JPH07140046A - Inspection equipment for lens performance - Google Patents

Inspection equipment for lens performance

Info

Publication number
JPH07140046A
JPH07140046A JP31251093A JP31251093A JPH07140046A JP H07140046 A JPH07140046 A JP H07140046A JP 31251093 A JP31251093 A JP 31251093A JP 31251093 A JP31251093 A JP 31251093A JP H07140046 A JPH07140046 A JP H07140046A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
inspected
liquid crystal
image
test pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP31251093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Izumida
豊 泉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP31251093A priority Critical patent/JPH07140046A/en
Publication of JPH07140046A publication Critical patent/JPH07140046A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To make it possible to inspect the performance of lens without providing any rotary mechanism at the test pattern part. CONSTITUTION:A liquid crystal 2 for constituting a test pattern is interposed between a light source 1 and a lens 4 to be tested. An image scanning means 5 is disposed at the position for focusing the projection image of the test pattern and the image is analyzed by a signal processing means 6. A liquid crystal driver 3 controls the liquid crystal 2 to alter the test pattern depending on the inspection method, the inspecting direction of the lens to be inspected, etc. Since the liquid crystal 2 alters the test pattern, no rotary mechanism is required.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、被検レンズにより形成
されるテストパターン投影像の位置的光強度分布を測定
して、被検レンズの軸上を含む複数像高のテストパター
ン投影像の結像状態を検査するレンズ性能検査装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention measures the positional light intensity distribution of a test pattern projection image formed by a lens to be inspected to obtain a test pattern projection image of a plurality of image heights including on the axis of the lens to be inspected. The present invention relates to a lens performance inspection device that inspects an image formation state.

【0002】[0002]

【従来の技術】写真レンズ等の被検レンズを介して、チ
ャートに設けられたスリット等のテストパターンを結像
させ、CCD等の受光素子で位置的光強度分布を時系列
信号に変換し、受光素子から得られる信号を解析して被
検レンズの軸上を含む複数の像高の結像性能を検査する
従来のレンズ性能検査装置が特公昭63−36449号
公報に開示されている。この装置は被検レンズの光軸と
直交する平面内における上記光軸からの任意の距離の複
数位置にそれぞれチャートパターンを配置し、被検レン
ズを介して複数の固体走査素子上に、上記各チャートパ
ターンの像を結像し、各固体走査素子からの出力信号に
より被検レンズのMTF検査を行うものであり、複数個
の固体走査素子を機械的回動手段により被検レンズの光
軸と直交する平面内で上記各固体走査素子の中央部或い
はその近傍を回転中心として同時に同量回転させて各固
体走査素子の配列方向を変えると共に、上記複数個の各
チャートパターンについても上記固体走査素子の回動後
における配列方向に合うように回動させ、或いは他のチ
ャートパターンを予め配置しておくことにより、これら
各チャートパターンの像が各固体走査素子上に結像され
る関係を作成し、被検レンズの少なくとも2方向でのM
TFを検査している。
2. Description of the Related Art A test pattern such as a slit provided in a chart is imaged through a test lens such as a photographic lens, and a positional light intensity distribution is converted into a time series signal by a light receiving element such as a CCD, Japanese Patent Publication No. 63-36449 discloses a conventional lens performance inspecting apparatus that analyzes a signal obtained from a light receiving element to inspect the imaging performance of a plurality of image heights including the axis of a lens to be inspected. This apparatus arranges chart patterns at a plurality of positions at arbitrary distances from the optical axis in a plane orthogonal to the optical axis of the lens to be inspected, and through the lens to be inspected, on the plurality of solid-state scanning elements, to the above-mentioned each The image of the chart pattern is formed, and the MTF inspection of the lens to be inspected is performed by the output signal from each solid-state scanning element. A plurality of solid-state scanning elements are mechanically rotated to the optical axis of the lens to be inspected. At the same time, the solid scanning element is rotated about the central portion or the vicinity thereof in the orthogonal plane by the same amount to change the arrangement direction of the solid scanning elements, and the solid scanning elements for the plurality of chart patterns are also changed. By rotating so as to match the arrangement direction after the rotation of or, or by arranging other chart patterns in advance, the image of each of these chart patterns is obtained by each solid scanning element. Create a relationship to be imaged in, M in at least two directions of the lens
Inspecting TF.

