガス処理とり
わけ低温プラズマ処理が好ましい。活性化ガス処理に使
用されるガスの種類は、有機フォトクロミック化合物を
含有する高分子層の種類により適宜選択されるべきもの
であるが、一般的には酸素ガスが好ましい。
In the present invention, when a transparent protective layer made of a three-dimensional crosslinked polymer having a hard coat property is formed, an organic photochromic compound is previously added for the purpose of improving the adhesion to the polymer layer containing the organic photochromic compound. It is also possible to pretreat the surface of the contained polymer layer.
As a pretreatment method, activated gas treatment, especially low temperature plasma treatment, is preferable from the viewpoint of preventing the decomposition of the photochromic compound and developing the improvement of adhesion. The type of gas used for the activation gas treatment should be appropriately selected depending on the type of the polymer layer containing the organic photochromic compound, but oxygen gas is generally preferable.

【0027】本発明において画像記録物品への画像記録
は、フォトクロミック層の着色を引き起こすことができ
る波長の電磁波を照射することによって行われる。一般
的には、450nm以下の波長の電磁波を使用することが
好ましい。そのような電磁波としては、γ線、X線、紫
外線および可視光が挙げらるが、フォトクロミック層着
色性および耐久性のバランスに優れている点で、紫外線
および可視光が最も好ましい。さらに好ましくは、g
線、i線およびエスシマレーザー光である画像記録のた
めには所望のパターンミを有するフォトマスクを使用し
てよい。
In the present invention, image recording on the image recording article is carried out by irradiating with an electromagnetic wave having a wavelength capable of causing coloring of the photochromic layer. Generally, it is preferable to use an electromagnetic wave having a wavelength of 450 nm or less. Examples of such electromagnetic waves include gamma rays, X-rays, ultraviolet rays, and visible light, but ultraviolet rays and visible light are most preferable because they have an excellent balance of photochromic layer coloring and durability. More preferably, g
A photomask having a desired pattern may be used for image recording which is line, i-line and escimer laser light.

【0028】露光量は使用されるフォトクロミック化合
物の種類、膜厚や照射装置の特性などによって決定され
るべきものであるが、通常は50〜100mJ/cm2
範囲であることが好ましい。露光量がこの範囲、より少
ない場合はフォトクロミック層の着色が小さくなり、ま
た、露光量がこの範囲より多い場合は、フォトクロミッ
ク層の耐久性に及ぼす悪影響が大きくなる傾向がある。
The exposure dose should be determined according to the type of photochromic compound used, the film thickness, the characteristics of the irradiation device, etc., but is preferably in the range of 50 to 100 mJ / cm 2 . When the exposure amount is less than this range, the coloration of the photochromic layer is small, and when the exposure amount is more than this range, the adverse effect on the durability of the photochromic layer tends to be large.

【0029】コントラストは、画像検出に使用される6
30±50nmの波長域において10%以上であることが
好ましい。10%未満の場合には、画像検出が困難とな
る傾向がある。
Contrast is used for image detection 6
It is preferably 10% or more in the wavelength range of 30 ± 50 nm. If it is less than 10%, it tends to be difficult to detect an image.

【0030】本発明おいてコントラストとは、630±
50nmの波長域内の適当波長における着色前の反射率
と着色後の反射率の差として定義する。反射率の測定は
一般の可視分光光度計により可能である。
In the present invention, contrast means 630 ±
It is defined as the difference between the reflectance before coloring and the reflectance after coloring at an appropriate wavelength within the wavelength range of 50 nm. The reflectance can be measured by a general visible spectrophotometer.

【0031】また、本発明においては、画像記録物品表
面への汚れ付着防止、および汚れの拭き取り性能の向上
の目的で、画像記録物品上に、水およびヘキサデカンに
対する静止接触角がそれぞれ90度以上、25度以上で
ある有機コート層を設けることが好ましい。
Further, in the present invention, for the purpose of preventing dirt from adhering to the surface of the image recording article and improving the wiping performance of dirt, the static contact angles of water and hexadecane on the image recording article are 90 degrees or more, respectively. It is preferable to provide an organic coat layer having a temperature of 25 degrees or more.

【0032】有機コート層としては、下記一般式(1)
または(2)で示されるフルオロアルキル(メタ)アク
リル系単量体および、下記一般式(3)で示される基を
有する、該フルオロアルキル(メタ)アクリル系単量体
と共重合可能な二重結合を有する単量体とを重合成分と
して有する共重合体、または下記一般式(4)で示され
るシロキサン単位を有する、ポリシロキサンを主成分と
してなるコーティング組成物を使用することが好まし
い。
The organic coating layer has the following general formula (1)
Alternatively, a fluoroalkyl (meth) acrylic monomer represented by (2) and a double copolymer having a group represented by the following general formula (3) and copolymerizable with the fluoroalkyl (meth) acrylic monomer It is preferable to use a copolymer having a monomer having a bond as a polymerization component, or a coating composition having a siloxane unit represented by the following general formula (4) and having polysiloxane as a main component.

【0033】[0033]

【化6】 (式中R3 は水素、メチル基およびフルオロ基から選ば
れ、αは2〜4までの整数、βは3〜14までの整数、
γは0または1、δ=2−γである。)
[Chemical 6] (In the formula, R 3 is selected from hydrogen, a methyl group and a fluoro group, α is an integer of 2 to 4, β is an integer of 3 to 14,
γ is 0 or 1, and δ = 2-γ. )

【化7】 (R4 およびR5 はそれぞれ水素、メチル基およびエチ
ル基から選ばれ、εは2〜4までの整数、ζは2または
3の整数、η=3−ζである。)
[Chemical 7] (R 4 and R 5 are each selected from hydrogen, a methyl group and an ethyl group, ε is an integer of 2 to 4, ζ is an integer of 2 or 3, and η = 3-ζ.)

