JPH07146657A - Flat panel type display device and its production - Google Patents

Flat panel type display device and its production

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JPH07146657A
JPH07146657A JP29642893A JP29642893A JPH07146657A JP H07146657 A JPH07146657 A JP H07146657A JP 29642893 A JP29642893 A JP 29642893A JP 29642893 A JP29642893 A JP 29642893A JP H07146657 A JPH07146657 A JP H07146657A
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comb
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wiring
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孝 西
Toshihiro Namita
俊弘 波多
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Abstract

PURPOSE:To use PLZT with simple constitution and to enable driving with a low voltage by packing a PLZT layer into the respective spacings between one set of matrix-form electrodes on a transparent substrate and providing both outside surfaces of the transparent substrate with polarizing plates. CONSTITUTION:Both surfaces of the display substrate 7 constituted by providing both sides of the PLZT layer 4 which is a ferroelectric substance with the electrodes 2a, 2b and forming respective pixels in a matrix form are provided with the polarizing plates 8a, 8b and further the rear surface side is provided with a light source 9. Namely, both of the one comb-shaped electrode 2a and the other comb-shaped electrode 2b of one set of the electrodes on one substrate are formed to a comb shape and the respective comb teeth are arranged with each other to provide the structure that these teeth face each other. The PLZT layer 4 is so deposited as to coat the spacings between the comb teeth facing each other of both comb-shaped electrodes 2a, 2b and the respective comb teeth. Then, the secondary electro-optic effect of the PLZT is obtd. by impressing a voltage between one set of these electrodes 2a, 2b.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はフラットパネル型表示装
置およびその製法に関する。さらに詳しくは、PLZT
を用いたフラットパネル型表示装置およびその製法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel type display device and its manufacturing method. More details, PLZT
The present invention relates to a flat panel type display device using OLED and its manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】フラットパネル型表示装置としては発光
形であるLEDやプラズマディスプレイ(PDP)を使
用したもの、受光形である液晶表示装置(LCD)など
が用いられている。発光形のものは一般に消費電力が大
きく、消費電力の小さい液晶表示装置が最近便利に用い
られている。
2. Description of the Related Art As a flat panel type display device, a light emitting type LED or plasma display (PDP) is used, or a light receiving type liquid crystal display device (LCD) is used. The light emitting type generally consumes a large amount of electric power, and a liquid crystal display device which consumes a small amount of electric power has recently been conveniently used.

【0003】この液晶表示装置は図10に示すように、
たとえばガラスなどからなる2枚の透明基板21、22にそ
れぞれITOやSnO2 などからなる電極膜23、24およ
びポリイミドなどからなる配向膜25、26が設けられ、シ
ール剤層27で両透明基板21、22が一定間隙に貼着され、
その間隙に液晶材料が充填されて液晶層28が形成され、
この2枚の透明基板21、22の両側にそれぞれ偏光板29、
30が設けられ、表示面の裏面側にバックライト31が配置
されたものである。
This liquid crystal display device, as shown in FIG.
For example, two transparent substrates 21 and 22 made of glass or the like are provided with electrode films 23 and 24 made of ITO or SnO 2 and alignment films 25 and 26 made of polyimide, respectively. , 22 are stuck in a certain space,
A liquid crystal material is filled in the gap to form a liquid crystal layer 28,
Polarizing plates 29 and 29 are provided on both sides of the two transparent substrates 21 and 22, respectively.
30 is provided, and the backlight 31 is arranged on the back surface side of the display surface.

【0004】この液晶表示装置は両電極膜23、24に印加
される電圧に応じて生じる液晶の分子の配向性の変化と
偏光板により裏面側に配置されたバックライト25の光の
透過率が変化し、画素で組み立てられた文字や図形が表
示されるものである。
In this liquid crystal display device, the change in the orientation of the molecules of the liquid crystal caused by the voltage applied to both electrode films 23 and 24 and the light transmittance of the backlight 25 disposed on the back surface side by the polarizing plate are Characters and figures that are changed and assembled with pixels are displayed.

【0005】一方、強誘電体である透明セラミックスP
LZTは光の透過率や屈折率が電界により容易に制御さ
れるため、光シャッタなどの電気光学材料として大きな
注目を集めている。
On the other hand, a transparent ceramic P which is a ferroelectric substance
Since the light transmittance and the refractive index of LZT are easily controlled by an electric field, LZT has attracted great attention as an electro-optical material such as an optical shutter.

【0006】ここにPLZTとは、チタン酸ジルコン酸
鉛(Pb(Zr1-x Tix )O3 )に少量の酸化ランタ
ン(La2 3 )が加えられたセラミックスで(Pb
1-y Lay )(Zr1-x Tix )O3 の組成を有するも
のを意味する。
PLZT is a ceramic obtained by adding a small amount of lanthanum oxide (La 2 O 3 ) to lead zirconate titanate (Pb (Zr 1-x Ti x ) O 3 ) (Pb
1-y La y ) (Zr 1-x Ti x ) O 3 is meant.

