JPH07142246A - Permanent magnet - Google Patents
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- JPH07142246A JPH07142246A JP31262893A JP31262893A JPH07142246A JP H07142246 A JPH07142246 A JP H07142246A JP 31262893 A JP31262893 A JP 31262893A JP 31262893 A JP31262893 A JP 31262893A JP H07142246 A JPH07142246 A JP H07142246A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、永久磁石に関し、更に
詳細には、R(ただし、RはYを含む希土類元素のうち
少なくとも1種以上)、T(ただし、TはFeまたはF
eおよびCo)およびBを含有し、実質的に正方晶系の
主相を有する永久磁石に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a permanent magnet, more specifically, R (where R is at least one of rare earth elements including Y), T (where T is Fe or F).
e and Co) and B, and having a substantially tetragonal main phase.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、Nd−Fe−B磁石等のR−Fe
−B系磁石が開発され、特開昭59−46008号公報
では焼結磁石が、また、特開昭60−9852号公報で
は高速急冷法による磁石がそれぞれ開示されている。2. Description of the Related Art In recent years, R-Fe such as Nd-Fe-B magnets
A -B type magnet has been developed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-46008 discloses a sintered magnet, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-9852 discloses a magnet by a rapid quenching method.
【0003】これらのものは、25MGOe以上の高エネ
ルギ積を示す高性能磁石であるが、主成分として酸化さ
れやすい希土類元素と鉄を含有するため、耐食性(特
に、耐湿性、耐塩水噴霧性)が低く、その結果、性能の
劣化、バラツキ等が問題になっている。These are high-performance magnets exhibiting a high energy product of 25 MGOe or more, but since they contain iron and a rare earth element which are easily oxidized as main components, they have corrosion resistance (particularly moisture resistance and salt spray resistance). Is low, and as a result, deterioration of performance, variation, etc. are becoming problems.
【0004】このようなR−T−B系磁石の耐食性の低
さを改善する目的として、上記磁石の表面に、Niめっ
き、2層めっき、樹脂塗装、Snめっき等を施す技術が
提案されている(特開昭60−54406号公報、特開
昭60−63901号公報、特開平2−216802号
公報、特開平5−29118号公報等)。For the purpose of improving the low corrosion resistance of such RTB magnets, there has been proposed a technique of applying Ni plating, two-layer plating, resin coating, Sn plating or the like on the surface of the magnet. (JP-A-60-54406, JP-A-60-63901, JP-A-2-216802, JP-A-5-29118).
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近では、
上記R−T−B系磁石の高性能性から産業機械、自動車
等への用途の拡大の要求が高まり、それに伴い、従来の
耐湿性、耐塩水噴霧性に加えて、高温での接着性、耐油
性(特に硫黄を含むもの)が要求されるに至ったが、従
来の処理による永久磁石では、これらの要求を満足する
ものはなかった。By the way, recently,
Due to the high performance of the R-T-B magnets, there is an increasing demand for expansion of applications to industrial machines, automobiles, etc., and accordingly, in addition to conventional moisture resistance and salt spray resistance, adhesiveness at high temperatures, Oil resistance (especially one containing sulfur) has come to be required, but no permanent magnet by conventional treatment satisfies these requirements.
【0006】そこで、本発明は、従来の耐湿性、耐塩水
噴霧性に加えて、高温での接着性および耐油性(特に硫
黄を含むもの)の全てに優れた永久磁石を提供すること
を目的とするものである。Therefore, the object of the present invention is to provide a permanent magnet excellent in all of the adhesiveness at high temperature and the oil resistance (especially those containing sulfur) in addition to the conventional moisture resistance and salt spray resistance. It is what
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(7)の本発明により達成される。 (1)R(ただし、RはYを含む希土類元素のうち少な
くとも1種以上)、T(ただし、TはFeまたはFeお
よびCo)およびBを含有し、実質的に正方晶系の主相
を有する永久磁石体表面にNiめっき層を有し、このN
iめっき層上にSnめっき層が形成されていることを特
徴とする永久磁石。 (2)前記Snめっき層の膜厚が0.05μm 以上10
μm 以下である上記(1)に記載の永久磁石。 (3)前記Snめっき層が中性めっき浴により設層され
る上記(1)または(2)に記載の永久磁石。 (4)前記Niめっき層の膜厚が3μm 以上20μm 以
下である上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の永
久磁石。 (5)前記Niめっき層とSnめっき層の少なくとも界
面に、NiとSnの金属間化合物層が形成されている上
記(1)ないし(4)のいずれかに記載の永久磁石。 (6)前記NiとSnの金属間化合物がNi3 Sn、N
i3 Sn2 およびNi3 Sn4 のうち少なくとも1種以
上である上記(5)に記載の永久磁石。 (7)前記NiとSnの金属間化合物層の厚さが0.0
1μm 以上である上記(5)または(6)に記載の永久
磁石。These objects are achieved by the present invention described in (1) to (7) below. (1) R (wherein R is at least one of rare earth elements including Y), T (where T is Fe or Fe and Co) and B are contained, and a substantially tetragonal main phase is formed. Having a Ni plating layer on the surface of the permanent magnet,
A permanent magnet having an Sn plating layer formed on an i plating layer. (2) The thickness of the Sn plating layer is 0.05 μm or more 10
The permanent magnet according to (1) above, which has a size of not more than μm. (3) The permanent magnet according to (1) or (2) above, wherein the Sn plating layer is formed by a neutral plating bath. (4) The permanent magnet as described in any of (1) to (3) above, wherein the thickness of the Ni plating layer is 3 μm or more and 20 μm or less. (5) The permanent magnet according to any one of (1) to (4) above, wherein an intermetallic compound layer of Ni and Sn is formed on at least an interface between the Ni plating layer and the Sn plating layer. (6) The intermetallic compound of Ni and Sn is Ni 3 Sn, N
The permanent magnet according to (5) above, which is at least one kind of i 3 Sn 2 and Ni 3 Sn 4 . (7) The thickness of the intermetallic compound layer of Ni and Sn is 0.0
The permanent magnet as described in (5) or (6) above, which is 1 μm or more.
【0008】[0008]
【作用および効果】本発明では、R−T−B系永久磁石
体表面に、Niめっき層を有し、このNiめっき層上に
Snめっき層が形成されている。これにより、本発明の
永久磁石においては、従来の耐湿性、耐塩水噴霧性に加
えて、高温での接着性および耐油性(特に硫黄を含むも
の)の全てが向上した。In the present invention, the RTB-based permanent magnet body has a Ni plating layer on the surface thereof, and the Sn plating layer is formed on the Ni plating layer. As a result, in the permanent magnet of the present invention, in addition to the conventional moisture resistance and salt spray resistance, adhesion at high temperature and oil resistance (particularly those containing sulfur) were improved.
【0009】[0009]
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。Specific Structure The specific structure of the present invention will be described in detail below.
【0010】〔前処理〕本発明においては永久磁石に保
護層を設層する前に、所定の処理液を用いて前処理を行
う。[Pretreatment] In the present invention, before the protective layer is formed on the permanent magnet, pretreatment is performed using a predetermined treatment liquid.
