JPH0714647B2 - Thermal head and manufacturing method thereof - Google Patents

Thermal head and manufacturing method thereof

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JPH0714647B2
JPH0714647B2 JP60187882A JP18788285A JPH0714647B2 JP H0714647 B2 JPH0714647 B2 JP H0714647B2 JP 60187882 A JP60187882 A JP 60187882A JP 18788285 A JP18788285 A JP 18788285A JP H0714647 B2 JPH0714647 B2 JP H0714647B2
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glaze layer
wire bonding
resistor
electrode
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孝文 遠藤
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はサーマルヘッドおよびその製造方法に関す
る。
The present invention relates to a thermal head and a manufacturing method thereof.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

サーマルヘッドは、絶縁性基板上に、それぞれ一対とな
る電極導体を形成するとともに、各電極導体に電気的に
接続されている抵抗体を形成したもので、電極導体間に
電圧を印加して抵抗体に記録電流を流し、抵抗体に生じ
るジュール熱を利用して、抵抗体上に接している感熱紙
を発色させたり、熱転写インク層を溶融させて記録用紙
に転写して、文字等の情報を記録するのに用いられてい
る。
A thermal head is one in which a pair of electrode conductors are formed on an insulating substrate, and a resistor that is electrically connected to each electrode conductor is also formed. A recording current is applied to the body and the Joule heat generated in the resistor is used to color the thermal paper in contact with the resistor, or the thermal transfer ink layer is melted and transferred to the recording paper to transfer information such as characters. Is used to record.

第3図は厚膜サーマルヘッドの断面図で、(1)は絶縁
性基板、(2)はグレーズ層、(3)はグレーズ層
(2)上に所望のパターンに形成されている電極導体、
(4)は抵抗体で、電極導体(3)と電気的に接続さ
れ、電極導体(3)を介して信号電流が通電されてジュ
ール熱を発生する。(5)は耐磨耗層である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a thick film thermal head. (1) is an insulating substrate, (2) is a glaze layer, (3) is an electrode conductor formed in a desired pattern on the glaze layer (2),
Reference numeral (4) is a resistor, which is electrically connected to the electrode conductor (3) and is supplied with a signal current through the electrode conductor (3) to generate Joule heat. (5) is a wear resistant layer.

次に、従来の厚膜形サーマルヘッドの製造工程を第4図
により説明する。
Next, the manufacturing process of the conventional thick film type thermal head will be described with reference to FIG.

厚さ約1mmのアルミナセラミックなどで形成される絶縁
性基板(1)の面上に、厚さ約50μmのグレーズ層
(2)を形成したグレーズ層付絶縁性基板の全面に、粒
径1μm程度の金粒子を含有する無機金ペーストをスク
リーン印刷などの方法で印刷し、焼成する工程を2,3回
繰返して、厚さ約3μmの金薄膜を形成する。
A particle size of about 1 μm on the entire surface of the insulating substrate with a glaze layer, in which a glaze layer (2) with a thickness of about 50 μm is formed on the surface of an insulating substrate (1) made of alumina ceramic with a thickness of about 1 mm. The step of printing the inorganic gold paste containing the gold particles by a method such as screen printing and firing is repeated a few times to form a gold thin film having a thickness of about 3 μm.

次に、所定のマスクを用いて、フォトエッチング法によ
り、所望のパターンの電極導体(3)を形成する。
Next, an electrode conductor (3) having a desired pattern is formed by photoetching using a predetermined mask.

次に、粒径約5μmの酸化ルテニウム、高融点フリット
ガラス、酸化ジルコニウムを成分とする抵抗体ペースト
を、細い線状に印刷し、約800〜830℃で焼成して、高さ
約10μmの抵抗体(4)を形成する。
Next, a resistor paste containing ruthenium oxide with a particle size of about 5 μm, high melting point frit glass, and zirconium oxide as components is printed in a thin line shape and fired at about 800 to 830 ° C to obtain a resistance of about 10 μm in height. Form the body (4).