【0007】PLZTの2次電気光学効果は図9に示す
ように、偏光方向が直交している2枚の偏光板11、12の
あいだにPLZT層10を配置し、このPLZT層10に光
の進行方向と直交する電界を印加すると偏光板11を通過
した直線偏光(以下、入射偏光という)と電界方向との
角度θによって光の透過率が変化するという現象であ
る。入射偏光と電界方向との角度θが45°のとき透過光
が最大になり、0°または90°のとき透過光は0とな
る。最大透過光を与える印加電圧Vは次式で与えられる
ことが知られている。
The secondary electro-optical effect of PLZT is as shown in FIG. 9, in which a PLZT layer 10 is arranged between two polarizing plates 11 and 12 whose polarization directions are orthogonal to each other, and the PLZT layer 10 has a This is a phenomenon in which, when an electric field orthogonal to the traveling direction is applied, the light transmittance changes depending on the angle θ between the linearly polarized light that has passed through the polarizing plate 11 (hereinafter referred to as incident polarized light) and the electric field direction. The transmitted light becomes maximum when the angle θ between the incident polarized light and the direction of the electric field is 45 °, and the transmitted light becomes 0 when the angle θ is 0 ° or 90 °. It is known that the applied voltage V that gives the maximum transmitted light is given by the following equation.

【0008】 V=d{λ(2k−1)/(n3 Rt)}1/2 (1) ただし、dはPLZTの電界印加方向の厚さ、λは入射
光の波長、kは正の整数、nはPLZTの屈折率(約
2.5)、RはPLZTの組成で決まる2次電気光学係
数、tはPLZTの入射光の進行方向の厚さ(光路長)
である。
V = d {λ (2k−1) / (n 3 Rt)} 1/2 (1) where d is the thickness of the PLZT in the direction of electric field application, λ is the wavelength of incident light, and k is a positive value. An integer, n is the refractive index of PLZT (about 2.5), R is a quadratic electro-optic coefficient determined by the composition of PLZT, and t is the thickness of the incident light of PLZT in the traveling direction (optical path length).
Is.

【0009】この性質を利用して、光の透過をオン、オ
フする光シャッターが考えられている(たとえば村野に
よる「透明セラミックスPLZT−光シャッタとしての
応用−」、固体物理、第21巻、第9号、1986年参
照)。この光シャッタの応用として、カラービューファ
インダの色分解電子シャッタの例、すなわち3原色分解
色フィルタとPLZT電子シャッタを用いて白黒ブラウ
ン管の映像をカラー画像に変換する例やPLZTプロジ
ェクタへの応用例が同論文に開示されている。
Utilizing this property, an optical shutter for turning on / off light transmission has been considered (for example, "Transparent Ceramics PLZT-Application as Optical Shutter" by Murano, Solid State Physics, Vol. 21, Vol. No. 9, 1986). Examples of the application of this optical shutter include an example of a color separation electronic shutter of a color viewfinder, that is, an example of converting an image of a black and white cathode ray tube into a color image using a three primary color separation color filter and a PLZT electronic shutter, and an application example to a PLZT projector. It is disclosed in the same paper.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記のような
PLZTを用いる光シャッタでは(1)式から導かれる
印加電圧を非常に高くしなければならず、液晶表示装置
などの低電圧で簡易な表示装置として用いるには不適で
あり、実用化されていない。
However, in the optical shutter using the PLZT as described above, the applied voltage derived from the equation (1) must be made extremely high, and it is easy to operate at a low voltage such as in a liquid crystal display device. It is not suitable for use as a display device and has not been put to practical use.

【0011】一方、液晶表示装置は透明基板の狭い間隙
に液晶材料を充填しなければならず、製造工数を多く要
し、製造工数が少なく、しかも信頼性が高いPLZTを
使用したフラットパネル形表示装置の開発が望まれてい
る。
On the other hand, in a liquid crystal display device, a liquid crystal material has to be filled in a narrow gap of a transparent substrate, which requires a large number of manufacturing steps, a small number of manufacturing steps, and a flat panel type display using PLZT which is highly reliable. Development of the device is desired.

【0012】本発明はこのような問題を解決し、PLZ
Tを使用して低電圧で駆動できる簡単な構成のフラット
パネル型表示装置を提供することを目的とする。
The present invention solves such a problem and provides a PLZ
An object of the present invention is to provide a flat panel type display device having a simple structure that can be driven at a low voltage by using T.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の表示装置は、透
明基板上に1組の電極がマトリックス状に設けられ、該
1組の電極のそれぞれの間隙にPLZT層が充填され、
前記透明基板の両外面に偏光板がそれぞれ設けられてい
るものである。
In the display device of the present invention, a set of electrodes is provided in a matrix on a transparent substrate, and a space between the electrodes of the set is filled with a PLZT layer.
Polarizing plates are respectively provided on both outer surfaces of the transparent substrate.

【0014】前記1組の電極がそれぞれクシ形に形成さ
れ、該クシ形の電極のクシ歯がそれぞれ交互に配置され
て互いに対向するように設けられていることが、電極間
隙を狭くして低電圧で画素内で効率よく発光させるのに
好ましい。
The fact that the one set of electrodes is formed in a comb shape and the comb teeth of the comb-shaped electrodes are alternately arranged so as to face each other makes it possible to reduce the electrode gap and reduce the gap. It is preferable to efficiently emit light in the pixel with a voltage.