【0011】めっき前処理に用いる酸としては、塩酸、
硫酸等の非酸化性の酸が用いられることが多い。しか
し、特に永久磁石が希土類元素を含む場合には、これら
の酸を用いて処理を行うと、酸により発生する水素が、
永久磁石表面に吸蔵され、吸蔵部位が脆化して、多量の
粉状未溶解物が発生する。この粉状未溶解物は、保護層
の欠陥の原因となったり、密着性低下を引き起こしたり
するので、できれば、これらの非酸化性の酸は処理液に
含有させないことが好ましい。従って、用いる酸として
は水素の発生の少ない酸化性の酸である硝酸を用いるこ
とが好ましい。硝酸を用いることにより、その酸化作用
で磁石表面に化学エッチングが施され、肉眼では確認不
可能な程度の微細な凹凸構造が形成される。The acid used for the pretreatment of plating is hydrochloric acid,
Non-oxidizing acids such as sulfuric acid are often used. However, particularly when the permanent magnet contains a rare earth element, when treatment is performed using these acids, hydrogen generated by the acids is
It is occluded on the surface of the permanent magnet and the occluded site becomes brittle, and a large amount of powdery undissolved material is generated. Since this powdery undissolved substance causes defects in the protective layer or causes a decrease in adhesion, it is preferable that these non-oxidizing acids are not contained in the treatment liquid if possible. Therefore, it is preferable to use nitric acid, which is an oxidizing acid that generates less hydrogen, as the acid used. By using nitric acid, the surface of the magnet is chemically etched by its oxidizing action, and a fine concavo-convex structure that is invisible to the naked eye is formed.
【0012】本発明では処理液に、この硝酸のほかに、
アルドン酸またはその塩を含有させる。In the present invention, in addition to this nitric acid,
Contains aldonic acid or a salt thereof.
【0013】このアルドン酸またはその塩を含有させる
と、硝酸により溶出したFeイオンとアルドン酸塩が安
定なキレート化合物を形成し、Feよりイオン化傾向の
大きいNdの遊離Feイオンとの置換反応による溶解を
抑えることができる。したがって、アルドン酸やその塩
を添加することにより、硝酸のみでは局所的および突発
的に起る化学エッチングが、より穏やかに進行し、磁石
表面に、均質で、局所的に急激に深い凹部が存在しな
い、微細で均質な凹凸構造が形成され、保護層の密着性
を向上することができる。When this aldonic acid or its salt is contained, Fe ions eluted by nitric acid and aldonic acid salts form a stable chelate compound, and Nd, which has a greater ionization tendency than Fe, is dissolved by the substitution reaction with free Fe ions. Can be suppressed. Therefore, by adding aldonic acid or its salt, chemical etching, which occurs locally and suddenly only with nitric acid, proceeds more gently, and there is a uniform and locally deep deep recess on the magnet surface. No, a fine and uniform uneven structure is formed, and the adhesion of the protective layer can be improved.
【0014】そして、このような密着性の向上は、アル
ドン酸またはその塩によって選択的に実現し、他のキレ
ート剤、例えばクエン酸、酒石酸等では実現しない。Such improvement in adhesion is selectively realized by aldonic acid or a salt thereof, and is not realized by other chelating agents such as citric acid and tartaric acid.
【0015】このような前処理による磁石体の溶解量
は、表面から、平均厚みで5μm 以上、より好ましく
は、10〜15μm とするのが好適である。5μm 未満
の溶解量では磁石体表面の加工による変質層、酸化層を
完全に除去することができないために十分な密着性が得
られない。The amount of dissolution of the magnet body by such pretreatment is 5 μm or more in average thickness from the surface, and more preferably 10 to 15 μm. When the dissolved amount is less than 5 μm, the deteriorated layer and the oxide layer due to the processing of the surface of the magnet cannot be completely removed, so that sufficient adhesion cannot be obtained.
【0016】また、凹凸の平均深さ(谷から山までの深
さ)は、1〜5μm 程度が好ましい。また凹凸の平均ピ
ッチは10〜50μm 程度であることが好ましい。これ
らにより密着性が向上する。The average depth of the irregularities (the depth from the valleys to the peaks) is preferably about 1 to 5 μm. The average pitch of the irregularities is preferably about 10 to 50 μm. These improve the adhesion.
【0017】このような前処理に用いられる処理液の硝
酸の濃度は1規定以下、特に0.6規定以下、より好ま
しくは0.5規定以下とするのが望ましい。硝酸濃度が
1規定を越える場合には、磁石体の溶解速度が極めて早
くなり、溶解量の制御が困難で所望の寸法精度の製品を
得ることができない。またバレル処理のような大量処理
に際しては処理状態のバラツキも大きくなる。また、硝
酸濃度がうすいと、液量が多くなりすぎ、溶解量が不足
してくる。このため硝酸濃度は1規定以下、特に好まし
くは0.05〜0.5規定が望ましい。It is desirable that the concentration of nitric acid in the treatment liquid used for such pretreatment is 1 N or less, particularly 0.6 N or less, and more preferably 0.5 N or less. When the nitric acid concentration exceeds 1 N, the dissolution rate of the magnet body becomes extremely high, and it is difficult to control the amount of dissolution, so that a product with desired dimensional accuracy cannot be obtained. In addition, when a large amount of processing such as barrel processing is performed, variations in processing state become large. Further, when the nitric acid concentration is low, the amount of liquid becomes too large, and the amount of dissolution becomes insufficient. Therefore, the nitric acid concentration is preferably 1 N or less, particularly preferably 0.05 to 0.5 N.
【0018】処理液に添加されるアルドン酸またはその
塩の添加量は、処理時に溶解するFeと等モル以上とす
るのが好ましい。アルドン酸やその塩の添加量が処理終
了時に処理液に溶解しているFe量の等モル未満である
と、凹凸形成作用が十分でなく、密着性が低くなり好ま
しくない。The addition amount of aldonic acid or its salt added to the treatment liquid is preferably equimolar or more to Fe dissolved during the treatment. If the addition amount of aldonic acid or its salt is less than the equimolar amount of Fe dissolved in the treatment liquid at the end of treatment, the effect of forming irregularities is insufficient and the adhesiveness is lowered, which is not preferable.
【0019】処理終了時のFe溶解量は、1〜10g/リ
ットル程度とする。従ってアルドン酸またはその塩は、
一般に0.02〜0.2モル/リットル程度含有させ
る。すなわち、バッチ処理により溶解処理を行い、この
ようなFe溶解量となったとき処理液を廃棄すればよ
い。The amount of Fe dissolved at the end of the treatment is about 1 to 10 g / liter. Therefore, aldonic acid or its salt is
Generally, it is contained in an amount of about 0.02 to 0.2 mol / liter. That is, the dissolution treatment may be performed by a batch treatment, and the treatment liquid may be discarded when the Fe dissolution amount is reached.
【0020】アルドン酸またはその塩はHOCH2 (C
HOH)nCOOY(YはHまたはカチオン)で示され
る化合物であり、例えばn=3〜5のグルコン酸、アラ
ボン酸、マンノン酸、ガラクトン酸、ヘプトン酸等いず
れであってもよい。この場合、特に純度の高い試薬を入
手可能な点では、これらのアルカリ金属塩が好ましい。Aldonic acid or its salt is HOCH 2 (C
HOH) nCOOY (Y is H or a cation), and may be any of gluconic acid, arabonic acid, mannonic acid, galactonic acid, heptonic acid, etc., having n = 3 to 5, for example. In this case, these alkali metal salts are preferable from the viewpoint that a reagent having a particularly high purity can be obtained.
【0021】これらのうち、特に、グルコン酸ナトリウ
ム、グルコン酸カリウム、ヘプトン酸ナトリウム等は最
も好適に使用でき、粉状未溶解物を増加させることな
く、均一で微細な凹凸を形成することができる。Of these, sodium gluconate, potassium gluconate, sodium heptonate, etc. are most preferably used, and uniform and fine irregularities can be formed without increasing the powdery undissolved matter. .
