JPH07141041A - Trimming method and circuit therefor - Google Patents

Trimming method and circuit therefor

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JPH07141041A
JPH07141041A JP5306008A JP30600893A JPH07141041A JP H07141041 A JPH07141041 A JP H07141041A JP 5306008 A JP5306008 A JP 5306008A JP 30600893 A JP30600893 A JP 30600893A JP H07141041 A JPH07141041 A JP H07141041A
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Abstract

PURPOSE:To enable redundancy measurement in the same state as the case of trimming while breaking a fuse by controlling the ON/OFF of a switching element such as an MOS transistor arranged in series to the fuse at the trimming circuit of a reference voltage based on a test mode signal. CONSTITUTION:In the trimming circuit for controlling the output voltage of a coefficient circuit at the coefficient circuit consisting of a differential amplifier 1 and a feedback circuit 2, MOS transistors M1-M6 are inserted in series to fuses F1-F6 of the feedback circuit 2. Then, the MOS transistors M1-M6 are controlled by the test mode signal generated by a test mode discriminating circuit 3 and a latch circuit 4. In this case, a reference voltage Vref can be controlled by controlling the ON/OFF of switching elements such as MOS transistors M1-M6 arranged in series to the fuses F1-F6. Therefore, the reference voltage can be controlled at high speed in comparison with the case of actually breaking the fuses.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に係り、特に
半導体装置内で発生される基準電圧のトリミング回路及
びトリミング方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a trimming circuit and a trimming method for a reference voltage generated in the semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置において、微細プロセスによ
るトランジスタ、キャパシタ等の耐圧の低下、ノイズの
低減、小電力化等の理由から外部供給電源よりも低い電
圧の内部電源が必要になっている。
2. Description of the Related Art In a semiconductor device, an internal power supply having a voltage lower than that of an external power supply is required for reasons such as reduction of breakdown voltage of transistors and capacitors due to fine process, reduction of noise, and reduction of power consumption.

【0003】また、内部降圧電源回路は一般に基準電圧
発生回路と差動増幅器で構成されている。そして内部降
圧電源を使用している半導体装置の動作を安定なものに
するためには基準電圧を安定なものにする必要がある。
The internal step-down power supply circuit is generally composed of a reference voltage generating circuit and a differential amplifier. In order to stabilize the operation of the semiconductor device using the internal step-down power supply, it is necessary to stabilize the reference voltage.

【0004】一方、製造過程において製造ばらつきが生
じるため基準電圧にもばらつきが生じる。そこで図8の
ようなトリミング回路を使用し、基準電圧の調整を行っ
ていた。
On the other hand, since the manufacturing variation occurs in the manufacturing process, the reference voltage also varies. Therefore, the trimming circuit as shown in FIG. 8 is used to adjust the reference voltage.

【0005】図8を参照して、従来のトリミング回路を
以下に説明する。同図に示すように、トリミング回路
は、差動増幅器1と、抵抗R1〜R6及びヒューズF1
6から成るフィードバック回路2から構成されてい
る。
A conventional trimming circuit will be described below with reference to FIG. As shown in the figure, the trimming circuit includes a differential amplifier 1, resistors R 1 to R 6 and fuses F 1 to.
The feedback circuit 2 is composed of F 6 .

【0006】差動増幅器1は、例えば図3に示すような
利得(オープンループゲイン)の大きなカレントミラー
型アンプがよく使用される。
As the differential amplifier 1, for example, a current mirror type amplifier having a large gain (open loop gain) as shown in FIG. 3 is often used.

【0007】図3において、ソース電極を共通接続した
NMOSトランジスタM31,M32は差動対を構成
し、NMOSトランジスタM31のドレイン電極はPM
OSトランジスタ33,34で構成されるカレントミラ
ー回路の入力端に接続され、NMOSトランジスタM3
2のドレイン電極はカレントミラー回路の出力端とトラ
ンジスタ35のゲート電極の接続点に接続され、非反転
入力端子Vin1と反転入力端子Vin2にそれぞれ入力され
る信号の差電圧が端子Voutに増幅出力される。
In FIG. 3, NMOS transistors M31 and M32 whose source electrodes are commonly connected form a differential pair, and the drain electrode of the NMOS transistor M31 is PM.
The NMOS transistor M3 is connected to the input terminal of the current mirror circuit composed of the OS transistors 33 and 34.
The drain electrode of 2 is connected to the connection point of the output terminal of the current mirror circuit and the gate electrode of the transistor 35, and the difference voltage between the signals input to the non-inverting input terminal Vin1 and the inverting input terminal Vin2 is amplified and output to the terminal Vout. It

