JPH07155640A - ガス処理装置 - Google Patents
ガス処理装置Info
- Publication number
- JPH07155640A JPH07155640A JP30136193A JP30136193A JPH07155640A JP H07155640 A JPH07155640 A JP H07155640A JP 30136193 A JP30136193 A JP 30136193A JP 30136193 A JP30136193 A JP 30136193A JP H07155640 A JPH07155640 A JP H07155640A
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- JP
- Japan
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- gas
- discharge
- streamer
- discharge electrodes
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- Plasma Technology (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 コストアップを抑制しながら、ダスト状化合
物をストリーマーに効率良く接触させて処理性能を優れ
たものにする。 【構成】 ガス処理流路1内に放電を発生させるための
2種の放電極2,3を設け、それら2種の放電極2,3
間に、コールドプラズマ状態を現出するストリーマーを
発生するように放電開始電圧以上の直流電圧を印加する
電源装置4を設け、前記ガス処理流路1内に、流れる処
理対象ガスGを濾過する濾材5を設け、その濾材5の表
面を照射する状態にストリーマーを発生するように前記
2種の放電極2,3を配置する。
物をストリーマーに効率良く接触させて処理性能を優れ
たものにする。 【構成】 ガス処理流路1内に放電を発生させるための
2種の放電極2,3を設け、それら2種の放電極2,3
間に、コールドプラズマ状態を現出するストリーマーを
発生するように放電開始電圧以上の直流電圧を印加する
電源装置4を設け、前記ガス処理流路1内に、流れる処
理対象ガスGを濾過する濾材5を設け、その濾材5の表
面を照射する状態にストリーマーを発生するように前記
2種の放電極2,3を配置する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガス中のガス状やダス
ト状の有害物質や悪臭物質などの化合物を処理するため
の装置で、詳しくは、ガス処理流路内に放電を発生させ
るための2種の放電極を設け、それら2種の放電極間
に、コールドプラズマ状態を現出するストリーマーを発
生するように放電開始電圧以上の直流電圧を印加する電
源装置を設けて、もって、処理対象ガス中の有害物質や
悪臭物質などの化合物をストリーマーに接触させてコー
ルドプラズマ状態とすることにより、処理対象ガスを活
性化させて処理対象ガス中の化合物を分解・合成処理す
るように構成してあるガス処理装置に関する。
ト状の有害物質や悪臭物質などの化合物を処理するため
の装置で、詳しくは、ガス処理流路内に放電を発生させ
るための2種の放電極を設け、それら2種の放電極間
に、コールドプラズマ状態を現出するストリーマーを発
生するように放電開始電圧以上の直流電圧を印加する電
源装置を設けて、もって、処理対象ガス中の有害物質や
悪臭物質などの化合物をストリーマーに接触させてコー
ルドプラズマ状態とすることにより、処理対象ガスを活
性化させて処理対象ガス中の化合物を分解・合成処理す
るように構成してあるガス処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】上記ガス処理装置では、電源装置の使用
電源として50又は60HZ の周波数の通常の商業電源
を用いた場合、コールドプラズマ状態の保持時間が周波
数が100〜120HZ 時に数百nsと非常に短時間で
あり、処理性能を優れたものにするには、処理対象ガス
中の化合物をストリーマーに有効に接触させことが重要
である。そして、化合物のうちダスト状化合物はガス状
化合物よりも濃度が高いため、自ずと、ダスト状化合物
のストリーマーに接触させての処理には、ガス状化合物
の処理に比較して長時間を必要とする。従来では、スト
リーマーに化合物に有効に接触させる手段として、放電
極間での処理対象ガスの流速を遅くすることにより、ダ
スト状化合物の処理に要する時間を確保してダスト状化
合物がストリーマーに接触する機会を多くする手段や、
ガス処理流路、つまり、放電領域を長くすることによ
り、ダスト状化合物の処理に要する時間を確保してダス
ト状化合物がストリーマーに接触する機会を多くする手
段が採用されている。
電源として50又は60HZ の周波数の通常の商業電源