【0022】酸処理液には、アルドン酸やその塩以外
に、例えばクエン酸、酒石酸、オキシ酢酸等のヒドロキ
シカルボン酸の塩が加えられることがあるが、これらを
添加した場合にはアルドン酸やその塩を加えた場合に認
められる微細な凹凸の形成作用が得られず、本発明にお
けるような密着性の改善が達成できない。また、粉状未
溶解物量も増加する。In addition to aldonic acid and its salts, salts of hydroxycarboxylic acids such as citric acid, tartaric acid and oxyacetic acid may be added to the acid treatment liquid. When the salt is added, the effect of forming fine irregularities, which is observed when the salt is added, cannot be obtained, and the improvement in adhesion as in the present invention cannot be achieved. In addition, the amount of powdery undissolved material also increases.
【0023】さらに、酸処理液には、ラウリル硫酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等
の界面活性剤が加えられる場合があるが、本発明の処理
液にこれらを加えた場合には、粉状未溶解物の増加を招
き、また処理後の磁石体表面への吸着も起こって密着性
を逆に低下させるため望ましくない。Further, a surfactant such as sodium lauryl sulfate or polyoxyethylene nonylphenyl ether may be added to the acid treatment liquid, but when these are added to the treatment liquid of the present invention, a powdery form is obtained. This is not desirable because it causes an increase in undissolved substances and also causes adsorption to the surface of the magnet body after the treatment, which adversely reduces the adhesion.
【0024】処理液による処理温度は40℃以下、特に
30℃以下、より好ましくは20℃以下とするのがよ
い。処理温度が40℃を越える場合には、硝酸による磁
石体溶解作用が優勢となり、アルドン酸塩の添加効果が
消失してしまうため、好ましくない。なお、処理時間は
処理液組成、温度、所望のエッチング量によって適宜調
整すればよいが通常1〜20分間とするのが好ましい。The treatment temperature with the treatment liquid is 40 ° C. or lower, particularly 30 ° C. or lower, and more preferably 20 ° C. or lower. If the treatment temperature exceeds 40 ° C, the action of nitric acid to dissolve the magnet body becomes predominant, and the effect of adding the aldonate disappears, which is not preferable. The treatment time may be appropriately adjusted depending on the composition of the treatment liquid, the temperature, and the desired etching amount, but it is usually preferably 1 to 20 minutes.
【0025】このような、前処理を行った磁石体表面か
ら少量の未溶解物および、残存酸成分を完全に除去する
ため、超音波を使用した洗浄を実施することが好まし
い。この超音波洗浄は、イオン交換水等の塩素イオン含
有量の少ない水、若しくはそれに残存酸の中和を目的と
した少量の塩基性化合物を溶解した溶液中で行うのが望
ましい。洗浄液に塩素イオンが含まれると磁石表面に錆
が発生する原因となる。In order to completely remove a small amount of undissolved substances and residual acid components from the surface of the magnet body thus pretreated, it is preferable to carry out cleaning using ultrasonic waves. This ultrasonic cleaning is preferably performed in water having a low chlorine ion content such as ion-exchanged water, or a solution in which a small amount of a basic compound for the purpose of neutralizing the residual acid is dissolved. If chlorine ions are contained in the cleaning liquid, it may cause rust on the magnet surface.
【0026】また必要に応じて、前記超音波洗浄の前後
に同様な水あるいは塩基性水溶液による浸漬洗浄を行っ
てもよい。更に、前記前処理を行う前に磁石体の加工方
法・保存状態に応じて、機械的な研磨処理および、めっ
き前処理として通常行われる浸漬または電解脱脂処理も
しくはアルカリ脱錆処理を行っても良い。If necessary, the same immersion cleaning with water or a basic aqueous solution may be performed before and after the ultrasonic cleaning. Furthermore, before performing the pretreatment, mechanical polishing treatment and dipping or electrolytic degreasing treatment or alkali derusting treatment usually performed as plating pretreatment may be performed depending on the processing method and storage state of the magnet body. .
【0027】なお、前記前処理においては、超音波印加
を、行わないことが好ましい。凹凸が大きくなりすぎる
場合があるからである。In the pretreatment, it is preferable not to apply ultrasonic waves. This is because the unevenness may become too large.
【0028】〔Niめっき層〕洗浄を行った磁石表面上
に電気めっきにより保護層を設層する。保護膜を電気め
っきにより設層することにより、量産性に優れた高性能
耐食膜を形成することができる。[Ni Plating Layer] A protective layer is formed on the cleaned magnet surface by electroplating. By forming the protective film by electroplating, it is possible to form a high-performance corrosion resistant film having excellent mass productivity.
【0029】このようにして形成される保護層はNiを
主成分とすることが好ましい。The protective layer thus formed preferably contains Ni as a main component.
【0030】保護層としてNiを用いることにより、保
護層の強度を高め、優れた防錆効果を得ることができ
る。このようなNiの電気めっきに用いるめっき浴とし
ては、塩化ニッケル成分を含有しないワット浴、スルフ
ァミン酸浴や、ホウフッ化浴、臭化ニッケル浴等が挙げ
られる。ただし、この場合陽極の溶解が少なくなるた
め、ニッケルイオンを浴に補充する必要が生じる。この
ニッケルイオンは、硫酸ニッケルあるいは臭化ニッケル
の溶液として補充するのが好ましい。By using Ni as the protective layer, the strength of the protective layer can be increased and an excellent antirust effect can be obtained. Examples of the plating bath used for the electroplating of Ni include a Watt bath containing no nickel chloride component, a sulfamic acid bath, a borofluoride bath, a nickel bromide bath, and the like. However, in this case, since the dissolution of the anode is reduced, it is necessary to replenish the bath with nickel ions. This nickel ion is preferably supplemented as a solution of nickel sulfate or nickel bromide.
【0031】例えば、これらのうちでは、より高い剥離
強度を示すスルファミン酸浴を用いることが好ましく、
以下の組成のものが挙げられる。For example, among these, it is preferable to use a sulfamic acid bath showing a higher peel strength,
The following composition is mentioned.
【0032】 Ni(NH2 SO3 )2 ・4H2 O 150〜600g/リットル NiBr2 ・6H2 O 0〜30g/リットル ホウ酸 30〜60g/リットル[0032] Ni (NH 2 SO 3) 2 · 4H 2 O 150~600g / l NiBr 2 · 6H 2 O 0~30g / l boric acid 30 to 60 g / l
【0033】この際、浴中の水も塩素を含有しないこと
が好ましく、浴中の塩素量は100ppm 以下とすること
が好ましい。このように、めっき浴から塩素成分を除く
ことによって主に経時によるフクレの発生を防止するこ
とができる。At this time, it is preferable that the water in the bath also does not contain chlorine, and the amount of chlorine in the bath is preferably 100 ppm or less. As described above, by removing the chlorine component from the plating bath, it is possible to mainly prevent the generation of blisters over time.
【0034】めっき条件は、pH3〜6、特に好ましく
は4〜5、温度30〜70℃、電流密度0.1〜10A/
dm2 程度とすればよい。pHがこの範囲未満では、磁石
体が溶解してしまい、pHがこの範囲を超えると水酸化
ニッケルの沈澱が折出して、めっき膜が脆くなってしま
う。また、電流密度がこの範囲未満では、めっき膜中へ
の、例えばCu、Co等の不純物の共折が多く、外観の
悪い耐食性の低い膜となってしまい、電流密度がこの範
囲を超えると陰極近傍での水素発生が増大して磁性体に
吸蔵され、密着性低下の原因となる。The plating conditions are pH 3-6, particularly preferably 4-5, temperature 30-70 ° C., current density 0.1-10 A /
It should be about dm 2 . If the pH is below this range, the magnet body will dissolve, and if the pH exceeds this range, nickel hydroxide precipitates and the plating film becomes brittle. Further, if the current density is less than this range, impurities such as Cu and Co often co-fold in the plated film, resulting in a film with poor appearance and low corrosion resistance. Hydrogen generation in the vicinity increases and is absorbed by the magnetic material, which causes a decrease in adhesion.