【0015】また、前記PLZTはPbZrO3 とPb
TiO3 とLaとの組成がメモリ効果を有する組成に形
成されていることが、表示画像をそのまま記憶させるこ
とができて好ましい。
The PLZT is composed of PbZrO 3 and Pb.
It is preferable that the composition of TiO 3 and La is formed to have a memory effect so that the display image can be stored as it is.

【0016】本発明のフラットパネル形表示装置の製法
は、(a)透明基板上に各画素を形成する1組の電極を
マトリックス状に形成すると共に一方向に並ぶ各画素の
前記1組の電極の一方の電極を接続する第1の配線を形
成し、(b)前記1組の電極が設けられた透明基板上に
PLZT層を堆積し、(c)前記1組の電極の他方の電
極にコンタクトするためのコンタクト孔を前記PLZT
層に設け、(d)該コンタクト孔を介して前記1組の電
極の他方の電極と接続する第2の配線を設け、(e)前
記透明基板の両面に偏光板を設けることを特徴とするも
のである。
According to the method of manufacturing a flat panel type display device of the present invention, (a) one set of electrodes forming each pixel is formed in a matrix on a transparent substrate and the one set of electrodes of each pixel arranged in one direction is formed. Forming a first wiring connecting one of the electrodes, (b) depositing a PLZT layer on the transparent substrate provided with the one set of electrodes, and (c) depositing a PLZT layer on the other electrode of the one set of electrodes. The PLZT contact hole is provided for making contact.
A second wiring connected to the other electrode of the pair of electrodes through the contact hole, and (e) polarizing plates provided on both surfaces of the transparent substrate. It is a thing.

【0017】さらに本発明のフラットパネル型表示装置
の他の製法は、(f)透明基板上の画素間に一方向に延
びる第2の配線を複数本並行して設け、(g)第2の配
線が設けられた前記透明基板上に絶縁膜を設け、ついで
前記第2の配線とコンタクトするためのコンタクト孔を
前記絶縁膜に設け、(h)前記第2の配線のあいだに各
画素を形成する1組の電極を複数個形成すると共に前記
第2の配線と交差する方向に並ぶ各画素の前記1組の電
極の一方の電極を接続する第1の配線を形成し、かつ、
前記1組の電極の他方の電極を前記コンタクト孔を介し
て前記第2の配線に接続し、(i)前記1組の電極が設
けられた透明基板上にPLZT層を堆積し、(j)前記
透明基板の両外面に偏光板を設けることを特徴とするも
のである。
Further, in another method of manufacturing the flat panel type display device of the present invention, (f) a plurality of second wirings extending in one direction are provided in parallel between the pixels on the transparent substrate, and (g) a second wiring. An insulating film is provided on the transparent substrate provided with wiring, and then a contact hole for making contact with the second wiring is provided in the insulating film, and (h) each pixel is formed between the second wirings. Forming a plurality of one set of electrodes, and forming a first wiring connecting one electrode of the one set of electrodes of each pixel arranged in a direction intersecting with the second wiring, and
The other electrode of the set of electrodes is connected to the second wiring through the contact hole, (i) a PLZT layer is deposited on a transparent substrate provided with the set of electrodes, (j) Polarizing plates are provided on both outer surfaces of the transparent substrate.

【0018】[0018]

【作用】本発明によれば、透明基板上に設けられた1組
の電極のあいだにPLZTが充填されているため、この
1組の電極に電圧を印加することによりPLZTの2次
電気光学効果をうることができ、簡単な構造で表示装置
として動作する。
According to the present invention, since PLZT is filled between a pair of electrodes provided on a transparent substrate, a secondary electro-optical effect of PLZT can be obtained by applying a voltage to the pair of electrodes. Therefore, it operates as a display device with a simple structure.

【0019】さらに各画素の1組の電極をそれぞれクシ
形にしてクシ歯がそれぞれ交互に配置され互いに対向す
る構造とし、その1組の電極のあいだにPLZT層を堆
積させることにより、狭い電極間隙でPLZT層に電界
を印加することができると共に、画素内の広い面積でP
LZTの2次電気光学効果をうることができ、低電圧で
駆動でき、開口率が大きい表示装置として動作する。
Further, one set of electrodes of each pixel is formed in a comb shape so that comb teeth are alternately arranged to face each other, and a PLZT layer is deposited between the one set of electrodes to form a narrow electrode gap. It is possible to apply an electric field to the PLZT layer with a
It can obtain the secondary electro-optical effect of LZT, can be driven at a low voltage, and operates as a display device having a large aperture ratio.

【0020】また、透明基板上に電極のパターニングと
PLZTの堆積および配線のコンタクト用のコンタクト
孔を設けるだけで製造でき、製造工数が非常に簡潔にな
ると共にPLZTは破損しないため信頼性も向上する。
Further, it can be manufactured simply by patterning electrodes on the transparent substrate, depositing PLZT, and providing contact holes for contacting the wiring. The number of manufacturing steps is very simple and the reliability of PLZT is improved because it is not damaged. .