【化8】 (ここでYは下記一般式(5)[Chemical 8] (Where Y is the following general formula (5)

【化9】 または下記一般式(6)[Chemical 9] Or the following general formula (6)

【化10】 で示される置換基であり、R3 は水素、メチル基および
フルオロ基から選ばれ、αは2〜4までの整数、βは3
〜14までの整数、γは0または1、δ=2−γであ
る。R6 はメチル基、エチル基、フルオロアルキル基お
よびYから選ばれる。)一般式(1)で表される、フル
オロアルキル(メタ)アクリル系単量体のエステル残基
のメチレンの個数(α)は、エステルの化学安定性の点
から2個以上が好ましい。5個以上になると理由は不明
であるが、被覆表面を斜めから見たばあいに白濁がかか
り使用できない場合がある。パーフルオロメチレンの個
数(β)としては3〜14個であることが好ましい。2
個以下では、撥水、撥油効果は充分ではない。15個以
上では、溶剤への溶解性が極端に低下し、実用的な溶剤
が得られないことおよび、被覆表面を斜めから見た場合
に白濁がかかる場合がある。好ましくはβは10以下で
ある。具体例としては、2−(パーフルオロブチル)エ
チル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロペンチ
ル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ
ペンチル)プロピル(メタ)アクリレート、2−(パー
フルオロペンチル)ブチル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレー
ト、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アク
リレート、2−(パーフルオロオクチル)ブチル(メ
タ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル
(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−5−メチ
ルヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パー
フルオロ−7−メチルオクチル)エチル(メタ)アクリ
レート、2−(パーフルオロ−9−メチルデシル)エチ
ル(メタ)アクリレートおよびそれらのα−フルオロア
クリレート体、または、2−(パーフルオロブチル)ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフ
ルオロペンチル)ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、2−(パーフルオロヘキシル)ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチ
ル)ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロデシル)ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシ
ル)ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロ−7−メチルオクチル)ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−9−
メチルデシル)ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
トおよびそれらのα−フルオロアクリレート体が挙げら
れる。これらは単独でも複数の組み合わせでも使用する
ことができる。フルオロアルキル(メタ)アクリル系単
量体成分は満足する防汚性を出すためには共重合体中で
50モル%以上であることが好ましい。より好ましくは
75モル%以上である。
[Chemical 10] Wherein R 3 is selected from hydrogen, a methyl group and a fluoro group, α is an integer from 2 to 4, and β is 3
Is an integer from 1 to 14, γ is 0 or 1, and δ = 2-γ. R 6 is selected from a methyl group, an ethyl group, a fluoroalkyl group and Y. ) The number (α) of methylene in the ester residue of the fluoroalkyl (meth) acrylic monomer represented by the general formula (1) is preferably 2 or more from the viewpoint of chemical stability of the ester. If the number is 5 or more, the reason is unknown, but when the coated surface is viewed obliquely, it may become cloudy and unusable in some cases. The number (β) of perfluoromethylene is preferably 3 to 14. Two
If the number is less than this, the water and oil repellency effects are not sufficient. If the number is 15 or more, the solubility in a solvent is extremely lowered, a practical solvent cannot be obtained, and white turbidity may occur when the coated surface is viewed obliquely. Preferably β is 10 or less. Specific examples include 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl) propyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl). ) Butyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) butyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl (meth) acrylate and Those α-fluoroacrylates, or 2- (perfluorobutyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) hydroxypropyl (meth). Axle , 2- (perfluorooctyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluorodecyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluoro-7-methyloctyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-9-
Methyldecyl) hydroxypropyl (meth) acrylate and their α-fluoroacrylates are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. The fluoroalkyl (meth) acrylic monomer component is preferably contained in the copolymer in an amount of 50 mol% or more in order to obtain a satisfactory antifouling property. It is more preferably 75 mol% or more.

【0034】膜の耐久性を出すためには、一般式(2)
で示される基を有しかつ重合性の不飽和基を有する単量
体が必要である。具体例としては、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルジメトキシ
メチルシラン、ビニルメトキシジメチルシラン、γ−
(メタ)アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ
−(メタ)アクリロイルプロピルジメトキシメチルシラ
ン等のシリコン含有単量体が挙げられる。
To obtain the durability of the film, the general formula (2) is used.
A monomer having a group represented by and having a polymerizable unsaturated group is required. Specific examples include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyldimethoxymethylsilane, vinylmethoxydimethylsilane, γ-
(Meth) acryloylpropyltrimethoxysilane, γ
Silicon-containing monomers such as (meth) acryloylpropyldimethoxymethylsilane may be mentioned.

【0035】このシリコン含有単量体は共重合体の構成
成分として、1モル%以上50モル%以下含まれること
が好ましい。さらに好ましくは5モル%以上25モル%
以下の範囲である。
The silicon-containing monomer is preferably contained as a constituent of the copolymer in an amount of 1 mol% to 50 mol%. More preferably 5 mol% or more and 25 mol%
The range is as follows.

【0036】他の共重合成分として、アルキル(メタ)
アクリレート類、スチレン誘導体類も添加することがで
きる。
As another copolymerization component, alkyl (meth) is used.
Acrylates and styrene derivatives can also be added.

【0037】フルオロアルキル(メタ)アクリル系単量
体は、ラジカル開始剤下で溶液重合法、懸濁重合法、乳
化重合法等の公知の重合法により製造することができ
る。重合にあたっては、シリコン含有単量体はアルコキ
シ体になっていることが好ましい。Si−OHの状態で
重合を進行せしめた場合には、重合中に重合体がゲル化
を起こしやすくなるため好ましくない。
The fluoroalkyl (meth) acrylic monomer can be produced by a known polymerization method such as a solution polymerization method, a suspension polymerization method and an emulsion polymerization method under a radical initiator. Upon polymerization, the silicon-containing monomer is preferably an alkoxy compound. When the polymerization is allowed to proceed in the Si—OH state, the polymer is apt to gel during the polymerization, which is not preferable.