【0035】本発明においては、上記Niめっき層の膜
厚は、3〜20μm 程度、好ましくは10〜20μm 程
度に設定する。この範囲の膜厚であれば、保護層として
の機能は十分であり、しかも磁気特性が低下することは
ない。In the present invention, the thickness of the Ni plating layer is set to about 3 to 20 μm, preferably about 10 to 20 μm. When the film thickness is in this range, the function as a protective layer is sufficient and the magnetic characteristics are not deteriorated.
【0036】本発明においては、必要に応じてめっき技
術ガイドブック(東京鍍金材料共同組合発行)115ペ
ージに記載されているような自然電位の異なる公知のダ
ブルニッケルめっき、トリニッケルめっき等の耐食性向
上を目的とした多層めっきも好ましく用いることができ
る。なお、塩化物を含む通常のワット浴、スルファミン
浴を用いた場合でも本発明の密着性の向上、耐食性の向
上効果を得ることができる。In the present invention, if necessary, corrosion resistance improvement such as known double nickel plating and tri-nickel plating having different natural potentials as described in page 115 of the plating technology guidebook (published by Tokyo Plating Materials Cooperative Association). Multilayer plating for the purpose can also be preferably used. Even when a normal Watts bath or a sulfamine bath containing chloride is used, the effect of improving the adhesion and the corrosion resistance of the present invention can be obtained.
【0037】これらの電気めっきによる保護層の設層に
際しては磁石体の寸法・形状に応じてラックめっき法ま
たはバレルめっき法を適宜適用する。When forming the protective layer by electroplating, a rack plating method or a barrel plating method is appropriately applied depending on the size and shape of the magnet body.
【0038】一般に、ラックめっき法で処理されるよう
な寸法の大きい磁石体では無欠陥な保護層を必要とする
面積が広いため、保護層厚みを厚くする必要があり、一
方、バレルめっき法で大量に処理されるような表面積が
小さく、自重数十g 以下の磁石体における電気めっきの
みによる望ましい保護層厚みは比較的薄くてよい。Generally, in a magnet body having a large size which is processed by the rack plating method, a protective layer which is defect-free has a large area, so that it is necessary to increase the thickness of the protective layer, while the barrel plating method is used. A desirable protective layer thickness by only electroplating in a magnet body having a small surface area that can be processed in a large amount and having a weight of several tens g or less may be relatively thin.
【0039】〔Snめっき層〕本発明においては、上記
Niめっき層の上にSnめっき層が形成される。[Sn Plating Layer] In the present invention, a Sn plating layer is formed on the Ni plating layer.
【0040】このSnめっき層は、従来から知られてい
るピロリン酸、有機カルボン酸等の中性浴、硫酸等の酸
性浴等を用いた電気めっき法によって形成される。This Sn plating layer is formed by an electroplating method using a conventionally known neutral bath of pyrophosphoric acid, organic carboxylic acid, etc., acid bath of sulfuric acid, etc.
【0041】例えば、これらのうちでは、半田付け試験
で、より高い圧縮せん断強度を示す中性浴を用いること
が好ましく、その中の一つである中性ピロリン酸浴の組
成を以下に挙げる。For example, among these, it is preferable to use a neutral bath which exhibits higher compressive shear strength in the soldering test, and one of them is the composition of the neutral pyrophosphate bath.
【0042】SnSO4 35〜60g/リットル K4 P2 O7 125〜200g/リットル 有機添加剤 0.1〜10g/リットルSnSO 4 35-60 g / liter K 4 P 2 O 7 125-200 g / liter Organic additive 0.1-10 g / liter
【0043】めっき条件は、pH7.5〜9.0、温度
25〜55℃、電流密度0.1〜5A/dm2 とすればよ
い。温度がこの範囲未満では、光沢は良くなるが、均一
電着性と電流効率が低下し、温度がこの範囲を超える
と、光沢不良と4価スズの増加による均一電着性と電流
効率の低下を招く。また、電流密度がこの範囲未満で
は、めっき膜中への、例えばNi,Cu,Pb等の不純
物の共析が多くなりすぎ、外観および耐食性の悪い膜と
なってしまい、電流密度がこの範囲を超えると、電流効
率が低下し、陰極近傍での水素発生が増大してNiめっ
き膜を通して磁性体に吸蔵され、密着性低下の原因とな
る。The plating conditions may be pH 7.5 to 9.0, temperature 25 to 55 ° C., and current density 0.1 to 5 A / dm 2 . If the temperature is lower than this range, the gloss will be good, but the uniform electrodeposition property and current efficiency will decrease. If the temperature exceeds this range, the uniform electrodeposition property and current efficiency will decrease due to poor gloss and an increase in tetravalent tin. Invite. On the other hand, if the current density is less than this range, eutectoids of impurities such as Ni, Cu, Pb in the plated film become too much, resulting in a film with poor appearance and corrosion resistance. When it exceeds, the current efficiency is lowered, hydrogen generation near the cathode is increased, and hydrogen is absorbed by the magnetic material through the Ni plating film, which causes a decrease in adhesion.
【0044】本発明において、Snめっき層の膜厚は、
0.05〜10μm 、望ましくは0.1〜5μm 、特に
0.1〜1μm に設定することが望ましい。Snめっき
層の膜厚がこの範囲未満では膜厚制御が困難であり、耐
塩水噴霧性、耐油性が不十分となり、この範囲を超える
と、膜応力の差が顕著となり、Niめっきとの密着性が
低下するとともに、外観が光沢から無光沢(灰色)とな
り、被膜の表面形態が変化し、耐塩水噴霧性が低下する
からである。In the present invention, the thickness of the Sn plating layer is
It is desirable to set it to 0.05 to 10 μm, preferably 0.1 to 5 μm, and particularly 0.1 to 1 μm. When the thickness of the Sn plating layer is less than this range, it is difficult to control the film thickness, and salt spray resistance and oil resistance become insufficient. When it exceeds this range, the difference in film stress becomes remarkable, and adhesion with Ni plating This is because the appearance is changed from gloss to matte (gray), the surface morphology of the coating is changed, and the salt water spray resistance is reduced.
【0045】なお、本発明のSnめっき層においては、
5wt%未満の範囲において、Pb,Sb,Cu,Fe等
の不純物を含んでいてもよい。In the Sn plating layer of the present invention,
Impurities such as Pb, Sb, Cu and Fe may be contained in the range of less than 5 wt%.
【0046】〔Ni−Sn金属間化合物〕本発明におい
ては、上記Niめっき層とSnめっき層の少なくとも界
面に、Ni−Sn金属間化合物層、特に安定なNi3 S
n、Ni3 Sn2 およびNi3 Sn4 のうち少なくとも
1種以上が形成された層が存在することが望ましい。[Ni—Sn Intermetallic Compound] In the present invention, a Ni—Sn intermetallic compound layer, particularly stable Ni 3 S, is provided at least at the interface between the Ni plating layer and the Sn plating layer.