を用いた場合、コールドプラズマ状態の保持時間が周波
数が100〜120HZ 時に数百nsと非常に短時間で
あり、処理性能を優れたものにするには、処理対象ガス
中の化合物をストリーマーに有効に接触させことが重要
である。そして、化合物のうちダスト状化合物はガス状
化合物よりも濃度が高いため、自ずと、ダスト状化合物
のストリーマーに接触させての処理には、ガス状化合物
の処理に比較して長時間を必要とする。従来では、スト
リーマーに化合物に有効に接触させる手段として、放電
極間での処理対象ガスの流速を遅くすることにより、ダ
スト状化合物の処理に要する時間を確保してダスト状化
合物がストリーマーに接触する機会を多くする手段や、
ガス処理流路、つまり、放電領域を長くすることによ
り、ダスト状化合物の処理に要する時間を確保してダス
ト状化合物がストリーマーに接触する機会を多くする手
段が採用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術によるときは、次のような欠点があった。すな
わち、前者の技術によるときは、処理対象ガスの流速を
遅くした分だけ単位時間当たりの処理量が少なくなるか
ら、所定の処理能力を得るためには装置全体を大きくす
る必要があり、コストアップを招来する。また、後者の
技術によるときは、放電極及び電源装置からなる高価な
放電設備が大型化するから、やはり、コストアップを招
来する。
来の技術によるときは、次のような欠点があった。すな
わち、前者の技術によるときは、処理対象ガスの流速を
遅くした分だけ単位時間当たりの処理量が少なくなるか
ら、所定の処理能力を得るためには装置全体を大きくす
る必要があり、コストアップを招来する。また、後者の
技術によるときは、放電極及び電源装置からなる高価な
放電設備が大型化するから、やはり、コストアップを招
来する。
【0004】本発明の目的は、コストアップを抑制しな
がら、ダスト状化合物をストリーマーに効率良く接触さ
せて処理性能を優れたものにできるガス処理装置を提供
する点にある。
がら、ダスト状化合物をストリーマーに効率良く接触さ
せて処理性能を優れたものにできるガス処理装置を提供
する点にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の第1発明による
ガス処理装置の特徴は、前記ガス処理流路内に、流れる
処理対象ガスを濾過する濾材を設け、その濾材の表面を
照射する状態にストリーマーを発生するように前記2種
の放電極を配置してある点にある。
ガス処理装置の特徴は、前記ガス処理流路内に、流れる
処理対象ガスを濾過する濾材を設け、その濾材の表面を
照射する状態にストリーマーを発生するように前記2種
の放電極を配置してある点にある。
【0006】本発明の第2発明によるガス処理装置の特
徴は、第1発明において、濾材の保持具を2種の放電極
の一方に構成してある点にある。
徴は、第1発明において、濾材の保持具を2種の放電極
の一方に構成してある点にある。
【0007】本発明の第3発明によるガス処理装置の特
徴は、第1発明において、濾材として電導性のものを設
け、その濾材を2種の放電極の一方に構成してある点に
ある。
徴は、第1発明において、濾材として電導性のものを設
け、その濾材を2種の放電極の一方に構成してある点に
ある。
【0008】
【作用】第1発明によれば、処理対象ガス中のダスト状
化合物は、濾材により捕捉されて、流動せずに濾材上に
固定された状態でストリーマーと接触することになるか
ら、ダスト状化合物に対する処理時間を十分に確保でき
る。従って、処理時間が短くて済むガス状化合物を処理
できる程度に処理対象ガスの流速や放電領域の長さを設
定しておくおこにより、処理対象ガスの流速を遅くした
り、放電領域の長さを長くしたりすることなく、ガス状
化合物及びダスト状化合物のいずれをも、効率良くスト
リーマーに接触させることができる。しかも、濾材でダ
スト状化合物を捕捉することにより、処理対象ガス中か
らダスト状化合物を除去できるから、ダスト状化合物を
処理対象ガスから分離する場合には、そのための特別な
フィルターが不要である。換言すると、放電によるガス
処理と処理対象ガス中からのダスト除去とを行うガス処
理を行う場合には、ガス処理とダスト除去との間で構成
部材の兼用化を図れる。第2発明によれば、濾材の保持
具を一方の放電極とするから、部材の兼用化んいよる構
成部材点数の削減を図ることができる。第3発明による
ときも、濾材を一方の放電極とするから、第2発明と同
様に、部材の兼用化による構成部材点数の削減を図るこ
とができる。
化合物は、濾材により捕捉されて、流動せずに濾材上に
固定された状態でストリーマーと接触することになるか
ら、ダスト状化合物に対する処理時間を十分に確保でき
る。従って、処理時間が短くて済むガス状化合物を処理
できる程度に処理対象ガスの流速や放電領域の長さを設
