JPH07159606A - Light-diffusing plate - Google Patents

Light-diffusing plate

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JPH07159606A
JPH07159606A JP5305400A JP30540093A JPH07159606A JP H07159606 A JPH07159606 A JP H07159606A JP 5305400 A JP5305400 A JP 5305400A JP 30540093 A JP30540093 A JP 30540093A JP H07159606 A JPH07159606 A JP H07159606A
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JP
Japan
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meth
conductive layer
acrylate
light
transparent resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP5305400A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Nomura
茂樹 野村
Toshihiro Koremoto
敏宏 是本
Atsuyoshi Nagata
敦善 永田
Takashi Osugi
高志 大杉
Minoru Suezaki
穣 末崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication of JPH07159606A publication Critical patent/JPH07159606A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a light-diffusing plate having high surface hardness which is hardly stuck with dust or damaged by scratches. CONSTITUTION:This light-diffusing plate is produced by forming a transparent resin layer and a conductive layer comprised of conductive particles of <=3mum average particle size on a rough surface of a light-diffusing film or sheet comprised of a transparent resin film or sheet at least one surface of which is finely roughened. The transparent resin layer consists of a (meth)acrylate compd. having at least two or more (meth)acryloyl groups in the molecule and a photopolymn. initiator. The conductive layer is formed to 0.5-50mum thickness by applying a coating liquid for the conductive layer and irradiating the layer with active rays.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ディスプレイや照明カ
バ−等に用いる光拡散板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light diffusing plate used in displays, lighting covers and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】光拡散板は、点状光源或いは線状光源の
光を拡散もしくは出射光角度の調整し、均一で、正面輝
度が高い面照明を得るために用いるもので液晶ディスプ
レイ、透過型スクリ−ン、照明装置のカバ−などに用い
られる。
2. Description of the Related Art A light diffusing plate is used for diffusing light from a point light source or a linear light source or adjusting the angle of outgoing light to obtain a uniform surface illumination with high front brightness. It is used for screens and lighting equipment covers.

【0003】従来、光拡散板は透明性の高い熱可塑性樹
脂の押し出しフィルムもしくはシ−トの表面に多数の微
細な凹凸を形成することによて製造されていた。
Conventionally, the light diffusion plate has been manufactured by forming a large number of fine irregularities on the surface of an extruded film or sheet of a highly transparent thermoplastic resin.

【0004】上記凹凸の形状は、連続したプリズム状、
波形または三角錐の突起状のもので均一で正面輝度が高
くなることが、例えば、特開昭60−100103号公
報や特開平2−228689号公報に開示されている。
The shape of the irregularities is a continuous prism shape,
It is disclosed, for example, in JP-A-60-100103 and JP-A-2-228689 that the corrugated or triangular pyramidal protrusions have a uniform and high front luminance.

【0005】上記熱可塑性樹脂としては、透明性がよく
成形性のよいポリメチルメタクリレ−ト、ポリカ−ボネ
−ト、ポリ塩化ビニルなどが使用されている。
As the above-mentioned thermoplastic resin, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyvinyl chloride or the like, which has good transparency and good moldability, is used.

【0006】しかしながら、上記熱可塑性樹脂は帯電性
があり、光拡散板を光拡散ユニットに組み込む工程で埃
りや汚れが付きやすく、そのため光の拡散機能が低下す
るので製品の歩留りが低下するといった問題があった。
However, the above-mentioned thermoplastic resin has a charging property, and dust and dirt are liable to be attached in the step of incorporating the light diffusing plate into the light diffusing unit, which lowers the light diffusing function and thus lowers the product yield. was there.

【0007】また、ポリカ−ボネ−トやポリ塩化ビニル
は廉価で特性も優れているが表面硬度が低く、光拡散板
をロ−ル状に巻いて保存したり、カットして液晶ディス
プレイの光拡散ユニットに組み込む工程で傷つきやす
く、傷つくとその部分は輝点や影となり機能が低下する
ので、製品の歩留りが低下するといった問題があった。
Polycarbonate and polyvinyl chloride are inexpensive and have excellent characteristics, but have a low surface hardness, and a light diffusing plate is rolled and stored in a roll shape, or cut to protect the light of a liquid crystal display. There is a problem in that the yield of the product is reduced because it is easy to be damaged in the process of incorporating it in the diffusion unit, and if it is damaged, the part becomes bright spots or shadows and the function is deteriorated.

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
に鑑みてなされたものであり、その目的は埃りや汚れが
が付きにくい光拡散板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above drawbacks, and an object of the present invention is to provide a light diffusing plate in which dust and dirt are not easily attached.

【0008】本発明のさらなる目的は、表面硬度が高
く、表面に傷が付きにくい光拡散板を提供することにあ
る。
A further object of the present invention is to provide a light diffusing plate having a high surface hardness and being hard to be scratched on the surface.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の光拡散板は、光
拡散フィルムもしくはシ−トの微細な凹凸を有する面上
に導電層を設けることにより得られる。
The light diffusing plate of the present invention can be obtained by providing a conductive layer on the surface of the light diffusing film or sheet having fine irregularities.

