JPH07159922A - Image recording article - Google Patents

Image recording article

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JPH07159922A
JPH07159922A JP5305439A JP30543993A JPH07159922A JP H07159922 A JPH07159922 A JP H07159922A JP 5305439 A JP5305439 A JP 5305439A JP 30543993 A JP30543993 A JP 30543993A JP H07159922 A JPH07159922 A JP H07159922A
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JP
Japan
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photochromic
image recording
transparent protective
meth
recording article
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JP5305439A
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Japanese (ja)
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JP3470365B2 (en
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和彦 ▲はし▼阪
Kazuhiko Hashisaka
Tadayoshi Matsunaga
忠與 松永
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To increase the surface hardness and to improve cleaning characteristics by forming a polymer layer containing an org. photochromic compd. and a transparent protective layer comprising an inorg. oxide on a base body having specified or higher reflectance for visible rays. CONSTITUTION:A polymer layer containing an org. photochromic compd. and a transparent protective layer comprising an inorg. oxide are formed in this order on a base body having >=30% reflectance for visible rays. As for the photochromic layer, such a structure that the photochromic compd. is dispersed in a polymer or incorporated into the polymer by covalent bonding can be used. In this method, it is preferable that the transparent protective layer has 0.1-0.8mum thickness. Further, the contrast is preferably >=10% for 630 + or -50nm wavelength region which is used for detection of images. Further, it is preferable to form an org. coating layer having >=90 degree and >=25 degree static contact angles for water and hexadecane, respectively, on the image recording parts.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、被写体を通して照射さ
れた電磁波を感受することにより、直接可視画像を記録
することができる画像記録部品に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording component capable of recording a visible image directly by sensing an electromagnetic wave emitted through a subject.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、被写体を通して照射された電磁波
を感受することにより、直接可視画像を記録する際に
は、銀塩フィルムを湿式現像してから、ようやく可視画
像として観察していた。すなわち、撮影後すぐには可視
画像が得られなかった。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a visible image is directly recorded by sensing an electromagnetic wave emitted through a subject, a silver salt film is wet-developed and then finally observed as a visible image. That is, a visible image could not be obtained immediately after photographing.

【0003】それに対し、特開平2−5403号公報、
特開平2−293745号公報には、フォトクロミック
性被膜を表面に有する画像記録物品が示され、従来の被
照射面上の光量分布を受光素子で直接測定して電気信号
に変換するのに変えて、電磁波を照射することにより、
画像を直接観察することが可能な画像記録に関する技術
が開示されている。
On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-5403,
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-293745 discloses an image recording article having a photochromic coating on its surface. Instead of the conventional method of directly measuring the light amount distribution on the irradiated surface with a light receiving element and converting it into an electric signal. , By radiating electromagnetic waves,
A technique relating to image recording capable of directly observing an image is disclosed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】フォトクロミック層と
しては、スピロピラン等のフォトクロミック性を有する
化合物をポリメチルメタクリレート等の樹脂中に分散さ
せたものが一般的であるが、これらの樹脂は非常に軟ら
かいため、取扱う際の不注意によりフォトクロミック層
表面に傷が付きやすかった。また、表面に汚れが付着し
た際にも傷が付きやすいため表面を拭き取ることができ
ず、その結果使用回数が増加するにつれてコントラスト
が低下するという問題があった。
As the photochromic layer, a compound having a photochromic property such as spiropyran dispersed in a resin such as polymethylmethacrylate is generally used, but these resins are very soft. , The photochromic layer surface was easily scratched due to careless handling. Further, even when dirt is attached to the surface, the surface is not easily wiped off because of scratches, and as a result, the contrast decreases as the number of times of use increases.

【0005】本発明は、かかる従来技術の問題を解決し
ようとするものであり、表面硬度が高く、清拭特性の優
れた画像記録物品を提供することを目的とする。
The present invention is intended to solve the problems of the prior art, and an object thereof is to provide an image recording article having high surface hardness and excellent wiping characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために下記の構成を有する。
[Means for Solving the Problems] The present invention has the following constitution in order to achieve the above object.

【0007】「可視光線反射率が30%以上の基材上
に、有機フォトクロミック化合物を含有する高分子層、
無機系酸化物からなる透明保護層をこの順序有すること
を特徴とする画像記録物品。」本発明において、基材と
しては、有機および無機のいずれの材料も使用可能であ
るが、着色部と非着色部のコントラストが大きくなると
いう点で可視光線反射率が30%以上である場合に効果
的である。
"A polymer layer containing an organic photochromic compound on a substrate having a visible light reflectance of 30% or more,
An image recording article having a transparent protective layer made of an inorganic oxide in this order. In the present invention, both organic and inorganic materials can be used as the base material, but when the visible light reflectance is 30% or more, the contrast between the colored portion and the non-colored portion is increased. It is effective.

【0008】有機材料としてはポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、ポリエステル、塩化ビニル、ナ
イロン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート、ポリイミド、ポリ
フェニレンスルフィド、エポキシ、ウレタン等の各樹脂
が挙げられる。一方、基材の平面性および熱安定性の点
からは無機材料が好ましく、ソーダ石灰ガラス、石英ガ
ラス、アルミノケイ酸塩ガラス、高ケイ酸ガラス、ホウ
ケイ酸ガラス等のガラス基材およびシリコン等の無機結
晶板等が好ましく使用される。中でも高純度で、アルカ
リ金属、アルカリ土類金属等のイオンを含まず、しかも
コントラスト向上に必要な高反射率を有するという点で
シリコンウエハがより好ましく、TTV(Total
Thickness Variation)、LTV
(Local ThicknessVariatio
n)等によって示される基材の平面度に優れる、高精度
加工シリコンウエハが最も好ましい。
Examples of the organic material include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyester, vinyl chloride, nylon, acrylic resin, polycarbonate, diethylene glycol bisallyl carbonate, polyimide, polyphenylene sulfide, epoxy and urethane. On the other hand, from the viewpoint of the flatness and heat stability of the substrate, an inorganic material is preferable, soda lime glass, quartz glass, aluminosilicate glass, high silicate glass, borosilicate glass and other glass substrates and silicon and other inorganic materials. A crystal plate or the like is preferably used. Above all, a silicon wafer is more preferable in that it has a high purity, does not contain ions of alkali metals, alkaline earth metals, and the like, and has a high reflectance necessary for improving contrast, and TTV (Total
(Thickness Variation), LTV
(Local Thickness Variatio
A high-precision processed silicon wafer, which has an excellent flatness of the base material indicated by n) and the like, is most preferable.

【0009】また、基材表面にAl等の金属を主成分と
する反射膜や、無機薄膜、ハードコート等が設けられて
いても、好ましく使用することができる。
Further, even if a reflecting film containing a metal such as Al as a main component, an inorganic thin film, a hard coat or the like is provided on the surface of the base material, it can be preferably used.

【0010】本発明は、基材上に有機フォトクロミック
化合物を含有する高分子層(以下、フォトクロミック
層)を設けてなるものである。
In the present invention, a polymer layer containing an organic photochromic compound (hereinafter referred to as a photochromic layer) is provided on a substrate.