次に、高融点フリットガラスに粒径0.5μmのSiO2、Al2
O3を約25%配合されたガラスペーストを、抵抗体(4)
上を覆うように印刷し、抵抗体(4)の焼成温度より低
い温度(この実施例では780〜810℃)で焼成して、厚さ
約8μmの耐磨耗層(5)を形成する。
Next, high melting point frit glass was coated with SiO 2 , Al 2 having a particle size of 0.5 μm.
Glass paste containing about 25% O 3 is used as a resistor (4).
Printing is performed so as to cover the upper side, and baking is performed at a temperature lower than the baking temperature of the resistor (4) (780 to 810 ° C. in this example) to form the abrasion resistant layer (5) having a thickness of about 8 μm.

次に、ICを絶縁性基板(1)上に実装し、電極導体
(3)とICとの間を接続するワイヤボンディングを施
し、IC,ワイヤボンディング部分および電極導体(3)
の露出部分を被覆するモールデイングを施して、厚膜形
サーマルヘッドが完成する。
Next, the IC is mounted on an insulating substrate (1), wire bonding is performed to connect the electrode conductor (3) and the IC, and the IC, the wire bonding portion and the electrode conductor (3)
A thick film type thermal head is completed by performing molding to cover the exposed part of.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

従来の厚膜形サーマルヘッドは、電極導体(3)の厚さ
が3μm以上必要とされていた。これは、無機金ペース
トに含まれている金粒子の粒径が、約1μmと大きいの
で、薄い金薄膜ではパターン切れや、ワイヤボンディン
グ時に剥離を生じるからである。
In the conventional thick film thermal head, the thickness of the electrode conductor (3) is required to be 3 μm or more. This is because the particle size of the gold particles contained in the inorganic gold paste is as large as about 1 μm, and therefore a thin gold thin film may cause pattern breakage or peeling during wire bonding.

しかし、電極導体(3)の厚さが厚いと、電極導体
(3)を形成するフオトエッチング時のエッチングファ
クタが20μm程度必要なため、電極パターンの微細化が
難しく、さらに、微細化するほど、各電極導体(3)間
の抵抗値のばらつきが大きくなり、印字される画質の濃
度ムラが大きくなるので、印字ドツトの微細化が困難で
あった。
However, if the thickness of the electrode conductor (3) is large, it is difficult to miniaturize the electrode pattern because the etching factor during photo-etching for forming the electrode conductor (3) is required to be about 20 μm. Since the variation in the resistance value between the electrode conductors (3) becomes large and the density unevenness of the printed image quality becomes large, it is difficult to make the printing dots fine.

また、電極導体(3)が厚いと耐磨耗層(5)の表面の
凹凸が大きくなり、感熱記録紙との接触状態が悪いた
め、高速度での高品質の印字ができなかった。
Further, if the electrode conductor (3) is thick, the surface of the abrasion resistant layer (5) will have large irregularities, and the contact state with the thermal recording paper will be poor, so that high-quality printing at high speed was not possible.

さらに、電極導体(3)が厚いと、抵抗体(4)に生じ
たジュール熱が電極導体(3)を伝って逃げる量が多い
ので、抵抗体(4)を印字に必要な250〜600℃程度に加
熱するのに必要な入力が増大し、大きな駆動電力が必要
であった。
Furthermore, if the electrode conductor (3) is thick, a large amount of Joule heat generated in the resistor (4) will escape through the electrode conductor (3), so the resistor (4) is required to print at 250 to 600 ° C. The input required to heat up to the extent increased and a large drive power was required.

この発明は、上記課題を解消するためになされたもの
で、電極導体が薄くしても、パターン切れやワイヤボン
ディング時の剥離が生じにくく、印字ドツトの微細化が
可能で、かつ駆動電力の小さなサーマルヘッドおよびそ
の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above problems. Even if the electrode conductor is thin, pattern breakage or peeling at the time of wire bonding is unlikely to occur, miniaturization of printing dots is possible, and driving power is small. An object is to provide a thermal head and a method for manufacturing the same.