It is desirable that there is a layer in which at least one of n, Ni 3 Sn 2 and Ni 3 Sn 4 is formed.
【0047】上記Ni−Sn金属間化合物層の厚さは、
Niめっき層とSnめっき層の界面に0.01μm 以上
あることが望ましく、Snめっき層全体がNi−Sn金
属間化合物となっていてもよい。従って、Ni−Sn金
属間化合物層の厚さの上限は特に存在しないが、熱処理
等の経済性を考えると、2〜3μm 程度あればよい。The thickness of the Ni-Sn intermetallic compound layer is
It is desirable that the interface between the Ni plating layer and the Sn plating layer be 0.01 μm or more, and the entire Sn plating layer may be a Ni—Sn intermetallic compound. Therefore, the upper limit of the thickness of the Ni-Sn intermetallic compound layer does not exist, but in view of economical efficiency such as heat treatment, it may be about 2 to 3 µm.
【0048】上記Ni−Sn金属間化合物層の厚さが、
0.01μm 未満の場合には、X線回折ではNi−Sn
金属間化合物は検出されないレベルであり、半田付けに
よる接着強度の向上は認められない。The thickness of the Ni-Sn intermetallic compound layer is
If it is less than 0.01 μm, it is Ni-Sn by X-ray diffraction.
The level of intermetallic compounds was not detected, and no improvement in adhesive strength due to soldering was observed.
【0049】上記Ni−Sn金属間化合物層は、磁石本
体上にNiめっき層とSnめっき層を施したものを、8
0〜200℃の雰囲気下で、30分〜20時間熱処理す
ることによって形成される。この処理は、大気中で行っ
てよい。温度がこの範囲未満では、金属間化合物の形成
は難しく、温度がこの範囲を超えると、過度の熱処理と
なり、変色が著しく、また、Niめっきと磁石本体との
密着性が低下する。The Ni—Sn intermetallic compound layer is formed by applying a Ni plating layer and a Sn plating layer on the magnet body, and
It is formed by performing heat treatment for 30 minutes to 20 hours in an atmosphere of 0 to 200 ° C. This treatment may be performed in the atmosphere. If the temperature is less than this range, it is difficult to form an intermetallic compound, and if the temperature exceeds this range, excessive heat treatment causes excessive discoloration, and the adhesion between the Ni plating and the magnet body decreases.
【0050】また、時間がこの範囲未満であると、処理
物の形状等により実温に達しない場合があり、熱処理不
十分となってしまう。一方、20時間を超えた場合、熱
処理の効果は変わらず、生産性が著しく低下する。If the time is less than this range, the actual temperature may not be reached due to the shape of the object to be treated and the heat treatment will be insufficient. On the other hand, when it exceeds 20 hours, the effect of heat treatment does not change and the productivity is remarkably reduced.
【0051】ここで、熱処理によるNi−Sn金属間化
合物の形成の具体例を図1に示す。Here, FIG. 1 shows a specific example of the formation of the Ni—Sn intermetallic compound by heat treatment.
【0052】〔永久磁石体〕本発明において保護層が表
面に設層される永久磁石体は、R(ただし、RはYを含
む希土類元素の1種以上)、FeおよびBを含有するも
のである。[Permanent Magnet Body] In the present invention, the permanent magnet body having the protective layer formed on the surface thereof contains R (where R is at least one rare earth element including Y), Fe and B. is there.
【0053】R、FeおよびBの含有量は、 5.5at%≦R≦30at% 42at%≦Fe≦90at% 2at%≦B≦28at% であることが好ましい。The contents of R, Fe and B are preferably 5.5 at% ≤R≤30 at% 42 at% ≤Fe≤90 at% 2 at% ≤B≤28 at%.
【0054】特に、永久磁石体を焼結法により製造する
場合、下記の組成であることが好ましい。In particular, when the permanent magnet body is manufactured by a sintering method, the following composition is preferable.
【0055】希土類元素Rとしては、Nd、Pr、H
o、Tbのうち少なくとも1種、あるいはさらに、L
a、Sm、Ce、Gd、Er、Eu、Pm、Tm、Y
b、Yのうち1種以上を含むものが好ましい。As the rare earth element R, Nd, Pr, H
at least one of o and Tb, or L
a, Sm, Ce, Gd, Er, Eu, Pm, Tm, Y
Those containing at least one of b and Y are preferable.
【0056】なお、Rとして2種以上の元素を用いる場
合、原料としてミッシュメタル等の混合物を用いること
もできる。When two or more elements are used as R, a mixture of misch metal or the like can be used as a raw material.
【0057】Rの含有量は、上記のように5.5〜30
at%であることが好ましく、その理由は、5.5at%未
満では、結晶構造がα−鉄と同一構造の立方晶組織とな
るため、高い保磁力(iHc)が得られず、30at%を
超えると、Rリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密
度(Br)が低下するからである。The content of R is 5.5 to 30 as described above.
At% is preferable, and the reason is that if it is less than 5.5 at%, a high coercive force (iHc) cannot be obtained because the crystal structure has a cubic crystal structure having the same structure as α-iron, and 30% by This is because if it exceeds, the R-rich nonmagnetic phase increases and the residual magnetic flux density (Br) decreases.
【0058】Feの含有量は、上記のように42〜90
at%であることが好ましく、その理由は、Feが42at
%未満であるとBrが低下し、90at%を超えるとiH
cが低下するからである。The Fe content is 42 to 90 as described above.
It is preferably at% because the Fe content is 42 at
If it is less than%, Br decreases, and if it exceeds 90 at%, iH
This is because c decreases.
【0059】Bの含有量は、上記のように2〜28at%
であることが好ましく、その理由は、Bが2at%未満で
あると菱面体組織となるためiHcが不十分であり、2
8at%を超えるとBリッチな非磁性相が多くなるため、
Brが低下するからである。The content of B is 2 to 28 at% as described above.
The reason is that if B is less than 2 at%, a rhombohedral structure is formed, so that iHc is insufficient.
If it exceeds 8 at%, the B-rich nonmagnetic phase increases,
This is because Br decreases.
【0060】なお、Feの一部をCoで置換することに
より、磁気特性を損うことなく温度特性を改善すること
ができる。この場合、Co置換量がFeの50%を超え
ると磁気特性が劣化するため、Co置換量は50%以下
とすることが好ましい。By replacing a part of Fe with Co, the temperature characteristics can be improved without deteriorating the magnetic characteristics. In this case, if the Co substitution amount exceeds 50% of Fe, the magnetic characteristics deteriorate, so the Co substitution amount is preferably 50% or less.
【0061】また、R、FeおよびBの他、不可避的不
純物としてNi、Si、Al、Cu、Ca等が全体の3
at%以下含有されていてもよい。Further, in addition to R, Fe and B, Ni, Si, Al, Cu, Ca, etc. are inevitably contained in the total 3 as inevitable impurities.
It may be contained at at% or less.
【0062】さらに、Bの一部を、C、P、S、Cuの
うちの1種以上で置換することにより、生産性の向上お
よび低コスト化が実現できる。この場合、置換量は全体
の4at%以下であることが好ましい。また、保磁力の向
上、生産性の向上、低コスト化のために、Al、Ti、
V、Cr、Mn、Bi、Nb、Ta、Mo、W、Sb、
Ge、Sn、Zr、Ni、Si、Hf等の1種以上を添
加してもよい。この場合、添加量は総計で10at%以下
とすることが好ましい。Furthermore, by substituting a part of B with at least one of C, P, S, and Cu, it is possible to improve the productivity and reduce the cost. In this case, the substitution amount is preferably 4 at% or less of the whole. In order to improve coercive force, productivity, and cost reduction, Al, Ti,
V, Cr, Mn, Bi, Nb, Ta, Mo, W, Sb,
You may add 1 or more types, such as Ge, Sn, Zr, Ni, Si, and Hf. In this case, the total addition amount is preferably 10 at% or less.