【0038】重合体の製造にあたっては、分子量の調節
のために連鎖移動剤としてメルカプタン類を使用するこ
とができる。好ましいメルカプタンはアルコキシシラン
基を有するメルカプタンで、具体例としてγ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルジメト
キシメチルシラン、γ−メルカプトエチルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。
In the production of the polymer, mercaptans can be used as a chain transfer agent for controlling the molecular weight. A preferred mercaptan is a mercaptan having an alkoxysilane group, and specific examples thereof include γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyldimethoxymethylsilane and γ-mercaptoethyltrimethoxysilane.

【0039】一般式(4)で表される、フルオロアルキ
ルアシル基含有のポリシロキサンのエステル残基のメチ
レンの個数(α)は、エステルの化学安定性の点から2
個以上が好ましい。5個以上になると理由は不明である
が、被覆表面を斜めから見たばあいに白濁がかかり使用
できない場合がある。パーフルオロメチレンの個数
(β)としては3〜14個が好ましい。2個以下では、
撥水、撥油効果は充分ではない。15個以上では、溶剤
への溶解性が極端に低下し、実用的な溶剤が得られない
ことおよび、被覆表面を斜めから見た場合に白濁がかか
ることから使用できない。好ましくはβは10以下であ
る。
The number of methylenes (α) in the ester residue of the fluoroalkylacyl group-containing polysiloxane represented by the general formula (4) is 2 in view of the chemical stability of the ester.
More than one is preferable. If the number is 5 or more, the reason is unknown, but when the coated surface is viewed obliquely, it may become cloudy and unusable in some cases. The number (β) of perfluoromethylene is preferably 3 to 14. With 2 or less,
Water and oil repellency are not sufficient. If the number is 15 or more, the solubility in a solvent is extremely lowered, a practical solvent cannot be obtained, and white turbidity occurs when the coating surface is viewed obliquely, so that it cannot be used. Preferably β is 10 or less.

【0040】一般式(4)で表される化合物は、パーフ
ルオロ(メタ)アクリレートあるいはパーフルオロ−α
−フルオロアクリレートとSiH基の付加反応により合
成することができる。
The compound represented by the general formula (4) is perfluoro (meth) acrylate or perfluoro-α.
It can be synthesized by an addition reaction of fluoroacrylate and SiH group.

【0041】具体的なパーフルオロ(メタ)アクリレー
トあるいはパーフルオロ−α−フルオロアクリレートと
しては次のものが挙げられる。2−(パーフルオロブチ
ル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ
ペンチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフ
ルオロペンチル)プロピル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロペンチル)ブチル(メタ)アクリレー
ト、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アク
リレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メ
タ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)ブチ
ル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)
エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−5
−メチルヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチル(メタ)
アクリレート、2−(パーフルオロ−9−メチルデシ
ル)エチル(メタ)アクリレートおよびそれらのα−フ
ルオロアクリレート体などである。
Specific examples of perfluoro (meth) acrylate or perfluoro-α-fluoroacrylate include the following. 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl) propyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluoropentyl) butyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) butyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl)
Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-5)
-Methylhexyl) ethyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluoro-7-methyloctyl) ethyl (meth)
Acrylate, 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl (meth) acrylate, and their α-fluoroacrylates.

【0042】シラン化合物としてはジクロロアルキルシ
ラン、ジアルコキシアルキルシランあるいはジクロロシ
ラン、ジアルコキシシラン等が使用でき、ハイドロシレ
ーションによって、単量体を合成し、続いて、公知の方
法でポリシロキサンに重合せしめることによってポリシ
ロキサンを得ることができる。あるいは、SiH基を含
むポリオルガノシロキサンに触媒の存在下で前記のアク
リレート類を付加させてもよい。
As the silane compound, dichloroalkylsilane, dialkoxyalkylsilane, dichlorosilane, dialkoxysilane or the like can be used. The monomer is synthesized by hydrosilation, and then polymerized into polysiloxane by a known method. The polysiloxane can be obtained by buffing. Alternatively, the acrylates may be added to the polyorganosiloxane containing SiH groups in the presence of a catalyst.

【0043】一般式(4)の化合物以外に、Si(O
R)n R´3-n (ここでR、R´はメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基、n=
1〜3である)基を有するシロキサン単位を含んでも良
い。具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリエトキシシラン、ビニルジメトキシメチルシラ
ン、ビニルメトキシジメチルシラン、γ−(メタ)アク
リロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)ア
クリロイルプロピルジメトキシメチルシラン等のシリコ
ン含有単量体とヒドロシラン化合物との付加反応で得ら
れる化合物を、前記のパーフルオロ基含有のシラン化合
物と共重合することによって得ることができる。このシ
リコン含有単量体は、0.5モル%以上10モル%以下
で共重合されていることが好ましい。
In addition to the compound of the general formula (4), Si (O
R) n R ′ 3-n (where R and R ′ are a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group or a butyl group, and n =
Siloxane units having a group of 1 to 3). Specific examples include silicon containing vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyldimethoxymethylsilane, vinylmethoxydimethylsilane, γ- (meth) acryloylpropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloylpropyldimethoxymethylsilane, and the like. It can be obtained by copolymerizing the compound obtained by the addition reaction of the monomer and the hydrosilane compound with the above-mentioned perfluoro group-containing silane compound. The silicon-containing monomer is preferably copolymerized at 0.5 mol% or more and 10 mol% or less.

【0044】また必要に応じて、シラノールの脱水縮合
触媒、あるいは縮合助剤を使用することができる。例え
ば、アルミニウムアセチルアセトナート、オクチル酸ス
ズ化合物、有機カルボン酸アルカリ塩類が挙げられる。
If necessary, a silanol dehydration condensation catalyst or a condensation aid can be used. Examples thereof include aluminum acetylacetonate, tin octylate compound, and organic carboxylic acid alkali salts.

