JPH0715365B2 - Pattern position detection method - Google Patents

Pattern position detection method

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JPH0715365B2
JPH0715365B2 JP61058235A JP5823586A JPH0715365B2 JP H0715365 B2 JPH0715365 B2 JP H0715365B2 JP 61058235 A JP61058235 A JP 61058235A JP 5823586 A JP5823586 A JP 5823586A JP H0715365 B2 JPH0715365 B2 JP H0715365B2
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Japan
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pattern
series data
data
frame memory
mask pattern
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比呂志 池田
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント板のパターンカッター又はワイヤボ
ンダー等のようにパターンに合せてプリント板を位置決
めし各種処理を行う自動機におけるパターン位置検出方
法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of use] The present invention relates to a pattern position detecting method in an automatic machine such as a pattern cutter or a wire bonder for a printed board, which positions the printed board according to the pattern and performs various processes. Regarding

〔従来の技術〕[Conventional technology]

プリント板の高密度化に伴ない、パターン及びパターン
間隔が微細化し、ワイヤボンディング、パターンカッテ
ィング等のプリント板組立作業および検査作業を行う自
動機においてパターンの正確な位置検出が必要となって
きた。
As the density of printed boards has increased, patterns and pattern intervals have become finer, and it has become necessary to accurately detect the positions of patterns in automatic machines that perform printed board assembling work and inspection work such as wire bonding and pattern cutting.

従来のプリント板のパターン位置検出方法としては、テ
レビカメラから取り込んだ画像情報を対象パターンと背
景とに分けるために2値化し、2値画像からパターンの
特徴を抽出して位置を認識する方法が行われていた。
As a conventional method of detecting the pattern position of a printed board, there is a method of recognizing the position by binarizing the image information captured from the television camera to divide it into a target pattern and a background and extracting the features of the pattern from the binary image. It was done.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

前記従来のパターン位置検出方法においては、対象パタ
ーンを含む画像全体を2値化しなければならず、処理時
間を多く要し、また外乱により画像が変動する場合適当
なスライスレベルで2値化することが難しく、正確な位
置検出ができない場合があった。
In the conventional pattern position detecting method, the entire image including the target pattern must be binarized, which requires a long processing time, and when the image fluctuates due to disturbance, the binarization is performed at an appropriate slice level. However, there are cases where accurate position detection cannot be performed.

本発明の目的は上記従来技術の欠点に鑑みなされたもの
であって、処理速度が速く、正確で信頼性の高いパター
ン検出方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a pattern detection method which has a high processing speed, is accurate, and is highly reliable.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この目的を達成するため、本発明によれば、プリント板
上の検出すべきパターンの画像情報(画素毎の輝度値)
と予め入力した既設計値の位置ずれのない固定マスクパ
ターンとに基いてパターンのずれ量を検出するパターン
位置検出方法において、 (a)検出すべきパターンを含むある範囲内に均一な照
明光を照射し、該照射部のデータをテレビカメラによっ
て画像情報として形成するステップと、 (b)該画像情報をA/D変換して、デジタルデータとし
てフレームメモリに格納するステップと、 (c)X方向の時系列データを前記フレームメモリから
アドレスをインクリメントしながら予め設定した範囲内
を水平方向に読み取り、更に読み取ったスキャンライン
と平行となる別のスキャンラインについても同様に前記
時系列データを読み取る複数スキャンラインの読み取り
ステップと、 (d)前記時系列データを高速フーリエ変換により周波
数係数に変換するステップと、 (e)高速フーリエ変換により得られた入力画像の周波
数係数と、予め求めておいた前記固定マスクパターンの
周波数係数との乗算を行うステップと、 (f)前記乗算結果を逆高速フーリエ変換して、時系列
データに戻すことで、上記被検出パターンの画像情報を
上記固定マスクパターンに対し画素単位で移動させた場
合の輝度の重なり部分の面積の変化を位置関数として求
めるステップと、 (g)前記重なり面積が最大となるピーク位置を前記位
置関数から求めるステップと、 (h)前記ピーク位置と前記固定マスクパターンに基く
基準位置とを比較してX方向の位置ずれ量を算出するス
テップと、 を有し、前記X方向の位置検出後、前記(c)項での時
系列データの読み取りステップで、フレームメモリのア
ドレスを垂直方向に読み取ることで、Y方向についても
同様のステップを繰返し、Y方向の位置検出を行い、対
象パターンのXY面内ずれ量を求めることで、対象パター
ンの位置補正を高速・高精度に実現可能とするパターン
位置検出方法が提供される。
To achieve this object, according to the present invention, image information of the pattern to be detected on the printed board (luminance value for each pixel)
In a pattern position detecting method for detecting a pattern shift amount based on a fixed mask pattern having no positional shift of a pre-designed value input in advance, (a) uniform illumination light is provided within a certain range including a pattern to be detected. Illuminating and forming data of the illuminating unit as image information by a television camera; (b) A / D converting the image information and storing it as digital data in a frame memory; (c) X direction A plurality of scans in which the time-series data is read from the frame memory in the horizontal direction within the preset range while incrementing the address, and the time-series data is similarly read for another scan line parallel to the read scan line. A step of reading the line, and (d) converting the time series data into frequency coefficients by fast Fourier transform. A step of transforming, (e) a step of multiplying a frequency coefficient of the input image obtained by the fast Fourier transform by a frequency coefficient of the fixed mask pattern obtained in advance, and (f) an inverse of the multiplication result. A step of obtaining a change in the area of the overlapping portion of the luminance as a position function when the image information of the detected pattern is moved pixel by pixel with respect to the fixed mask pattern by performing a fast Fourier transform and returning it to time series data. And (g) obtaining a peak position where the overlapping area is maximum from the position function, and (h) comparing the peak position and a reference position based on the fixed mask pattern to obtain a positional deviation amount in the X direction. After the position in the X direction is detected, in the step of reading the time-series data in the item (c), the frame memory is added. The same steps are repeated for the Y direction by reading the vertical direction, and the position in the Y direction is detected, and the XY in-plane deviation amount of the target pattern is obtained, so that the position correction of the target pattern is fast and highly accurate. A pattern position detection method that can be realized is provided.