【0011】フォトクロミック化合物としては、特に限
定されるものではなく、スピロピラン系化合物、スピロ
オキサジン系化合物、ジアリールエテン系化合物、アゾ
系化合物、フルギド系化合物、トリアリールメタン系化
合物、サリチリデンアニリン系化合物、ジチゾン水銀系
化合物等が挙げられる。中でも、コントラスト、記録保
存性等に優れるスピロピラン化合物が好ましく使用され
る。
The photochromic compound is not particularly limited, and spiropyran compounds, spirooxazine compounds, diarylethene compounds, azo compounds, fulgide compounds, triarylmethane compounds, salicylideneaniline compounds, Examples thereof include dithizone mercury compounds. Among them, spiropyran compounds, which are excellent in contrast and record storability, are preferably used.

【0012】本発明において、フォトクロミック層とし
ては、ポリマ中に分散させたもの、あるいは、フォトク
ロミック化合物を共有結合によってポリマ中に含有させ
たもの等を使用することができる。
In the present invention, as the photochromic layer, those dispersed in a polymer, those containing a photochromic compound in a polymer by a covalent bond, or the like can be used.

【0013】ポリマ中に分散させる場合は、簡便にフォ
トクロミック層を製造することができる点から有用であ
る。この場合のフォトクロミック化合物を分散させるた
めに使用可能なポリマとしては、アクリル系樹脂、スチ
レン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレ
タン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、セル
ロース誘導体等が挙げられる。中でも、透明性、汎用性
に優れるポリメチルメタクリレートが好ましく使用され
る。なお、使用可能なポリマはこれらに限定されるもの
ではない。これらのポリマは単独で使用しても、2種以
上を混合して使用してもよい。
When dispersed in a polymer, it is useful because the photochromic layer can be easily produced. Polymers that can be used to disperse the photochromic compound in this case include acrylic resins, styrene resins, vinyl resins, polyester resins, urethane resins, epoxy resins, polyamide resins, and cellulose derivatives. To be Among them, polymethyl methacrylate, which is excellent in transparency and versatility, is preferably used. The usable polymers are not limited to these. These polymers may be used alone or in combination of two or more.

【0014】フォトクロミック化合物はポリマ中に通常
0.1〜25wt%分散させることが好ましい。0.1
wt%未満の場合はコントラストが低く、また、25w
t%を越える場合にはフォトクロミック化合物が樹脂中
にうまく分散しないため好ましくない。5〜20wt%
の範囲が両者のバランスの点でより好ましい。
The photochromic compound is usually preferably dispersed in the polymer in an amount of 0.1 to 25 wt%. 0.1
When the content is less than wt%, the contrast is low and 25w
If it exceeds t%, the photochromic compound is not well dispersed in the resin, which is not preferable. 5 to 20 wt%
Is more preferable in terms of the balance between the two.

【0015】本発明において、フォトクロミック層は塗
布することにより好ましく設けられる。塗布する際に使
用されるフォトクロミック化合物の溶媒としては、メチ
ルアルコール、エチルアルコール、ノルマルプロピルア
ルコール、イソプロピルアルコール、ノルマルブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、tert−ブチルア
ルコール等のアルコール系溶剤、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の
グリコールエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、
酢酸アミル、乳酸エチル、安息香酸メチル等のエステル
系溶剤、ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン、ノルマ
ルオクタン等の脂肪族炭化水素系溶剤、シクロへキサ
ン、エチルシクロへキサン等の脂環族炭化水素系溶剤、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶剤、石油系溶剤等各種のものが使
用可能であり、これらは単独あるいは混合して使用する
ことができる。
In the present invention, the photochromic layer is preferably provided by coating. As the solvent of the photochromic compound used when applying, alcohol solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, normal propyl alcohol, isopropyl alcohol, normal butyl alcohol, isobutyl alcohol, tert-butyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, Glycol ether solvents such as isopropyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate,
Amyl acetate, ethyl lactate, ester solvents such as methyl benzoate, normal hexane, normal heptane, aliphatic hydrocarbon solvents such as normal octane, cyclohexane, alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane,
Various solvents such as ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbon-based solvents such as benzene, toluene and xylene, petroleum-based solvents can be used, and these may be used alone or in combination. You can

【0016】なお、本発明にかかるフォトクロミック層
においては、耐光性および着色濃度の向上を目的とし、
該フォトクロミック層の塗布に用いるポリマ溶液中に光
安定剤および増感剤等が添加されていても良い。
In the photochromic layer according to the present invention, the purpose is to improve light resistance and color density.
A light stabilizer, a sensitizer and the like may be added to the polymer solution used for coating the photochromic layer.

【0017】また、かかる溶液中の固形分濃度は、適用
する塗布方法、塗布条件等により異なるが、5〜45w
t%の範囲が好ましい。
Further, the solid content concentration in the solution varies depending on the coating method to be applied, coating conditions, etc.
A range of t% is preferred.

【0018】フォトクロミック層を形成するために使用
されるフォトクロミック溶液中に含まれるNa、K、F
e、Ca含有量は、クリーンルーム染色防止の点で1.
0ppm以下であることが好ましい。さらに好ましく
は、0.1ppm以下であるフォトクロミック層を形成
するために使用されるフォトクロミック溶液中に含まれ
る0.5μm以上のパーティクルは100個/ml以下
であることが好ましい。100個を越える場合は、フォ
トクロミック層を形成する際のコーティングのムラや、
表面欠陥の原因になるため好ましくない。50個/ml
以下であることさらに好ましい。
Na, K, F contained in the photochromic solution used to form the photochromic layer.
The content of e and Ca is 1.
It is preferably 0 ppm or less. More preferably, the number of particles of 0.5 μm or more contained in the photochromic solution used for forming the photochromic layer, which is 0.1 ppm or less, is 100 particles / ml or less. If the number exceeds 100, uneven coating when forming the photochromic layer,
It is not preferable because it causes surface defects. 50 pieces / ml
The following is more preferable.

【0019】フォトクロミック溶液の塗布は、通常行わ
れている浸漬法、噴霧法、ローラーコート法、フローコ
ート法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法等いずれ
の方法によっても可能であるが、薄い塗布膜を精度良く
得るという観点からスピンコート法が好ましい。
The photochromic solution can be applied by any of the commonly used methods such as dipping method, spraying method, roller coating method, flow coating method, offset printing method and screen printing method. The spin coating method is preferable from the viewpoint of obtaining it with high accuracy.

【0020】かかるフォトクロミック層の膜厚は、使用
されるフォトクロミック化合物の種類および照射装置の
特性等によって決定されるべきものであるが、通常は
0.2〜10μmの範囲で好ましく使用される。とく
に、コントラストや機械操作性の点から0.5〜5μm
であることが好ましい。
The thickness of the photochromic layer should be determined according to the type of photochromic compound used and the characteristics of the irradiation device, but it is usually preferably in the range of 0.2 to 10 μm. In particular, 0.5 to 5 μm from the viewpoint of contrast and machine operability.
Is preferred.

【0021】本発明においては、表面硬度の向上を目的
としてフォトクロミック層の表面に無機系酸化物からな
る透明保護層を設けることが必要である。
In the present invention, it is necessary to provide a transparent protective layer made of an inorganic oxide on the surface of the photochromic layer for the purpose of improving the surface hardness.