【0045】有機コート層の塗布方法としては、通常行
われている浸漬法、噴霧法、スピンコート法、バーコー
ト法、ローラーコート法、フローコート法、オフセット
印刷法、スクリーン印刷法等いずれの方法によっても可
能であるが、薄い塗布膜を精度良く得るという観点から
スピンコート法が最も好ましい。
The organic coating layer may be applied by any of the commonly used methods such as dipping, spraying, spin coating, bar coating, roller coating, flow coating, offset printing and screen printing. However, the spin coating method is most preferable from the viewpoint of obtaining a thin coating film with high accuracy.

【0046】本発明における有機コート層の膜厚は10
0nm以下であることが好ましい。100nm以上の場
合には、膜の強度の点で問題があり好ましくない。50
nm以下であることがより好ましく、10nm以下であ
ることが最も好ましい。
The thickness of the organic coating layer in the present invention is 10
It is preferably 0 nm or less. When it is 100 nm or more, there is a problem in film strength, which is not preferable. Fifty
It is more preferably not more than 10 nm, most preferably not more than 10 nm.

【0047】本発明の画像記録物品は、表面硬度が高
く、清拭特性に優れた画像記録物品として好ましく使用
される。
The image-recording article of the present invention has a high surface hardness and is preferably used as an image-recording article excellent in wiping characteristics.

【0048】[0048]

【実施例】以下に本発明を実施例を挙げて説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these.

【0049】なお、実施例における評価方法は以下の通
りである。
The evaluation method in the examples is as follows.

【0050】コントラストは、(株)日立製作所製分光
光度計U−3410により、検出波長633nmにより
測定した。着色はi線(365nm)を露光量70mJ
/cm2 で露光することにより行った。着色前の反射率
と着色後の反射率の差をコントラストとした。
The contrast was measured with a spectrophotometer U-3410 manufactured by Hitachi, Ltd. at a detection wavelength of 633 nm. Coloring i-line (365nm) exposure amount 70mJ
The exposure was carried out at a dose of 1 / cm 2 . The contrast was defined as the difference between the reflectance before coloring and the reflectance after coloring.

【0051】表面硬度は、画像記録物品表面を旭化成工
業(株)製ハイゼガーゼ4により、1.5kg荷重で5
往復擦り、傷の付きにくさを最高A〜最低Eの5段階で
評価した。
The surface hardness was 5 at a load of 1.5 kg on the surface of the image-recorded article using Hize Gauze 4 manufactured by Asahi Chemical Industry Co., Ltd.
Rubbing back and forth and scratch resistance were evaluated on a scale of 5 from highest A to lowest E.

【0052】接触角は、協和界面科学(株)製接触角計
CA−Dにより、水、およびヘキサデカンについて測定
し、防汚性の評価とした。
The contact angle was measured for water and hexadecane with a contact angle meter CA-D manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., and evaluated as antifouling property.

【0053】実施例1 (1)フォトクロミック溶液の調製 乳酸エチル(45.0g)および安息香酸メチル(3
7.0g)からなる混合溶媒中にポリメチルメタクリレ
ート(15.0g)を加え、80℃で溶解するまで撹拌
した。溶液を室温まで冷却後、1,3,3−トリメチル
インドリノ−6−ニトロベンゾピリロスピラン(3.0
g)を加え、室温で溶解するまで撹拌した。溶液をアド
バンテック東洋(株)製0.2μmポリテトラフルオロ
エチレンフィルターにより濾過してフォトクロミック溶
液を調製した。
Example 1 (1) Preparation of photochromic solution Ethyl lactate (45.0 g) and methyl benzoate (3
Polymethyl methacrylate (15.0 g) was added to a mixed solvent consisting of 7.0 g), and the mixture was stirred at 80 ° C. until dissolved. After cooling the solution to room temperature, 1,3,3-trimethylindolino-6-nitrobenzopyrrilospirane (3.0
g) was added and stirred at room temperature until dissolved. The solution was filtered through a 0.2 μm polytetrafluoroethylene filter manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. to prepare a photochromic solution.

【0054】(2)透明保護層用塗液の調製 回転子を備えた反応器中にメチルトリメトキシシラン
(167g)、ビニルトリエトキシシラン(116
g)、酢酸(6.7g)およびエタノール(11.4
g)を仕込み、マグネティックスターラーを用いて撹拌
しながら0.01規定塩酸(99.1g)を液温を10
℃に保ちながら滴下し、滴下終了後さらに1時間撹拌を
続けて加水分解を行った。得られた加水分解溶液にキシ
レン(200g)、酢酸ブチル(200g)およびブタ
ノール(1070g)を加えて十分撹拌し、透明保護層
用塗液とした。
(2) Preparation of coating liquid for transparent protective layer Methyltrimethoxysilane (167 g) and vinyltriethoxysilane (116) were placed in a reactor equipped with a rotor.
g), acetic acid (6.7 g) and ethanol (11.4
g) and 0.01N hydrochloric acid (99.1 g) at a liquid temperature of 10 with stirring using a magnetic stirrer.
The solution was added dropwise while maintaining the temperature at 0 ° C., and after completion of the addition, stirring was continued for 1 hour for hydrolysis. Xylene (200 g), butyl acetate (200 g) and butanol (1070 g) were added to the obtained hydrolyzed solution, and the mixture was sufficiently stirred to give a transparent protective layer coating liquid.

【0055】(3)フォトクロミック層の形成 フォトクロミック溶液を大日本スクリーン製造(株)製
スピンコーターSKW−636を使用し、シリコンウエ
ハ上に回転数4000rpmの条件でコーティングした
後、100℃で3分間プリベークを行い、フォトクロミ
ック層を形成した。
(3) Formation of photochromic layer A photochromic solution was coated on a silicon wafer at a rotation speed of 4000 rpm using a spin coater SKW-636 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd., and then prebaked at 100 ° C. for 3 minutes. Then, a photochromic layer was formed.