【0021】また、第1の配線と第2の配線をチッ化ケ
イ素などの絶縁膜を介して設けておき、その上にPLZ
T層を堆積させれば、加工しにくいPLZT層にコンタ
クト孔を設ける必要もなくなる。
Further, the first wiring and the second wiring are provided via an insulating film of silicon nitride or the like, and PLZ is formed thereon.
By depositing the T layer, it is not necessary to provide a contact hole in the PLZT layer which is difficult to process.

【0022】[0022]

【実施例】つぎに、図面を参照しながら本発明の表示装
置の製法の一実施例を説明する。図1は本発明のフラッ
トパネル型表示装置の一実施例の表示基板の製造工程の
一画素の説明図であり、図2は図1(d)のA−A線断
面説明図、図3は図1(d)のB−B線断面説明図、図
4は本発明のフラットパネル形表示装置の画素の配置を
示す平面説明図、図5はその側面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a method for manufacturing a display device of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory view of one pixel of a manufacturing process of a display substrate of an embodiment of a flat panel type display device of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG. 1D, and FIG. 1D is a cross-sectional explanatory view taken along the line BB, FIG. 4 is a plan explanatory view showing the arrangement of pixels of the flat panel type display device of the present invention, and FIG. 5 is a side view thereof.

【0023】本発明のフラットパネル型表示装置は図4
および図5に平面図および側面図が示されるように、強
誘電体であるPLZT層の両側に電極が設けられ、各画
素がマトリックス状に形成された表示基板7の両面に偏
光板8a、8bが設けられ、さらに裏面側に光源9が設
けられている。
The flat panel type display device of the present invention is shown in FIG.
As shown in a plan view and a side view in FIG. 5, polarizing plates 8a and 8b are provided on both sides of a display substrate 7 in which electrodes are provided on both sides of a PLZT layer which is a ferroelectric substance and each pixel is formed in a matrix. Is provided, and the light source 9 is further provided on the back surface side.

【0024】各画素のPLZTと電極の関係は図1
(d)、図2および図3に示す構造になっている。すな
わち、一基板上の1組の電極の一方のクシ形電極2aと
他方のクシ形電極2bが共にクシ形に形成され、それぞ
れのクシ歯が交互に配置されて互いに対向する構造にな
っており、両クシ形電極2a、2bの互いに対向したク
シ歯の間隙およびこれらを被覆するようにPLZT層4
が堆積されているものである。前述のようにPLZT層
に電気光学効果をもたせるためには前述の(1)式によ
り与えられる印加電圧が必要であり、たとえば0.53mm
程度の電極間隙では160 V程度の大きな電圧を印加しな
ければならず、通常の液晶表示装置と同様に5〜10V
程度で動作させるためにはPLZTの電界印加方向の厚
さ(電極間隔)dは0.5〜1.5μm程度にしなけれ
ばならない。電極間の幅の狭いPLZTを形成するた
め、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、図1(d)に
示されるように、一基板上の一組の電極を共にクシ形に
形成し、それぞれのクシ歯が交互に配置されて互いに対
向させるようにすることにより、電極間隙を狭くできる
と共に画素内の広い面積にわたって表示に寄与するPL
ZT層が設けられることを見出したものである。
The relationship between PLZT and electrodes of each pixel is shown in FIG.
The structure is shown in FIG. 2D and FIG. That is, one comb-shaped electrode 2a and the other comb-shaped electrode 2b of one set of electrodes on one substrate are both formed in a comb shape, and the comb teeth are alternately arranged to face each other. , The gap between the comb teeth of the two comb-shaped electrodes 2a and 2b facing each other, and the PLZT layer 4 so as to cover them.
Have been deposited. As described above, in order to give the PLZT layer an electro-optical effect, the applied voltage given by the above equation (1) is required, and for example, 0.53 mm.
A large voltage of about 160 V must be applied with an electrode gap of about 5 to 10 V as in a normal liquid crystal display device.
In order to operate the PLZT at a certain degree, the thickness (electrode interval) d of the PLZT in the direction of applying an electric field must be about 0.5 to 1.5 μm. As a result of intensive studies by the present inventors in order to form a PLZT having a narrow width between electrodes, as shown in FIG. 1D, a pair of electrodes on one substrate are formed in a comb shape. , PL that contributes to the display over a wide area in the pixel by narrowing the electrode gap by arranging the comb teeth alternately so as to face each other
It has been found that a ZT layer is provided.

【0025】まず、低電圧で動作するためのPLZT層
4の電界方向の電極間の幅d(図3参照)の寸法につい
て検討する。PLZT層4の入射光の方向の厚さtをパ
ラメータとして入射光の波長が 350nmおよび 800nm
の2点について検討をする。
First, the dimension of the width d (see FIG. 3) between the electrodes in the electric field direction of the PLZT layer 4 for operating at a low voltage will be examined. With the thickness t of the PLZT layer 4 in the incident light direction as a parameter, the wavelengths of the incident light are 350 nm and 800 nm.
Consider the following two points.