【0008】図8において、入力電圧Vrは差動増幅器
1の非反転入力端子Vin1に入力され、差動増幅器1の
増幅率が十分に大きいとすると基準電圧Vrefは、次
式(1)で与えられる。
In FIG. 8, the input voltage Vr is input to the non-inverting input terminal Vin1 of the differential amplifier 1, and assuming that the amplification factor of the differential amplifier 1 is sufficiently large, the reference voltage Vref is given by the following equation (1). To be

【0009】[0009]

【数1】 [Equation 1]

【0010】ここに、Ra,Rbはそれぞれ2a,2b
の合成抵抗である。例えばヒューズF1とF5を切断した
場合は、 Ra=R1+R3 Rb=R4+R5 となる。
Here, Ra and Rb are 2a and 2b, respectively.
Is the combined resistance of. For example, when the fuses F 1 and F 5 are cut, Ra = R 1 + R 3 Rb = R 4 + R 5 .

【0011】したがって、基準電圧Vrefが所望の電
圧より低い場合は、ヒューズF1,F2を、高い場合はヒ
ューズF5,F6を切断することで基準電圧Vrefを調
整すればよい。
Therefore, when the reference voltage Vref is lower than the desired voltage, the fuses F 1 and F 2 are blown, and when the reference voltage Vref is high, the fuses F 5 and F 6 are blown to adjust the reference voltage Vref.

【0012】また、従来のトリミング回路として特開平
3−172906号公報には、差動増幅器の出力電圧を
分圧したn個の端子と差動増幅器の入力端子との間にス
イッチ手段を設けてデコーダを介してプログラムするこ
とにより、少ないヒューズすなわち小面積で動作の安定
なトリミング回路が提案されている。
Further, as a conventional trimming circuit, Japanese Patent Laid-Open No. 172906/1993 discloses a switch means provided between n terminals which divide an output voltage of a differential amplifier and an input terminal of the differential amplifier. By programming through a decoder, a trimming circuit that operates stably with a small number of fuses, that is, a small area has been proposed.

【0013】図9は半導体メモリにおけるトリミング工
程のフローチャートを示している。同図に示すように、
まず最初のウェハーテスト(以下「Pri P/W」と
いう)で、基準電圧の測定を行ない、その結果をもとに
算出してトリミング回路において切断するヒューズを決
める。なお、P/WとはPass Waferを略記したもの
で、ウェハー一枚当り何個良品であるかを、例えばウェ
ハープローバ及びテスタ等によりテストすることを表し
ている。
FIG. 9 shows a flowchart of the trimming process in the semiconductor memory. As shown in the figure,
First, in a first wafer test (hereinafter referred to as “Pri P / W”), a reference voltage is measured and calculated based on the result to determine a fuse to be cut in the trimming circuit. Note that P / W is an abbreviation for Pass Wafer, and represents how many non-defective products per wafer are tested by, for example, a wafer prober and a tester.

【0014】P/Wの後、トリミング回路のヒューズF
1〜F6のうち指定されたヒューズを切断してトリミング
を行なう。
After P / W, the fuse F of the trimming circuit
A fuse designated from 1 to F 6 is cut and trimming is performed.

【0015】次に不良メモリセルのリダンダンシ置換の
ためのウェハーテスト(以下「リダンダンシP/W」と
いう)で測定を行ない、不良メモリのアドレスを示すヒ
ューズを決定しヒューズデータを出力する。
Next, a wafer test for redundancy replacement of defective memory cells (hereinafter referred to as "redundancy P / W") is performed to determine a fuse indicating an address of the defective memory and output fuse data.

【0016】ここで、不良メモリセルのリダンダンシ置
換について説明すると、メモリ回路に冗長セルを備え、
不良メモリセルが検出された際に不良メモリセルのアド
レスに対応するヒューズを切断し、不良メモリセルを冗
長セルで置き換えることを意味する。リダンダンシ置換
された後に不良メモリセルをアクセスした場合、不良メ
モリセルのアドレスは冗長セルに切り換えられる。
The redundancy replacement of a defective memory cell will now be described. The memory circuit includes a redundant cell,
This means that when a defective memory cell is detected, the fuse corresponding to the address of the defective memory cell is blown and the defective memory cell is replaced with a redundant cell. When the defective memory cell is accessed after the redundancy replacement, the address of the defective memory cell is switched to the redundant cell.

【0017】また、リダンダンシP/Wではメモリセル
の不良を検出するために、例えばリフレッシュ無しでデ
ータをどのくらいの時間保持できるかをテストするリフ
レッシュテスト等の各種テストがウェハーで行なわれ
る。ここで、リフレッシュテストを具体的に説明する
と、メモリセルにデータを書き込み、所定時間ウェイト
した後、該メモリセルを読み出し正しくデータを保持し
ているか否かをテストする。
Further, in the redundancy P / W, in order to detect a defect in a memory cell, various tests such as a refresh test for testing how long data can be retained without refreshing are performed on a wafer. Here, the refresh test will be described in detail. After writing data in a memory cell and waiting for a predetermined time, the memory cell is read to test whether or not the data is correctly held.