【0022】本発明における無機系酸化物は特に限定さ
れるものではない。例えば、一酸化ケイ素、二酸化ケイ
素、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化イット
リウム、酸化イッテルビウム、酸化セリウム、酸化ハフ
ニウム、酸化スズ、ITO(酸化スズと酸化インジウム
の混合物)等が挙げられる。中でも、硬度に優れる点で
二酸化ケイ素が好ましい。
The inorganic oxide in the present invention is not particularly limited. Examples thereof include silicon monoxide, silicon dioxide, zirconium oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, cerium oxide, hafnium oxide, tin oxide, ITO (a mixture of tin oxide and indium oxide), and the like. Of these, silicon dioxide is preferable because of its excellent hardness.

【0023】本発明において、透明保護層の形成方法と
しては特に限定されるものではないが、被覆面との接着
強度、膜密度向上の点から真空雰囲気下での形成手段が
好ましく使用される。具体例としては、真空蒸着法、イ
オンビームアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、
スパッタリング法等が挙げられる。
In the present invention, the method for forming the transparent protective layer is not particularly limited, but a forming means in a vacuum atmosphere is preferably used from the viewpoint of improving the adhesive strength with the coated surface and the film density. As a specific example, a vacuum vapor deposition method, an ion beam assisted vapor deposition method, an ion plating method,
A sputtering method and the like can be mentioned.

【0024】本発明における透明保護層の膜厚は0.1
〜0.8μmであることが好ましい。0.1μm未満の
場合には表面硬度が低く、また、0.8μmを越える場
合には透明保護層中で露光光の屈折が起こり、正確な画
像記録が行えない傾向がある。
The thickness of the transparent protective layer in the present invention is 0.1.
It is preferably 0.8 μm. If it is less than 0.1 μm, the surface hardness is low, and if it exceeds 0.8 μm, the exposure light is refracted in the transparent protective layer, and accurate image recording tends to be impossible.

【0025】本発明において、画像記録物品への画像記
録は、フォトクロミック層の着色を引き起こすことがで
きる波長の電磁波を照射することによって行われる。一
般的には、450nm以下の波長の電磁波を使用すること
が好ましい。そのような電磁波としては、γ線、X線、
紫外線および可視光が挙げられるが、フォトクロミック
層の着色性および耐久性のバランスに優れている点で、
紫外線および可視光が最も好ましい。さらに好ましく
は、g線、i線、およびエキシマレーザー光である。加
増記録のためには所望のパターンを有するフォトマスク
を使用してよい。露光量は使用されるフォトクロミック
化合物の種類、膜厚や照射装置の特性等によって決定さ
れるべきものであるが、通常は50〜100mJ/cm2
の範囲であることが好ましい。露光量がこの範囲より少
ない場合は、フォトクロミック層の着色が小さくなり、
また、露光量がこの範囲より多い場合は、フォトクロミ
ック層の耐久性に及ぼす悪影響が大きくなる傾向があ
る。
In the present invention, image recording on the image recording article is carried out by irradiating with an electromagnetic wave having a wavelength capable of causing coloring of the photochromic layer. Generally, it is preferable to use an electromagnetic wave having a wavelength of 450 nm or less. Such electromagnetic waves include γ rays, X rays,
Ultraviolet light and visible light can be mentioned, but in terms of excellent balance of coloring and durability of the photochromic layer,
Ultraviolet and visible light are most preferred. More preferred are g-line, i-line, and excimer laser light. A photomask having a desired pattern may be used for the additional recording. The exposure dose should be determined according to the type of photochromic compound used, the film thickness, the characteristics of the irradiation device, etc., but is usually 50 to 100 mJ / cm 2
It is preferably in the range of. If the exposure amount is less than this range, the photochromic layer becomes less colored,
On the other hand, if the exposure amount is larger than this range, the adverse effect on the durability of the photochromic layer tends to be large.

【0026】コントラストは、画像検出に使用される6
30±50nmの波長域において、10%以上であること
が好ましい。10%未満の場合には、画像検出が困難と
なる場合がある。
Contrast is used for image detection 6
It is preferably 10% or more in the wavelength range of 30 ± 50 nm. If it is less than 10%, it may be difficult to detect an image.

【0027】なお、本発明においてコントラストとは、
630±50nmの波長域内の適当波長における着色前後
の反射率の差として定義する。反射率の測定は一般の可
視分光光度計などにより可能である。
In the present invention, the contrast means
It is defined as the difference in reflectance before and after coloring at an appropriate wavelength within the wavelength range of 630 ± 50 nm. The reflectance can be measured with a general visible spectrophotometer or the like.

【0028】また、本発明においては、画像記録物品表
面への汚れ付着防止、および汚れの拭き取り性能の向上
の目的で、画像記録物品上に、水およびヘキサデカンに
対する静止接触角がそれぞれ90度以上、25度以上で
ある有機コート層を設けることが好ましい。
Further, in the present invention, for the purpose of preventing dirt from adhering to the surface of the image-recording article and improving the wiping performance of dirt, the static contact angles of water and hexadecane on the image-recording article are 90 degrees or more, respectively. It is preferable to provide an organic coat layer having a temperature of 25 degrees or more.

【0029】有機コート層としては、下記一般式(1)
または(2)で示されるフルオロアルキル(メタ)アク
リル系単量体および、下記一般式(3)で示される基を
有する、該フルオロアルキル(メタ)アクリル系単量体
と共重合可能な二重結合を有する単量体とを重合成分と
して有する共重合体、または下記一般式(4)で示され
るシロキサン単位を有する、ポリシロキサンを主成分と
してなるコーティング組成物を使用することが好まし
い。
The organic coating layer is represented by the following general formula (1)
Alternatively, a fluoroalkyl (meth) acrylic monomer represented by (2) and a double copolymer having a group represented by the following general formula (3) and copolymerizable with the fluoroalkyl (meth) acrylic monomer It is preferable to use a copolymer having a monomer having a bond as a polymerization component, or a coating composition having a siloxane unit represented by the following general formula (4) and having polysiloxane as a main component.

【0030】[0030]

【化5】 (式中R1 はH、CH3 およびFから選ばれ、aは2〜
4までの整数、bは3〜14までの整数、cは0または
1、d=2−cである。)
[Chemical 5] (In the formula, R 1 is selected from H, CH 3 and F, and a is 2 to
An integer of up to 4, b is an integer of 3 to 14, c is 0 or 1, and d = 2-c. )

【化6】 (R2 はH、メチル基およびエチル基から選ばれ、eは
2〜4までの整数、fは2または3の整数、g=3−f
である。)
[Chemical 6] (R 2 is selected from H, a methyl group and an ethyl group, e is an integer of 2 to 4, f is an integer of 2 or 3, g = 3-f
Is. )