〔課題を解決するための手段〕[Means for Solving the Problems]

請求項1に係るサーマルヘッドは、絶縁性基板上にグレ
ーズ層を設け、このグレーズ層上に膜厚が0.15〜1.0μ
mの有機金ペーストを印刷・焼成して導体薄膜を設けて
所望のパターンを形成したワイヤボンディング部分を有
する電極導体を設け、上記電極導体の所定部分および上
記グレーズ層上に抵抗体を設けて多数の発熱抵抗体を形
成し、上記電極導体のワイヤボンディング部に接続部材
をワイヤボンディングしてICに電気的に接続したもので
ある。
In the thermal head according to claim 1, a glaze layer is provided on an insulating substrate, and the film thickness is 0.15 to 1.0 μm on the glaze layer.
m is formed by printing and firing an organic gold paste to provide a conductor thin film to provide an electrode conductor having a wire bonding portion on which a desired pattern is formed, and a resistor is provided on a predetermined portion of the electrode conductor and on the glaze layer. The heating resistor is formed, and the connecting member is wire-bonded to the wire bonding portion of the electrode conductor to electrically connect to the IC.

請求項2に係るサーマルヘッドの製造方法は、絶縁性基
板上にグレーズ層を形成し、このグレーズ層上に膜厚が
0.15〜1.0μmの有機金ペーストを設け、エッチングに
より所望の電極パターンの電極導体を形成し、この電極
導体の所定部分および上記グレーズ層上に抵抗体を設け
て多数の発熱抵抗体を形成し、その後、上記電極導体を
介して上記発熱抵抗体に電圧パルスを印加して抵抗値が
所定範囲内になるように調整し、さらに、上記電極導体
にワイヤボンディングするものである。
In the method of manufacturing a thermal head according to claim 2, a glaze layer is formed on an insulating substrate, and a film thickness is formed on the glaze layer.
An organic gold paste having a thickness of 0.15 to 1.0 μm is provided, an electrode conductor having a desired electrode pattern is formed by etching, a resistor is provided on a predetermined portion of the electrode conductor and the glaze layer to form a large number of heating resistors, Thereafter, a voltage pulse is applied to the heating resistor via the electrode conductor to adjust the resistance value to fall within a predetermined range, and then wire bonding is performed on the electrode conductor.

〔作用〕[Action]

請求項1に係る電極導体は、有機金ペーストを印刷・焼
成することによって、膜厚が0.15〜1.0μmである薄い
電極パターンを形成しても、グレーズ層との接着強度が
強く、かつ均一で平坦な表面が形成できるので、パター
ン切れやワイヤボンディング時が剥離が生じにくい。
The electrode conductor according to claim 1 has strong adhesive strength with the glaze layer and is uniform even if a thin electrode pattern having a film thickness of 0.15 to 1.0 μm is formed by printing and firing an organic gold paste. Since a flat surface can be formed, pattern breakage and peeling during wire bonding are less likely to occur.

また、請求項2に係るサーマルヘッドの製造方法は、膜
厚が0.15〜1.0μmの有機金ペーストをグレーズ層上に
設け、エッチングにより電極パターンの電極導体を形成
し、次に抵抗体を設けて多数の発熱抵抗体を形成したの
ち、上記電極導体を介して上記発熱抵抗体に電圧パルス
を印加して、各発熱抵抗体の抵抗値が所定範囲内になる
ように調整し、上記電極導体にワイヤボンディングする
ので、電極導体を形成するエッチング時のエッチングフ
ァクタを零にすることができ、サーマルヘッドの駆動電
力が低減でき、耐磨耗層の表面の凹凸が小さくなって、
印字ドットの微細化と印字速度の高速化が図れ、さら
に、各発熱抵抗体の抵抗値のばらつきが是正できる。
In the method of manufacturing a thermal head according to claim 2, an organic gold paste having a film thickness of 0.15 to 1.0 μm is provided on the glaze layer, an electrode conductor of an electrode pattern is formed by etching, and then a resistor is provided. After forming a large number of heating resistors, a voltage pulse is applied to the heating resistors via the electrode conductors to adjust the resistance value of each heating resistor to fall within a predetermined range. Since wire bonding is performed, the etching factor at the time of etching for forming the electrode conductor can be made zero, the driving power of the thermal head can be reduced, and the unevenness of the surface of the abrasion resistant layer can be reduced,
The printing dots can be miniaturized and the printing speed can be increased, and the variation in the resistance value of each heating resistor can be corrected.