〔作用〕[Action]

テレビカメラ等により対象パターンの画像を演算回路に
入力しこれをA/D変換し対象パターンの位置に関するデ
ータを読み取る。この検査パターンデータを予め入力し
たマスクパターンデータに対し画素単位で移動させた場
合の重なり部分の面積の変化を求めるために、前記検査
パターンデータを高速フーリエ変換し、さらに周波数係
数の乗算を行う。乗算結果を逆高速フーリエ変換して前
記重なり部分の面積を位置関数として求める。前記面積
が最大となるピーク位置を求め、マスクパターンに基く
位置と比較して位置ずれ量を検出する。上記操作をX,Y
両方向について繰り返す。画像情報はX,Y夫々の方向に
関し、2本以上のスキャンラインについて作成する。
The image of the target pattern is input to the arithmetic circuit by a TV camera or the like, A / D converted, and the data relating to the position of the target pattern is read. In order to obtain the change in the area of the overlapping portion when the inspection pattern data is moved in pixel units with respect to the mask pattern data input in advance, the inspection pattern data is subjected to the fast Fourier transform and further multiplied by the frequency coefficient. An inverse fast Fourier transform is performed on the multiplication result to obtain the area of the overlapping portion as a position function. The peak position where the area is maximized is obtained and compared with the position based on the mask pattern to detect the amount of positional deviation. The above operation is X, Y
Repeat for both directions. The image information is created for two or more scan lines in each of the X and Y directions.