【0063】本発明における永久磁石体は、実質的に正
方晶系の結晶構造の主相を有する。この主相の粒径は、
1〜100μm 程度であることが好ましい。そして、通
常、体積比で1〜50%の非磁性相を含むものである。The permanent magnet body of the present invention has a main phase having a substantially tetragonal crystal structure. The particle size of this main phase is
It is preferably about 1 to 100 μm. And, it usually contains 1 to 50% by volume of a non-magnetic phase.
【0064】このような永久磁石体は、特開昭61−1
85910号公報等に開示されている。Such a permanent magnet body is disclosed in JP-A-61-1.
No. 85910 is disclosed.
【0065】上記のような永久磁石体は、以下に述べる
ような焼結法により製造されることが好ましい。まず、
所望の組成の合金を鋳造し、インゴットを得る。得られ
たインゴットを、スタンプミル等により粒径10〜10
0μm 程度に粗粉砕し、次いで、ボールミル等により
0.5〜5μm 程度の粒径に微粉砕する。The permanent magnet body as described above is preferably manufactured by a sintering method as described below. First,
An alloy having a desired composition is cast to obtain an ingot. The particle size of the obtained ingot is 10 to 10 by a stamp mill or the like.
Coarse pulverization to about 0 μm and then fine pulverization with a ball mill or the like to a particle size of about 0.5 to 5 μm.
【0066】得られた粉末を、好ましくは磁場中にて成
形する。この場合、磁場強度は10kOe 以上、成形圧力
は1〜5t/cm2 程度であることが好ましい。The powder obtained is preferably shaped in a magnetic field. In this case, the magnetic field strength is preferably 10 kOe or more, and the molding pressure is preferably about 1 to 5 t / cm 2 .
【0067】得られた成形体を、1000〜1200℃
で0.5〜5時間焼結し、急冷する。なお、焼結雰囲気
は、Arガス等の不活性ガス雰囲気であることが好まし
い。この後、好ましくは不活性ガス雰囲気中で、500
〜900℃にて1〜5時間時効処理を行う。The obtained molded body is heated to 1000 to 1200 ° C.
Sinter for 0.5-5 hours and quench. The sintering atmosphere is preferably an inert gas atmosphere such as Ar gas. After this, preferably in an inert gas atmosphere, 500
Aging treatment is performed at ˜900 ° C. for 1 to 5 hours.
【0068】[0068]
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below by showing specific examples of the present invention.
【0069】粉末治金法によって作成した27.4Nd
−3.0Dy−1.0B−残部Fe(数字は重量%)の
組成をもつ焼結体をアルゴン雰囲気中で600℃にて2
時間時効処理を施し、直径23.5mm、厚さ3.4mmの
大きさの円盤状に加工し、更にバレル研磨処理により面
取りを行って永久磁石を得た。27.4 Nd prepared by the powder metallurgy method
A sintered body having a composition of −3.0Dy−1.0B−the balance of Fe (the numbers are% by weight) was used in an argon atmosphere at 600 ° C.
A permanent magnet was obtained by subjecting to a time aging treatment, processing into a disk shape having a diameter of 23.5 mm and a thickness of 3.4 mm, and further chamfering by barrel polishing treatment.
【0070】上記試料100個を硝酸濃度:0.5N、
グルコン酸ナトリウム濃度:0.025モル/リットル
の処理液50リットルに10℃で3分間浸漬して表面層
を溶解した。平均溶解量は6μm であった。100 samples above were treated with nitric acid concentration: 0.5N,
The surface layer was dissolved by immersing in 50 liters of a treatment solution having a sodium gluconate concentration of 0.025 mol / liter at 10 ° C. for 3 minutes. The average amount of dissolution was 6 μm.
【0071】上記処理済みの試料をイオン交換水中で超
音波洗浄した後、下記に示す組成・条件のワット浴、ス
ルファミン酸浴を用いてバレル法によりNiめっきを行
った。After ultrasonically cleaning the above treated sample in ion-exchanged water, Ni plating was carried out by a barrel method using a Watt bath and a sulfamic acid bath having the following composition and conditions.
【0072】 無光沢ワット浴 NiSO4 ・6H2 O 280g/l NiCl2 ・6H2 O 45g/l ホウ酸 40g/l 浴温度 50℃ pH 4.5 平均陰極電流密度 0.3A/dm2 めっき膜厚 15μm [0072] dull Watts bath NiSO 4 · 6H 2 O 280g / l NiCl 2 · 6H 2 O 45g / l boric acid 40 g / l bath temperature 50 ° C. pH 4.5 average cathode current density of 0.3 A / dm 2 plating film Thickness 15 μm
【0073】ワット2層 下記に示す組成・条件のめっき浴を用いて第一層目の半
光沢ワットNiめっきを行った。Watt 2-layer The first layer of semi-bright watt Ni plating was performed using a plating bath having the composition and conditions shown below.
【0074】 NiSO4 ・6H2 O 280g/l NiCl2 ・6H2 O 45g/l ホウ酸 40g/l 市販半光沢剤(硫黄不含) 1.5ml/l 浴温度 50℃ pH 4.5 平均陰極電流密度 0.3A/dm2 めっき膜厚 10μm NiSO 4 .6H 2 O 280 g / l NiCl 2 .6H 2 O 45 g / l Boric acid 40 g / l Commercial semi-brightening agent (no sulfur) 1.5 ml / l Bath temperature 50 ° C. pH 4.5 Average cathode Current density 0.3A / dm 2 Plating film thickness 10μm
【0075】さらに、下記に示す組成・条件のめっき浴
を用いて光沢ワットNiめっきを行い2層めっきとし
た。Further, bright watt Ni plating was performed using a plating bath having the following composition and conditions to obtain a two-layer plating.
【0076】 NiSO4 ・6H2 O 280g/l NiCl2 ・6H2 O 50g/l ホウ酸 45g/l 市販光沢剤(硫黄系) 15ml/l 浴温度 50℃ pH 4.5 平均陰極電流密度 0.3A/dm2 めっき膜厚 5μm [0076] NiSO 4 · 6H 2 O 280g / l NiCl 2 · 6H 2 O 50g / l boric acid 45 g / l commercial brightener (sulfur-based) 15 ml / l bath temperature 50 ° C. pH 4.5 Average cathodic current density 0. 3A / dm 2 plating film thickness 5μm
【0077】 スルファミン酸浴 Ni(NH2 SO3 )2 ・4H2 O 180g/l NiBr2 ・6H2 O 5g/l ホウ酸 45g/l LiNH2 SO3 200g/l 浴温度 50℃ pH 4.5 平均陰極電流密度 0.3A/dm2 [0077] sulfamic acid bath Ni (NH 2 SO 3) 2 · 4H 2 O 180g / l NiBr 2 · 6H 2 O 5g / l boric acid 45g / l LiNH 2 SO 3 200g / l bath temperature 50 ° C. pH 4.5 Average cathode current density 0.3A / dm 2
【0078】次に下記に示す組成・条件の中性ピロリン
酸浴、酸性無光沢硫酸浴を用いてバレル法によりSnめ
っきを行った。Next, Sn plating was carried out by a barrel method using a neutral pyrophosphoric acid bath and an acidic matte sulfuric acid bath having the following composition and conditions.