〔実施例〕 以下、この発明の一実施例を図面にしたがって説明す
る。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は、この発明に係るサーマルヘッドの実施例を示
す製造工程図で、この製造工程によって製造されたサー
マルヘッドの構造は、第3図に示した従来の厚膜形サー
マルヘッドと比較して、電極導体(3)の厚さが数分の
1である薄肉であることのほかは同様であるから、その
詳しい説明を省略する。
FIG. 1 is a manufacturing process chart showing an embodiment of a thermal head according to the present invention. The structure of the thermal head manufactured by this manufacturing process is compared with that of the conventional thick film type thermal head shown in FIG. Since the electrode conductor (3) is thin, which is a fraction of the thickness, the detailed description thereof will be omitted.

第1図において、第4図で示した従来の構造工程と相違
する点を、第3図を参照しながら説明する。
In FIG. 1, the points different from the conventional structure process shown in FIG. 4 will be described with reference to FIG.

絶縁性基板(1)のグレーズ層(2)上に、有機金ペー
ストを用いて印刷,焼成によって、厚さ0.4〜0.6μmの
金薄膜を形成する。有機金ペーストとして、エンゲルハ
ード社製メタルオーガニックA−4615を用い、これを印
刷して、焼成温度は600〜850℃で焼成される。
A gold thin film having a thickness of 0.4 to 0.6 μm is formed on the glaze layer (2) of the insulating substrate (1) by printing and firing using an organic gold paste. Metal organic A-4615 manufactured by Engelhard Co., Ltd. is used as the organic gold paste, which is printed and fired at a firing temperature of 600 to 850 ° C.

また、上記グレーズ層(2)としては、厚膜ガラス材料
が使用される。すなわち、ガラスフリット等を添加した
ものを用いているので、グレーズ層(2)と有機金ペー
ストとの接着強度が強く、たとえば、セロハンテープで
グレーズ層(2)上の金パターンを剥離する、いわゆる
ピーリングテスト等を実施しても、何ら接着強度上の問
題が生じなかった。
A thick film glass material is used for the glaze layer (2). That is, since the glass frit or the like is added, the adhesive strength between the glaze layer (2) and the organic gold paste is strong, and for example, the gold pattern on the glaze layer (2) is peeled off with cellophane tape. Even if a peeling test or the like was performed, no problem in adhesive strength occurred.

次に、マスクを用いてフオトエッチング法により、所望
の微細パターンの電極導体(3)を形成し、以下、従来
と同じ工程で、抵抗体(4)と耐磨耗層(5)が形成さ
れる。
Next, an electrode conductor (3) having a desired fine pattern is formed by a photo-etching method using a mask, and thereafter, a resistor (4) and an abrasion resistant layer (5) are formed in the same process as the conventional process. It

また、有機金ペーストを用いた電極導体(3)の膜質
は、均一で平坦な表面が形成されるので、ワイヤボンデ
ィング時の接続部材(図示せず)である金ワイヤとの接
着力も強力となる。
In addition, since the film quality of the electrode conductor (3) using the organic gold paste has a uniform and flat surface, the adhesive force to the gold wire which is a connecting member (not shown) at the time of wire bonding is also strong. .

実際上、有機金ペーストをグレース層(2)上に形成
し、膜厚が0.15〜1.0μmとした場合、ワイヤボンディ
ング時の剥離状況を調べたところ、第5図で示す結果で
あった。
Actually, when the organic gold paste was formed on the grace layer (2) and the film thickness was 0.15 to 1.0 μm, the peeling condition at the time of wire bonding was examined, and the result was as shown in FIG.

同図において、横軸は膜厚(μm)を、縦軸は剥離強度
(g・f)を示す。
In the figure, the horizontal axis represents the film thickness (μm) and the vertical axis represents the peel strength (g · f).

この図から明らかなように、従来、有機金ペーストをグ
レーズ層(2)上に形成し、膜厚が2〜3μmとした場
合、ワイヤボンディング時の剥離強度が8grであるのに
対し、この発明の実施例のように、有機金ペーストをグ
レーズ層(2)上に形成し、膜厚が0.15〜1.0μmとし
た場合、ワイヤボンディング時の剥離強度が10grであっ
た。
As is apparent from this figure, when the organic gold paste is formed on the glaze layer (2) and the film thickness is 2 to 3 μm, the peel strength at the time of wire bonding is 8 gr. When the organic gold paste was formed on the glaze layer (2) and the film thickness was 0.15 to 1.0 μm, the peel strength during wire bonding was 10 gr.