【0018】次に出力されたヒューズデータに基づき2
回目のトリミングを行なう。2回目のトリミングでは不
良メモリのアドレスを示すヒューズを切断する。その
後、最終のウェハーテスト(以下「P/W」という)を
行なう。
2 based on the fuse data output next
Trimming for the second time. In the second trimming, the fuse indicating the address of the defective memory is cut off. After that, a final wafer test (hereinafter referred to as "P / W") is performed.

【0019】したがって、従来の半導体メモリにおける
トリミング工程は、上記の通り、全部で5工程を要して
いた。
Therefore, the trimming process in the conventional semiconductor memory requires a total of 5 processes as described above.

【0020】[0020]

【発明が解決しようとする課題】この従来のトリミング
方法では、トリミングを2回も行っているため、工程数
が多くなるという問題点があった。
This conventional trimming method has a problem that the number of steps is increased because the trimming is performed twice.

【0021】また、無理にトリミング工程を1回にする
と、リダンダンシP/Wにおけるテスト条件が異なるこ
とになり、リダンダンシ置換が効果的に行なわれないこ
とになる。
Further, if the trimming process is forcibly performed once, the test conditions in the redundancy P / W are different, and the redundancy replacement cannot be effectively performed.

【0022】より詳細に説明すると、例えば基準電圧V
refが所望の値より低かった場合、基準電圧Vref
によって作られる内部電圧が低くなり、基板電圧発生回
路の発振器の周波数が下がるためポンピング回路を介し
て供給される基板電圧Vsubが浅くなり(すなわち負
側に小となる)、メモリセルから基板へのリーク電流が
減少する。このため、トリミングせずに基準電圧Vre
fが低いまま、リフレッシュテスト等を行なうとテスト
条件が甘くなり、テストマージンぎりぎりのメモリセル
については不良とならず、不良メモリセルと冗長セルと
の置換が正しく行われないことになり、有効なテストが
行えない。
More specifically, for example, the reference voltage V
If ref is lower than the desired value, the reference voltage Vref
Since the internal voltage generated by the substrate voltage is lowered and the frequency of the oscillator of the substrate voltage generation circuit is lowered, the substrate voltage Vsub supplied via the pumping circuit becomes shallow (that is, becomes small on the negative side), and the voltage from the memory cell to the substrate is reduced. Leakage current is reduced. Therefore, the reference voltage Vre is not trimmed.
If a refresh test or the like is performed while f is low, the test conditions become unsatisfactory, and memory cells that are close to the test margin do not become defective, and replacement of defective memory cells with redundant cells is not performed correctly. I can't test.

【0023】逆に、基準電圧Vrefが所望の値より高
かった場合、内部電圧が高くなり、基板電圧発生回路の
発振器の周波数が上がり、基板電圧Vsubが深くなり
(すなわち負側に大となる)、メモリセルから基板への
リーク電流が増大する。このため、トリミングせずに基
準電圧Vrefが高いままリフレッシュテスト等を行な
うとテスト条件が厳しくなり、良品のメモリセルが冗長
セルと置換される場合が生じ、有効なテストが行えな
い。
On the contrary, when the reference voltage Vref is higher than the desired value, the internal voltage increases, the frequency of the oscillator of the substrate voltage generating circuit increases, and the substrate voltage Vsub becomes deep (that is, becomes large on the negative side). , The leakage current from the memory cell to the substrate increases. Therefore, if a refresh test or the like is performed while the reference voltage Vref is high without trimming, the test conditions become strict, and a non-defective memory cell may be replaced with a redundant cell, so that an effective test cannot be performed.

【0024】したがって、リダンダンシ置換を有効に行
なうためには、基準電圧Vrefをトリミングした後に
リダンダンシP/Wを行うことが必要とされる。以上述
べた理由によりトリミングが2回必要であった。
Therefore, in order to effectively perform the redundancy replacement, it is necessary to perform the redundancy P / W after trimming the reference voltage Vref. Trimming was required twice for the reasons described above.