【0010】上記透明樹脂フィルムもしくはシ−トは、
公知のものが使用でき、例えば、ポリカ−ボネ−ト、ポ
リメチルメタクリレ−ト、ポリ塩化ビニル、ポリエステ
ル、酢酸セルロ−スブチレ−ト、ポリエチレン系アイオ
ノマ−(商標名;サ−リン)などの透明樹脂のフィルム
もしくはシ−トの片面に連続プリズム状、波形状または
三角錐の突起状の0.05〜5mmの凹凸が設けられた
ものなどが挙げられる。
The transparent resin film or sheet is
Known materials can be used, for example, transparent materials such as polycarbonate, polymethylmethacrylate, polyvinyl chloride, polyester, cellulose acetate butyrate, polyethylene-based ionomer (trade name: Sarlin), etc. Examples thereof include a resin film or sheet provided with concavities and convexities of 0.05 to 5 mm in a continuous prism shape, a wave shape, or a triangular pyramid projection shape.

【0011】上記導電層は透明樹脂バインダ−と導電性
粉末からなる。
The conductive layer comprises a transparent resin binder and conductive powder.

【0012】上記透明樹脂バインダ−としては、透明で
あればよく、例えば、ポリメチルメタアクリル酸;ポリ
ビニルアセタ−ル、ポリビニルブチラ−ル等のポリビニ
ルアルコ−ルをアルデヒド化合物でアセタ−ル化して得
られるポリアセタ−ル樹脂;ポリエステル樹脂;ウレタ
ン樹脂;エポキシ樹脂などの熱可塑性樹脂、光重合性樹
脂等が挙げられ、有機溶剤に可溶なα、β−不飽和エチ
レン系単量体の重合体又は共重合体、光重合性樹脂等が
好適に用いられる。
The above transparent resin binder may be transparent, and for example, polymethylmethacrylic acid; polyvinyl alcohol such as polyvinyl acetal and polyvinyl butyral can be acetalized with an aldehyde compound. Polyacetal resin obtained by the above; polyester resin; urethane resin; thermoplastic resin such as epoxy resin, photopolymerizable resin, and the like, and a polymer of α, β-unsaturated ethylene-based monomer soluble in an organic solvent. Polymers, copolymers, photopolymerizable resins, etc. are preferably used.

【0013】上記α、β−不飽和エチレン系単量体とし
ては、例えば、スチレン、p−メチルスチレン、α−メ
チルスチレン、p−エチルスチレン、2,4−ジメチル
スチレン、p−ヘキシルスチレン、p−オクチルスチレ
ン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、
3,4−ジメチルクロルスチレン等のスチレン類;α−
ビニルナフタレン;エチレン、プロピレン、ブチレン又
はC5 〜C30等のα−オレフィン類;塩化ビニル、臭化
ビニル等のハロゲン化ビニル;酢酸ビニル、プロピオン
酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類;(メタ)
アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メ
タ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸オクチル、
(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸ラ
ウリル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メ
タ)アクリル酸2−クロルエチル、α−クロル(メタ)
アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メ
タ)アクリル酸ジメチルアミノエチル等の(メタ)アク
リル酸エステル類;ビニルメチルエ−テル、ビニルエチ
ルエ−テル等のビニルエ−テル類;ビニルメチルケト
ン、ビニルエチルケトン等のビニルケトン類;N−ビニ
ルピロ−ル、N−ビニルインド−ル等のN−ビニル化合
物;(メタ)アクリロニトリル;(メタ)アクリル酸ア
ミド類などが挙げられ、これらは単独で使用されてもよ
いし、2種以上が併用されてもよい。
Examples of the α, β-unsaturated ethylenic monomer include styrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene, p-ethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, p-hexylstyrene and p-hexylstyrene. -Octylstyrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene,
Styrenes such as 3,4-dimethylchlorostyrene; α-
Vinylnaphthalene; ethylene, propylene, butylene or α-olefins such as C 5 to C 30 ; vinyl halides such as vinyl chloride and vinyl bromide; vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl butyrate; )
Methyl acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate,
Isobutyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, α-chloro (meth)
(Meth) acrylic acid esters such as methyl acrylate, phenyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate; vinyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether; vinyl methyl ketone, vinyl ethyl ketone And the like; N-vinyl compounds such as N-vinylpyrrole and N-vinylindole; (meth) acrylonitrile; (meth) acrylic acid amides and the like, and these may be used alone. However, two or more kinds may be used in combination.

【0014】上記光重合性樹脂は、(メタ)アクリレ−
ト化合物と光重合開始剤とからなるものが好適に使用さ
れる。
The photopolymerizable resin is a (meth) acrylate.
What comprises a compound and a photopolymerization initiator is preferably used.

【0015】上記(メタ)アクリレ−ト化合物として
は、例えば、分子内に少なくとも2個以上の(メタ)ア
クリロイル基を有する(メタ)アクリレ−ト化合物が挙
げられる。
Examples of the (meth) acrylate compound include (meth) acrylate compounds having at least two (meth) acryloyl groups in the molecule.