次に、上記各電極導体(3)間の抵抗値を測定しながら
電圧パルスを印加し、各抵抗値が所定の範囲内に納まる
ように調整する電圧パルストリミングを施こす。
Next, a voltage pulse is applied while measuring the resistance value between the electrode conductors (3), and voltage pulse trimming is performed so that each resistance value is adjusted to fall within a predetermined range.

この電圧パルストリミングは、先に本出願人が特願昭59
−205012号「サーマルヘッドの製造方法」として出願し
たものである。
This voltage pulse trimming was previously performed by the applicant of the present invention in Japanese Patent Application No.
It was filed as No. 205012 “Method for manufacturing thermal head”.

これは、たとえば、1μsの電圧パルスを1単位とした
パルス群を、電極導体(3)を介して1単位の抵抗体
(4)に印加し、その抵抗体の抵抗値を測定するという
ステツプを、印加パルス電圧を徐々に上げながら抵抗値
が所定範囲内、たとえば、基準値の±10%内に納まるま
で繰り返すという作業を全ての電極導体(3)間の抵抗
体(4)について施すものである。
This is, for example, a step of applying a pulse group with a unit of a voltage pulse of 1 μs to a resistor (4) of 1 unit via an electrode conductor (3) and measuring the resistance value of the resistor. , Is applied to the resistor (4) between all the electrode conductors (3) while gradually increasing the applied pulse voltage until the resistance value falls within a predetermined range, for example, within ± 10% of the reference value. is there.

電圧パルスを印加すると、抵抗値が低下するのは、抵抗
体(4)を構成している酸化ルテニウムとフリットガラ
スとの接触界面のMe−Is−Me(メタル−インシュレータ
−メタル)の不均質結合状態が電圧パルスを印加するこ
とにより、Me−Is−Meの結合状態が変化し、抵抗体
(4)の比抵抗が順次低下するためと推定できる。
When a voltage pulse is applied, the resistance value decreases because the inhomogeneous coupling of Me-Is-Me (metal-insulator-metal) at the contact interface between ruthenium oxide and frit glass that compose the resistor (4). It can be presumed that the state of applying the voltage pulse changes the state of coupling of Me-Is-Me, and the specific resistance of the resistor (4) gradually decreases.

この電圧パルストリミングを終えたのち、従来の製造工
程と同様のIC実装,ワイヤボンディング,モールディン
グの各工程を終えて、サーマルヘッドの製造工程が終了
する。
After the voltage pulse trimming is completed, the same steps of IC mounting, wire bonding, and molding as the conventional manufacturing process are completed, and the thermal head manufacturing process is completed.

このように、有機金ペーストを用いてグレーズ層(2)
上に厚さが0.4〜0.6μmである電極導体(3)の薄膜を
形成し、この電極導体の薄膜をフオトエッチング法で電
極パターンを形成するため、エッチングファクタをほぼ
零とすることができ、電極パターンの微細化が実現でき
る。
Thus, using the organic gold paste, the glaze layer (2)
Since a thin film of the electrode conductor (3) having a thickness of 0.4 to 0.6 μm is formed on the upper surface and an electrode pattern is formed on the thin film of the electrode conductor by the photo etching method, the etching factor can be made substantially zero. The electrode pattern can be miniaturized.

また、各電極導体(3)間の抵抗値を1単位づつ電極パ
ルストリミングを施して、抵抗値のばらつきが±10%内
に納まるように調整するので、印字の濃度ムラが生じな
い。
Further, the resistance value between the electrode conductors (3) is adjusted by performing electrode pulse trimming one unit at a time so that the dispersion of the resistance value is within ± 10%, so that the uneven density of printing does not occur.

また、耐磨耗層の表面の凹凸が小さくなって、感熱記録
紙との接触状態が良くなるので、印字ドツトの微細化と
印字速度の高速化が図れる。
In addition, since the unevenness of the surface of the abrasion resistant layer is reduced and the contact state with the thermal recording paper is improved, the printing dots can be miniaturized and the printing speed can be increased.