定しておくおこにより、処理対象ガスの流速を遅くした
り、放電領域の長さを長くしたりすることなく、ガス状
化合物及びダスト状化合物のいずれをも、効率良くスト
リーマーに接触させることができる。しかも、濾材でダ
スト状化合物を捕捉することにより、処理対象ガス中か
らダスト状化合物を除去できるから、ダスト状化合物を
処理対象ガスから分離する場合には、そのための特別な
フィルターが不要である。換言すると、放電によるガス
処理と処理対象ガス中からのダスト除去とを行うガス処
理を行う場合には、ガス処理とダスト除去との間で構成
部材の兼用化を図れる。第2発明によれば、濾材の保持
具を一方の放電極とするから、部材の兼用化んいよる構
成部材点数の削減を図ることができる。第3発明による
ときも、濾材を一方の放電極とするから、第2発明と同
様に、部材の兼用化による構成部材点数の削減を図るこ
とができる。
【0009】
【発明の効果】従って、本発明によれば、装置全体の大
型化や放電設備の大型化によるコストアップを招来する
ことなく、しかも、処理能力の低下を招来することな
く、処理対象ガス中のガス状化合物はもちろん処理に時
間を要するダスト状化合物も確実にストリーマーに接触
させて処理できる高性能なガス処理装置を提供できるよ
うになった。特に請求項2や3記載のようにすれば、構
造の簡素化によるコストダウンを図ることができる。
型化や放電設備の大型化によるコストアップを招来する
ことなく、しかも、処理能力の低下を招来することな
く、処理対象ガス中のガス状化合物はもちろん処理に時
間を要するダスト状化合物も確実にストリーマーに接触
させて処理できる高性能なガス処理装置を提供できるよ
うになった。特に請求項2や3記載のようにすれば、構
造の簡素化によるコストダウンを図ることができる。
【0010】
〔実施例1〕ガス処理装置は、図1〜び図3に示すよう
に、処理対象ガスGを流動させるガス処理流路1内に放
電を発生させるための2種の放電極2,3と、それら放
電極2,3間に、コールドプラズマ状態を現出するスト
リーマーを発生するように放電開始電圧以上の直流電圧
を印加する電源装置4とを有する放電設備を設けて構成
されている。
に、処理対象ガスGを流動させるガス処理流路1内に放
電を発生させるための2種の放電極2,3と、それら放
電極2,3間に、コールドプラズマ状態を現出するスト
リーマーを発生するように放電開始電圧以上の直流電圧
を印加する電源装置4とを有する放電設備を設けて構成
されている。
【0011】前記ガス処理流路1内には、流れる処理対
象ガスGを濾過してその処理対象ガスG中のダスト状化
合物を除去する濾材としてのバグフィルターの濾布5が
処理対象ガスGを外側から内側に通過させる状態に設置
されており、濾布5には、処理対象ガスGの通過に伴う
内側への変形を抑制して形状を維持するための保持具6
が内装されている。保持具6は、袋の軸芯に沿った姿勢
の周方向複数の縦枠6Aとそれら縦枠6Aを連結するリ
ング状枠6Bとから構成されている。
象ガスGを濾過してその処理対象ガスG中のダスト状化
合物を除去する濾材としてのバグフィルターの濾布5が
処理対象ガスGを外側から内側に通過させる状態に設置
されており、濾布5には、処理対象ガスGの通過に伴う
内側への変形を抑制して形状を維持するための保持具6
が内装されている。保持具6は、袋の軸芯に沿った姿勢
の周方向複数の縦枠6Aとそれら縦枠6Aを連結するリ
ング状枠6Bとから構成されている。
【0012】前記電源装置4は、一次側交流電圧ACを
所定電圧に高める昇圧トランス7と、その高圧交流電圧
を直流化する整流器8と、直流化された電圧を充電する
コンデンサー9と、充電電圧を所定のパルス電圧に調整
する固定ギャップ火花スイッチ10とからなり、アーク
放電を発生させることのない短い維持時間のストリーマ
ーを2種の放電極2,3間に間欠的に発生させるよう
に、図4に示すような波形で、立ち上がりが100ns
以下、パルス幅(半値幅)が数百ns、パルス間隔が
8.3〜10msの短パルス電圧を印加するものであ
る。この電源装置4により短パルス電圧が2種の放電極
2,3間に印加される毎、ストリーマーが発生するする
ことでコロナ放電が生じて前記ストリーマー形成域Aは
コールドプラズマ状態となり、その結果、コールドプラ
ズマ状態のストリーマー形成域Aに位置する処理対象ガ
スGは活性化する。
所定電圧に高める昇圧トランス7と、その高圧交流電圧
を直流化する整流器8と、直流化された電圧を充電する
コンデンサー9と、充電電圧を所定のパルス電圧に調整
する固定ギャップ火花スイッチ10とからなり、アーク
放電を発生させることのない短い維持時間のストリーマ
ーを2種の放電極2,3間に間欠的に発生させるよう
に、図4に示すような波形で、立ち上がりが100ns
以下、パルス幅(半値幅)が数百ns、パルス間隔が
8.3〜10msの短パルス電圧を印加するものであ
る。この電源装置4により短パルス電圧が2種の放電極