【0016】上記(メタ)アクリレ−ト化合物として
は、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ト
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ノナプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(ア
クリロキシジエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−
ビス[4−(メタクリロキシジエトキシ)フェニル]プ
ロパン、3−フェノキシ−2−プロパノイルアクリレー
ト、1,6−ビス(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシ
プロピル)−ヘキシルエーテル等の2官能(メタ)アク
リレート、もしくはペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、
トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エ
ステル(メタ)アクリレート等の3官能(メタ)アクリ
レート、その他ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート等の4官能以上の(メタ)アクリレート、分
子内にウレタン結合を有するアクリル系ウレタンオリゴ
マーが挙げられる。
Examples of the (meth) acrylate compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate and nona. Ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, nonapropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate 2,2-bis [4- (acryloxydiethoxy) phenyl] propane, 2,2-
Bifunctional (meth) acrylates such as bis [4- (methacryloxydiethoxy) phenyl] propane, 3-phenoxy-2-propanoyl acrylate, and 1,6-bis (3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -hexyl ether. , Or pentaerythritol tri (meta)
Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate,
Trifunctional (meth) acrylates such as tris- (2-hydroxyethyl) -isocyanuric acid ester (meth) acrylate, other pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Examples include tetrafunctional or higher functional (meth) acrylates such as acrylates, and acrylic urethane oligomers having a urethane bond in the molecule.

【0017】上記分子内に(メタ)アクリロイル基を有
するウレタンオリゴマーとしては、例えば、1分子内に
2個以上のイソシアネート基を有する化合物と、活性水
素を有する(メタ)アクリレートを反応させる方法によ
って得られる。
The urethane oligomer having a (meth) acryloyl group in the molecule is obtained by, for example, reacting a compound having two or more isocyanate groups in one molecule with a (meth) acrylate having active hydrogen. To be

【0018】上記1分子中に2個以上のイソシアネート
を有する化合物としては、例えば、m−フェニレン ジ
イソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、ト
ルエン−2,4−ジイソシアネート、トルエン−2,6
−ジイソシアネート、トルエン−2,5−ジイソシアネ
ート、トルエン−3,5−ジイソシアネート、m−キシ
リレン ジイソシアネート、p−キシリレン ジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアンート、トリメチ
ルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、4,4’−ジイソシアネート−3,3’−ジメチ
ルビフェニル、4,4’−ジイソシアネート−3,3’
−ジメチルビフェニルメタンなどが挙げられる。
Examples of the compound having two or more isocyanates in one molecule include m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, toluene-2,4-diisocyanate and toluene-2,6.
-Diisocyanate, toluene-2,5-diisocyanate, toluene-3,5-diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate , 4,4'-diisocyanate-3,3'-dimethylbiphenyl, 4,4'-diisocyanate-3,3 '
-Dimethylbiphenylmethane and the like.

【0019】上記活性水素含有の(メタ)アクリレート
としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、グリセリンジ(メタ)アクリレート、1,6−ビス
(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−ヘキ
シルエーテル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、(メタ)アクリル酸等が挙げられる。が挙げ
られる。
Examples of the active hydrogen-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, and 1,6-bis (3-). Examples thereof include acryloxy-2-hydroxypropyl) -hexyl ether, pentaerythritol tri (meth) acrylate, (meth) acrylic acid and the like. Is mentioned.

【0020】上記光重合開始剤としては、可視光線、紫
外線などの活性光線の照射によって(メタ)アクリレ−
ト化合物の重合を開始させるものであればよく、例え
ば、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、
ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノ
サルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類;
チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロ
ロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等
のチオキサントン誘導体;ヒドラゾン、アゾビスイソブ
チロニトリル等のアゾ化合物;ベンゼンジアゾニウム
塩;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノ
ン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキ
ノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラ
キノン、2−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニ
ル化合物;p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、p−ジ
メチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息
香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル
等のジアルキルアミノ安息香酸エステル;ベンゾイルパ
ーオキサイド、ジt−ブチルパーオキサイド、ジクミル
パーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド等の
過酸化物;9−フェニルアクリジン、9−p−メトキシ
フェニルアクリジン、9−アセチルアミノアクリジン、
ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体;9,10−ジ
メチルベンズフェナジン、9−メチルベンズフェナジ
ン、10−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘
導体;4,4’,4’’−トリメトキシ−2,3−ジフ
ェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体;2,4,
5−トリフェニルイミダゾイル二量体、2−ニトロフル
オレン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−
1,3,5−トリアジン、3,3’−カルボニルビスク
マリン、チオミヒラーケトン等が挙げられ、単独で使用
しもよいし、2種以上を併用しもよい。
The above-mentioned photopolymerization initiator may be a (meth) acrylate by irradiation with actinic rays such as visible rays and ultraviolet rays.
As long as it initiates the polymerization of the compound, for example, sodium methyldithiocarbamate sulfide,
Sulfides such as diphenyl monosulfide, dibenzothiazoyl monosulfide and disulfide;
Thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,4-diethylthioxanthone; azo compounds such as hydrazone and azobisisobutyronitrile; benzenediazonium salts; benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, Aromatic carbonyl compounds such as benzophenone, dimethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzylanthraquinone, t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-chloroanthraquinone; methyl p-dimethylaminobenzoate, Dialkylamis such as ethyl p-dimethylaminobenzoate, butyl p-dimethylaminobenzoate and isopropyl p-diethylaminobenzoate. Benzoates; benzoyl peroxide, di-t- butyl peroxide, dicumyl peroxide, peroxides such as cumene hydroperoxide; 9-phenyl acridine, 9-p-methoxyphenyl acridine, 9-acetylamino acridine,
Acridine derivatives such as benzacridine; phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, 9-methylbenzphenazine, 10-methoxybenzphenazine; 4,4 ′, 4 ″ -trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline and the like. Quinoxaline derivative; 2,4
5-triphenylimidazoyl dimer, 2-nitrofluorene, 2,4,6-tris (trichloromethyl)-
1,3,5-triazine, 3,3′-carbonylbiscoumarin, thiomichler ketone and the like can be mentioned, and they may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0021】上記光重合性樹脂には、酸素による光感度
の低下を防止するために、アミン化合物を添加してもよ
く、このようなアミンとしては、揮発性の低いものであ
ればよく、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエ
タノールアミン等の脂肪族アミン;ジアルキルアミノ安
息香酸エステル、ミヒラーケトンなどの芳香族アミンが
挙げられる。
An amine compound may be added to the above-mentioned photopolymerizable resin in order to prevent a decrease in photosensitivity due to oxygen. Such an amine may be any one having a low volatility, for example, Aliphatic amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine; aromatic amines such as dialkylaminobenzoic acid esters and Michler's ketone.