さらに、電極導体(3)は薄膜であるから、これを伝っ
て逃げる熱エネルギが少なくなって、サーマルヘッドの
駆動電力の低減が図れる。
Furthermore, since the electrode conductor (3) is a thin film, the heat energy that escapes through the electrode conductor (3) is reduced and the driving power of the thermal head can be reduced.

第2図は、この発明の一実施例と、薄膜形サーマルヘッ
ドとの駆動電力を比較した特性図で、縦軸は印字濃度
(OD)を、横軸は抵抗体の発熱エネルギ(mj)をそれぞ
れ示し、実線Aで示した実施例のサーマルヘッドが約2.
5mjであるのに対し、一点鎖線Bで示した薄膜形サーマ
ルヘッドと同等ないしは、それ以下の駆動電力でよいこ
とを示している。
FIG. 2 is a characteristic diagram comparing the driving power of one embodiment of the present invention with that of a thin-film thermal head. The vertical axis represents print density (OD) and the horizontal axis represents heat generation energy (mj) of the resistor. The thermal heads of the examples shown in solid line A are about 2.
While it is 5 mj, it shows that a driving power equal to or less than that of the thin-film thermal head shown by the chain line B is sufficient.

なお、上記比較例のサーマルヘッドは、グレーズ層
(2)の厚さ55μm、耐磨耗層(5)の厚さ8μm、発
熱抵抗体面積0.10×0.175mm2、分解能8ドツト/mm、抵
抗値のばらつき±10%のものである。
In the thermal head of the comparative example, the glaze layer (2) has a thickness of 55 μm, the abrasion resistant layer (5) has a thickness of 8 μm, the heating resistor area is 0.10 × 0.175 mm 2 , the resolution is 8 dots / mm, and the resistance value is Variation of ± 10%.

また、電極導体(3)の厚さが3.5μmである従来のサ
ーマルヘッドと、例えば厚さが0.6μmであるこの実施
例のサーマルヘッドとの駆動電力は、前者を100%とす
ると、後者は60%で足り、40%の低減が図れる。
The driving power of the conventional thermal head in which the thickness of the electrode conductor (3) is 3.5 μm and the thermal head of this embodiment in which the thickness is 0.6 μm is 100% for the former, the latter is 60% is enough and 40% can be reduced.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

この発明に係るサーマルヘッドは、絶縁性基板上のグレ
ーズ層に膜厚が0.15〜1.0μmの有機金ペーストを印刷
・焼成し導体薄膜を形成するので、導体薄膜の厚さが薄
く、電極パターンの微細化が図れるとともに、均一で平
坦な表面となるため、電極パターンにはワイヤボンディ
ング部を設けてワイヤボンディングが可能であり、密着
強度が強く、剥離しにくく、品質が向上する。
The thermal head according to the present invention forms a conductor thin film by printing and firing an organic gold paste having a film thickness of 0.15 to 1.0 μm on the glaze layer on the insulating substrate. Since it can be miniaturized and has a uniform and flat surface, wire bonding can be performed by providing a wire bonding portion on the electrode pattern, the adhesion strength is strong, peeling is difficult, and the quality is improved.

また、電極導体を伝って逃げる熱エネルギが少なくなる
ので、駆動電力の低減が図れる。
Further, since the thermal energy that escapes through the electrode conductor is reduced, the driving power can be reduced.

また、耐磨耗層の表面の凹凸が小さくなって、印字ドツ
トの微細化と印字速度の高速化が図れる。
Further, the unevenness of the surface of the abrasion resistant layer is reduced, so that the printing dots can be made finer and the printing speed can be increased.

また、抵抗体によって多数の発熱抵抗体を形成したの
ち、上記電極導体を介して上記発熱抵抗体に電圧パルス
を印加して抵抗値の調整を行うので、発熱抵抗体の抵抗
値のばらつきが少なくなって、印字の濃度ムラを防止す
ることができる。
In addition, since a large number of heating resistors are formed by the resistors and the resistance value is adjusted by applying a voltage pulse to the heating resistor via the electrode conductor, there is less variation in the resistance value of the heating resistor. As a result, it is possible to prevent uneven printing density.