【化7】 (ここでXは[Chemical 7] (Where X is

【化8】 であり、R1 はH、CH3 およびFから選ばれ、aは2
〜4までの整数、bは3〜14までの整数、cは0また
は1、d=2−cである。R2 はメチル基、エチル基、
フルオロアルキル基およびXから選ばれる。)一般式
(1)で表される、フルオロアルキル(メタ)アクリル
系単量体のエステル残基のメチレンの個数(a)は、エ
ステルの化学安定性の点から2個以上が必要である。5
個以上になると理由は不明であるが、被覆表面を斜めか
ら見たばあいに白濁がかかり使用できない。パーフルオ
ロメチレンの個数(b)としては3〜14個が必要であ
る。2個以下では、撥水、撥油効果は充分ではない。1
5個以上では、溶剤への溶解性が極端に低下し、実用的
な溶剤が得られないことおよび、被覆表面を斜めから見
た場合に白濁がかかることから使用できない。好ましく
はbは10以下である。具体例としては、2−(パーフ
ルオロブチル)エチル(メタ)クリレート、2−(パー
フルオロペンチル)エチル(メタ)クリレート、2−
(パーフルオロペンチル)プロピル(メタ)クリレー
ト、2−(パーフルオロペンチル)ブチル(メタ)クリ
レート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)
クリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メ
タ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)ブチ
ル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)
エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−5
−メチルヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチル(メタ)
アクリレート、2−(パーフルオロ−9−メチルデシ
ル)エチル(メタ)アクリレートおよびそれらのα−フ
ルオロアクリレート体、または、2−(パーフルオロブ
チル)ヒドロキシプロピル(メタ)クリレート、2−
(パーフルオロペンチル)ヒドロキシプロピル(メタ)
クリレート、2−(パーフルオロヘキシル)ヒドロキシ
プロピル(メタ)クリレート、2−(パーフルオロオク
チル)ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロデシル)ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシ
ル)ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロ−7−メチルオクチル)ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−9−
メチルデシル)ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
トおよびそれらのα−フルオロアクリレート体が挙げら
れる。これらは単独でも複数の組み合わせでも使用する
ことができる。フルオロアルキル(メタ)アクリル系単
量体成分は満足する防汚性を出すためには共重合体中で
50モル%以上であることが好ましい。より好ましくは
75モル%以上である。
[Chemical 8] And R 1 is selected from H, CH 3 and F, and a is 2
Is an integer from 4 to 4, b is an integer from 3 to 14, c is 0 or 1, and d = 2-c. R 2 is a methyl group, an ethyl group,
It is selected from a fluoroalkyl group and X. The number (a) of methylene in the ester residue of the fluoroalkyl (meth) acrylic monomer represented by the general formula (1) needs to be 2 or more from the viewpoint of chemical stability of the ester. 5
For more than one, the reason is unknown, but when the coated surface is viewed from an angle, it becomes cloudy and unusable. The number (b) of perfluoromethylene needs to be 3 to 14. If the number is 2 or less, the water and oil repellency effects are not sufficient. 1
If the number is 5 or more, the solubility in a solvent is extremely lowered, a practical solvent cannot be obtained, and white turbidity occurs when the coating surface is viewed obliquely, so that it cannot be used. Preferably b is 10 or less. Specific examples include 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl) ethyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluoropentyl) propyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl) butyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth)
Crylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) butyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl)
Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-5)
-Methylhexyl) ethyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluoro-7-methyloctyl) ethyl (meth)
Acrylate, 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl (meth) acrylate and their α-fluoroacrylates, or 2- (perfluorobutyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluoropentyl) hydroxypropyl (meth)
Crylate, 2- (perfluorohexyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluorodecyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluoro-7-methyloctyl) hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-9-
Methyldecyl) hydroxypropyl (meth) acrylate and their α-fluoroacrylates are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. The fluoroalkyl (meth) acrylic monomer component is preferably contained in the copolymer in an amount of 50 mol% or more in order to obtain a satisfactory antifouling property. It is more preferably 75 mol% or more.

【0031】膜の耐久性を出すためには、一般式(2)
で示される基を有しかつ重合性の不飽和基を有する単量
体が必要である。具体例としては、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルジメトキシ
メチルシラン、ビニルメトキシジメチルシラン、γ−
(メタ)アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ
−(メタ)アクリロイルプロピルジメトキシメチルシラ
ン等のシリコン含有単量体が挙げられる。
To obtain the durability of the film, the general formula (2) is used.
A monomer having a group represented by and having a polymerizable unsaturated group is required. Specific examples include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyldimethoxymethylsilane, vinylmethoxydimethylsilane, γ-
(Meth) acryloylpropyltrimethoxysilane, γ
Silicon-containing monomers such as (meth) acryloylpropyldimethoxymethylsilane may be mentioned.

【0032】このシリコン含有単量体は共重合体の構成
成分として、1モル%以上50モル%以下含まれること
が好ましい。さらに好ましくは5モル%以上25モル%
以下の範囲である。
The silicon-containing monomer is preferably contained as a component of the copolymer in an amount of 1 mol% or more and 50 mol% or less. More preferably 5 mol% or more and 25 mol%
The range is as follows.

【0033】他の共重合成分として、アルキル(メタ)
クリレート類、スチレン誘導体類も添加することができ
る。
As another copolymerization component, alkyl (meth) is used.
It is also possible to add acrylates and styrene derivatives.

【0034】フルオロアルキル(メタ)アクリル系単量
体は、ラジカル開始剤下で溶液重合法、懸濁重合法、乳
化重合法等の公知の重合法により製造することができ
る。重合にあたっては、シリコン含有単量体はアルコキ
シ体になっていることが好ましい。Si−OHの状態で
重合を進行せしめた場合には、重合中に重合体がゲル化
を起こしやすくなるため好ましくない。
The fluoroalkyl (meth) acrylic monomer can be produced by a known polymerization method such as a solution polymerization method, a suspension polymerization method or an emulsion polymerization method under a radical initiator. Upon polymerization, the silicon-containing monomer is preferably an alkoxy compound. When the polymerization is allowed to proceed in the Si—OH state, the polymer is apt to gel during the polymerization, which is not preferable.

【0035】重合体の製造にあたっては、分子量の調節
のために連鎖移動剤としてメルカプタン類を使用するこ
とができる。好ましいメルカプタンはアルコキシシラン
基を有するメルカプタンで、具体例としてγ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルジメト
キシメチルシラン、γ−メルカプトエチルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。
In the production of the polymer, mercaptans can be used as a chain transfer agent for controlling the molecular weight. A preferred mercaptan is a mercaptan having an alkoxysilane group, and specific examples thereof include γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyldimethoxymethylsilane and γ-mercaptoethyltrimethoxysilane.

【0036】一般式(4)で表される、フルオロアルキ
ルアシル基含有のポリシロキサンのエステル残基のメチ
レンの個数(a)は、エステルの化学安定性の点から2
個以上が好ましい。5個以上になると理由は不明である
が、被覆表面を斜めから見たばあいに白濁がかかり使用
できない。パーフルオロメチレンの個数(b)としては
3〜14個が必要である。2個以下では、撥水、撥油効
果は充分ではない。15個以上では、溶剤への溶解性が
極端に低下し、実用的な溶剤が得られないことおよび、
被覆表面を斜めから見た場合に白濁がかかることから使
用できない。好ましくはbは10以下である。
The number (m) of methylene in the ester residue of the fluoroalkylacyl group-containing polysiloxane represented by the general formula (4) is 2 in view of the chemical stability of the ester.
More than one is preferable. If the number is 5 or more, the reason is unknown, but when the coated surface is viewed obliquely, it becomes cloudy and unusable. The number (b) of perfluoromethylene needs to be 3 to 14. If the number is 2 or less, the water and oil repellency effects are not sufficient. If it is 15 or more, the solubility in the solvent is extremely lowered, and a practical solvent cannot be obtained, and
It cannot be used because the coated surface becomes cloudy when viewed obliquely. Preferably b is 10 or less.