【0022】上記光重合開始剤の添加量は、少なくなる
と重合速度が遅くなり硬化に時間がかかったり、硬化が
不充分になり高い硬度、優れた耐擦傷性の導電層が得ら
れなくなり、多くなると、導電層の耐熱性、耐候性など
が低下し、着色や白化が起こるため、前記(メタ)アク
リレ−ト化合物100重量部に対して0.01〜20重
量部が好ましく、特に好ましくは0.1〜10重量部で
ある。
If the amount of the above-mentioned photopolymerization initiator added is small, the polymerization rate becomes slow and it takes a long time to cure, or the curing becomes insufficient and a conductive layer having high hardness and excellent scratch resistance cannot be obtained. If so, heat resistance and weather resistance of the conductive layer are deteriorated, and coloring and whitening occur. Therefore, 0.01 to 20 parts by weight is preferable with respect to 100 parts by weight of the (meth) acrylate compound, and particularly preferably 0. 1 to 10 parts by weight.

【0023】前記導電性粉末としては、例えば、SnO
2 、In2 3 、ZnO、CdSnO4 、Sb2 3
Al2 3 、TiO2 等の微粒子状金属酸化物及びこれ
らの金属酸化物が表面にコ−トされて導電性となる微粒
子状BaSO4 、マイカ、ガラス繊維、セラミックスウ
ィスカ−等が挙げられる。
The conductive powder may be, for example, SnO.
2 , In 2 O 3 , ZnO, CdSnO 4 , Sb 2 O 3 ,
Examples thereof include fine particle metal oxides such as Al 2 O 3 and TiO 2 , and fine particle BaSO 4 which is coated with metal oxide on the surface to be conductive, mica, glass fiber, ceramic whiskers and the like.

【0024】上記微粒子状金属酸化物としては、SnO
2 を主成分とする金属酸化物が好ましく、特に、アンチ
モンを0.1〜20wt%含有するSnO2 が好適に使用
される。
As the above-mentioned particulate metal oxide, SnO
A metal oxide containing 2 as a main component is preferable, and SnO 2 containing 0.1 to 20 wt% of antimony is particularly preferably used.

【0025】上記導電性粉末の平均粒径は、大きくなる
と可視光線を散乱するため、得られる導電層の透明性が
低下するため、3μm以下である。
The average particle size of the above-mentioned conductive powder is 3 μm or less, because when it becomes large, visible rays are scattered and the transparency of the obtained conductive layer decreases.

【0026】上記導電性粉末の添加量は、少ないと得ら
れる導電層の導電性が低下し、帯電防止効果が不充分と
なり、多くなると導電層の透明性が低下し、耐磨耗性や
擦傷性等の機械特性が低下するので、前記透明樹脂バイ
ンダ−100重量部に対して20〜1000重量部であ
る。
When the amount of the above-mentioned conductive powder added is small, the conductivity of the obtained conductive layer is lowered and the antistatic effect is insufficient, and when it is increased, the transparency of the conductive layer is lowered and abrasion resistance and scratches are caused. Since mechanical properties such as properties are deteriorated, it is 20 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the transparent resin binder.

【0027】本発明で用いられる導電層を形成するに
は、例えば、前記光重合性樹脂以外の透明樹脂バインダ
−と導電性粉末を有機溶剤に溶解混合し、導電層の塗工
液を調製する。
To form the conductive layer used in the present invention, for example, a transparent resin binder other than the photopolymerizable resin and the conductive powder are dissolved and mixed in an organic solvent to prepare a coating liquid for the conductive layer. .

【0028】上記有機溶剤は、上記透明樹脂バインダ−
を溶解し表面層が設けられる透明樹脂フィルムもしくは
シ−トを膨潤又は溶解しないものであればよく、例え
ば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル(エチルセロソルブ)、酢酸ブチル、イソプ
ロピルアルコール、アセトン、アニソール等が挙げられ
る。
The organic solvent is the transparent resin binder.
As long as it does not swell or dissolve the transparent resin film or sheet having the surface layer provided therein, such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether. (Ethyl cellosolve), butyl acetate, isopropyl alcohol, acetone, anisole and the like can be mentioned.

【0029】上記導電層の組成は上述の通りであるが、
必要に応じて、導電性粉末の透明樹脂バインダ−への分
散を向上させるために、上記塗工液には、リン酸ナトリ
ウム、スルホン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、
クエン酸ナトリウムなどの界面活性剤、アルキルシラ
ン、アルコキシシランなどのシラン化合物、アルキルチ
タネート、アクリルチタネートなどのチタネート系カッ
プリング剤などを得られる導電層の透明性が損なわれな
い程度に加えてもよい。
The composition of the conductive layer is as described above,
If necessary, in order to improve the dispersion of the conductive powder in the transparent resin binder, the coating liquid contains sodium phosphate, sodium sulfonate, sodium oleate,
Surfactants such as sodium citrate, silane compounds such as alkylsilanes and alkoxysilanes, titanate coupling agents such as alkyl titanates and acrylic titanates, etc. may be added to such an extent that the transparency of the conductive layer is not impaired. .