尚、基準パターンの決定の方法としては公知の技術を用
いる。例えばサンプルとなる値(基板パターンの輝度デ
ータの画素毎の値)を複数取得し、その平均を求める方
法を利用する。
A known technique is used as the method of determining the reference pattern. For example, a method is used in which a plurality of sample values (values for each pixel of the brightness data of the substrate pattern) are acquired and the average is obtained.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明を理解するために必要なパターン位置検
出装置の構成を示す図である。XYテーブル1上にプリン
ト板2が搭載される。プリント板2上には検出すべきパ
ターン3が形成されている。なお、パターン3は大きさ
を誇張して描いてある。パターン3をスリット光で照射
するために、レーザ光源4、全反射ミラー5およびシリ
ンドリカルレンズ6が設けられる。レーザ光源4からの
光(例えばHe-Neレーザ光)は全反射ミラー5で反射さ
れ、シリンドリカルレンズ6を通過することにより平面
状スリット光7となり照射部に直線状スキャンライン
(光切断線)8を形成する。このスキャンライン8の方
向(例えばX方向とする)に直角な方向(Y方向)の斜
め上方にテレビカメラ9が設けられる。テレビカメラ9
は撮影した画像を記憶するためのフレームメモリ10に連
結され、このフレームメモリ10は中央制御装置(CPU)1
3に連結される。このCPU13にはさらに、パターン3の設
計値データであるマスクパターンのデータ(固定デー
タ)を記憶したデータメモリ11および高速フーリエ変換
ボード(FFTボード)12が連結される。CPU13はプリント
板2に各種処理を施すための処理機構(例えばパターン
カッター)の駆動制御回路14に連結される。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a pattern position detecting device necessary for understanding the present invention. The printed board 2 is mounted on the XY table 1. A pattern 3 to be detected is formed on the printed board 2. The pattern 3 is drawn in an exaggerated size. A laser light source 4, a total reflection mirror 5 and a cylindrical lens 6 are provided to irradiate the pattern 3 with slit light. Light from the laser light source 4 (for example, He-Ne laser light) is reflected by the total reflection mirror 5 and passes through the cylindrical lens 6 to become a flat slit light 7 and a linear scan line (light cutting line) 8 at the irradiation portion. To form. A television camera 9 is provided diagonally above the direction (Y direction) perpendicular to the direction of the scan line 8 (for example, the X direction). TV camera 9
Is connected to a frame memory 10 for storing captured images, which is a central control unit (CPU) 1
Connected to 3. The CPU 13 is further connected to a data memory 11 that stores mask pattern data (fixed data) that is design value data of the pattern 3 and a fast Fourier transform board (FFT board) 12. The CPU 13 is connected to a drive control circuit 14 of a processing mechanism (for example, a pattern cutter) for performing various kinds of processing on the printed board 2.

次に上記パターン検出装置によるパターン検出の原理お
よび作用について説明する。
Next, the principle and operation of pattern detection by the pattern detection device will be described.

テレビカメラ9により撮影した入力画像は、第2図
(a)に示すように、パターン断面形状を表わしX方向
の位置に対応した高さ方向のデータがフレームメモリ10
に記憶される。従って、X方向位置に対応したパターン
形状のデータを時系列データとしてフレームメモリから
読み取ることができる。予めデータメモリ11に入力して
ある位置ずれのないマスクパターン(パターン3の設計
データに基くパターン)は固定データであり、第2図
(b)に実線で示すように、所定の設計位置に正確な矩
形を形成する。このようなマスクパターンに対しフレー
ムメモリ10に入力されたパターンは、第2図(b)の点
線で示すように位置ずれし、また外乱のため波形にずれ
やくずれが発生している。従って、一方のパターンの位
置を固定して、他のパターンを画素単位でX軸方向に位
置を移動させ各位置tにおける両波形の重なり面積g
(t)を求め面積変化を調べると第2図(c)のような
波形が得られる。実際には点線の検出パターンデータを
負の位置側に反転させてから画素単位で正方向に移動さ
せて重なり面積を求める。入力パターン(点線)とマス
クパターン(実線)が一致したとき、重なり面積が最大
となりその位置が位置合せすべき検出パターンの位置で
ある。従って、第2図(c)の重なり面積g(t)のピ
ーク位置tpを求めれば検出対象パターンの位置が検出さ
れることになる。
As shown in FIG. 2A, the input image taken by the television camera 9 represents the pattern cross-sectional shape, and the height direction data corresponding to the position in the X direction is the frame memory 10.
Memorized in. Therefore, the data of the pattern shape corresponding to the position in the X direction can be read from the frame memory as time series data. A mask pattern (a pattern based on the design data of pattern 3) which has been input to the data memory 11 in advance and has no displacement is fixed data, and as shown by the solid line in FIG. Form a simple rectangle. The pattern input to the frame memory 10 with respect to such a mask pattern is displaced as shown by the dotted line in FIG. 2 (b), and the waveform is displaced or distorted due to disturbance. Therefore, the position of one pattern is fixed, the position of the other pattern is moved pixel by pixel in the X-axis direction, and the overlapping area g of both waveforms at each position t
By obtaining (t) and examining the area change, a waveform as shown in FIG. 2 (c) is obtained. Actually, the detection pattern data of the dotted line is inverted to the negative position side and then moved in the positive direction in pixel units to obtain the overlapping area. When the input pattern (dotted line) and the mask pattern (solid line) match, the overlapping area becomes maximum and the position is the position of the detection pattern to be aligned. Therefore, if the peak position tp of the overlapping area g (t) in FIG. 2 (c) is obtained, the position of the detection target pattern will be detected.