【0079】 中性ピロリン酸浴 SnSO4 45g/l K4 P2 O7 165g/l 有機添加剤 2g/l 浴温度 30℃ pH 8.0 平均陰極電流密度 0.5A/dm2 Neutral pyrophosphate bath SnSO 4 45 g / l K 4 P 2 O 7 165 g / l Organic additive 2 g / l Bath temperature 30 ° C. pH 8.0 Average cathode current density 0.5 A / dm 2
【0080】 酸性無光沢硫酸浴 SnSO4 50g/l H2 SO4 100g/l クレゾールスルホン酸 100g/l β−ナフトール 1g/l ゼラチン 2g/l 浴温度 20℃ 平均陰極電流密度 1.5A/dm2 Acid matte sulfuric acid bath SnSO 4 50 g / l H 2 SO 4 100 g / l Cresolsulfonic acid 100 g / l β-naphthol 1 g / l Gelatin 2 g / l Bath temperature 20 ° C. Average cathode current density 1.5 A / dm 2
【0081】そして、NiめっきおよびSnめっきの処
理時間により、表1に示す膜厚にそれぞれ変えて、実施
例1〜9のサンプルを作製した。なお、これらの実施例
のサンプルにおいては、熱処理をせず、従ってNi−S
n金属間化合物層も存在しなかった。Samples of Examples 1 to 9 were prepared by changing the film thickness shown in Table 1 depending on the treatment time of Ni plating and Sn plating. It should be noted that the samples of these examples were not subjected to heat treatment and therefore Ni-S
There was also no n intermetallic compound layer.
【0082】[0082]
【表1】 [Table 1]
【0083】次に、上記実施例5のサンプルを用い、熱
処理条件を変えて、Niめっき層とSnめっき層の界面
にNi−Sn金属間化合物を形成し、表2に示すような
実施例10〜16のサンプルを作製した。Next, using the sample of Example 5 above, the heat treatment conditions were changed to form a Ni—Sn intermetallic compound at the interface between the Ni plating layer and the Sn plating layer, and Example 10 as shown in Table 2 was used. ~ 16 samples were made.
【0084】以上のサンプルのうち、熱処理を行なわな
い実施例5、および熱処理を行なった実施例15につ
き、X線回折により、Ni属とSn属の界面の構成を調
べたところ、実施例5においては、図1の(a)に示さ
れているように、Ni−Sn金属間化合物の存在が認め
られなかったが、実施例15においては、図1の(b)
に示されているようにNi3 Sn、Ni3 S2 、Ni3
Sn4 であるNi−Snの金属間化合物の存在が認めら
れた。なお、Ni−Sn金属間化合物層の膜厚の測定
は、斜め研磨SEM観察により行った。Of the above samples, the structure of the interface between the Ni group and the Sn group was examined by X-ray diffraction for Example 5 not subjected to heat treatment and Example 15 subjected to heat treatment. As shown in (a) of FIG. 1, the presence of the Ni—Sn intermetallic compound was not recognized, but in Example 15, (b) of FIG.
Ni 3 Sn, Ni 3 S 2 , Ni 3
The presence of a Ni—Sn intermetallic compound which is Sn 4 was observed. The film thickness of the Ni—Sn intermetallic compound layer was measured by oblique polishing SEM observation.
【0085】[0085]
【表2】 [Table 2]
【0086】また、比較のためNiめっきのみ、Snめ
っきのみ、Niと無電解Ni−Pの2層めっき、スプレ
ー塗装のみ、電着塗装のみ、Niめっき+電着塗装の表
面処理を行い、表3に示すような比較例1〜10のサン
プルを作製した。For comparison, surface treatments of Ni plating only, Sn plating only, two-layer plating of Ni and electroless Ni-P, spray coating only, electrodeposition coating only, Ni plating + electrodeposition coating were performed, and Samples of Comparative Examples 1 to 10 as shown in 3 were prepared.
【0087】[0087]
【表3】 [Table 3]
【0088】以上の実施例および比較例のサンプルにつ
き、下記の評価を行い、その結果を表4、5および6に
示した。The samples of the above Examples and Comparative Examples were evaluated as follows, and the results are shown in Tables 4, 5 and 6.
【0089】[0089]
【表4】 [Table 4]
【0090】[0090]
【表5】 [Table 5]
【0091】[0091]
【表6】 [Table 6]
【0092】〔耐湿試験〕プレッシャークッカーテスト
(120℃、100%RH,2atm )40時間および1
00時間での外観評価(個数:20個)評価結果は、各
評価時間での累積不良発生数で示した。[Moisture resistance test] Pressure cooker test (120 ° C., 100% RH, 2 atm) for 40 hours and 1
The results of appearance evaluation (number: 20) at 00 hours are shown by the cumulative number of defective occurrences at each evaluation time.
【0093】〔塩水噴霧試験〕塩水噴霧試験(35℃、
5wt%−NaCl〕24時間および48時間での外観評
価(個数:10個)評価結果は、各評価時間でのレイテ
ィングナンバで示した。[Salt Spray Test] Salt spray test (35 ° C.,
5 wt% -NaCl] Appearance evaluation (number: 10) at 24 hours and 48 hours was shown by rating numbers at each evaluation time.
【0094】〔SO2 ガス試験〕SO2 ガス試験(40
℃、75%RH、5ppm−SO2 )96時間でのSE
M−EDX観察(個数:1個)評価結果は、形態変化が
認められないものを○で示し、形態変化が観察されたも
のを×で示した。[SO 2 Gas Test] SO 2 gas test (40
SE at 96 ° C., 75% RH, 5 ppm-SO 2 )
Regarding the evaluation results of M-EDX observation (number: 1), those in which no morphological change was observed are indicated by ◯, and those in which morphological change was observed are indicated by x.
【0095】〔高温耐油試験(硫黄を含む油)〕高温耐
油試験(150℃、トランスミッションオイル(硫黄を
含む))300時間および600時間でのSEM−ED
X観察(個数:2個)評価結果は、形態変化が認められ
ないもの(図2の写真参照)を○で示し、形態変化が観
察されたもの(図3の写真参照)、あるいは被膜に油の
浸透が観察されたものを×で示した。[High temperature oil resistance test (oil containing sulfur)] High temperature oil resistance test (150 ° C., transmission oil (containing sulfur)) SEM-ED at 300 hours and 600 hours
The results of X observation (number: 2) are indicated by ◯ when no morphological change is observed (see the photograph in FIG. 2), and those in which the morphological change was observed (see the photograph in FIG. 3) or oil on the film. What was observed was the x mark.
【0096】ここで、図2および図3は実施例13のサ
ンプルの高温耐油試験600時間の試験前後の表面のS
EM写真であり、図4および図5は比較例2の高温耐油
試験300時間の試験前後のSEM写真である。なお、
300時間での試験で形態変化等が観察されたものにつ
いては、600時間の試験は行なわなかった。2 and 3 show the S of the surface of the sample of Example 13 before and after the high temperature oil resistance test for 600 hours.
4 and 5 are SEM photographs of Comparative Example 2 before and after the 300-hour high temperature oil resistance test. In addition,
The test for 600 hours was not carried out for those in which a morphological change was observed in the test for 300 hours.