【0030】このほか、上記導電層の塗工液にはレベリ
ング剤、表面改質剤、脱泡剤などの公知の各種添加剤を
加えてもよい。
In addition, various known additives such as a leveling agent, a surface modifier and a defoaming agent may be added to the coating liquid for the conductive layer.

【0031】上記導電層の塗工液を製造する方法として
は、公知の方法が用いられ、例えば、透明樹脂バインダ
−に有機溶剤を加え溶解させた後、導電性粉末、添加剤
を加えて、サンドミル、ボールミル、アトライター、高
速回転撹拌装置、三本ロールなどを使用して混合分散す
る方法が挙げられる。
As a method for producing the coating liquid for the conductive layer, a known method is used. For example, an organic solvent is added to a transparent resin binder to dissolve it, and then conductive powder and additives are added. Examples thereof include a method of mixing and dispersing using a sand mill, a ball mill, an attritor, a high speed rotary stirring device, a triple roll, or the like.

【0032】上記導電層の塗工液を用いて透明樹脂フィ
ルムもしくはシ−トの微細な凹凸を有する面に沿って導
電層を形成する方法としては、公知の方法が用いられ、
例えば、スプレー法、バーコート法、ドクターブレード
法、ロールコート法、スピンコート法およびディッピン
グ法などにより塗工し、乾燥して有機溶剤を除去する方
法などが挙げられるが、中でも微細な凹凸を有する面に
沿って均一に塗工できるディッピング法が好適に用いら
れる。
As a method for forming the conductive layer along the surface of the transparent resin film or the sheet having fine irregularities using the coating solution for the conductive layer, a known method is used.
Examples thereof include a spray method, a bar coating method, a doctor blade method, a roll coating method, a spin coating method, a dipping method, and the like, and a method of removing an organic solvent by drying. A dipping method that can be applied uniformly along the surface is preferably used.

【0033】透明樹脂バインダ−に、前記光重合性樹を
用いて導電層を形成するには、上記導電層の塗工液を製
造する方法と同様にして、公知の方法で、例えば、光重
合性樹脂に有機溶剤を加え溶解させた後、導電性粉末、
添加剤を加えて、サンドミル、ボールミル、アトライタ
ー、高速回転撹拌装置、三本ロールなどを使用して混合
分散し導電層の塗工液を製造する。
In order to form a conductive layer on the transparent resin binder by using the above-mentioned photopolymerizable resin, a publicly known method such as photopolymerization can be used in the same manner as the method for producing a coating liquid for the above conductive layer. After adding an organic solvent to the conductive resin and dissolving it, conductive powder,
Additives are mixed and dispersed using a sand mill, a ball mill, an attritor, a high-speed rotary stirring device, a three-roll mill, etc. to produce a coating liquid for the conductive layer.

【0034】次いで、得られた塗工液を用いて、公知の
方法で、例えば、スプレー法、バーコート法、ドクター
ブレード法、ロールコート法、スピンコート法、ディッ
ピング法などにより光拡散フィルムもしくはシ−トの微
細な凹凸を有する面に沿って塗工し、加熱して有機溶剤
を除去し塗膜を形成し、露光硬化し、導電層を形成す
る。
Then, using the obtained coating liquid, a light diffusion film or a screen is formed by a known method such as a spray method, a bar coating method, a doctor blade method, a roll coating method, a spin coating method or a dipping method. -Coating along the surface having fine irregularities, heating to remove the organic solvent to form a coating film, and exposure and curing to form a conductive layer.

【0035】上記塗工は、特に、微細な凹凸を有する面
に沿って均一に塗工できるディッピング法で好適に行わ
れる。
The above-mentioned coating is particularly preferably carried out by a dipping method capable of uniformly coating along the surface having fine irregularities.

【0036】上記露光のための光源としては、紫外線、
可視光線などの光重合性樹脂の重合を開始させる活性光
線を発生するものであればよく、例えば、ハロゲンラン
プ、メタルハロゲンランプ、キセノンランプ、(超)高
圧水銀ランプ、水銀キセノンランプなどが挙げられ、照
射量は50〜5000mJ/cm2 が好ましい。
As a light source for the above exposure, ultraviolet rays,
It may be any as long as it can generate active light such as visible light that initiates the polymerization of a photopolymerizable resin, and examples thereof include a halogen lamp, a metal halogen lamp, a xenon lamp, a (super) high pressure mercury lamp, and a mercury xenon lamp. The irradiation amount is preferably 50 to 5000 mJ / cm 2 .

【0037】上記導電層の厚さは、薄くなると充分な導
電性が得られないし、厚くなると光拡散フィルムもしく
はシ−トの微細な凹凸を埋め光拡散機能が低下するので
0.5〜50μmが好ましい。
When the thickness of the conductive layer is thin, sufficient conductivity cannot be obtained, and when the thickness is thick, fine irregularities of the light diffusing film or the sheet are filled, and the light diffusing function is deteriorated. preferable.