【0056】(4)透明保護層の形成 フォトクロミック層の上層に、前記(2)で得られた塗
液を大日本スクリーン製造(株)製スピンコーターSK
W−636を使用し、シリコンウエハ上に回転数400
0rpmの条件でコーティングした後、90℃で1時間
乾燥を行った。 (5)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層の形成により、コ
ントラストの低下は見られなかった。また、表面硬度が
高く、汚れの拭き取りにより傷が付かなかった。
(4) Formation of transparent protective layer The coating liquid obtained in (2) above was applied to the upper layer of the photochromic layer by Spin Coater SK manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.
Rotation speed of 400 on a silicon wafer using W-636
After coating under the condition of 0 rpm, it was dried at 90 ° C. for 1 hour. (5) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. No reduction in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer. Moreover, the surface hardness was high, and no scratches were formed by wiping dirt.

【0057】実施例2 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1−(1)と同様にして、フォトクロミック溶液
を調製した。
Example 2 (1) Preparation of photochromic solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1- (1).

【0058】(2)透明保護層用塗液の調製 回転子を備えた反応器中にγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン(24g)、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン(24g)およびビニルトリ
エトキシシラン(147g)を仕込み、マグネティック
スターラーを用いて撹拌しながら0.1規定酢酸(51
g)を液温を10℃に保ちながら滴下し、滴下終了後さ
らに30分間撹拌を続けて加水分解を行った。得られた
加水分解溶液中にアルミニウムアセチルアセトナート
(5.6g)、エタノール/水(80/20重量比)
(71.0g)、ブタノール(830g)およびシリコ
ーン系界面活性剤(0.6g)を加えて十分撹拌し、透
明保護層用塗液とした。
(2) Preparation of coating liquid for transparent protective layer In a reactor equipped with a rotor, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (24 g), γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane (24 g) and Vinyltriethoxysilane (147 g) was charged, and 0.1 N acetic acid (51 g) was added with stirring using a magnetic stirrer.
g) was added dropwise while maintaining the liquid temperature at 10 ° C., and after completion of the addition, stirring was continued for 30 minutes for hydrolysis. Aluminum acetylacetonate (5.6 g) and ethanol / water (80/20 weight ratio) in the obtained hydrolysis solution.
(71.0 g), butanol (830 g) and silicone surfactant (0.6 g) were added and sufficiently stirred to obtain a coating liquid for transparent protective layer.

【0059】(3)有機コート溶液の調製 ジクロロメチルシラン(11.5g、52モル%)、溶
媒としてジエチルエーテル(50g)、触媒として塩化
白金酸(50mg)を、コンデンサー付きの300ml
フラスコに入れ、ジエチルエーテルが還流するように穏
やかに加熱攪拌しながら、2−(パーフルオロオクチ
ル)エチルメタアクリレート(50g、48モル%)を
1時間かけて滴下した。その後4時間穏やかに加熱攪拌
を続け反応を終えた。
(3) Preparation of organic coating solution Dichloromethylsilane (11.5 g, 52 mol%), diethyl ether (50 g) as a solvent, chloroplatinic acid (50 mg) as a catalyst, and 300 ml with a condenser.
Into a flask, 2- (perfluorooctyl) ethyl methacrylate (50 g, 48 mol%) was added dropwise over 1 hour while gently heating and stirring so that diethyl ether was refluxed. Then, the mixture was heated and stirred gently for 4 hours to complete the reaction.

【0060】続いて、メチルイソブチルケトン(50
g)を加えた後、大量の水を瞬時に加えた。白色の餅状
のポリマが水/メチルイソブチルケトンの界面に生成し
た。油層を分離した後、ロータリーエバポレーターによ
り加熱濃縮し、油状の濃縮物を得た。この濃縮物と先に
得られた餅状のポリマとを合わせ、トリクロロトリフル
オロエタンに溶解し、大量のメタノールに投入後、得ら
れたポリマを回収した。真空乾燥によりフレーク状の固
体が得られた。収率は63%であった。
Then, methyl isobutyl ketone (50
After adding g), a large amount of water was added instantaneously. A white dough-like polymer formed at the water / methyl isobutyl ketone interface. After separating the oil layer, it was heated and concentrated by a rotary evaporator to obtain an oily concentrate. The concentrate and the dough-like polymer obtained above were combined, dissolved in trichlorotrifluoroethane, added to a large amount of methanol, and the obtained polymer was recovered. A flake-like solid was obtained by vacuum drying. The yield was 63%.

【0061】ポリマをパーフルオロ(2−ブチルテトラ
ヒドロフラン)に固形分濃度0.4重量%となるように
溶解し、1/100重量部のトリクロロメチルシランを
加え、有機コート溶液を調製した。
The polymer was dissolved in perfluoro (2-butyltetrahydrofuran) to a solid concentration of 0.4% by weight, and 1/100 parts by weight of trichloromethylsilane was added to prepare an organic coating solution.

【0062】(4)フォトクロミック層の形成 実施例1−(3)と同様にして、フォトクロミック層を
形成した。
(4) Formation of Photochromic Layer A photochromic layer was formed in the same manner as in Example 1- (3).

【0063】(5)透明保護層の形成 前記(2)の透明保護層用塗液を使用した以外は、実施
例1−(4)と同様にして、フォトクロミック層の上層
に透明保護層を形成した。
(5) Formation of transparent protective layer A transparent protective layer was formed on the photochromic layer in the same manner as in Example 1- (4) except that the transparent protective layer coating liquid of (2) was used. did.