【0026】表1、表2は入射光の波長λ(nm)、ク
シ形電極の厚さt(μm)、1組のクシ形電極の間隔d
(μm)と印加電圧Vとの関係を示したものであり、表
の数値は最大透過光を与えるクシ形電極間隔d(μm)
を示している。なお、表1は電極の厚さt=1μmのば
あいであり、表2はクシ形電極の厚さt=0.5 μmのば
あいである。
Tables 1 and 2 show the wavelength λ (nm) of the incident light, the thickness t (μm) of the comb-shaped electrode, and the distance d between the pair of comb-shaped electrodes.
(Μm) and the applied voltage V are shown in the table. The numerical values in the table are the comb-shaped electrode spacing d (μm) that gives the maximum transmitted light.
Is shown. Table 1 shows the case where the electrode thickness t = 1 μm, and Table 2 shows the case where the comb-shaped electrode thickness t = 0.5 μm.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】[0028]

【表2】 [Table 2]

【0029】いずれの表からもクシ形電極の間隔dと印
加電圧Vは比例しており、クシ形電極の間隔dを1/2
にすれば、印加電圧Vも1/2でよいことがわかる。
From all the tables, the distance d between the comb-shaped electrodes is proportional to the applied voltage V, and the distance d between the comb-shaped electrodes is 1/2.
Therefore, it can be seen that the applied voltage V may be 1/2.

【0030】そのため、各電極の幅2〜3μm、電極間
隙dを0.5〜1.5μmに形成することにより、PL
ZT層の電界印加方向の寸法は0.5〜1.5μm程度
になり、電極の厚さtは0.5〜1.0μm程度にする
ことにより5〜10V程度で可視光の全波長の光をスイ
ッチングすることができる。そのため一方向の配線3a
とこれと交差する方向(図1に示す例では配線3aと3
bが直交する例が示されているが、必ずしも直交しなて
くもよい)の配線3bへの印加電圧を制御することによ
り、所望の画素を点灯することができる。なお、クシ歯
の長さLは画素の大きさによっても異なるが、たとえば
100μm×300μmの画素では、300μm程度で
形成されている。また、クシ歯の数も図に示したものは
模式図であって、画素の大きさにより任意に設定できる
が、電極の間隙は前述のように0.5〜1.5μm程度
にすることが好ましく、前述の画素の大きさでは各々の
クシ歯が10〜15本程度になる。また一画素内にクシ
歯を互いに対向させたクシ形電極が複数個設けられ、一
方の電極および他方の電極を接続して1組の対向電極と
してもよい。また、クシ形電極のクシ歯がそれぞれ交互
に配置されているため、隣接するPLZT層は相互に逆
方向の電界が印加されることになるが、180°回転し
たばあいに光の透過率は同じになるため、表示特性に影
響はない。
Therefore, the width of each electrode is 2 to 3 μm, and the electrode gap d is formed to be 0.5 to 1.5 μm.
The dimension of the ZT layer in the direction of applying the electric field is about 0.5 to 1.5 μm, and the thickness t of the electrode is set to about 0.5 to 1.0 μm. Can be switched. Therefore, the unidirectional wiring 3a
And a direction intersecting with it (in the example shown in FIG. 1, the wirings 3a and 3
Although an example in which b is orthogonal is shown, it is not necessary to be orthogonal) The desired pixel can be turned on by controlling the voltage applied to the wiring 3b. Although the length L of the comb tooth varies depending on the size of the pixel, for example, a pixel of 100 μm × 300 μm is formed with a length of about 300 μm. Further, the number of comb teeth is also a schematic diagram shown in the figure and can be arbitrarily set according to the size of the pixel, but the gap between the electrodes may be set to about 0.5 to 1.5 μm as described above. Preferably, each of the above-mentioned pixel sizes has about 10 to 15 comb teeth. In addition, a plurality of comb-shaped electrodes having comb teeth opposed to each other may be provided in one pixel, and one electrode and the other electrode may be connected to form one set of counter electrodes. Moreover, since the comb teeth of the comb-shaped electrodes are alternately arranged, the electric fields in the mutually opposite directions are applied to the adjacent PLZT layers, but the light transmittance becomes 180 ° when rotated by 180 °. The display characteristics are not affected because they are the same.