【0038】上記導電層は,導電性粉末を含んでいるた
め表面層に極く微小な凹凸が生じるが、この凹凸は光拡
散効果を高めるが、このような凹凸は必要に応じて、一
般的な研磨機によるバフ研磨処理等により平滑にして光
拡散板とすることが好ましい。
Since the conductive layer contains conductive powder, extremely fine irregularities are formed on the surface layer. These irregularities enhance the light diffusion effect, but such irregularities are generally used as needed. It is preferable that the light diffusing plate is smoothed by a buffing process using a different polishing machine.

【0039】[0039]

【実施例】次に、本発明の実施例を説明する。尚、以下
「部」とあるのは「重量部」を意味する。
EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described. In the following, "parts" means "parts by weight".

【0040】(実施例1) (1)導電層の塗工液の製造 塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体(重量比9:1)40
部をメチルセロソルブとメチルエチルケトンの混合溶剤
(重量比4:1)460部に溶解し、アトライタ−で、
平均粒径0.02μmのSbO2 含有SnO2 粉末(三
菱マテリアル製、商品名;T−1)100部を10時間
混合分散して導電層の塗工液を製造した。 (2)導電層の形成 片面にピッチ350μm、深さ220μmで断面がプリ
ズム形状の凹部を有するポリカ−ボネ−ト製透明樹脂シ
−トを上記導電層の塗工液に浸せきし、引き上げ、常温
で30分間乾燥させ、次いで50℃で10分間熱風乾燥
し、導電層を形成し、光拡散板を製造した。
(Example 1) (1) Production of coating liquid for conductive layer Vinyl chloride / vinyl acetate copolymer (weight ratio 9: 1) 40
Parts were dissolved in 460 parts of a mixed solvent of methyl cellosolve and methyl ethyl ketone (weight ratio 4: 1), and an attritor was used to
100 parts of SbO 2 -containing SnO 2 powder (trade name: T-1 manufactured by Mitsubishi Materials) having an average particle size of 0.02 μm was mixed and dispersed for 10 hours to produce a coating liquid for a conductive layer. (2) Formation of Conductive Layer A transparent resin sheet made of polycarbonate having a pitch of 350 μm and a depth of 220 μm on one surface and a prism-shaped cross section is dipped in the above-mentioned conductive layer coating solution and pulled up at room temperature. For 30 minutes, and then hot air drying at 50 ° C. for 10 minutes to form a conductive layer, thereby manufacturing a light diffusion plate.

【0041】(実施例2)実施例1と同様にして製造さ
れた光拡散板の導電層をウ−ル製ポリッシャ−で300
0RPMの条件で研磨した。
(Embodiment 2) The conductive layer of the light diffusing plate manufactured in the same manner as in Embodiment 1 is used with a polisher made of wool for 300 times.
Polished under the condition of 0 RPM.

【0042】(実施例3)ポリメチルメタクリル酸20
部をメチルセロソルブとシクロヘキサノン(重量比9:
1)の混合溶剤400部に溶解し、平均粒径0.02μ
mのアンチモン(Sb)含有SnO2 粉末(三菱マテリ
アル製、商品名;T−1)100重量部を投入し、アト
ライタ−で、10時間混合分散して導電層の塗工液を製
造した。
(Example 3) Polymethylmethacrylic acid 20
Parts are methyl cellosolve and cyclohexanone (weight ratio 9:
Dissolved in 400 parts of the mixed solvent of 1), average particle size 0.02μ
100 parts by weight of antimony (Sb) -containing SnO 2 powder (manufactured by Mitsubishi Materials, trade name; T-1) was added, and mixed and dispersed for 10 hours with an attritor to prepare a coating liquid for the conductive layer.

【0043】実施例1の導電層の塗工液をを実施例3で
得られたものに換えた以外は、実施例1と同様にして光
拡散板を製造した。 (実施例4)実施例3と同様にして製造された光拡散板
を実施例2と同様にして表面を研磨した。
A light diffusing plate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for the conductive layer in Example 1 was changed to that obtained in Example 3. (Example 4) The surface of a light diffusing plate manufactured in the same manner as in Example 3 was polished in the same manner as in Example 2.

【0044】(実施例5)メチルセロソルブ500部に
ペンタエリスリトールトリアクリレート50部、ヒドロ
キノン0.2部、チオキサントン2部、p−ジメチルア
ミノ安息香酸エチル2部、アクリル酸15部を溶解し、
アトライターに仕込み、 これを撹拌しながら、平均粒
径0.02μmのアンチモン(Sb)含有SnO2 粉末
(三菱マテリアル製、商品名;T−1)100部を投入
し、10時間混合分散して導電層の塗工液を製造した。
Example 5 In 500 parts of methyl cellosolve were dissolved 50 parts of pentaerythritol triacrylate, 0.2 part of hydroquinone, 2 parts of thioxanthone, 2 parts of ethyl p-dimethylaminobenzoate and 15 parts of acrylic acid,
Charge into an attritor and, while stirring, add 100 parts of antimony (Sb) -containing SnO 2 powder (manufactured by Mitsubishi Materials, trade name; T-1) having an average particle diameter of 0.02 μm, and mix and disperse for 10 hours. A coating liquid for the conductive layer was produced.