【0064】(6)有機コート層の形成 透明保護層の上層に、上記(3)で調製した有機コート
溶液を大日本スクリーン製造(株)製スピンコーターS
KW−636を使用し、フォトクロミック層上に回転数
4000rpmの条件でコーティングした後、室温で3
0分乾燥後、70℃のオーブン中で1時間キュアを行
い、有機コート層を形成した。
(6) Formation of Organic Coat Layer On the upper layer of the transparent protective layer, the spin coater S manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. was applied with the organic coating solution prepared in (3) above.
After coating on the photochromic layer using KW-636 at a rotation speed of 4000 rpm, the temperature is 3 at room temperature.
After drying for 0 minutes, curing was performed in an oven at 70 ° C. for 1 hour to form an organic coat layer.

【0065】(7)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層、有機コート層の
形成によりコントラストの低下は見られなかった。ま
た、表面硬度が高く、拭き取りにより傷が付かなかっ
た。さらに、水およびヘキサデカンの静止接触角が高
く、表面の防汚性、汚れの拭き取りやすさに優れてい
た。
(7) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. No reduction in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer and the organic coating layer. Moreover, the surface hardness was high, and no scratch was formed by wiping. Further, the static contact angle of water and hexadecane was high, and the surface was excellent in antifouling property and easy in wiping off stains.

【0066】実施例3 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1−(1)と同様にして、フォトクロミック溶液
を調製した。
Example 3 (1) Preparation of photochromic solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1- (1).

【0067】(2)透明保護層用塗液の調製 実施例1−(2)と同様にして、透明保護層用塗液を調
製した。
(2) Preparation of coating liquid for transparent protective layer A coating liquid for transparent protective layer was prepared in the same manner as in Example 1- (2).

【0068】(3)有機コート溶液の調製 2−(パーフルオロオクチル)エチルメタアクリレート
(50.0g、90モル%)、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン(2.59g、10モル%)、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(0.41
g)、アゾビスイソブチロニトリル(0.17g)、メ
チルイソブチルケトン(42.0g)、ヘキサフルオロ
イソプロパノール(10.5g)をガラス製アンプルに
入れ、ラジカル重合の定法に従い凍結脱気操作を3回行
って溶存酸素を除去した。次いでアンプルを溶封し、7
5℃で20時間重合を行った。透明粘調な液が得られ
た。この反応液を大量のメタノールに投入し、沈殿物を
濾過により回収し、メタノール、ノルマルヘキサンで洗
浄後40℃で24時間真空乾燥を行い共重合体を得た。
乾燥後の重量から求めた重合率は96%であった。
(3) Preparation of organic coating solution 2- (perfluorooctyl) ethylmethacrylate (50.0 g, 90 mol%), γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (2.59 g, 10 mol%),
γ-mercaptopropyltrimethoxysilane (0.41
g), azobisisobutyronitrile (0.17 g), methyl isobutyl ketone (42.0 g) and hexafluoroisopropanol (10.5 g) were placed in a glass ampoule and freeze-deaerated according to a standard method of radical polymerization. Repeatedly to remove dissolved oxygen. The ampoule is then sealed, 7
Polymerization was carried out at 5 ° C. for 20 hours. A transparent viscous liquid was obtained. The reaction solution was poured into a large amount of methanol, the precipitate was collected by filtration, washed with methanol and normal hexane, and vacuum dried at 40 ° C. for 24 hours to obtain a copolymer.
The degree of polymerization determined from the weight after drying was 96%.

【0069】得られた重合体を、パーフルオロ−2−ブ
チルテトラヒドロフランに重量比で5%になるように溶
解した後、0.1規定塩酸を微量添加し、液滴が完全に
消失するまで撹拌した。フィルターで濾過した後、パー
フルオロ−2−ブチルテトラヒドロフランで0.2重量
%まで希釈し、有機コート溶液とした。
The obtained polymer was dissolved in perfluoro-2-butyltetrahydrofuran at a weight ratio of 5%, and a small amount of 0.1N hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred until the droplets completely disappeared. did. After filtering with a filter, it was diluted with perfluoro-2-butyltetrahydrofuran to 0.2% by weight to obtain an organic coating solution.

【0070】(4)フォトクロミック層の形成 実施例1−(3)と同様にして、フォトクロミック溶液
をコーティングした。 (5)透明保護層の形成 実施例2−(5)と同様にして、透明保護層を形成し
た。
(4) Formation of photochromic layer A photochromic solution was coated in the same manner as in Example 1- (3). (5) Formation of transparent protective layer A transparent protective layer was formed in the same manner as in Example 2- (5).

【0071】(6)有機コート層の形成 前記(3)の有機コート溶液を使用した以外は、実施例
2−(6)と同様にして、有機コート層を形成した。
(6) Formation of Organic Coat Layer An organic coat layer was formed in the same manner as in Example 2- (6) except that the organic coat solution in (3) above was used.

【0072】(7)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層、有機コート層の
形成によりコントラストの低下は見られなかった。ま
た、表面硬度が高く、拭き取りにより傷が付かなかっ
た。さらに、水およびヘキサデカンの静止接触角が高
く、表面の防汚性、汚れの拭き取りやすさに優れてい
た。
(7) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. No reduction in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer and the organic coating layer. Moreover, the surface hardness was high, and no scratch was formed by wiping. Further, the static contact angle of water and hexadecane was high, and the surface was excellent in antifouling property and easy in wiping off stains.

【0073】比較例1 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1−(1)と同様にして、フォトクロミック溶液
を調製した。
Comparative Example 1 (1) Preparation of Photochromic Solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1- (1).

【0074】(2)フォトクロミック層の形成 実施例1−(3)と同様にして、フォトクロミック溶液
をコーティングした。 (3)評価 評価結果を表1に示した。表面硬度が低く、拭き取りに
より傷が付いた。
(2) Formation of photochromic layer A photochromic solution was coated in the same manner as in Example 1- (3). (3) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. The surface hardness was low and it was scratched by wiping.