【0025】したがって、本発明は、前記問題を解消
し、トリミング工程を縮減を達成する構成としたトリミ
ング回路及びトリミング方法を提供することを目的とす
る。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a trimming circuit and a trimming method which solve the above problems and reduce the trimming process.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、差動増幅器とフィードバック回路から成
る係数回路にて構成され、該フィードバック回路のヒュ
ーズ素子をトリミングすることによって該係数回路の出
力電圧を調整するようにしたトリミング回路において、
前記ヒューズ素子と直列に配置されたスイッチング素子
と、テストモード信号により該スイッチング素子のオン
/オフを制御する手段と、を備えたことを特徴とするト
リミング回路を提供する。
In order to achieve the above object, the present invention comprises a coefficient circuit including a differential amplifier and a feedback circuit, and the fuse circuit of the feedback circuit is trimmed by trimming the fuse element of the feedback circuit. In the trimming circuit that is designed to adjust the output voltage,
A trimming circuit comprising: a switching element arranged in series with the fuse element; and means for controlling ON / OFF of the switching element according to a test mode signal.

【0027】また、本発明は、差動増幅器とフィードバ
ック回路から成る係数回路にて構成され、該フィードバ
ック回路のヒューズ素子をトリミングすることによって
該係数回路の出力電圧を調整するようにしたトリミング
回路であって、前記ヒューズ素子と直列にスイッチング
素子を備え、テストモード信号により該スイッチング素
子のオン/オフを制御するようにしたトリミング回路を
備えた、冗長セルを有する半導体メモリのトリミング方
法であって、(a) 基準電圧を測定する工程と、(b) 該
測定電圧に基づき切断するヒューズを算出する工程と、
(c) ヒューズデータを出力する工程と、(d) テストモ
ードにエントリーし前記ヒューズデータに基づき切断す
べきヒューズ素子と直列に配置されたスイッチング素子
をオフ状態にセットして前記基準電圧を測定し該基準電
圧を調整する工程と、(e) テストモードにおいてリン
ダンダンシ測定する工程、及び、(f) トリミング回路
において切断するヒューズとリダンダンシ置換のために
切断するヒューズの情報を含むヒューズデータを出力す
る工程の、上記(a)〜(f)の各工程から成るリダンダンシ
ウェハーテスト工程と、前記工程(f)で出力されたヒュ
ーズデータに基づきヒューズを切断するトリミング工程
と、最終ウェハーテスト工程と、から成るトリミング方
法を提供する。
Further, the present invention is a trimming circuit which is composed of a coefficient circuit composed of a differential amplifier and a feedback circuit, and which adjusts the output voltage of the coefficient circuit by trimming the fuse element of the feedback circuit. A trimming method for a semiconductor memory having redundant cells, comprising a switching element in series with the fuse element, and a trimming circuit configured to control ON / OFF of the switching element according to a test mode signal. (a) measuring a reference voltage, (b) calculating a fuse to be blown based on the measured voltage,
(c) outputting the fuse data, and (d) entering the test mode and setting the switching element arranged in series with the fuse element to be cut based on the fuse data to the off state to measure the reference voltage. Adjusting the reference voltage, (e) measuring the redundancy in the test mode, and (f) outputting fuse data including information on the fuse to be cut in the trimming circuit and the fuse to be cut for redundancy replacement. Of the above, (a) ~ (f) the redundancy wafer test step consisting of each step, the trimming step of cutting the fuse based on the fuse data output in the step (f), and the final wafer test step. Provide a trimming method.

【0028】[0028]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0029】[0029]

【実施例1】図1は、本発明の一実施例のトリミング回
路である。符号1は差動増幅器、符号2はフィードバッ
ク回路、符号3はテストモード判定回路、符号4はラッ
チ回路、R1〜R6は抵抗、F1〜F6はヒューズ、M1
5はMOSトランジスタである。
Embodiment 1 FIG. 1 shows a trimming circuit according to an embodiment of the present invention. Reference numeral 1 is a differential amplifier, reference numeral 2 is a feedback circuit, reference numeral 3 is a test mode determination circuit, reference numeral 4 is a latch circuit, R 1 to R 6 are resistors, F 1 to F 6 are fuses, and M 1 to.
M 5 is a MOS transistor.

【0030】フィードバック回路2のヒューズF1〜F6
を切断することによってフィードバックレシオを変え基
準電圧Vrefを調整することは、前記従来例と同様で
ある。
The fuses F 1 to F 6 of the feedback circuit 2
The reference voltage Vref is adjusted by changing the feedback ratio by disconnecting the same as in the conventional example.

【0031】本実施例のトリミング回路においては、フ
ィードバック回路2のヒューズF1〜F6と直列にMOS
トランジスタM1〜M6を挿入し、これらのMOSトラン
ジスタM1〜M6をテストモード判定回路3により生成さ
れるテストモード信号、及びラッチ回路4により制御す
る。
In the trimming circuit of this embodiment, MOS is connected in series with the fuses F 1 to F 6 of the feedback circuit 2.
Transistors M 1 to M 6 are inserted, and these MOS transistors M 1 to M 6 are controlled by the test mode signal generated by the test mode determination circuit 3 and the latch circuit 4.