【0045】実施例1と同様の片面にピッチ350μ
m、深さ220μmで断面がプリズム形状の凹部を有す
るポリカ−ボネ−ト製光拡散シ−トを上記導電層の塗工
液に浸せきし、引き上げ、常温で30分間乾燥し、更に
50℃で10分間熱風乾燥し、次いで、これを高圧水銀
灯により照射量が1800mJ/cm2 になるように紫
外線を照射し、硬化し、光拡散板を製造した。
As in the first embodiment, the pitch is 350 μ on one side.
m, a depth of 220 .mu.m, a polycarbonate light diffusion sheet having a prism-shaped recess in the cross section, was dipped in the above coating solution for the conductive layer, pulled up, dried at room temperature for 30 minutes, and further at 50.degree. It was dried with hot air for 10 minutes, and then was irradiated with ultraviolet rays by a high-pressure mercury lamp so that the irradiation amount was 1800 mJ / cm 2 , and cured to manufacture a light diffusion plate.

【0046】(実施例6)実施例5と同様にして得られ
た光拡散板をウール製ポリッシャーを用いて3000R
PMの条件で表面を研磨した。
(Example 6) A light diffusing plate obtained in the same manner as in Example 5 was subjected to 3000R using a wool polisher.
The surface was polished under PM conditions.

【0047】(実施例7)メチルセロソルブ500部、
シクロヘキサノン50部にペンタエリスリトールトリア
クリレート45部、ヒドロキノン0.2部、チオキサン
トン2部、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル2部、ビ
ス(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドホスフ
ェート5部を溶解させ、アトライターに仕込んだ。これ
を撹拌しながら、平均粒径0.02μmのSb含有Sn
2 粉末(三菱マテリアル製、商品名;T−1)100
部、ビニルアルコ−ル成分35モル%、平均重合度24
00のアセトアセタール樹脂11部を加えて10時間分
散を行うことにより導電性塗料を製造した。
Example 7 500 parts of methyl cellosolve,
45 parts of pentaerythritol triacrylate, 0.2 part of hydroquinone, 2 parts of thioxanthone, 2 parts of ethyl p-dimethylaminobenzoate, 5 parts of bis (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate were dissolved in 50 parts of cyclohexanone, and dissolved in an attritor. I prepared it. While stirring this, Sb-containing Sn having an average particle size of 0.02 μm
O 2 powder (manufactured by Mitsubishi Materials, trade name; T-1) 100
Parts, vinyl alcohol component 35 mol%, average degree of polymerization 24
A conductive paint was produced by adding 11 parts of acetoacetal resin No. 00 and dispersing for 10 hours.

【0048】実施例1と同様の片面にピッチ350μ
m、深さ220μmで断面がプリズム形状の凹部を有す
るポリカ−ボネ−ト製光拡散シ−トを上記導電層の塗工
液に浸せきし、引き上げ、常温で30分間乾燥し、更に
50℃で10分間熱風乾燥し、次いで、これを高圧水銀
灯により照射量が1800mJ/cm2 になるように紫
外線を照射し、硬化し、光拡散板を製造した。
A pitch of 350 μ is provided on one surface as in the first embodiment.
m, a depth of 220 .mu.m, a polycarbonate light diffusion sheet having a prism-shaped recess in the cross section, was dipped in the above coating solution for the conductive layer, pulled up, dried at room temperature for 30 minutes, and further at 50.degree. It was dried with hot air for 10 minutes, and then was irradiated with ultraviolet rays by a high-pressure mercury lamp so that the irradiation amount was 1800 mJ / cm 2 , and cured to manufacture a light diffusion plate.

【0049】(実施例8)実施例7と同様にして得られ
た光拡散板をウール製ポリッシャーを用いて3000R
PMの条件で表面を研磨した。
(Embodiment 8) A light diffusing plate obtained in the same manner as in Embodiment 7 is subjected to 3000R using a wool polisher.
The surface was polished under PM conditions.

【0050】(実施例9)実施例5のペンタエリスリト
ールトリアクリレート50部をジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート30部に変更した以外は実施例5と
同様にして導電層の塗工液を製造した。
Example 9 A conductive layer coating solution was prepared in the same manner as in Example 5, except that 50 parts of pentaerythritol triacrylate of Example 5 was changed to 30 parts of dipentaerythritol hexaacrylate.

【0051】実施例1と同様の片面にピッチ350μ
m、深さ220μmで断面がプリズム形状の凹部を有す
るポリカ−ボネ−ト製光拡散シ−トを上記導電層の塗工
液に浸せきし、引き上げ、常温で30分間乾燥し、更に
50℃で10分間熱風乾燥し、次いで、これを高圧水銀
灯により照射量が1800mJ/cm2 になるように紫
外線を照射し、硬化し、光拡散板を製造した。
A pitch of 350 μ is provided on one surface as in the first embodiment.
m, a depth of 220 .mu.m, a polycarbonate light diffusion sheet having a prism-shaped recess in the cross section, was dipped in the above coating solution for the conductive layer, pulled up, dried at room temperature for 30 minutes, and further at 50.degree. It was dried with hot air for 10 minutes, and then was irradiated with ultraviolet rays by a high-pressure mercury lamp so that the irradiation amount was 1800 mJ / cm 2 , and cured to manufacture a light diffusion plate.

【0052】(実施例10)実施例9と同様にして得ら
れた光拡散板をウール製ポリッシャーを用いて3000
RPMの条件で表面を研磨した。
(Embodiment 10) The light diffusing plate obtained in the same manner as in Embodiment 9 is 3,000 using a wool polisher.
The surface was polished under the RPM condition.