【0031】電極材料としてはクロムやアルミニウムな
どの金属膜を使用することができる。またPLZTは図
8にその相図を示すように、PbZrO3 とPbTiO
3 とLaの割合によりその性質が異なり、図8に示され
る2次電気光学効果を有する組成のものが使用される。
一方メモリ効果を有する組成のものも表示内容を記憶し
ておくことができると共に電気光学効果を示し、情報を
記憶しておくことができる点からも好ましい。、図5に
示すように、表示基板7の両側に偏光軸が直交関係にな
るように偏光板8が配置され、表示面の裏面側に光源9
が配置されて、本発明の表示装置が形成される。さら
に、外部の駆動回路と電極端子部を接続することにより
所望の画素が駆動され、偏光板8とあいまって透過光が
オンオフされることにより、所望の表示をすることがで
きる。なお、外部光を利用して表示をするばあいには、
光源9にかえて、表示面と同じ大きさの反射板を表示基
板7の裏面側に配置すればよい。
As the electrode material, a metal film such as chromium or aluminum can be used. PLZT has PbZrO 3 and PbTiO 3 as shown in the phase diagram of FIG.
The property differs depending on the ratio of 3 and La, and the composition having the secondary electro-optical effect shown in FIG. 8 is used.
On the other hand, a composition having a memory effect is also preferable in that the display content can be stored, the electro-optical effect is exhibited, and information can be stored. As shown in FIG. 5, polarizing plates 8 are arranged on both sides of the display substrate 7 so that the polarization axes are orthogonal to each other, and the light source 9 is provided on the back side of the display surface.
Are arranged to form the display device of the present invention. Furthermore, a desired pixel is driven by connecting an external drive circuit and an electrode terminal portion, and the desired light can be displayed by turning on and off the transmitted light together with the polarizing plate 8. In addition, when displaying using external light,
Instead of the light source 9, a reflector having the same size as the display surface may be arranged on the back surface side of the display substrate 7.

【0032】つぎに、本発明のフラットパネル型表示装
置の製法について説明する。
Next, a method for manufacturing the flat panel type display device of the present invention will be described.

【0033】図1において、ガラスなどの透明基板1の
上に金属膜をスパッタリングなどにより設け、ホトレジ
スト層を形成し、マスクを介して露光し、そののちエッ
チングを施すことによってパターニングすること(以
下、露光からパターニングの一連の工程をホトリソグラ
フィ工程という)により、クシ形電極2a、2b、第1
の配線3aを形成する。クシ形電極2a、2bは互いに
一定間隔を隔てて、クシ歯部分が交互に配置され互いに
対向するようなっている。クシ形電極2aの一端には第
1の配線3aが接続されている(図1(a)参照)。1
組のクシ形電極2a、2bで1つの画素6が形成されて
いる。また、第1の配線3aは隣接する画素6とのあい
だに形成されている。
In FIG. 1, a metal film is provided on a transparent substrate 1 such as glass by sputtering or the like, a photoresist layer is formed, exposed through a mask, and then patterned by etching (hereinafter, referred to as "patterning"). A series of steps from exposure to patterning is called a photolithography step), and the comb-shaped electrodes 2a, 2b, the first
The wiring 3a is formed. The comb-shaped electrodes 2a and 2b are arranged at regular intervals, and the comb teeth are alternately arranged so as to face each other. The first wiring 3a is connected to one end of the comb-shaped electrode 2a (see FIG. 1A). 1
One pixel 6 is formed by a pair of comb-shaped electrodes 2a and 2b. The first wiring 3a is formed between the adjacent pixels 6.

【0034】つぎに、透明基板1の上にPLZT層4を
たとえばCVD法により堆積する(図1(b)参照)。
これにより、1組のクシ形電極2a、2b間およびこれ
ら電極を被覆するようにPLZT層4を形成する。
Next, the PLZT layer 4 is deposited on the transparent substrate 1 by, for example, the CVD method (see FIG. 1B).
Thereby, the PLZT layer 4 is formed between the pair of comb-shaped electrodes 2a and 2b and so as to cover these electrodes.

【0035】つぎに、PLZT層4にコンタクト孔5
を、たとえば反応性イオンエッチング(RIE)のよう
なドライエッチング用いて形成する(図1(c)参
照)。
Next, contact holes 5 are formed in the PLZT layer 4.
Are formed by dry etching such as reactive ion etching (RIE) (see FIG. 1C).

【0036】つぎに、PLZT層4上に、たとえばクロ
ムやアルミニウムなどの金属膜をスパッタリングなどに
より設け、ホトリソグラフィ工程により、第2の配線3
bを形成する。第2の配線3bは第1の配線3aとPL
ZT層4を介して交差しており、隣接する画素6とのあ
いだに形成され、横方向に並ぶ各画素の一方の電極2b
を接続している。第1の配線3aと第2の配線3bとは
PLZT層4で電気的に分離されている。これより、横
方向に並ぶ各画素のクシ形電極2bと第2の配線3bと
がそれぞれコンタクト孔5を介して接続される。なお、
第1の配線3aと第2の配線3bは透明基板の端部に引
き出されて電極端子部(図示せず)を形成し、TABな
どにより駆動回路(図示せず)と接続される。
Next, a metal film of, for example, chromium or aluminum is provided on the PLZT layer 4 by sputtering and the second wiring 3 is formed by a photolithography process.
b is formed. The second wiring 3b is connected with the first wiring 3a by PL.
One electrode 2b of each pixel which is formed between adjacent pixels 6 and which intersects with each other through the ZT layer 4 and which is arranged in the horizontal direction.
Are connected. The first wiring 3a and the second wiring 3b are electrically separated by the PLZT layer 4. As a result, the comb-shaped electrode 2b and the second wiring 3b of each pixel arranged in the horizontal direction are connected via the contact holes 5, respectively. In addition,
The first wiring 3a and the second wiring 3b are drawn out to the ends of the transparent substrate to form electrode terminal portions (not shown), and are connected to a drive circuit (not shown) by TAB or the like.