【0032】差動増幅器1は前記従来例と同様に、図3
のようなカレントミラー型アンプが用いられる。
The differential amplifier 1 is similar to the conventional example shown in FIG.
A current mirror type amplifier is used.

【0033】MOSトランジスタM1〜M6の制御を行な
うラッチ回路4は、例えば図4に示す回路で構成され
る。同図に示すように、ラッチ回路4は、MOSトラン
ジスタM1〜M6のオン/オフの状態を記憶保持するため
のD−F/F(D型フリップフロップ)と、テストモー
ド時にD−F/Fの状態をMOSトランジスタM1〜M6
に伝達し、通常動作モード時にMOSトランジスタM1
〜M6をオン状態とするNANDゲートから構成され
る。
The latch circuit 4 for controlling the MOS transistors M 1 to M 6 is composed of, for example, the circuit shown in FIG. As shown in the figure, the latch circuit 4 includes a D-F / F (D-type flip-flop) for storing and holding the on / off states of the MOS transistors M 1 to M 6 , and a D-F in the test mode. / F state is set to the MOS transistors M 1 to M 6
To the MOS transistor M 1 in the normal operation mode.
Composed of NAND gates to the ~M 6 is turned on.

【0034】D−F/Fのデータ入力端子D1〜D4
は、切断するヒューズデータが入力されクロックφに同
期してD−F/Fに取り込み保持される。テストモード
判定回路3からのテストモード信号TESTはテストモ
ード時に“H”レベルとされ、例えば切断すべきヒュー
ズが図1のF1である場合に端子D1は“H”レベルが印
加され、ラッチ回路4の出力r1は“L”レベルとな
り、MOSトランジスタM1はオフ状態となる。また、
通常動作モード時には、テストモード信号TESTは
“L”レベルとされ、NAND回路の出力r1〜r4は全
て“H”レベルとなる。
Fuse data to be cut is input to the data input terminals D 1 to D 4 of the D-F / F, and is fetched and held in the D-F / F in synchronization with the clock φ. The test mode signal TEST from the test mode determination circuit 3 is set to "H" level in the test mode. For example, when the fuse to be cut is F 1 in FIG. 1, the terminal D 1 is applied with "H" level and latched. output r1 of the circuit 4 becomes "L" level, MOS transistor M 1 is turned off. Also,
In the normal operation mode, the test mode signal TEST is at "L" level, and the outputs r1 to r4 of the NAND circuit are all at "H" level.

【0035】また、テストモード判定回路3は例えば図
5のように構成される。図5において、端子SVに高電
圧(例えば10V程度)を印加することにより、PMO
SトランジスタM41が導通し容量C1を充電し、テス
トモード信号TESTを“H”レベルとし、テストモー
ドにエントリすることができる。
The test mode determination circuit 3 is constructed as shown in FIG. 5, for example. In FIG. 5, by applying a high voltage (for example, about 10 V) to the terminal SV, the PMO
The S-transistor M41 is turned on to charge the capacitor C1, the test mode signal TEST is set to the “H” level, and the test mode can be entered.

【0036】図1において、入力電圧Vrは差動増幅器
1の非反転入力端子Vin1に入力され、基準電圧Vre
fは差動増幅器1の増幅率が十分に大きいとすると、次
式(2)で与えられる。
In FIG. 1, the input voltage Vr is input to the non-inverting input terminal Vin1 of the differential amplifier 1 and the reference voltage Vre.
If the amplification factor of the differential amplifier 1 is sufficiently large, f is given by the following equation (2).

【0037】[0037]

【数2】 [Equation 2]

【0038】ここに、Raa′,Rbb′は、それぞれ
aa′間、bb′間の合成抵抗であるが、通常、抵抗R
1〜R6は数10kΩ〜数100kΩ、ヒューズの抵抗は
数Ω、トランジスタのオン抵抗は数Ω〜数10Ωである
ため、ヒューズの抵抗、トランジスタのオン抵抗は無視
できる。
Here, Raa 'and Rbb' are synthetic resistances between aa 'and bb', respectively, but normally the resistance R
1 to R 6 are several tens kΩ to several hundred kΩ, the resistance of the fuse is several Ω, and the on resistance of the transistor is several Ω to several tens Ω, the resistance of the fuse and the on resistance of the transistor can be ignored.

【0039】したがって、例えばヒューズF1とF5が切
断されている状態では、 Raa′=R1+R3 Rbb′=R4+R5 と表わされる。
Therefore, when the fuses F 1 and F 5 are blown, for example, Raa '= R 1 + R 3 Rbb' = R 4 + R 5 is expressed.

【0040】図2に本実施例のトリミング回路を実装し
た半導体メモリのトリミング工程のフローチャートを示
す。
FIG. 2 shows a flow chart of the trimming process of the semiconductor memory in which the trimming circuit of this embodiment is mounted.