【0075】比較例2 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1−(1)と同様にして、フォトクロミック溶液
を調製した。
Comparative Example 2 (1) Preparation of Photochromic Solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1- (1).

【0076】(2)透明保護層用塗液の調製 実施例1−(2)と同様にして、透明保護層用塗液を調
製した。
(2) Preparation of Transparent Protective Layer Coating Liquid A transparent protective layer coating liquid was prepared in the same manner as in Example 1- (2).

【0077】(3)フォトクロミック層の形成 実施例1−(3)と同様にして、フォトクロミック層を
形成した。
(3) Formation of Photochromic Layer A photochromic layer was formed in the same manner as in Example 1- (3).

【0078】(4)透明保護層の形成 膜厚が約1μmになるように回転数を調整した他は、実
施例1−(4)と同様にして透明保護層を形成した。
(4) Formation of transparent protective layer A transparent protective layer was formed in the same manner as in Example 1- (4) except that the rotation speed was adjusted so that the film thickness was about 1 μm.

【0079】(5)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層、有機コート層の
形成によりコントラストの低下が見られた。また、表面
硬度が高く、拭き取りにより傷が付かなかったが、透明
保護層中で露光光の屈折が起こり、画像が正確に記録で
きなかった。
(5) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. A decrease in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer and the organic coating layer. Further, the surface hardness was high and no scratch was formed by wiping, but the exposure light was refracted in the transparent protective layer, and the image could not be recorded accurately.

【0080】比較例3 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1−(1)と同様にして、フォトクロミック溶液
を調製した。
Comparative Example 3 (1) Preparation of Photochromic Solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1- (1).

【0081】(2)透明保護層用塗液の調製 実施例2−(2)と同様にして、透明保護層用塗液を調
製した。
(2) Preparation of Transparent Protective Layer Coating Liquid A transparent protective layer coating liquid was prepared in the same manner as in Example 2- (2).

【0082】(3)有機コート溶液の調製 有機コート溶液の固形分を5重量%にした以外は実施例
3−(3)と同様にして、有機コート溶液を調製した。
(3) Preparation of organic coating solution An organic coating solution was prepared in the same manner as in Example 3- (3) except that the solid content of the organic coating solution was 5% by weight.

【0083】(4)フォトクロミック層の形成 実施例1と同様にして、フォトクロミック層を形成し
た。
(4) Formation of Photochromic Layer A photochromic layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0084】(5)透明保護層の形成 実施例2−(5)と同様にして、フォトクロミック層の
表面に透明保護層を形成した。
(5) Formation of transparent protective layer A transparent protective layer was formed on the surface of the photochromic layer in the same manner as in Example 2- (5).

【0085】(6)有機コート層の形成 前記(3)の有機コート溶液を使用した以外は、実施例
2と同様にして、有機コート層を形成した。
(6) Formation of Organic Coat Layer An organic coat layer was formed in the same manner as in Example 2 except that the organic coat solution in (3) above was used.

【0086】(7)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層、有機コート層の
形成によりコントラストの低下が見られた。透明保護層
の表面硬度は高く、拭き取りによりフォトクロ層には傷
が付かなかったが、有機コート層は拭き取りにより膜剥
がれが起こった。また、透明保護層、有機コート層中で
露光光の屈折が起こり、画像が正確に記録できなかっ
た。
(7) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. A decrease in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer and the organic coating layer. The surface hardness of the transparent protective layer was high and the photochromic layer was not scratched by wiping, but the organic coating layer was peeled off by wiping. Further, the exposure light was refracted in the transparent protective layer and the organic coating layer, and the image could not be recorded accurately.

【0087】[0087]

【表1】 [Table 1]

【0088】[0088]

【発明の効果】本発明の画像記録物品は、露光した部分
のコントラストが十分高いため視認することはもちろ
ん、露光光と異なった波長で反射率を測定することによ
り、露光部のパターンが自動測定できる。また、表面硬
度が高いため、表面が汚れた際に傷を付ける事なく拭き
取ることができるという、優れた清拭特性を示す。さら
に、透明保護層上に有機コートを設けた場合には、汚れ
自体が付きにくいという、優れた防汚性を示す。
EFFECT OF THE INVENTION The image-recorded article of the present invention has a sufficiently high contrast in the exposed portion, so that it can be visually recognized and the pattern of the exposed portion can be automatically measured by measuring the reflectance at a wavelength different from the exposure light. it can. Also, since the surface hardness is high, it exhibits excellent wiping characteristics that it can be wiped off without being scratched when the surface is soiled. Furthermore, when an organic coat is provided on the transparent protective layer, it exhibits excellent antifouling property that dirt itself does not easily adhere.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 7/24 516 7215−5D Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location G11B 7/24 516 7215-5D