X方向の入力パターンをX(t)、マスクパターンをh
(t)とするとその重なり面積の変化は、 で表わされる畳込み積分により計算できる。
Input pattern in X direction is X (t), mask pattern is h
(T), the change of the overlapping area is It can be calculated by the convolution integral represented by.

この計算は以下に示す畳込み定理により周波数領域の乗
算に置き換えて計算することができ、これによって計算
処理時間が短縮される。
This calculation can be performed by replacing with multiplication in the frequency domain by the convolution theorem shown below, which shortens the calculation processing time.

畳込み定理 g(t)=h(t)*X(t)H(f)X(f) ただし 以上の検出計算原理を用いたパターン位置検出方法のフ
ローチャートを第3図に示す。
Convolution theorem g (t) = h (t) * X (t) H (f) X (f) FIG. 3 shows a flow chart of a pattern position detecting method using the above detection calculation principle.

ステップa:テレビカメラ9によりパターンを撮影し画像
情報を装置に入力する。
Step a: A pattern is photographed by the TV camera 9 and image information is input to the apparatus.

ステップb:入力された画像をA/D変換し、フレームメモ
リ10に書き込む。
Step b: A / D convert the input image and write it to the frame memory 10.

ステップc:X方向位置に対する画像データの高さを時系
列のデータとしてフレームメモリ10により読み取る(X
(t)を求める)。
Step c: The height of the image data with respect to the position in the X direction is read by the frame memory 10 as time series data (X
(Determine (t)).

ステップd:読み取った時系列データX(t)をFFT演算
ボード12により周波数データX(t)に変換する。マス
クパターンのデータH(f)は予めデータメモリ11に記
憶させておく。
Step d: The read time series data X (t) is converted into frequency data X (t) by the FFT operation board 12. The mask pattern data H (f) is stored in the data memory 11 in advance.

ステップe:入力パターンとマスクパターンの周波数デー
タ同士が乗算しH(f)X(f)を計算する。
Step e: The frequency data of the input pattern and the frequency data of the mask pattern are multiplied to calculate H (f) X (f).

ステップf:H(f)X(f)の周波数関数を逆FFT変換し
て位置関数g(t)に戻す。
Step f: The frequency function of H (f) X (f) is subjected to the inverse FFT conversion to be returned to the position function g (t).

ステップg:求めたg(t)から最大面積となるピーク位
置tpを算出する。
Step g: Calculate the peak position tp, which is the maximum area, from the obtained g (t).

ステップh:位置ずれのない場合(マスクパターン同士の
場合)のピーク位置と前記tpとの差を求めX方向の位置
ずれ量とする。
Step h: The difference between the peak position when there is no positional deviation (in the case of mask patterns) and the above-mentioned tp is obtained and used as the positional deviation amount in the X direction.

次にY方向の画像を入力してX方向の場合と同様のステ
ップを繰返し、Y方向の位置ずれ量を求める。以上によ
り対象パターンのX,Y座標が検出される。
Next, an image in the Y direction is input and the same steps as those in the X direction are repeated to obtain the amount of positional deviation in the Y direction. As described above, the X and Y coordinates of the target pattern are detected.

上述の如き方法において、本発明の最大の特徴は第6図
(a)に示すように、フレームメモリ内の複数のスキャ
ンライン(点線)について時系列データを求め位置検出
の計算を行うことにある。これによりさらに高精度で信
頼性の高い位置検出ができる。(b)図は固定マスクパ
ターンについての時系列データの例である。目盛はビッ
ト数を表わす。このような時系列データを反転させ画素
単位で移動して元のデータと重ね合せた場合の面積の変
化を(c)図に示す。ピーク位置tpのビットは240であ
る。
In the method as described above, the greatest feature of the present invention is that time-series data is obtained for a plurality of scan lines (dotted lines) in the frame memory to perform position detection calculation, as shown in FIG. 6 (a). . As a result, the position can be detected with higher accuracy and higher reliability. FIG. 6B is an example of time series data for a fixed mask pattern. The scale represents the number of bits. The change in area when such time-series data is inverted, moved in pixel units, and superposed on the original data is shown in FIG. The bit at the peak position tp is 240.