【0041】図2に示すように、まずリダンダンシP/
Wにて(この場合、Pri P/Wは必要ない)最初に
基準電圧Vrefの測定を行ない、その結果より切断す
べきヒューズを算出する。
As shown in FIG. 2, first, the redundancy P /
At W (in this case, Pri P / W is not necessary), the reference voltage Vref is first measured, and the fuse to be cut is calculated from the result.

【0042】この時ヒューズF1〜F6と直列に接続され
ているMOSトランジスタM1〜M6はオフ状態にあるの
で、前記従来例と同様に基準電圧Vrefが所望の電圧
より低ければヒューズF1,F2を、所望の電圧より高け
ればヒューズF5,F6を切断することになる。
At this time, since the MOS transistors M 1 to M 6 connected in series with the fuses F 1 to F 6 are in the off state, if the reference voltage Vref is lower than the desired voltage as in the prior art example, the fuse F 1 If 1 and F 2 are higher than the desired voltage, the fuses F 5 and F 6 are blown.

【0043】図7に示すように、例えば抵抗、ヒューズ
をそれぞれ4ケと設定した場合、表1に従って切断する
ヒューズを算出することになる。なお、表1のヒューズ
欄の○印は切断するヒューズを示している。
As shown in FIG. 7, for example, when four resistors and four fuses are set, the fuses to be cut are calculated according to Table 1. The circles in the fuse column of Table 1 indicate fuses to be cut.

【0044】基準電圧Vrefの測定は、すでに公知で
あるテストモードを使用して行ったり、基準電圧Vre
fに専用のパッドを設けるなどして行なう。
The reference voltage Vref is measured by using a test mode which is already known, or the reference voltage Vref is measured.
This is done by providing a dedicated pad on f.

【0045】次に、図2のトリミング工程において、切
断すべきヒューズデータを出力した後、テストモードに
エントリーし、切断すべきヒューズと直列に接続された
MOSトランジスタをオフ状態とすることによってヒュ
ーズを切断した時と同じ状態にする。そして、この状態
で基準電圧Vrefが所望の値になっているか再度測定
を行なう。
Next, in the trimming process of FIG. 2, after outputting the fuse data to be cut, the fuse mode is entered by entering the test mode and turning off the MOS transistor connected in series with the fuse to be cut. Make it the same as when it was cut. Then, in this state, it is measured again whether the reference voltage Vref has a desired value.

【0046】もし測定した基準電圧Vrefが所望の値
とずれていたなら、再度切断すべきヒューズを算出し、
テストモードにエントリーした後、基準電圧Vrefを
測定するという上記処理を所望の電圧となるまで繰り返
す。
If the measured reference voltage Vref deviates from the desired value, calculate the fuse to be cut again,
After entering the test mode, the above process of measuring the reference voltage Vref is repeated until the desired voltage is reached.

【0047】基準電圧Vrefが所望の値になれば、テ
ストモードにエントリーした状態で基準電圧Vrefを
所望の値に保持したまま、リダンダンシP/Wで不良メ
モリセル置換のためのテストを行ない、不良メモリセル
のアドレスを示すヒューズの切断情報を含むヒューズデ
ータを出力する。
When the reference voltage Vref reaches a desired value, a test for replacement of a defective memory cell is performed with redundancy P / W while the reference voltage Vref is kept at a desired value in a state where the test mode is entered, and a defect occurs. Fuse data including fuse cut information indicating the address of the memory cell is output.

【0048】次のトリミング工程で、基準電圧Vref
のトリミング回路のヒューズ、及びリダンダンシ置換の
ためのヒューズを同時にトリミングする。このように、
基準電圧Vrefのトリミング回路のヒューズとリダン
ダンシセル置換のためのヒューズを同時にトリミングす
ることにより、従来のPri P/W、及びトリミング
工程1回の計2工程を省略することができる。
In the next trimming process, the reference voltage Vref
The trimming circuit fuse and the redundancy replacement fuse are trimmed at the same time. in this way,
By simultaneously trimming the fuse of the trimming circuit of the reference voltage Vref and the fuse for replacing the redundancy cell, the conventional Pri P / W and the trimming step, that is, two steps in total can be omitted.