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】可視光線反射率が30%以上の基材上に、
有機フォトクロミック化合物を含有する高分子層、三次
元架橋高分子からなる透明保護層をこの順序で有するこ
とを特徴とする画像記録物品。
1. A substrate having a visible light reflectance of 30% or more,
An image recording article comprising a polymer layer containing an organic photochromic compound and a transparent protective layer composed of a three-dimensional crosslinked polymer in this order.
【請求項2】請求項1において、該透明保護層が、0.
1〜0.8μmの膜厚を有することを特徴とする画像記
録物品。
2. The transparent protective layer according to claim 1, wherein
An image recording article having a film thickness of 1 to 0.8 μm.
【請求項3】請求項1において、i線(365nm)を
露光量50〜100mJ/cm2 で露光したときに、6
30±50nmの波長域におけるコントラストが10%
以上であることを特徴とする画像記録物品。
3. The method according to claim 1, wherein when i-line (365 nm) is exposed at an exposure dose of 50 to 100 mJ / cm 2 ,
10% contrast in the wavelength range of 30 ± 50 nm
An image recording article having the above.
【請求項4】請求項1において、三次元架橋高分子がオ
ルガノポリシロキサン系硬化物であることを特徴とする
画像記録物品。
4. An image recording article according to claim 1, wherein the three-dimensional crosslinked polymer is an organopolysiloxane cured product.
【請求項5】請求項4において、オルガノポリシロキサ
ン系硬化物が、少なくとも下記一般式(A)で示される
有機ケイ素化合物および/またはその加水分解物を含む
組成物の硬化物であることを特徴とする画像記録物品。 R1 a 2 b SiX4-a-b (A) (式中、R1 およびR2 は、各々アルキル基、アルケニ
ル基、アラルキル基、アリール基、ハロ基、グリシドキ
シ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、(メタ)
アクリロイルオキシ基およびシアノ基から選ばれた置換
基を表わし、Xは加水分解性基を表わし、aおよびbは
各々0または1を表わす。)
5. The cured product of organopolysiloxane according to claim 4, which is a cured product of a composition containing at least an organosilicon compound represented by the following general formula (A) and / or a hydrolyzate thereof. Image recording articles. R 1 a R 2 b SiX 4-ab (A) (In the formula, R 1 and R 2 are each an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, a halo group, a glycidoxy group, an epoxy group, an amino group, and a mercapto. Group, (meta)
It represents a substituent selected from an acryloyloxy group and a cyano group, X represents a hydrolyzable group, and a and b each represent 0 or 1. )
【請求項6】請求項1〜5において、基材が略円形のシ
リコンウエハであることを特徴とする画像記録物品。
6. The image recording article according to claim 1, wherein the base material is a silicon wafer having a substantially circular shape.
【請求項7】請求項1〜6において、有機フォトクロミ
ック化合物がスピロピラン系化合物であることを特徴と
する画像記録物品。
7. The image recording article according to claim 1, wherein the organic photochromic compound is a spiropyran compound.
【請求項8】請求項1〜7において、該有機フォトクロ
ミック化合物を含有する高分子層を形成するために使用
されるフォトクロミック溶液中に含まれるNa、K、F
e、Ca含有量が、それぞれ1.0ppm以下であるこ
とを特徴とする画像記録物品。
8. The Na, K, F contained in the photochromic solution used for forming the polymer layer containing the organic photochromic compound according to claim 1.
An image recording article, characterized in that the contents of e and Ca are each 1.0 ppm or less.
【請求項9】請求項1〜8において、該有機フォトクロ
ミック化合物を含有する高分子層を形成するために使用
されるフォトクロミック溶液中に含まれる0.5μm以
上のパーティクルが100個/ml以下であることを特
徴とする画像記録物品。
9. The particles of 0.5 μm or more contained in the photochromic solution used for forming the polymer layer containing the organic photochromic compound are 100 particles / ml or less in claim 1. An image recording article characterized by the above.
【請求項10】請求項1〜9において、該透明保護層上
に水およびヘキサデカンに対する静止接触角がそれぞれ
90度以上、25度以上である膜厚100nm以下の有
機コート層を設けたことを特徴とする画像記録物品。
10. The organic coating layer according to claim 1, wherein the transparent protective layer is provided with an organic coating layer having a static contact angle with water and hexadecane of 90 ° or more and 25 ° or more and a thickness of 100 nm or less. Image recording articles.
【請求項11】請求項10において、該有機コート層が
下記一般式(1)または(2)で示されるフルオロアル
キル(メタ)アクリル系単量体および、下記一般式
(3)で示される基を有する、該フルオロアルキル(メ
タ)アクリル系単量体と共重合可能な二重結合を有する
単量体とを重合成分として有する共重合体であることを
特徴とする画像記録物品。 【化1】 (式中R3 は水素、メチル基およびフルオロ基から選ば
れ、αは2〜4までの整数、βは3〜14までの整数、
γは0または1、δ=2−γである。) 【化2】 (R4 およびR5 はそれぞれ水素、メチル基およびエチ
ル基から選ばれ、εは2〜4までの整数、ζは2または
3の整数、η=3−ζである。)
11. The fluoroalkyl (meth) acrylic monomer represented by the following general formula (1) or (2) and the group represented by the following general formula (3) according to claim 10. An image-recording article comprising a fluoroalkyl (meth) acrylic monomer having the following formula and a monomer having a double bond capable of copolymerization as a polymerization component. [Chemical 1] (In the formula, R 3 is selected from hydrogen, a methyl group and a fluoro group, α is an integer of 2 to 4, β is an integer of 3 to 14,
γ is 0 or 1, and δ = 2-γ. ) [Chemical 2] (R 4 and R 5 are each selected from hydrogen, a methyl group and an ethyl group, ε is an integer of 2 to 4, ζ is an integer of 2 or 3, and η = 3-ζ.)
【請求項12】請求項10において、該有機コート層が
下記一般式(4)で示されるシロキサン単位を有する、
ポリシロキサンを主成分としてなることを特徴とする画
像記録物品。 【化3】 (ここでYは下記一般式(5) 【化4】 または下記一般式(6) 【化5】 で示される置換基であり、R3 は水素、メチル基および
フルオロ基から選ばれ、αは2〜4までの整数、βは3
〜14までの整数、γは0または1、δ=2−γであ
る。R6 はメチル基、エチル基、フルオロアルキル基お
よびYから選ばれる。)
12. The organic coating layer according to claim 10, having a siloxane unit represented by the following general formula (4):
An image recording article comprising polysiloxane as a main component. [Chemical 3] (Where Y is the following general formula (5): Or the following general formula (6): Wherein R 3 is selected from hydrogen, a methyl group and a fluoro group, α is an integer from 2 to 4, and β is 3
Is an integer from 1 to 14, γ is 0 or 1, and δ = 2-γ. R 6 is selected from a methyl group, an ethyl group, a fluoroalkyl group and Y. )
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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