【0037】一般式(4)で表される化合物は、パーフ
ルオロ(メタ)アクリレートあるいはパーフルオロ−α
−フルオロアクリレートとSiH基の付加反応により合
成することができる。
The compound represented by the general formula (4) is perfluoro (meth) acrylate or perfluoro-α.
It can be synthesized by an addition reaction of fluoroacrylate and SiH group.

【0038】具体的なパーフルオロ(メタ)アクリレー
トあるいはパーフルオロ−α−フルオロアクリレートと
しては次のものが挙げられる。2−(パーフルオロブチ
ル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ
ペンチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフ
ルオロペンチル)プロピル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロペンチル)ブチル(メタ)アクリレー
ト、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)クリ
レート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)
アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)ブチル
(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エ
チル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−5−
メチルヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−
(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチル(メタ)
アクリレート、2−(パーフルオロ−9−メチルデシ
ル)エチル(メタ)アクリレートおよびそれらのα−フ
ルオロアクリレート体などである。
Specific examples of perfluoro (meth) acrylate or perfluoro-α-fluoroacrylate include the following. 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoropentyl) propyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluoropentyl) butyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth)
Acrylate, 2- (perfluorooctyl) butyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-5-
Methylhexyl) ethyl (meth) acrylate, 2-
(Perfluoro-7-methyloctyl) ethyl (meth)
Acrylate, 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl (meth) acrylate, and their α-fluoroacrylates.

【0039】シラン化合物としてはジクロロアルキルシ
ラン、ジアルコキシアルキルシランあるいはジクロロシ
ラン、ジアルコキシシラン等が使用でき、ハイドロシレ
ーションによって、単量体を合成し、続いて、公知の方
法でポリシロキサンに重合せしめることによってポリシ
ロキサンを得ることができる。あるいは、SiH基を含
むポリオルガノシロキサンに触媒の存在下で前記のアク
リレート類を付加させてもよい。
As the silane compound, dichloroalkylsilane, dialkoxyalkylsilane, dichlorosilane, dialkoxysilane or the like can be used. The monomer is synthesized by hydrosilation and subsequently polymerized into polysiloxane by a known method. The polysiloxane can be obtained by buffing. Alternatively, the acrylates may be added to the polyorganosiloxane containing SiH groups in the presence of a catalyst.

【0040】一般式(4)の化合物以外に、Si(O
R)n R´3-n (ここでR、R´はメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基またはブチル基、n=
1〜3である)基を有するシロキサン単位を含んでも良
い。具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリエトキシシラン、ビニルジメトキシメチルシラ
ン、ビニルメトキシジメチルシラン、γ−(メタ)アク
リロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)ア
クリロイルプロピルジメトキシメチルシラン等のシリコ
ン含有単量体とヒドロシラン化合物との付加反応で得ら
れる化合物を、前記のパーフルオロ基含有のシラン化合
物と共重合することによって得ることができる。このシ
リコン含有単量体は、0.5モル%以上10モル%以下
で共重合されていることが好ましい。
In addition to the compound of the general formula (4), Si (O
R) n R ′ 3-n (where R and R ′ are a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group or a butyl group, and n =
Siloxane units having a group of 1 to 3). Specific examples include silicon containing vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyldimethoxymethylsilane, vinylmethoxydimethylsilane, γ- (meth) acryloylpropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloylpropyldimethoxymethylsilane, and the like. It can be obtained by copolymerizing the compound obtained by the addition reaction of the monomer and the hydrosilane compound with the above-mentioned perfluoro group-containing silane compound. The silicon-containing monomer is preferably copolymerized at 0.5 mol% or more and 10 mol% or less.

【0041】また必要に応じて、シラノールの脱水縮合
触媒、あるいは縮合助剤を使用することができる。例え
ば、アルミニウムアセチルアセトナート、オクチル酸ス
ズ化合物、有機カルボン酸アルカリ塩類が挙げられる。
If necessary, a silanol dehydration condensation catalyst or a condensation aid can be used. Examples thereof include aluminum acetylacetonate, tin octylate compound, and organic carboxylic acid alkali salts.

【0042】有機コート層の塗布方法としては、通常行
われている浸漬法、噴霧法、ローラーコート法、フロー
コート法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法等いず
れの方法によっても可能であるが、薄い塗布膜を精度良
く得るという観点からスピンコート法が好ましい。
The organic coating layer may be applied by any of the commonly used methods such as dipping, spraying, roller coating, flow coating, offset printing and screen printing. The spin coating method is preferable from the viewpoint of obtaining a coating film with high accuracy.

【0043】本発明における有機コート層の膜厚は10
0nm以下であることが好ましい。100nmを越える
場合には、膜の強度の点で問題があり好ましくない。5
0nm以下であることがより好ましく、10nm以下で
あることが最も好ましい。
The thickness of the organic coating layer in the present invention is 10
It is preferably 0 nm or less. When it exceeds 100 nm, there is a problem in the strength of the film, which is not preferable. 5
It is more preferably 0 nm or less, and most preferably 10 nm or less.

【0044】本発明の画像記録物品は、表面硬度が高
く、清拭特性に優れた画像記録物品として好ましく使用
される。
The image-recording article of the present invention has a high surface hardness and is preferably used as an image-recording article excellent in wiping characteristics.

【0045】[0045]

【実施例】以下に本発明を実施例を挙げて説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these.

【0046】なお、実施例における評価方法は以下の通
りである。
The evaluation method in the examples is as follows.

【0047】コントラストは、(株)日立製作所製分光
光度計U−3410により、検出波長633nmにより
測定した。着色はi線(365nm)を露光量70mJ
/cm2 で露光することにより行った。着色前の反射率
と着色後の反射率の差をコントラストとした。
The contrast was measured with a spectrophotometer U-3410 manufactured by Hitachi, Ltd. at a detection wavelength of 633 nm. Coloring i-line (365nm) exposure amount 70mJ
The exposure was carried out at a dose of 1 / cm 2 . The contrast was defined as the difference between the reflectance before coloring and the reflectance after coloring.

【0048】表面硬度は、画像記録物品表面を旭化成工
業(株)製ハイゼガーゼ4により、1.5kg荷重で5
往復擦り、傷の付きにくさを最高A〜最低Eの5段階で
評価した。
The surface hardness of the image-recorded article was 5 with a load of 1.5 kg by using Hize Gauze 4 manufactured by Asahi Kasei.
Rubbing back and forth and scratch resistance were evaluated on a scale of 5 from highest A to lowest E.

【0049】防汚性は、協和界面科学(株)製接触角計
CA−Dにより、水、およびヘキサデカンの静止接触角
を測定し、防汚性の評価とした。
The antifouling property was evaluated by measuring the static contact angle of water and hexadecane with a contact angle meter CA-D manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.