【0049】[0049]

【実施例2】図6は、本発明の第2の実施例の回路構成
を示している。フィードバック回路2の抵抗をこのよう
に配置しても前記第1の実施例と同等の効果を有する。
Second Embodiment FIG. 6 shows a circuit configuration of a second embodiment of the present invention. Even if the resistors of the feedback circuit 2 are arranged in this way, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0050】以上、本発明を第1,第2の実施例につい
て説明したが、本発明は基準電圧Vrefのトリミング
回路においてヒューズと直列に配置したMOSトランジ
スタ等のスイッチング素子のオン/オフをテストモード
信号に基づき制御する構成により、例えばスイッチング
素子をオフすることによりヒューズを切断した時と等価
な状態を作り出すことができることを特徴とし、このた
め、ヒューズ切断によってトリミングした場合と同一の
状態でリダンダンシ測定を精度良く行なうことが保証さ
れ、トリミング工程も1回に縮減するものである。
Although the present invention has been described with reference to the first and second embodiments, the present invention is a test mode for turning on / off a switching element such as a MOS transistor arranged in series with a fuse in a trimming circuit for a reference voltage Vref in a test mode. It is characterized by the configuration that is controlled based on the signal so that a state equivalent to that when the fuse is cut can be created by turning off the switching element, for this reason, the redundancy measurement is performed in the same state as when trimming by cutting the fuse. Is assured to be performed accurately, and the trimming process is reduced to one time.

【0051】本実施例では、基準電圧Vrefのトリミ
ング回路においてヒューズと直列に配置したMOSトラ
ンジスタ等のスイッチング素子のオン/オフを制御して
基準電圧Vrefの調整が可能とされ、ヒューズを実際
に切断する場合と比較して、高速に基準電圧Vrefの
調整が行なえる。さらに、スイッチング素子は何度でも
オン/オフの切り換えが可能であるため、基準電圧Vr
efを所望も電圧値になるまで反復調整することが可能
とされる。
In this embodiment, in the trimming circuit for the reference voltage Vref, the reference voltage Vref can be adjusted by controlling on / off of the switching element such as a MOS transistor arranged in series with the fuse, and the fuse is actually blown. The reference voltage Vref can be adjusted at higher speed than in the case of performing. Further, since the switching element can be switched on / off many times, the reference voltage Vr
It is possible to adjust ef repeatedly until the desired voltage value is reached.

【0052】また本実施例ではヒューズを4ケ使用した
ものについて説明したが、より多くのヒューズを使用し
て基準電圧を細かく調整できるようにしてもよいことは
勿論である。
In this embodiment, four fuses are used, but it goes without saying that more fuses may be used so that the reference voltage can be finely adjusted.

【0053】なお、本実施例のテストモード判定回路、
ラッチ回路、差動増幅器等の回路構成は、あくまで構成
の一例を示したものであり、本発明はこれらの実施例の
構成に限定されるものでなく、本発明の原理に準ずる各
種実施態様を含むものである。
The test mode determination circuit of the present embodiment,
The circuit configurations of the latch circuit, the differential amplifier and the like are merely examples of the configurations, and the present invention is not limited to the configurations of these examples, and various embodiments according to the principle of the present invention are possible. It includes.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ヒュー
ズ素子と直列にMOSトランジスタ等のスイッチング素
子を配置し、該スイッチング素子のオン/オフをテスト
モード信号により制御する構成としたことにより、基準
電圧Vrefの調整において実際にヒューズを切断しな
くてもヒューズを切断した場合と全く同じ状態でフィー
ドバック率を変えることができるため、例えば半導体メ
モリのトリミング工程を1回にすることができる。
As described above, according to the present invention, a switching element such as a MOS transistor is arranged in series with a fuse element and ON / OFF of the switching element is controlled by a test mode signal. Since the feedback rate can be changed in the same state as when the fuse is blown in the adjustment of the reference voltage Vref without actually blowing the fuse, for example, the trimming step of the semiconductor memory can be performed once.

【0056】また、本発明を冗長セルを有する半導体メ
モリに適用した場合、基準電圧調整のためのトリミング
回路のヒューズと、リダンダンシ置換のためのヒューズ
の切断を一回のトリミング工程で行なうことが可能とさ
れ、半導体メモリのトリミング工程を大幅に縮減する。
When the present invention is applied to a semiconductor memory having redundant cells, it is possible to cut the fuse of the trimming circuit for adjusting the reference voltage and the fuse for redundancy replacement in one trimming step. Therefore, the trimming process of the semiconductor memory is greatly reduced.

【0057】さらに、本発明によれば、テストモードに
おいて、スイッチング素子のオン/オフを制御して基準
電圧Vrefの調整するため、ヒューズを実際に切断す
る場合と比較して、基準電圧Vrefの調整が高速化さ
れ、さらに、スイッチング素子は何度でもオン/オフの
切り換えが可能であるため、基準電圧Vrefを所望も
電圧値になるまで反復調整して、切断するヒューズを決
定することができ、このため、確実にトリミングが行え
るという効果を有する。
Further, according to the present invention, in the test mode, since the ON / OFF of the switching element is controlled to adjust the reference voltage Vref, the reference voltage Vref is adjusted as compared with the case where the fuse is actually cut. In addition, since the switching element can be turned on and off as many times as desired, the reference voltage Vref can be repeatedly adjusted until a desired voltage value is reached, and the fuse to be cut can be determined. Therefore, the trimming can be reliably performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明におけるトリミングの工程を示すフロー
チャートである。
FIG. 2 is a flowchart showing a trimming process in the present invention.