第4図は本発明の実施例の構成を示す。この実施例にお
いては、パターン3を含むプリント板1全体が光源15に
より照明され、パターン3の上方からテレビカメラ9が
パターン3を撮影する。パターン3はプリント基板面に
比べ反射光量が多いため、明るさの差としてパターンが
識別される。従って、フレームメモリ10には、第5図
(a)に示すように、パターン形状に対応した明るいパ
ターン対応部3′が入力される。このフレームメモリの
例えば点線部をスキャンして、第5図(b)に示すよう
なX方向位置に対応した時系列データを読取ることがで
きる。これは前記第2図(a)で示すデータに対応す
る。この明るさ情報に基く時系列データを用いて、前記
実施例の場合と同様のステップによりパターン位置検出
が行われる。
FIG. 4 shows the configuration of an embodiment of the present invention. In this embodiment, the entire printed board 1 including the pattern 3 is illuminated by the light source 15, and the television camera 9 shoots the pattern 3 from above the pattern 3. Since the pattern 3 has a larger amount of reflected light than the printed circuit board surface, the pattern is identified as a difference in brightness. Therefore, the bright pattern corresponding portion 3'corresponding to the pattern shape is input to the frame memory 10 as shown in FIG. By scanning, for example, the dotted line portion of this frame memory, it is possible to read the time series data corresponding to the position in the X direction as shown in FIG. This corresponds to the data shown in FIG. 2 (a). Using time series data based on this brightness information, pattern position detection is performed by the same steps as those in the above-described embodiment.

この第4,5図に示す実施例においても、精度と信頼性を
高めるためにフレームメモリ内の複数のスキャンライン
(点線)について時系列データを求め位置検出の計算を
行うこと(第6図)は同様である。
Also in the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, time-series data is obtained for a plurality of scan lines (dotted lines) in the frame memory to improve accuracy and reliability, and position detection calculation is performed (FIG. 6). Is the same.

尚、重なり部分の面積の概念について補足説明する(第
2,5,6,7図参照)。
A supplementary explanation of the concept of the area of the overlapping portion (see
(See Figures 2, 5, 6, 7).

即ち、基準パターンをX方向に1画素ずつ移動させなが
ら重なり面積を算出することで、面積が最大となる時の
移動量が求まる(第7図ではδの移動量の時に重なり面
積が最大となる)。
That is, by calculating the overlapping area while moving the reference pattern one pixel at a time in the X direction, the moving amount when the area becomes maximum can be obtained (in FIG. 7, the overlapping area becomes maximum when the moving amount is δ). ).

従って、その移動量が基板パターンの位置ずれ量である
から、位置検出ができることになる。Y方向も同様に位
置検出ができる。但し、画像信号のスキャン方向がX軸
に直交する。
Therefore, since the amount of movement is the amount of positional deviation of the substrate pattern, the position can be detected. The position can be similarly detected in the Y direction. However, the scanning direction of the image signal is orthogonal to the X axis.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、本発明に係るパターン位置検出方
法においては、検出対象パターンとマスクパターンとの
重ね合せ面積の変化によりパターン位置を算出するた
め、検出対象入力パターンの外乱による歪み等にかかわ
らず正確な位置検出が行われる。また畳込み定理を用い
てFFT変換により重なり面積を算出するため演算処理時
間は短くてすむ。
As described above, in the pattern position detecting method according to the present invention, since the pattern position is calculated by the change in the overlapping area of the detection target pattern and the mask pattern, regardless of the distortion due to the disturbance of the detection target input pattern, etc. Accurate position detection is performed. In addition, since the overlapping area is calculated by FFT conversion using the convolution theorem, the processing time is short.

更にまた、本発明で画像情報を同一方向に関し2本以上
のスキャンラインから得ているため、位置合わせ精度が
一層向上する。
Furthermore, since the image information is obtained from two or more scan lines in the same direction in the present invention, the alignment accuracy is further improved.