【0003】図9はこの従来装置を示し、110は光
源、111はチャートパターンを保持する円盤状のチャ
ート板、112は被検レンズ、113,114,115
はそれぞれ、固体走査素子を支持し、載置する載置板で
ある。光源110と、チャート板111と、載置板11
4とは被検レンズ112の光軸上に位置し、載置板11
3と載置板115とは載置板114をはさんで対向した
位置にある。載置板113,114,115のそれぞれ
には、各中心をはさんで対向した位置に、2つの耳状部
が形成されている。
FIG. 9 shows this conventional apparatus, in which 110 is a light source, 111 is a disk-shaped chart plate holding a chart pattern, 112 is a lens to be inspected, 113, 114, 115.
Are mounting plates that support and mount the solid-state scanning elements. The light source 110, the chart plate 111, and the mounting plate 11
4 is located on the optical axis of the lens 112 to be inspected, and is placed on the mounting plate 11
3 and the mounting plate 115 are in a position facing each other with the mounting plate 114 in between. On each of the mounting plates 113, 114, 115, two ears are formed at positions facing each other with each center therebetween.

【0004】これらの耳状部をそれぞれ113L,11
3R,114L,114R,115L,115R,で示
すと、同じ側の耳状部113L,114L,115L及
び反対側の耳状部113R,114R,115Rはそれ
ぞれワイヤー116,117の途中で連続的に固着され
ている。各ワイヤー116,117の一端はそれぞれ駆
動節118に固着されている。駆動節118はその中心
部が駆動軸119と一体的に固着されており、駆動軸1
19の回転方向により、ワイヤー116,117のいず
れか一方を引き、他方を緩める。ワイヤー116,11
7の他端は図示を省略してあるが、例えばプーリーに巻
き回されている。駆動軸119の途中であって、チャー
ト板111に対向した位置にはプーリー120が駆動軸
119と一体的に設けてあり、チャート板111とプー
リー120はベルト121で連動自在に結ばれている。
These ear-like portions are respectively 113L and 11
3R, 114L, 114R, 115L, 115R, the ear-like portions 113L, 114L, 115L on the same side and the ear-like portions 113R, 114R, 115R on the opposite side are continuously fixed in the middle of the wires 116, 117, respectively. Has been done. One end of each wire 116, 117 is fixed to the drive node 118, respectively. The center of the drive node 118 is integrally fixed to the drive shaft 119.
Depending on the rotation direction of 19, either one of the wires 116 and 117 is pulled and the other is loosened. Wires 116 and 11
Although not shown in the figure, the other end of 7 is wound around a pulley, for example. A pulley 120 is integrally provided with the drive shaft 119 at a position facing the chart plate 111 in the middle of the drive shaft 119, and the chart plate 111 and the pulley 120 are linked by a belt 121 so as to be interlocked with each other.

【0005】駆動軸119の延長上には回転量検知器1
22が設けられていて、図示されていない公知の駆動手
段により与えられる駆動軸119の回転量を検知して、
測定方向の切換え信号を得る。この回転量検知器122
としては例えばロータリーエンコーダーやポテンション
メーター等が使用されるが、その他に、直接、駆動軸1
19の回転量を機械的に取り出し表示することも可能で
ある。
A rotation amount detector 1 is provided on the extension of the drive shaft 119.
22 is provided and detects the amount of rotation of the drive shaft 119 provided by a known drive means (not shown),
Obtain the switching signal of the measuring direction. This rotation amount detector 122
For example, a rotary encoder or a potentiometer is used, but in addition, the drive shaft 1
It is also possible to mechanically extract and display the rotation amount of 19.