【0050】実施例1 (1)フォトクロミック溶液の調製 乳酸エチル45.0g、安息香酸メチル37.0gから
なる混合溶媒中にポリメチルメタクリレート15.0g
を加え、80℃で溶解するまで撹拌した。溶液を室温ま
で冷却後、1,3,3−トリメチルインドリノ−6−ニ
トロベンゾピリロスピラン3.0gを加え、室温で溶解
するまで撹拌した。溶液をアドバンテック東洋(株)製
0.2μmポリテトラフルオロエチレンフィルターによ
り濾過してフォトクロミック溶液を調製した。
Example 1 (1) Preparation of photochromic solution Polymethyl methacrylate (15.0 g) in a mixed solvent of ethyl lactate (45.0 g) and methyl benzoate (37.0 g).
Was added and stirred at 80 ° C. until dissolved. After cooling the solution to room temperature, 3.0 g of 1,3,3-trimethylindolino-6-nitrobenzopyrrolospirane was added and stirred at room temperature until dissolved. The solution was filtered through a 0.2 μm polytetrafluoroethylene filter manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. to prepare a photochromic solution.

【0051】(2)フォトクロミック層の形成 フォトクロミック溶液を大日本スクリーン製造(株)製
スピンコーターSKW−636を使用し、シリコンウエ
ハ上に回転数4000rpmの条件でコーティングした
後、100℃で3分間プリベークを行い、フォトクロミ
ック層を形成した。
(2) Formation of photochromic layer A photochromic solution was coated on a silicon wafer using a spin coater SKW-636 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. at a rotation speed of 4000 rpm, and then prebaked at 100 ° C. for 3 minutes. Then, a photochromic layer was formed.

【0052】(3)透明保護層の形成 フォトクロミック層の表面に、下記条件により二酸化ケ
イ素を真空蒸着した。 蒸着条件 基材温度 :50℃ 到達真空度:1.0×10-5Torr 中心波長 :550nm 設定膜厚 :λ/2 (4)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層の形成により、コ
ントラストの低下は見られなかった。また、表面硬度が
高く、汚れの拭き取りにより傷が付かなかった。
(3) Formation of transparent protective layer Silicon dioxide was vacuum-deposited on the surface of the photochromic layer under the following conditions. Deposition conditions Substrate temperature: 50 ° C. Ultimate vacuum: 1.0 × 10 −5 Torr Center wavelength: 550 nm Set film thickness: λ / 2 (4) Evaluation Table 1 shows the evaluation results. No reduction in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer. Moreover, the surface hardness was high, and no scratches were formed by wiping dirt.

【0053】実施例2 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1と同様にして、フォトクロミック溶液を調製し
た。
Example 2 (1) Preparation of Photochromic Solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1.

【0054】(2)有機コート溶液の調製 ジクロロメチルシラン11.5g(52モル%)、溶媒
としてジエチルエーテル50g、触媒として塩化白金酸
50mgを、コンデンサー付きの300mlフラスコに
入れ、ジエチルエーテルが還流するように穏やかに加熱
攪拌しながら、2−(パーフルオロオクチル)エチルメ
タアクリレート50g(48モル%)を1時間かけて滴
下した。その後4時間穏やかに加熱攪拌を続け反応を終
えた。
(2) Preparation of organic coating solution 11.5 g (52 mol%) of dichloromethylsilane, 50 g of diethyl ether as a solvent and 50 mg of chloroplatinic acid as a catalyst were placed in a 300 ml flask equipped with a condenser, and the diethyl ether was refluxed. While gently heating and stirring, 50 g (48 mol%) of 2- (perfluorooctyl) ethyl methacrylate was added dropwise over 1 hour. Then, the mixture was heated and stirred gently for 4 hours to complete the reaction.

【0055】続いて、メチルイソブチルケトンを50g
加えた後、大量の水を瞬時に加えた。白色の餅状のポリ
マが水/メチルイソブチルケトンの界面に生成した。油
層を分離した後、ロータリーエバポレーターにより加熱
濃縮し、油状の濃縮物を得た。この濃縮物と先に得られ
た餅状のポリマとを合わせ、トリクロロトリフルオロエ
タンに溶解し、大量のメタノールに投入後、得られたポ
リマを回収した。真空乾燥によりフレーク状の固体が得
られた。収率は63%であった。
Then, 50 g of methyl isobutyl ketone
After the addition, a large amount of water was added instantly. A white dough-like polymer formed at the water / methyl isobutyl ketone interface. After separating the oil layer, it was heated and concentrated by a rotary evaporator to obtain an oily concentrate. The concentrate and the dough-like polymer obtained above were combined, dissolved in trichlorotrifluoroethane, added to a large amount of methanol, and the obtained polymer was recovered. A flake-like solid was obtained by vacuum drying. The yield was 63%.

【0056】ポリマをパーフルオロ(2−ブチルテトラ
ヒドロフラン)に固形分濃度0.4重量%となるように
溶解し、1/100重量部のトリクロロメチルシランを
加え、有機コート溶液を調製した。
The polymer was dissolved in perfluoro (2-butyltetrahydrofuran) to a solid concentration of 0.4% by weight, and 1/100 parts by weight of trichloromethylsilane was added to prepare an organic coating solution.

【0057】(3)フォトクロミック層の形成 実施例1と同様にして、フォトクロミック層を形成し
た。
(3) Formation of Photochromic Layer A photochromic layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0058】(4)透明保護層の形成 実施例1と同様にして、フォトクロミック層の表面に透
明保護層を形成した。 (5)有機コート層の形成 透明保護層の上層に、有機コート溶液を大日本スクリー
ン製造(株)製スピンコーターSKW−636を使用
し、フォトクロミック層上に回転数4000rpmの条
件でコーティングした後、室温で30分乾燥後、70℃
のオーブン中で1時間キュアを行い、有機コート層を形
成した。
(4) Formation of transparent protective layer In the same manner as in Example 1, a transparent protective layer was formed on the surface of the photochromic layer. (5) Formation of Organic Coat Layer An organic coating solution was applied to the upper layer of the transparent protective layer using a spin coater SKW-636 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd., and was coated on the photochromic layer under the condition of a rotation speed of 4000 rpm. After drying at room temperature for 30 minutes, 70 ℃
Curing was performed in the oven for 1 hour to form an organic coating layer.

【0059】(6)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層、有機コート層の
形成によりコントラストの低下は見られなかった。ま
た、表面硬度が高く、拭き取りにより傷が付かなかっ
た。さらに、水およびヘキサデカンの静止接触角が高
く、表面の防汚性、汚れの拭き取りやすさに優れてい
た。
(6) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. No reduction in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer and the organic coating layer. Moreover, the surface hardness was high, and no scratch was formed by wiping. Further, the static contact angle of water and hexadecane was high, and the surface was excellent in antifouling property and easy in wiping off stains.

【0060】実施例3 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1と同様にして、フォトクロミック溶液を調製し
た。
Example 3 (1) Preparation of Photochromic Solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1.