2,3間に印加される毎、ストリーマーが発生するする
ことでコロナ放電が生じて前記ストリーマー形成域Aは
コールドプラズマ状態となり、その結果、コールドプラ
ズマ状態のストリーマー形成域Aに位置する処理対象ガ
スGは活性化する。
【0013】そして、前記2種の放電極2,3は、前記
濾布5の表面を照射する状態にストリーマーを発生する
ように配置されている。詳述すると、前記保持具6を電
導性材料(ステンレススチールなど)から構成し、その
保持具6から一方の放電極2を構成し、他方の放電極3
を濾布5の外側に配置してある。他方の放電極3は、軸
芯に沿った姿勢の周方向複数の縦材3aとそれらを連結
するリング状材3bとから構成され、縦材3aが一方の
放電極2の縦枠6Aに内外方向で対向する状態に配置さ
れている。従って、この構成によれば、濾布5の外周面
と他方の放電極3との間の環状空間がストリーマー形成
域Aとなる。
濾布5の表面を照射する状態にストリーマーを発生する
ように配置されている。詳述すると、前記保持具6を電
導性材料(ステンレススチールなど)から構成し、その
保持具6から一方の放電極2を構成し、他方の放電極3
を濾布5の外側に配置してある。他方の放電極3は、軸
芯に沿った姿勢の周方向複数の縦材3aとそれらを連結
するリング状材3bとから構成され、縦材3aが一方の
放電極2の縦枠6Aに内外方向で対向する状態に配置さ
れている。従って、この構成によれば、濾布5の外周面
と他方の放電極3との間の環状空間がストリーマー形成
域Aとなる。
【0014】かつ、前記電源装置4は、放電によりマイ
ナス極性に帯電した処理対象ガスG中のダストを濾布5
側に電気的に吸引するように、濾布5内の放電極2をプ
ラス極性の集塵極にするようにパルス電圧を印加する状
態に放電極2,3に接続している。
ナス極性に帯電した処理対象ガスG中のダストを濾布5
側に電気的に吸引するように、濾布5内の放電極2をプ
ラス極性の集塵極にするようにパルス電圧を印加する状
態に放電極2,3に接続している。
【0015】従って、このガス処理装置によれば、処理
対象ガスG中のガス状化合物はストリーマー形成域Aを
通過するときにストリーマーに接触し、ダスト状化合物
は濾布5に捕捉されその濾布5に捕捉された状態でスト
リーマーに接触することになる。
対象ガスG中のガス状化合物はストリーマー形成域Aを
通過するときにストリーマーに接触し、ダスト状化合物
は濾布5に捕捉されその濾布5に捕捉された状態でスト
リーマーに接触することになる。
【0016】〔実施例2〕ガス処理装置は、図5〜図7
に示すように、実施例1と同様に、放電極2,3と電源
装置4と濾布5とを有する。電源装置4は実施例1と同
様であるから説明は省略する。
に示すように、実施例1と同様に、放電極2,3と電源
装置4と濾布5とを有する。電源装置4は実施例1と同
様であるから説明は省略する。
【0017】濾布5は、ガス処理流路1内に、内側から
外側に処理対象ガスGを通過させる状態に配置されてい
る。この濾布5の保持具6は、内側から外側への処理対
象ガスGの通過に伴う濾布5の外側への膨らみ変形を阻
止するように濾布5の外側に設置されている。そして、
濾布5は、全体に繊維状の電導体を分散させた電導性の
ものであり、一方の放電極2はこの濾布5から構成さ
れ、他方の放電極3は濾布5内に軸芯上に位置する状態
に配置されている。電導体としては、銅、ステンレスス
チールなどの金属繊維を挙げることができ、その電導体
を分散させる手段としては、濾布5に電導性繊維を織り
込む手段などを挙げることができる。
外側に処理対象ガスGを通過させる状態に配置されてい
る。この濾布5の保持具6は、内側から外側への処理対
象ガスGの通過に伴う濾布5の外側への膨らみ変形を阻
止するように濾布5の外側に設置されている。そして、
濾布5は、全体に繊維状の電導体を分散させた電導性の
ものであり、一方の放電極2はこの濾布5から構成さ
れ、他方の放電極3は濾布5内に軸芯上に位置する状態
に配置されている。電導体としては、銅、ステンレスス
チールなどの金属繊維を挙げることができ、その電導体
を分散させる手段としては、濾布5に電導性繊維を織り
込む手段などを挙げることができる。
【0018】この実施例2によるときは、放電極2,3
間へのパルス電圧の印加により、放電極2,3間、つま
り、濾布5内にストリーマー形成域Aが形成され、処理
対象ガスG中のガス状化合物はそのストリーマー形成域
Aを通過するときにストリーマーに接触し、ダスト状化
合物は、濾布5に捕捉されその状態でストリーマーに接
触することになる。
間へのパルス電圧の印加により、放電極2,3間、つま
り、濾布5内にストリーマー形成域Aが形成され、処理
対象ガスG中のガス状化合物はそのストリーマー形成域
Aを通過するときにストリーマーに接触し、ダスト状化
合物は、濾布5に捕捉されその状態でストリーマーに接
触することになる。