【0006】図10において説明すれば、載置板113
の位置は図9における固体走査素子P1の配された位置
に相当し、同様に載置板114は固体走査素子P2、載
置板115は固体走査素子P3にそれぞれ相当し、各載
置板上にそれぞれ固体走査素子が取り付けられている。
一方、チャート板111上に保持されているチャートパ
ータンは符号z1〜z5で示され、この中、チャートパ
ターンz1の像は載置板115の固体走査素子上に、チ
ャートパターンz2の像は載置板114の固体走査素子
上にそれぞれ結像している。
Referring to FIG. 10, the mounting plate 113 is shown.
9 corresponds to the position where the solid-state scanning element P1 in FIG. 9 is arranged. Similarly, the mounting plate 114 corresponds to the solid-state scanning element P2, and the mounting plate 115 corresponds to the solid-state scanning element P3. A solid-state scanning element is attached to each.
On the other hand, the chart patterns held on the chart plate 111 are indicated by reference numerals z1 to z5, in which the image of the chart pattern z1 is placed on the solid-state scanning element of the placing plate 115 and the image of the chart pattern z2 is placed. An image is formed on each of the solid-state scanning elements of the plate 114.

【0007】図10に示す状態で動径方向でのMTF測
定が終了した後、駆動軸119を時計方向回りの向きに
90°回転させる。この回動角90°の制御は前述の回
転量検知器122の機能に行われる。かかる回動後の状
態は図11に示した状態に相当し、接線方向でのMTF
の測定が行われる。
After the MTF measurement in the radial direction is completed in the state shown in FIG. 10, the drive shaft 119 is rotated 90 ° in the clockwise direction. The control of the rotation angle of 90 ° is performed by the function of the rotation amount detector 122 described above. The state after such rotation corresponds to the state shown in FIG. 11, and the MTF in the tangential direction is the same.
Is measured.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の装置には以下のような欠点がある。被検レンズ
112に対してチャート板111が平行でないと、被検
レンズに対してチャートパターンの距離が変わるために
測定値に悪影響を及ぼす。このため平行度を保つ必要が
あるが、チャートパターンを機械的に回転移動させる際
やチャート切り換えの際に、被検レンズとチャートとの
平行を保つのが困難となっている。また回転の機構部や
切り換えの機構部が必要なために、チャート部を小型化
するのが困難である。
However, the above-mentioned conventional device has the following drawbacks. If the chart plate 111 is not parallel to the test lens 112, the distance of the chart pattern changes with respect to the test lens, which adversely affects the measurement value. Therefore, it is necessary to maintain the parallelism, but it is difficult to maintain the parallelism between the lens to be inspected and the chart when the chart pattern is mechanically rotationally moved or the chart is switched. Further, it is difficult to miniaturize the chart part because a rotation mechanism part and a switching mechanism part are required.

【0009】本発明は上記問題点に鑑み、テストパター
ン部に回転等の機構を設ける事なく被検レンズの任意像
高位置の任意方向におけるレンズ性能を検査することが
可能なレンズ性能検査装置を提供することを目的とす
る。
In view of the above problems, the present invention provides a lens performance inspecting apparatus capable of inspecting lens performance in an arbitrary direction at an arbitrary image height position of a lens to be inspected without providing a mechanism such as rotation in a test pattern portion. The purpose is to provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段および作用】図1は本発明
の基本構成を示し、1は光源、4は被検レンズ、2はテ
ストパターンを構成する液晶であり、表面を被検レンズ
4に向け被検レンズ4の光軸に対し垂直に配置されてい
る。3は液晶2を制御し種々のパターンを表示させるた
めの液晶ドライバ、5は液晶2上に表示されたテストパ
ターンの投影像の結像位置に被検レンズの光軸に対して
垂直に設置された像走査手段、6は像走査手段5に接続
された信号処理手段をそれぞれ示す。
FIG. 1 shows the basic structure of the present invention, in which 1 is a light source, 4 is a lens to be inspected, 2 is a liquid crystal constituting a test pattern, and the surface of the lens to be inspected is 4. Is arranged perpendicular to the optical axis of the lens 4 to be inspected. Reference numeral 3 is a liquid crystal driver for controlling the liquid crystal 2 to display various patterns, and 5 is installed at the image forming position of the projected image of the test pattern displayed on the liquid crystal 2 perpendicularly to the optical axis of the lens to be inspected. Image scanning means 6 and signal processing means 6 connected to the image scanning means 5, respectively.