【図3】図1に示した本発明の一実施例における差動増
幅器の回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of the differential amplifier in the embodiment of the present invention shown in FIG.

【図4】図1に示した本発明の一実施例におけるラッチ
回路を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a latch circuit in the embodiment of the present invention shown in FIG.

【図5】図1に示した本発明の一実施例におけるテスト
モード判定回路を示す図である。
5 is a diagram showing a test mode determination circuit in the embodiment of the present invention shown in FIG.

【図6】本発明の第二の実施例の構成を示すブロック図
である。
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a second exemplary embodiment of the present invention.

【図7】本発明のトリミング回路における素子定数の具
体例を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a specific example of element constants in the trimming circuit of the present invention.

【図8】従来のトリミング回路のブロック図である。FIG. 8 is a block diagram of a conventional trimming circuit.

【図9】従来のトリミング方法のフローチャートであ
る。
FIG. 9 is a flowchart of a conventional trimming method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 差動増幅器 2 フィードバック回路 3 テストモード判定回路 4 ラッチ回路 1 differential amplifier 2 feedback circuit 3 test mode determination circuit 4 latch circuit

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/04 21/822 8832−4M H01L 27/04 T 8832−4M V Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 27/04 21/822 8832-4M H01L 27/04 T 8832-4MV

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】差動増幅器とフィードバック回路から成る
係数回路にて構成され、該フィードバック回路のヒュー
ズ素子をトリミングすることにより該係数回路の出力電
圧を調整するようにしたトリミング回路において、前記
ヒューズ素子と直列に配置されたスイッチング素子と、
テストモード信号により該スイッチング素子のオン/オ
フを制御する手段と、を備えたことを特徴とするトリミ
ング回路。
1. A trimming circuit comprising a coefficient circuit comprising a differential amplifier and a feedback circuit, wherein the output voltage of the coefficient circuit is adjusted by trimming the fuse element of the feedback circuit. A switching element arranged in series with
A trimming circuit comprising: means for controlling ON / OFF of the switching element by a test mode signal.
【請求項2】差動増幅器とフィードバック回路から成る
係数回路にて構成され、該フィードバック回路のヒュー
ズ素子をトリミングすることによって該係数回路の出力
電圧を調整するようにしたトリミング回路であって、前
記ヒューズ素子と直列にスイッチング素子を備え、テス
トモード信号により該スイッチング素子のオン/オフを
制御するようにしたトリミング回路を備えた、冗長セル
を有する半導体メモリのトリミング方法であって、 (a) 基準電圧を測定する工程と、 (b) 該測定電圧に基づき切断するヒューズを算出する
工程と、 (c) ヒューズデータを出力する工程と、 (d) テストモードにエントリーし前記ヒューズデータ
に基づき切断すべきヒューズ素子と直列に配置されたス
イッチング素子をオフ状態にセットして前記基準電圧を
測定し該基準電圧を調整する工程と、 (e) テストモードにおいてリンダンダンシ測定する工
程と、及び、 (f) トリミング回路において切断するヒューズとリダ
ンダンシ置換のために切断するヒューズの情報を含むヒ
ューズデータを出力する工程の、上記(a)〜(f)の各工程
から成るリダンダンシウェハーテスト工程と、 前記工程(f)で出力されたヒューズデータに基づきヒュ
ーズを切断するトリミング工程と、及び、 最終ウェハーテスト工程と、 から成るトリミング方法。
2. A trimming circuit comprising a coefficient circuit composed of a differential amplifier and a feedback circuit, wherein the output voltage of the coefficient circuit is adjusted by trimming a fuse element of the feedback circuit. A trimming method for a semiconductor memory having redundant cells, comprising: a switching element in series with a fuse element; and a trimming circuit configured to control ON / OFF of the switching element by a test mode signal. Measuring the voltage, (b) calculating the fuse to be cut based on the measured voltage, (c) outputting the fuse data, (d) entering the test mode and cutting based on the fuse data The switching element arranged in series with the fuse element to be set is turned off and the reference voltage is measured. Output the fuse data including information on the fuse to be cut in the trimming circuit and the fuse to be cut for redundancy replacement. Of the steps (a) to (f), a redundancy wafer test step, a trimming step of cutting the fuse based on the fuse data output in the step (f), and a final wafer test step. And a trimming method consisting of.
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