【0037】以上の工程で図4に示すような透明基板1
上に多数の画素6がマトリクス状に配置された表示基板
7が形成される。
Through the above steps, the transparent substrate 1 as shown in FIG.
A display substrate 7 on which a large number of pixels 6 are arranged in a matrix is formed.

【0038】つぎに、本発明の表示装置の他の実施例の
表示基板の製法を説明する。この方法はエッチング加工
などが難しいPLZTをエッチングしなくて表示基板を
形成する方法である。
Next, a method of manufacturing a display substrate of another embodiment of the display device of the present invention will be described. This method is a method of forming a display substrate without etching PLZT, which is difficult to etch.

【0039】図6〜7において、ガラスなどの透明基板
1の上にスパッタ法などによりクロムやアルミニウムな
どからなる金属膜を成膜し、ホトリソグラフィ工程によ
り、第2の配線3bを形成する(図6(a)参照)。
6 to 7, a metal film made of chromium, aluminum, or the like is formed on the transparent substrate 1 such as glass by a sputtering method or the like, and the second wiring 3b is formed by a photolithography process (see FIG. 6 (a)).

【0040】つぎに、透明基板1の上にたとえばチッ化
ケイ素からなる透明絶縁層20を形成するとともに、第
2の配線3bを次工程で形成されるクシ形電極2bと接
続するためのコンタクト孔5をたとえばRIEによるド
ライエッチングを用いて形成する(図6(b)参照)。
対向電極間にも絶縁層20が付着するが、薄いばあいは
そのまま残しておいてもよいし、エッチングして除去し
てもよい。
Next, a transparent insulating layer 20 made of, for example, silicon nitride is formed on the transparent substrate 1, and a contact hole for connecting the second wiring 3b to the comb-shaped electrode 2b formed in the next step. 5 is formed by dry etching such as RIE (see FIG. 6B).
The insulating layer 20 adheres also between the opposing electrodes, but if it is thin, it may be left as it is or may be removed by etching.

【0041】つぎに、透明絶縁層20上に前述と同様に
金属膜を設け、ホトリソグラフィ工程により、クシ形電
極2a、2b、第1の配線3aを形成する。クシ形電極
2a、2bは互いに一定間隔を隔てて、クシ歯部分が交
互に配置され互いに対向するようになっている。1組の
クシ形電極2a、2bで1つの画素6が形成される。ク
シ形電極2aの一端には第1の配線3aが接続されてお
り、クシ形電極2bの一端にはコンタクト孔5を介して
第2の配線3bが接続されている(図6(c)参照)。
Next, a metal film is provided on the transparent insulating layer 20 in the same manner as described above, and the comb-shaped electrodes 2a and 2b and the first wiring 3a are formed by a photolithography process. The comb-shaped electrodes 2a and 2b are arranged at regular intervals, and the comb-teeth portions are alternately arranged so as to face each other. One pixel 6 is formed by a pair of comb-shaped electrodes 2a and 2b. The first wiring 3a is connected to one end of the comb-shaped electrode 2a, and the second wiring 3b is connected to one end of the comb-shaped electrode 2b through the contact hole 5 (see FIG. 6C). ).

【0042】つぎに、PLZT層4をたとえばCVD法
により堆積する(図6(d)参照)。これにより、前記
実施例と同様に1組のクシ形電極2a、2b間およびこ
れら電極を被覆するようにPLZT層4が形成される。
Next, the PLZT layer 4 is deposited by, for example, the CVD method (see FIG. 6D). As a result, the PLZT layer 4 is formed between the pair of comb-shaped electrodes 2a and 2b and so as to cover these electrodes, as in the above-described embodiment.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明によれば、PLZTを用いた簡単
な構造の表示装置がえられ、コストの低減が図れると共
に、温度変化や外力に対しても強固で信頼性が高いフラ
ットパネル型表示装置がえられる。
According to the present invention, a display device having a simple structure using PLZT can be obtained, the cost can be reduced, and the flat panel display which is robust against temperature change and external force and has high reliability. The device can be obtained.

【0044】さらに電極をクシ形をすることにより低電
圧で駆動できるとともに開口率が大きいため明るい表示
ができるフラットパネル型表示装置がえられる。
Further, by forming the electrodes in a comb shape, it is possible to obtain a flat panel type display device capable of being driven at a low voltage and having a large aperture ratio and capable of bright display.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のフラットパネル型表示装置に使用する
表示基板の製造工程の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a manufacturing process of a display substrate used in a flat panel display device of the present invention.

【図2】図1のA−A線断面説明図である。FIG. 2 is a cross-sectional explanatory view taken along the line AA of FIG.

【図3】図1のB−B線断面説明図である。FIG. 3 is a cross-sectional explanatory view taken along the line BB of FIG.

【図4】表示基板の画素電極の配置の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of arrangement of pixel electrodes on a display substrate.