【0011】上記構成に於いて、光源1から発した光束
は液晶2に照射される。液晶2は被検レンズ4の性能を
検査するためのテストパターンを表示し、その透過光部
より光源1の光束を通過させる。液晶2によって構成さ
れるテストパターンはMTF値による検査および目視等
の検査方法の違いにより、また被検レンズの法線および
接線方向等の検査する方向、被検レンズ上のどの位置を
検査するか等の違いにより液晶ドライバ3により制御し
変更する。液晶2によって構成されるテストパターンか
ら射出された光束は、被検レンズ4の結像作用により被
検レンズ4の光軸に対して垂直な平面上にテストパター
ンの投影像を生成する。その平面上に像走査手段5の受
光部が位置するように像走査手段5を配置し、被検レン
ズ4により生成したテストパターンの投影像の位置的光
強度分布を時系列信号に変換する。そして、この信号は
信号処理手段6によりA/D変換等の種々の演算がなさ
れ、投影像のMTF値や画像処理結果出力から結像状態
を把握することにより、レンズ性能を検査することがで
きる。
In the above structure, the liquid crystal 2 is irradiated with the light flux emitted from the light source 1. The liquid crystal 2 displays a test pattern for inspecting the performance of the lens 4 to be inspected, and allows the light flux of the light source 1 to pass through the transmitted light portion. The test pattern formed by the liquid crystal 2 differs depending on the inspection method such as inspection based on the MTF value and visual inspection, the inspection direction such as the normal line and tangential direction of the lens to be inspected, and the position on the lens to be inspected. It is controlled and changed by the liquid crystal driver 3 depending on the difference. The light flux emitted from the test pattern formed by the liquid crystal 2 forms a projected image of the test pattern on a plane perpendicular to the optical axis of the lens 4 to be inspected due to the imaging action of the lens 4 to be inspected. The image scanning means 5 is arranged so that the light receiving part of the image scanning means 5 is located on the plane, and the positional light intensity distribution of the projected image of the test pattern generated by the lens 4 to be inspected is converted into a time series signal. Then, this signal is subjected to various calculations such as A / D conversion by the signal processing means 6, and the lens performance can be inspected by grasping the image formation state from the MTF value of the projected image and the image processing result output. .

【0012】[0012]

【実施例1】図2,図3,図4は本発明の実施例1を示
す。図2において、4は被検レンズ、8は光源としての
冷陰極管、9は導光体で冷陰極管8から発した光を液晶
2に一様にむらなく照射する。2はテストパターンとし
ての透過光開口部を形成するための液晶であり、軸上及
び軸外の検査すべき像高に対応する位置に、図3に示す
ようにスリット透過光開口部を液晶ドライバ3により制
御する。液晶2のスリット透過光開口部は被検レンズ4
の法線方向と接線方向のどちらかを測定するかによって
図3(a)または(b)のようにパターンを切り換え
る。なお、図3(a),(b)には測定箇所に対応する
スリット透過光開口部2−1a,b〜2−5a,bの全
てを示しているが、検査時には検査すべき箇所に応じて
図3(c)に示すように、検査箇所に対応する位置にの
みスリット透過光開口部を表示する。
Embodiment 1 FIGS. 2, 3 and 4 show Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 2, 4 is a lens to be inspected, 8 is a cold cathode tube as a light source, and 9 is a light guide, which uniformly irradiates the liquid crystal 2 with light emitted from the cold cathode tube 8. Reference numeral 2 denotes a liquid crystal for forming a transmitted light opening as a test pattern, and a slit transmitted light opening is provided at a position corresponding to an image height to be inspected on-axis and off-axis as shown in FIG. Controlled by 3. The slit transmitted light opening of the liquid crystal 2 is the lens 4 to be inspected.
The pattern is switched as shown in FIG. 3A or 3B depending on which of the normal direction and the tangential direction is measured. 3 (a) and 3 (b) show all of the slit transmitted light apertures 2-1a, b to 2-5a, b corresponding to the measurement points, but depending on the points to be inspected at the time of inspection. As shown in FIG. 3C, the slit transmitted light opening is displayed only at the position corresponding to the inspection location.