【0097】〔半田付け試験〕SnめっきしたS45C
板に対して、サンプルを半田ペーストを用いて半田付け
(225℃、1時間)し、そのときの半田付け性および
高温(150℃)での圧縮せん断強度(個数:3個)半
田付け性の評価は、半田付け性が良好なものを○で示
し、半田付けが可能なものを△で示し、半田付けができ
ないものを×で示した。また、高温での圧縮せん断強度
の測定値をn=3の平均値で示した。なお、半田付けが
できなかったものについては、当然のことながら圧縮せ
ん断強度試験は行なわなかった。[Soldering Test] Sn-plated S45C
The sample was soldered to the plate using a solder paste (225 ° C., 1 hour), and the solderability at that time and the compressive shear strength (number: 3) at high temperature (150 ° C.) In the evaluation, those having good solderability are indicated by ◯, those which can be soldered are indicated by Δ, and those which cannot be soldered are indicated by ×. Further, the measured value of the compressive shear strength at high temperature is shown by the average value of n = 3. As a matter of course, the compressive shear strength test was not carried out for those that could not be soldered.
【0098】〔接着性試験〕サンプルをS45C板に対
して、以下の2種類の接着剤を用いて接着した場合の高
温(150℃)での圧縮せん断強度(個数:3個) a)通常タイプ:3M S/W−2214(硬化条件:
120℃、60分) b)耐熱タイプ:アラルダイト XN1244SR(硬
化条件:120℃、60分) 評価結果は、高温での圧縮せん断強度の測定値をn=3
の平均値で示した。[Adhesion Test] Compressive shear strength (number: 3) at high temperature (150 ° C.) when the sample is bonded to the S45C plate using the following two kinds of adhesives: a) Normal type : 3M S / W-2214 (Curing conditions:
120 ° C., 60 minutes) b) Heat resistant type: Araldite XN1244SR (Curing condition: 120 ° C., 60 minutes) The evaluation result is that the measured value of compressive shear strength at high temperature is n = 3.
The average value of
【0099】上記の表から本発明の効果が明らかであ
る。すなわち、本発明の保護層を有する永久磁石におい
ては、耐湿性、耐塩水噴霧性が良好なばかりでなく、従
来の保護層を有する永久磁石に比べて、高温耐油性(硫
黄を含む)、半田付け性改善による高温での接着強度が
向上した。The effects of the present invention are apparent from the above table. That is, in the permanent magnet having the protective layer of the present invention, not only the moisture resistance and the salt spray resistance are good, but also the high temperature oil resistance (including sulfur), the solder, as compared with the permanent magnet having the conventional protective layer. The adhesive strength at high temperature was improved due to the improved adhesiveness.
【0100】以上から明らかなように、本発明によれば
多方面で特性が良好で、産業機械や自動車の部品に好ま
しく用いることのできる永久磁石を得ることができる。As is apparent from the above, according to the present invention, it is possible to obtain a permanent magnet which has excellent characteristics in various fields and can be preferably used for parts of industrial machines and automobiles.
【図1】本発明の実施例5のサンプルと、実施例15の
サンプルについての被膜表面のX線回折パターンであ
る。FIG. 1 is an X-ray diffraction pattern of a coating surface for a sample of Example 5 of the present invention and a sample of Example 15.
【図2】図面代用写真であって、本発明の実施例13の
サンプルの高温耐油試験(硫黄を含む)600時間の試
験前の表面のSEM写真である。2 is a photograph as a substitute for a drawing, which is an SEM photograph of a surface of a sample of Example 13 of the present invention before the high temperature oil resistance test (including sulfur) for 600 hours. FIG.
【図3】図面代用写真であって、本発明の実施例13の
サンプルの高温耐油試験(硫黄を含む)600時間の試
験後の表面のSEM写真である。FIG. 3 is a photograph as a substitute for a drawing, which is an SEM photograph of a surface of a sample of Example 13 of the present invention after a high temperature oil resistance test (including sulfur) for 600 hours.
【図4】図面代用写真であって、本発明の比較例2のサ
ンプルの高温耐油試験(硫黄を含む)300時間の試験
前の表面のSEM写真である。FIG. 4 is a drawing-substitute photograph, which is a SEM photograph of the surface of a sample of Comparative Example 2 of the present invention before the high temperature oil resistance test (including sulfur) for 300 hours.
【図5】図面代用写真であって、本発明の比較例2のサ
ンプルの高温耐油試験(硫黄を含む)300時間の試験
後の表面のSEM写真である。5 is a drawing-substitute photograph, which is an SEM photograph of the surface of the sample of Comparative Example 2 of the present invention after the high temperature oil resistance test (including sulfur) for 300 hours.
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成6年2月2日[Submission date] February 2, 1994
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図2[Name of item to be corrected] Figure 2
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図2】 [Fig. 2]
【手続補正2】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図3[Name of item to be corrected] Figure 3
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図3】 [Figure 3]
【手続補正3】[Procedure 3]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図4[Name of item to be corrected] Fig. 4
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図4】 [Figure 4]
【手続補正4】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図5[Name of item to be corrected] Figure 5
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図5】 [Figure 5]
Claims (7)
うち少なくとも1種以上)、T(ただし、TはFeまた
はFeおよびCo)およびBを含有し、実質的に正方晶
系の主相を有する永久磁石体表面にNiめっき層を有
し、このNiめっき層上にSnめっき層が形成されてい
ることを特徴とする永久磁石。1. R (provided that R is at least one of rare earth elements including Y), T (provided that T is Fe or Fe and Co) and B, and is substantially tetragonal A permanent magnet having a Ni plating layer on the surface of a permanent magnet body having a phase, and an Sn plating layer formed on the Ni plating layer.
以上10μm 以下である請求項1に記載の永久磁石。2. The thickness of the Sn plating layer is 0.05 μm
The permanent magnet according to claim 1, having a size of not less than 10 μm.
設層される請求項1または2に記載の永久磁石。3. The permanent magnet according to claim 1, wherein the Sn plating layer is formed by a neutral plating bath.
0μm 以下である請求項1ないし3のいずれかに記載の
永久磁石。4. The thickness of the Ni plating layer is 3 μm or more 2
The permanent magnet according to any one of claims 1 to 3, which has a diameter of 0 µm or less.
くとも界面に、NiとSnの金属間化合物層が形成され
ている請求項1ないし4のいずれかに記載の永久磁石。5. The permanent magnet according to claim 1, wherein an intermetallic compound layer of Ni and Sn is formed on at least an interface between the Ni plating layer and the Sn plating layer.
Sn、Ni3 Sn2およびNi3 Sn4 のうち少なくと
も1種以上である請求項5に記載の永久磁石。6. The intermetallic compound of Ni and Sn is Ni 3
The permanent magnet according to claim 5, which is at least one kind of Sn, Ni 3 Sn 2 and Ni 3 Sn 4 .
が0.01μm 以上である請求項5または6に記載の永
久磁石。7. The permanent magnet according to claim 5, wherein the thickness of the intermetallic compound layer of Ni and Sn is 0.01 μm or more.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP31262893A JP3650141B2 (en) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | permanent magnet |
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JP31262893A JP3650141B2 (en) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | permanent magnet |
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Family
ID=18031493
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005322810A (en) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Tdk Corp | Rare earth magnet |
JP2011171668A (en) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Komatsu Ltd | Thermoelectric power generation module |
-
1993
- 1993-11-18 JP JP31262893A patent/JP3650141B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005322810A (en) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Tdk Corp | Rare earth magnet |
JP2011171668A (en) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Komatsu Ltd | Thermoelectric power generation module |
WO2011102498A3 (en) * | 2010-02-22 | 2011-10-20 | 株式会社小松製作所 | Thermoelectric generation module |
US9559281B2 (en) | 2010-02-22 | 2017-01-31 | Komatsu Ltd. | Thermoelectric power module |
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