【0053】(比較例1)実施例1と同様の片面にピッ
チ350μm、深さ220μmで断面がプリズム形状の
凹部を有するポリカ−ボネ−ト製光拡散シ−トに導電層
が設けられていないものを使用した。
(Comparative Example 1) A conductive layer is not provided on a polycarbonate light diffusion sheet having a concave portion having a pitch of 350 μm, a depth of 220 μm and a prism-shaped cross section on one surface as in the case of Example 1. I used one.

【0054】実施例1〜10で得られた光拡散板及び比
較例1の透明樹脂シ−トについて、表面硬度及び正面輝
度、表面固有抵抗の測定および耐埃性を評価し、その結
果を表1に示した。
With respect to the light diffusing plates obtained in Examples 1 to 10 and the transparent resin sheet of Comparative Example 1, the surface hardness and the front luminance, the measurement of surface specific resistance and the dust resistance were evaluated, and the results are shown in the table. Shown in 1.

【0055】[0055]

【表1】 [Table 1]

【0056】試験方法は下記に示す通りである。 (1)表面硬度の測定 表面硬度はJIS K−5400鉛筆硬度試験方法によ
って行った。
The test method is as follows. (1) Measurement of surface hardness The surface hardness was measured by the JIS K-5400 pencil hardness test method.

【0057】(2)正面輝度の測定 端部に冷陰極管が1灯設置された液晶表示板用バックラ
イトモジュールの導光板上に、光拡散板を溝状の凹部の
方向が冷陰極管と平行になるように載せ、輝度計(ミノ
ルタ製、商品名;LS−100)を距離30cmに設置
し、正面輝度を測定した。
(2) Measurement of front luminance On the light guide plate of the backlight module for a liquid crystal display panel in which one cold cathode tube is installed at the end, a light diffusing plate is used as a cold cathode tube in the direction of the groove-shaped recess. They were placed parallel to each other, a luminance meter (trade name; LS-100, manufactured by Minolta) was installed at a distance of 30 cm, and the front luminance was measured.

【0058】(3)表面固有抵抗の測定 ASTM−D257に準拠して測定した。(3) Measurement of surface resistivity It was measured according to ASTM-D257.

【0059】(4)耐ほこり性 光拡散板の導電層を布で擦り、細かい紙片が付着するも
のを×、付着しないものを○とした。
(4) Dust resistance The conductive layer of the light diffusing plate was rubbed with a cloth, and a piece to which a fine piece of paper adhered was marked with X, and a piece without sticking to paper was marked with ◯.

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明の光拡散板は、透明性の高いポリ
メチルメタクリルレ−ト、ポリカーボネート、ポリ塩化
ビニルのフィルムもしくはシートの少なくとも片面に多
数の微細な凹凸を備えたもので、該凹凸を有する面に沿
って、0.5〜50μmの導電層が設けられているた
め、埃、汚れが付着し難くい。
The light diffusing plate of the present invention is a film or sheet of highly transparent polymethylmethacrylate, polycarbonate, or polyvinyl chloride having a large number of fine irregularities on at least one side. Since a conductive layer having a thickness of 0.5 to 50 μm is provided along the surface having, it is difficult for dust and dirt to adhere.

【0061】また、(メタ)アクリレ−ト化合物、光重
合開始剤および平均粒径3μm以下の導電性粉末からな
る導電層を設けられているため、表面硬度が高く、且つ
導電性を有するため、耐擦傷性に優れ、ほこりが付着し
難い。
Since a conductive layer composed of a (meth) acrylate compound, a photopolymerization initiator, and a conductive powder having an average particle size of 3 μm or less is provided, the surface hardness is high and the conductivity is high. Has excellent scratch resistance and does not easily adhere to dust.

【0062】従って本発明の光拡散板はディスプレイ、
照明カバーなどに好適に用いられる特に、液晶ディスプ
レイ、透過型スクリ−ン、照明装置のカバ−などに用い
られることができる。
Therefore, the light diffusing plate of the present invention is a display,
In particular, it can be preferably used for a lighting cover and the like, and can be used for a liquid crystal display, a transmission screen, a cover of a lighting device, and the like.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明樹脂フィルムもしくはシ−トの少なく
とも片面が多数の微細凹凸を有する面とされた光拡散フ
ィルムもしくはシ−トの凹凸を有する面上に、透明樹脂
バインダ−100重量部および平均粒径3μm以下の金
属酸化物を主成分とする導電性粉末20〜1000重量
部よりなる導電層を設けたことを特徴とする光拡散板。
1. A transparent resin binder or 100 parts by weight of a transparent resin film or sheet and an average of at least one surface of the transparent resin film or sheet are provided on the uneven surface of the sheet. A light diffusing plate provided with a conductive layer comprising 20 to 1000 parts by weight of conductive powder containing a metal oxide having a particle diameter of 3 μm or less as a main component.
【請求項2】請求項1記載の透明樹脂バインダ−が光重
合性樹脂からなることを特徴とする光拡散板。
2. A light diffusing plate, wherein the transparent resin binder according to claim 1 is made of a photopolymerizable resin.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10239521A (en) * 1997-02-25 1998-09-11 Nec Corp Conductive polarizing plate
JPH1114807A (en) * 1997-06-25 1999-01-22 Dainippon Printing Co Ltd Lens film, surface light source and liquid crystal display device
JP2003107213A (en) * 2001-09-27 2003-04-09 Keiwa Inc Light diffusing sheet and back light unit using the same

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