【図5】本発明のフラットパネル型表示装置の一実施例
の側面説明図である。
FIG. 5 is a side view showing an embodiment of the flat panel type display device of the present invention.

【図6】本発明のフラットパネル型表示装置の他の実施
例の表示基板の製造工程の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a manufacturing process of a display substrate of another embodiment of the flat panel type display device of the present invention.

【図7】図6のC−C線断面説明図である。FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG.

【図8】PLZTの相図である。FIG. 8 is a phase diagram of PLZT.

【図9】PLZTの2次電気光学効果の説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of a secondary electro-optical effect of PLZT.

【図10】液晶表示装置の断面説明図である。FIG. 10 is a cross-sectional explanatory diagram of a liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基板 2a、2b クシ形電極 4 PLZT層 6 画素 8 偏光板 1 transparent substrate 2a, 2b comb-shaped electrode 4 PLZT layer 6 pixel 8 polarizing plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高村 誠 京都市右京区西院溝崎町21番地 ローム株 式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Makoto Takamura, 21 Mizozaki-cho, Saiin, Ukyo-ku, Kyoto ROHM Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に1組の電極がマトリックス
状に設けられ、該1組の電極のそれぞれの間隙にPLZ
T層が充填され、前記透明基板の両外面に偏光板がそれ
ぞれ設けられてなるフラットパネル型表示装置。
1. A set of electrodes is provided in a matrix on a transparent substrate, and PLZ is provided in each gap of the set of electrodes.
A flat panel type display device in which a T layer is filled and polarizing plates are respectively provided on both outer surfaces of the transparent substrate.
【請求項2】 前記1組の電極がそれぞれクシ形に形成
され、該クシ形の電極のクシ歯がそれぞれ交互に配置さ
れ互いに対向するように設けられてなる請求項1記載の
フラットパネル型表示装置。
2. The flat panel display according to claim 1, wherein each of the pair of electrodes is formed in a comb shape, and the comb teeth of the comb-shaped electrodes are arranged alternately so as to face each other. apparatus.
【請求項3】 前記PLZTはPbZrO3 とPbTi
3 とLaとの組成がメモリ効果を有する組成に形成さ
れてなる請求項1記載のフラットパネル型表示装置。
3. The PLZT is made of PbZrO 3 and PbTi.
2. The flat panel display device according to claim 1, wherein the composition of O 3 and La is formed to have a memory effect.
【請求項4】 (a)透明基板上に各画素を形成する1
組の電極をマトリックス状に形成すると共に一方向に並
ぶ各画素の前記1組の電極の一方の電極を接続する第1
の配線を形成し、(b)前記1組の電極が設けられた透
明基板上にPLZT層を堆積し、(c)前記1組の電極
の他方の電極にコンタクトするためのコンタクト孔を前
記PLZT層に設け、(d)該コンタクト孔を介して前
記1組の電極の他方の電極と接続する第2の配線を設
け、(e)前記透明基板の両外面に偏光板を設けること
を特徴とするフラットパネル型表示装置の製法。
4. (a) 1 in which each pixel is formed on a transparent substrate
A pair of electrodes is formed in a matrix, and one of the pair of electrodes of each pixel arranged in one direction is connected to the first electrode;
Wiring is formed, (b) a PLZT layer is deposited on the transparent substrate provided with the one set of electrodes, and (c) a contact hole for contacting the other electrode of the one set of electrodes is formed in the PLZT layer. A second wiring connected to the other electrode of the one set of electrodes through the contact hole, and (e) polarizing plates provided on both outer surfaces of the transparent substrate. Flat panel type display device manufacturing method.
【請求項5】 (f)透明基板上の画素間に一方向に延
びる第2の配線を複数本並行して設け、(g)第2の配
線が設けられた前記透明基板上に絶縁膜を設け、ついで
前記第2の配線とコンタクトするためのコンタクト孔を
前記絶縁膜に設け、(h)前記第2の配線のあいだに各
画素を形成する1組の電極を複数個形成すると共に前記
第2の配線と交差する方向に並ぶ各画素の前記1組の電
極の一方の電極を接続する第1の配線を形成し、かつ、
前記1組の電極の他方の電極を前記コンタクト孔を介し
て前記第2の配線に接続し、(i)前記1組の電極が設
けられた透明基板上にPLZT層を堆積し、(j)前記
透明基板の両外面に偏光板を設けることを特徴とするフ
ラットパネル型表示装置の製法。
5. (f) A plurality of second wirings extending in one direction are provided in parallel between pixels on a transparent substrate, and (g) an insulating film is provided on the transparent substrate provided with the second wirings. And then forming a contact hole for contacting the second wiring in the insulating film, and (h) forming a plurality of one set of electrodes forming each pixel between the second wiring and Forming a first wiring connecting one electrode of the one set of electrodes of each pixel arranged in a direction intersecting with the second wiring, and
The other electrode of the set of electrodes is connected to the second wiring through the contact hole, (i) a PLZT layer is deposited on a transparent substrate provided with the set of electrodes, (j) A method of manufacturing a flat panel type display device, characterized in that polarizing plates are provided on both outer surfaces of the transparent substrate.
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