【0019】〔別実施例〕上記実施例では、一方の放電
極2を保持具6や濾布5から兼用構成したが、図8のに
示すように、兼用せずに別途設けて実施しても良い。要
するに、放電極2,3は、濾材5の表面を照射する状態
にストリーマーを発生するように設けられていれば良
い。
極2を保持具6や濾布5から兼用構成したが、図8のに
示すように、兼用せずに別途設けて実施しても良い。要
するに、放電極2,3は、濾材5の表面を照射する状態
にストリーマーを発生するように設けられていれば良
い。
【0020】上記実施例では、濾材5としてバグフィル
ターの濾布を示したが、濾材5の材質形状は適宜変更可
能である。
ターの濾布を示したが、濾材5の材質形状は適宜変更可
能である。
【0021】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1を示す概略構成図
【図2】実施例1を示す要部の切り欠き正面図
【図3】実施例1を示す要部の横断面図
【図4】実施例1を示す印加電圧の波形図
【図5】実施例2を示す概略構成図
【図6】実施例2を示す要部の切り欠き正面図
【図7】実施例2を示す要部の横断面図
【図8】別実施例を示す要部の概略縦断面図
1 ガス処理流路 2 放電極 3 放電極 4 電源装置 5 濾材 6 保持具
Claims (3)
- 【請求項1】 ガス処理流路(1)内に放電を発生させ
るための2種の放電極(2),(3)を設け、それら2
種の放電極(2),(3)間に、コールドプラズマ状態
を現出するストリーマーを発生するように放電開始電圧
以上の直流電圧を印加する電源装置(4)を設けてある
ガス処理装置において、前記ガス処理流路(1)内に、
流れる処理対象ガス(G)を濾過する濾材(5)を設
け、その濾材(5)の表面を照射する状態にストリーマ
ーを発生するように前記2種の放電極(2),(3)を
配置してあるガス処理装置。 - 【請求項2】 濾材(5)の保持具(6)を2種の放電
極(2),(3)の一方に構成してある請求項1記載の
ガス処理装置。 - 【請求項3】 濾材(5)として電導性のものを設け、
その濾材(5)を2種の放電極(2),(3)の一方に
構成してある請求項1記載のガス処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30136193A JP3459672B2 (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30136193A JP3459672B2 (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | ガス処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07155640A true JPH07155640A (ja) | 1995-06-20 |
JP3459672B2 JP3459672B2 (ja) | 2003-10-20 |
Family
ID=17895949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30136193A Expired - Fee Related JP3459672B2 (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | ガス処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3459672B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004527077A (ja) * | 2001-03-27 | 2004-09-02 | アピト コープ.エス.アー. | プラズマ表面処理方法およびその方法を実現する装置 |
KR100594696B1 (ko) * | 2004-09-03 | 2006-06-30 | 주식회사 위닉스 | 플라즈마 발생장치 |
-
1993
- 1993-12-01 JP JP30136193A patent/JP3459672B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004527077A (ja) * | 2001-03-27 | 2004-09-02 | アピト コープ.エス.アー. | プラズマ表面処理方法およびその方法を実現する装置 |
KR100594696B1 (ko) * | 2004-09-03 | 2006-06-30 | 주식회사 위닉스 | 플라즈마 발생장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3459672B2 (ja) | 2003-10-20 |
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