さらに、印字ドツトの微細化が図れ、印字の濃度ムラが
防止できるため、印字の分解能が向上して、サーマルヘ
ッドの小型化を図ることができる。
Furthermore, since the printing dots can be made finer and unevenness in printing density can be prevented, the printing resolution can be improved and the thermal head can be miniaturized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の一実施例の製造工程を示す図、第2
図はこの発明の一実施例と薄膜形サーマルヘッドとの印
字特性の比較図、第3図は厚膜形サーマルヘッドの一般
的構成を示す断面図、第4図は従来の厚膜形サーマルヘ
ッドの製造工程を示す図、第5図は電極導体の剥離特性
を説明するための図である。 (1)……絶縁性基板、(2)……グレーズ層、(3)
……電極導体、(4)……抵抗体、(5)……耐磨耗
層。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
FIG. 1 is a diagram showing a manufacturing process of one embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a comparison diagram of printing characteristics between an embodiment of the present invention and a thin film type thermal head, FIG. 3 is a sectional view showing a general structure of a thick film type thermal head, and FIG. 4 is a conventional thick film type thermal head. FIG. 5 is a diagram showing the manufacturing process of, and FIG. 5 is a diagram for explaining the peeling property of the electrode conductor. (1) ... Insulating substrate, (2) ... Glaze layer, (3)
...... Electrode conductor, (4) ...... Resistor, (5) …… Abrasion resistant layer. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】絶縁性基板と、この絶縁性基板上に隣接し
て設けられたグレーズ層と、このグレーズ層上に膜厚が
0.15〜1.0μmの有機金ペーストを印刷・焼成して導体
薄膜を設けて所望のパターンに形成し、その所望のパタ
ーンの一部分をワイヤボンディング部として形成した電
極導体と、この電極導体の上記ワイヤボンディング部以
外の所定部分および上記グレーズ層上に設けられ、多数
の発熱低抗体を形成する抵抗体と、この抵抗体の一端が
上記電極導体のワイヤボンディング部にワイヤボンディ
ングされ、他端がICに電気的に接続される接続部材とを
備えたことを特徴とするサーマルヘッド。
1. An insulating substrate, a glaze layer provided adjacent to the insulating substrate, and a film thickness on the glaze layer.
An electrode conductor in which an organic gold paste having a thickness of 0.15 to 1.0 μm is printed and fired to form a conductor thin film to form a desired pattern, and a part of the desired pattern is formed as a wire bonding portion, and the above wire bonding of the electrode conductor. Other than a predetermined part and on the glaze layer, which forms a large number of low-heat-generating antibodies, one end of this resistor is wire-bonded to the wire bonding part of the electrode conductor, and the other end is electrically connected to the IC. A thermal head comprising: a connection member that is electrically connected.
【請求項2】絶縁性基板上にグレーズ層を形成する工程
と、上記グレーズ層上に膜厚が0.15〜1.0μmの有機金
ペーストを印刷・焼成して導体厚膜を設け、エッチング
によりワイヤボンディング部を有する所望の電極パター
ンの電極導体を形成する工程と、上記電極導体の所定部
分および上記グレーズ層上に抵抗体を設けて多数の発熱
抵抗体を形成する工程と、その後上記電極導体を介して
上記発熱抵抗体に電圧パルスを印加して上記発熱抵抗体
の抵抗値が所定範囲内になるように調整する工程と、上
記電極導体にワイヤボンディングする工程とを備えたこ
とを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。
2. A step of forming a glaze layer on an insulating substrate, and a conductor thick film is formed by printing and firing an organic gold paste having a film thickness of 0.15 to 1.0 μm on the glaze layer, and wire bonding is performed by etching. A step of forming an electrode conductor having a desired electrode pattern having a portion, a step of providing a resistor on a predetermined portion of the electrode conductor and the glaze layer to form a large number of heating resistors, and then through the electrode conductor. And a step of applying a voltage pulse to the heating resistor to adjust the resistance value of the heating resistor within a predetermined range, and wire bonding to the electrode conductor. Head manufacturing method.
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