【0061】(2)有機コート溶液の調製 2−(パーフルオロオクチル)エチルメタアクリレート
50.0g(90モル%)、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン2.59g(10モル%)、γ−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン0.41g、ア
ゾビスイソブチロニトリル0.17g、メチルイソブチ
ルケトン42.0g、ヘキサフルオロイソプロパノール
10.5gをガラス製アンプルに入れ、ラジカル重合の
定法に従い凍結脱気操作を3回行って溶存酸素を除去し
た。次いでアンプルを溶封し、75℃で20時間重合を
行った。透明粘調な液が得られた。この反応液を大量の
メタノールに投入し、沈殿物を濾過により回収し、メタ
ノール、ノルマルヘキサンで洗浄後40℃で24時間真
空乾燥を行い共重合体を得た。乾燥後の重量から求めた
重合率は96%であった。
(2) Preparation of organic coating solution 50.0 g (90 mol%) of 2- (perfluorooctyl) ethyl methacrylate, 2.59 g (10 mol%) of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-
0.41 g of mercaptopropyltrimethoxysilane, 0.17 g of azobisisobutyronitrile, 42.0 g of methyl isobutyl ketone, and 10.5 g of hexafluoroisopropanol were placed in a glass ampoule, and freeze degassing operation was performed according to a standard method of radical polymerization. Repeatedly to remove dissolved oxygen. Then, the ampoule was sealed and polymerized at 75 ° C. for 20 hours. A transparent viscous liquid was obtained. The reaction solution was poured into a large amount of methanol, the precipitate was collected by filtration, washed with methanol and normal hexane, and vacuum dried at 40 ° C. for 24 hours to obtain a copolymer. The degree of polymerization determined from the weight after drying was 96%.

【0062】得られた重合体を、パーフルオロ−2−ブ
チルテトラヒドロフランに重量比で5%になるように溶
解した後、1/10N塩酸水溶液を微量添加し、液滴が
完全に消失するまで撹拌した。フィルターで濾過した
後、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフランで
0.2重量%まで希釈し、有機コート溶液とした。
The obtained polymer was dissolved in perfluoro-2-butyltetrahydrofuran so that the weight ratio was 5%, and a trace amount of 1 / 10N hydrochloric acid aqueous solution was added, and the mixture was stirred until the droplets completely disappeared. did. After filtering with a filter, it was diluted with perfluoro-2-butyltetrahydrofuran to 0.2% by weight to obtain an organic coating solution.

【0063】(3)フォトクロミック層の形成 実施例1と同様にして、フォトクロミック溶液をコーテ
ィングした。
(3) Formation of Photochromic Layer A photochromic solution was coated in the same manner as in Example 1.

【0064】(4)透明保護層の形成 実施例1と同様にして、透明保護層を形成した。(4) Formation of transparent protective layer In the same manner as in Example 1, a transparent protective layer was formed.

【0065】(5)有機コート層の形成 (2)の有機コート溶液を使用した以外は、実施例2と
同様にして、有機コート層を形成した。
(5) Formation of organic coat layer An organic coat layer was formed in the same manner as in Example 2 except that the organic coat solution of (2) was used.

【0066】(6)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層、有機コート層の
形成によりコントラストの低下は見られなかった。ま
た、表面硬度が高く、拭き取りにより傷が付かなかっ
た。さらに、水およびヘキサデカンの静止接触角が高
く、表面の防汚性、汚れの拭き取りやすさに優れてい
た。
(6) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. No reduction in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer and the organic coating layer. Moreover, the surface hardness was high, and no scratch was formed by wiping. Further, the static contact angle of water and hexadecane was high, and the surface was excellent in antifouling property and easy in wiping off stains.

【0067】比較例1 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1と同様にして、フォトクロミック溶液を調製し
た。
Comparative Example 1 (1) Preparation of Photochromic Solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1.

【0068】(2)フォトクロミック層の形成 実施例1と同様にして、フォトクロミック溶液をコーテ
ィングした。
(2) Formation of Photochromic Layer A photochromic solution was coated in the same manner as in Example 1.

【0069】(3)評価 評価結果を表1に示した。表面硬度が低く、拭き取りに
より傷が付いた。
(3) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. The surface hardness was low and it was scratched by wiping.

【0070】比較例2 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1と同様にして、フォトクロミック溶液を調製し
た。
Comparative Example 2 (1) Preparation of Photochromic Solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1.

【0071】(2)フォトクロミック層の形成 実施例1と同様にして、フォトクロミック層を形成し
た。
(2) Formation of Photochromic Layer A photochromic layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0072】(3)透明保護層の形成 設定膜厚を2λにした以外は実施例1と同様にして、フ
ォトクロミック層の表面に透明保護層を形成した。
(3) Formation of transparent protective layer A transparent protective layer was formed on the surface of the photochromic layer in the same manner as in Example 1 except that the set film thickness was 2λ.

【0073】(4)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層、有機コート層の
形成によりコントラストの低下が見られた。また、表面
硬度が高く、拭き取りにより傷が付かなかったが、透明
保護層中で露光光の屈折が起こり、画像が正確に記録で
きなかった。
(4) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. A decrease in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer and the organic coating layer. Further, the surface hardness was high and no scratch was formed by wiping, but the exposure light was refracted in the transparent protective layer, and the image could not be recorded accurately.

【0074】比較例3 (1)フォトクロミック溶液の調製 実施例1と同様にして、フォトクロミック溶液を調製し
た。
Comparative Example 3 (1) Preparation of Photochromic Solution A photochromic solution was prepared in the same manner as in Example 1.

【0075】(2)有機コート溶液の調製 有機コート溶液の固形分を5重量%にした以外は実施例
3と同様にして、有機コート溶液を調製した。
(2) Preparation of organic coating solution An organic coating solution was prepared in the same manner as in Example 3 except that the solid content of the organic coating solution was 5% by weight.

【0076】(3)フォトクロミック層の形成 実施例1と同様にして、フォトクロミック層を形成し
た。
(3) Formation of Photochromic Layer A photochromic layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0077】(4)透明保護層の形成 実施例1と同様にして、フォトクロミック層の表面に透
明保護層を形成した。 (5)有機コート層の形成 (2)の有機コート溶液を使用した以外は、実施例2と
同様にして、有機コート層を形成した。
(4) Formation of transparent protective layer In the same manner as in Example 1, a transparent protective layer was formed on the surface of the photochromic layer. (5) Formation of Organic Coat Layer An organic coat layer was formed in the same manner as in Example 2 except that the organic coat solution in (2) was used.

【0078】(6)評価 評価結果を表1に示した。透明保護層、有機コート層の
形成によりコントラストの低下が見られた。透明保護層
の表面硬度は高く、拭き取りによりフォトクロ層には傷
が付かなかったが、有機コート層は拭き取りにより膜剥
がれが起こった。また、透明保護層、有機コート層中で
露光光の屈折が起こり、画像が正確に記録できなかっ
た。
(6) Evaluation The evaluation results are shown in Table 1. A decrease in contrast was observed due to the formation of the transparent protective layer and the organic coating layer. The surface hardness of the transparent protective layer was high and the photochromic layer was not scratched by wiping, but the organic coating layer was peeled off by wiping. Further, the exposure light was refracted in the transparent protective layer and the organic coating layer, and the image could not be recorded accurately.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】[0080]