また、比較されるべきパターン情報が既設計値の固定マ
スクパターン情報であるため、被比較パターン情報も入
力画像を使用する場合に比し、演算処理が簡素化、高速
化される。
Further, since the pattern information to be compared is the fixed mask pattern information of the designed value, the comparison target pattern information also simplifies and speeds up the arithmetic processing as compared with the case of using the input image.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明を理解するために必要な装置の構成説明
図、第2図は第1図の原理説明図、第3図は本発明方法
のフローチャート、第4図は本発明方法を実施するため
の装置の実施例の構成説明図、第5図は第4図の実施例
の入力データの説明図、第6図は本発明方法の特徴部分
の説明図、第7図は重なり部分の面積の概念を説明する
図である。 2……プリント板、3……パターン、6……シリンドリ
カルレンズ、7……スリット光、8……スキャンライ
ン、9……テレビカメラ、10……フレームメモリ、11…
…データメモリ、12……高速フーリエ変換ボード、13…
…CPU。
FIG. 1 is an explanatory view of the structure of an apparatus necessary for understanding the present invention, FIG. 2 is an explanatory view of the principle of FIG. 1, FIG. 3 is a flow chart of the method of the present invention, and FIG. FIG. 5 is an explanatory view of the configuration of an embodiment of an apparatus for carrying out the invention, FIG. 5 is an explanatory view of input data in the embodiment of FIG. 4, FIG. 6 is an explanatory view of a characteristic portion of the method of the present invention, and FIG. 7 is an overlapping portion. It is a figure explaining the concept of area. 2 ... Printed board, 3 ... Pattern, 6 ... Cylindrical lens, 7 ... Slit light, 8 ... Scan line, 9 ... TV camera, 10 ... Frame memory, 11 ...
… Data memory, 12… Fast Fourier transform board, 13…
…CPU.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プリント板上の検出すべきパターンの画像
情報(画素毎の輝度値)と予め入力した既設計値の位置
ずれのない固定マスクパターンとに基いてパターンのず
れ量を検出するパターン位置検出方法において、 (a)検出すべきパターンを含むある範囲内に均一な照
明光を照射し、該照射部のデータをテレビカメラによっ
て画像情報として形成するステップと、 (b)該画像情報をA/D変換して、デジタルデータとし
てフレームメモリに格納するステップと、 (c)X方向の時系列データを前記フレームメモリから
アドレスをインクリメントしながら予め設定した範囲内
を水平方向に読み取り、更に読み取ったスキャンライン
と平行となる別のスキャンラインについても同様に前記
時系列データを読み取る複数スキャンラインの読み取り
ステップと、 (d)前記時系列データを高速フーリエ変換により周波
数係数に変換するステップと、 (e)高速フーリエ変換により得られた入力画像の周波
数係数と、予め求めておいた前記固定マスクパターンの
周波数係数との乗算を行うステップと、 (f)前記乗算結果を逆高速フーリエ変換して、時系列
データに戻すことで、上記被検出パターンの画像情報を
上記固定マスクパターンに対し画素単位で移動させた場
合の輝度の重なり部分の面積の変化を位置関数として求
めるステップと、 (g)前記重なり面積が最大となるピーク位置を前記位
置関数から求めるステップと、 (h)前記ピーク位置と前記固定マスクパターンに基く
基準位置とを比較してX方向の位置ずれ量を算出するス
テップと、 を有し、前記X方向の位置検出後、前記(c)項での時
系列データの読み取りステップで、フレームメモリのア
ドレスを垂直方向に読み取ることで、Y方向についても
同様のステップを繰返し、Y方向の位置検出を行い、対
象パターンのXY面内ずれ量を求めることで、対象パター
ンの位置補正を高速・高精度に実現可能とするパターン
位置検出方法。
1. A pattern for detecting a pattern shift amount based on image information (brightness value for each pixel) of a pattern to be detected on a printed board and a fixed mask pattern which is previously input and has no position shift of a designed value. In the position detection method, (a) a step of irradiating a certain range including a pattern to be detected with uniform illumination light and forming data of the irradiation section as image information by a television camera; A / D converting and storing in a frame memory as digital data, and (c) reading the time series data in the X direction horizontally from the frame memory within a preset range while incrementing the address, and further reading. Similarly, the above-mentioned time-series data is read for another scan line that is parallel to the other scan line. And (d) converting the time-series data into frequency coefficients by fast Fourier transform, and (e) frequency coefficients of the input image obtained by fast Fourier transform, and the fixed mask pattern obtained in advance. A step of performing multiplication with a frequency coefficient; and (f) moving the image information of the detected pattern in pixel units with respect to the fixed mask pattern by inverse fast Fourier transforming the multiplication result and returning it to time series data. The change of the area of the overlapping portion of the brightness in the case of making it a position function, (g) the step of obtaining the peak position where the overlapping area is the maximum from the position function, (h) the peak position and the fixing Calculating a displacement amount in the X direction by comparing with a reference position based on the mask pattern, and after detecting the position in the X direction. In the step of reading the time-series data in (c) above, the address of the frame memory is read in the vertical direction, and the same steps are repeated in the Y direction to detect the position in the Y direction and to detect the XY plane of the target pattern. A pattern position detection method that makes it possible to correct the position of a target pattern at high speed and with high accuracy by determining the amount of internal deviation.
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