【発明の効果】本発明の画像記録物品は、露光した部分
のコントラストが充分高いため視認することはもちろ
ん、露光光と異なった波長で反射率を測定することによ
り、露光部のパターンが自動測定できる。また、表面硬
度が高いため、表面が汚れた際に傷を付ける事なく拭き
取ることができるという、優れた清拭特性を示す。さら
に、透明保護層上に有機コートを設けた場合には、汚れ
自体が付きにくいという、優れた防汚性を示す。
EFFECT OF THE INVENTION The image-recorded article of the present invention has a sufficiently high contrast in the exposed portion, so that it can be visually recognized and the pattern of the exposed portion can be automatically measured by measuring the reflectance at a wavelength different from the exposure light. it can. Also, since the surface hardness is high, it exhibits excellent wiping characteristics that it can be wiped off without being scratched when the surface is soiled. Furthermore, when an organic coat is provided on the transparent protective layer, it exhibits excellent antifouling property that dirt itself does not easily adhere.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11B 7/24 516 7215−5D ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location G11B 7/24 516 7215-5D

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】可視光線反射率が30%以上の基材上に、
有機フォトクロミック化合物を含有する高分子層、無機
系酸化物からなる透明保護層をこの順序有することを特
徴とする画像記録物品。
1. A substrate having a visible light reflectance of 30% or more,
An image recording article having a polymer layer containing an organic photochromic compound and a transparent protective layer made of an inorganic oxide in this order.
【請求項2】請求項1において、該透明保護層の膜厚
が、0.1μm以上、0.8μm以下であることを特徴
とする画像記録物品。
2. The image recording article according to claim 1, wherein the film thickness of the transparent protective layer is 0.1 μm or more and 0.8 μm or less.
【請求項3】請求項1において、i線(365nm) を露
光量50〜100mJ/cm2 で露光したときに、630±
50nmの波長域におけるコントラストが10%以上であ
ることを特徴とする画像記録物品。
3. The method according to claim 1, wherein when i-line (365 nm) is exposed at an exposure dose of 50 to 100 mJ / cm 2 , 630 ±
An image recording article having a contrast of 10% or more in a wavelength range of 50 nm.
【請求項4】請求項1において、該基材が略円形のシリ
コンウエハであることを特徴とする画像記録物品。
4. The image recording article according to claim 1, wherein the base material is a substantially circular silicon wafer.
【請求項5】請求項1において、該有機フォトクロミッ
ク化合物がスピロピラン系化合物であることを特徴とす
る画像記録物品。
5. The image recording article according to claim 1, wherein the organic photochromic compound is a spiropyran compound.
【請求項6】請求項1において、該有機フォトクロミッ
ク化合物を含有する高分子層を形成するために使用され
るフォトクロミック溶液中に含まれるNa、K、Fe、
Ca含有量が、それぞれ1.0ppm以下であることを
特徴とする画像記録物品。
6. The Na, K, Fe contained in the photochromic solution used for forming the polymer layer containing the organic photochromic compound according to claim 1.
An image recording article having a Ca content of 1.0 ppm or less.
【請求項7】請求項1において、該有機フォトクロミッ
ク化合物を含有する高分子層を形成するために使用され
るフォトクロミック溶液中に含まれる0.5μm以上の
パーティクルが100個/ml以下であることを特徴と
する画像記録物品。
7. The method according to claim 1, wherein the photochromic solution used for forming the polymer layer containing the organic photochromic compound has 100 or less particles of 0.5 μm or more contained in the photochromic solution. Characterized image recording articles.
【請求項8】請求項1において、該透明保護層上に水お
よびヘキサデカンに対する静止接触角がそれぞれ90度
以上、25度以上である膜厚100nm以下の有機コー
ト層を設けたことを特徴とする画像記録物品。
8. The organic coating layer according to claim 1, wherein the transparent protective layer is provided with an organic coating layer having a static contact angle with water and hexadecane of 90 ° or more and 25 ° or more and a film thickness of 100 nm or less. Image recording article.
【請求項9】請求項8において、有機コート層が下記一
般式(1)または(2)で示されるフルオロアルキル
(メタ)アクリル系単量体および、下記一般式(3)で
示される基を有する、該フルオロアルキル(メタ)アク
リル系単量体と共重合可能な二重結合を有する単量体と
を重合成分として有する共重合体であることを特徴とす
る画像記録物品。 【化1】 (式中R1 はH、CH3 およびFから選ばれ、aは2〜
4までの整数、bは3〜14までの整数、cは0または
1、d=2−cである。) 【化2】 (R2 はH、メチル基およびエチル基から選ばれ、eは
2〜4までの整数、fは2または3の整数、g=3−f
である。)
9. The organic coating layer according to claim 8, wherein the fluoroalkyl (meth) acrylic monomer represented by the following general formula (1) or (2) and the group represented by the following general formula (3) are used. An image recording article comprising the fluoroalkyl (meth) acrylic monomer and a monomer having a copolymerizable double bond as a polymerization component. [Chemical 1] (In the formula, R 1 is selected from H, CH 3 and F, and a is 2 to
An integer of up to 4, b is an integer of 3 to 14, c is 0 or 1, and d = 2-c. ) [Chemical 2] (R 2 is selected from H, a methyl group and an ethyl group, e is an integer of 2 to 4, f is an integer of 2 or 3, g = 3-f
Is. )
【請求項10】請求項6において、該有機コート層が下
記一般式(4)で示されるシロキサン単位を有する、ポ
リシロキサンを主成分としてなることを特徴とする画像
記録物品。 【化3】 (ここでXは 【化4】 であり、R1 はH、CH3 およびFから選ばれ、aは2
〜4までの整数、bは3〜14までの整数、cは0また
は1、d=2−cである。R2 はメチル基、エチル基、
フルオロアルキル基およびXから選ばれる。)
10. The image-recording article according to claim 6, wherein the organic coating layer contains polysiloxane having a siloxane unit represented by the following general formula (4) as a main component. [Chemical 3] (Where X is And R 1 is selected from H, CH 3 and F, and a is 2
Is an integer from 4 to 4, b is an integer from 3 to 14, c is 0 or 1, and d = 2-c. R 2 is a methyl group, an ethyl group,
It is selected from a fluoroalkyl group and X. )
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002332480A (en) * 2001-05-09 2002-11-22 Tokyo Denki Univ Photochromic compound
JP2003053185A (en) * 2001-08-17 2003-02-25 Tokyo Denki Univ Photoresponsive metallic ion adsorbing material and method for recovering metallic ion

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5834437A (en) * 1981-08-26 1983-02-28 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Method to extend light adjustment life
JPH0335236A (en) * 1989-06-30 1991-02-15 Toray Ind Inc Photochromic article
JPH0412522A (en) * 1990-05-02 1992-01-17 Canon Inc Dummy wafer
JPH0430512A (en) * 1990-05-28 1992-02-03 Canon Inc Dummy wafer

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5834437A (en) * 1981-08-26 1983-02-28 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Method to extend light adjustment life
JPH0335236A (en) * 1989-06-30 1991-02-15 Toray Ind Inc Photochromic article
JPH0412522A (en) * 1990-05-02 1992-01-17 Canon Inc Dummy wafer
JPH0430512A (en) * 1990-05-28 1992-02-03 Canon Inc Dummy wafer

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002332480A (en) * 2001-05-09 2002-11-22 Tokyo Denki Univ Photochromic compound
JP2003053185A (en) * 2001-08-17 2003-02-25 Tokyo Denki Univ Photoresponsive metallic ion adsorbing material and method for recovering metallic ion

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