【0013】液晶2の表面は被検レンズ4に向け、被検
レンズの光軸に対し垂直に設置されており、その表面に
はスリット透過光開口部から発せられる光束を被検レン
ズ4の全面に均一に照射するための拡散板としてのオパ
ールガラス10が密着状態で配置されている。
The surface of the liquid crystal 2 is oriented toward the lens 4 to be inspected, and is installed perpendicularly to the optical axis of the lens to be inspected. Opal glass 10 as a diffusing plate for uniformly irradiating the light is arranged in a close contact state.

【0014】13は被検レンズ4の光軸を中心として回
転可能な光路切り換え手段であり、軸上光路4aに進退
可能に配置されたミラー13aと、軸外光路4b上に配
置されたミラー13bとを備える。ミラー13aは被検
レンズ4の光軸に対して45度かつ軸外光路3bを通過
する軸外光束にけられを生じない軸外像検査位置13
a”または軸外光路軸上光路4aを通過する軸上光束に
けられを生じないように退避した軸上像検査位置13
a’に適宜切り換えられる。軸外光路4aは被検レンズ
4の軸外光路4b上に配置されたミラー13bにより、
軸上光路4aに対して直角に交差する方向(光路4
b’)に変換され、さらにミラー13aにより軸上光路
4aと合致する方向に変換される。
Reference numeral 13 is an optical path switching means rotatable about the optical axis of the lens 4 to be inspected, and is a mirror 13a arranged so as to be able to advance and retreat on the on-axis optical path 4a and a mirror 13b arranged on the off-axis optical path 4b. With. The mirror 13a has an off-axis image inspection position 13 which is 45 degrees with respect to the optical axis of the lens 4 to be inspected and which is free from eclipse of the off-axis light flux passing through the off-axis optical path 3b.
a "or off-axis optical path On-axis image inspection position 13 retracted so as not to cause eclipse on the on-axis light flux passing through the on-axis optical path 4a
It can be appropriately switched to a '. The off-axis optical path 4a is formed by the mirror 13b arranged on the off-axis optical path 4b of the lens 4 to be inspected.
A direction intersecting at right angles to the axial optical path 4a (optical path 4
b ′), and further converted by the mirror 13a in a direction coinciding with the on-axis optical path 4a.

【0015】14はコリメータレンズでその光軸は被検
レンズ4の光軸と一致するように設置されている。11
はコリメータレンズ14の結像面上に設けられた像走査
手段としての1次元のCCDである。このCCD11は
被検レンズ4の光軸に対して垂直に設置され、被検レン
ズ4の光軸を中心として、走査方向がテストパターンの
投影像に対して垂直に交差するように、光路切り換え手
段13の回転または、ミラー13aの位置に対応して回
転可能となっている。12はCCD11に接続されFF
Tが可能な信号処理装置12aとモニタ12bからなる
信号処理手段である。
A collimator lens 14 is installed so that its optical axis coincides with the optical axis of the lens 4 to be tested. 11
Is a one-dimensional CCD as an image scanning means provided on the image forming surface of the collimator lens 14. The CCD 11 is installed perpendicularly to the optical axis of the lens 4 to be inspected, and the optical path switching means is arranged so that the scanning direction intersects perpendicularly with the projected image of the test pattern with the optical axis of the lens 4 to be inspected as the center. It can be rotated according to the rotation of 13 or the position of the mirror 13a. 12 is connected to CCD 11 and FF
It is a signal processing means including a signal processing device 12a capable of T and a monitor 12b.

【0016】上記構成において、冷陰極管8から発した
光束は導光体9により液晶2に照射される。液晶2には
被検レンズ4の性能を検査するためのテストパターンと
してのスリット透過光開口部があり、この開口部を冷陰
極管8からの光束の一部が通過し、オパールガラス10
により拡散されて被検レンズ4の全面に向けて一様に射
出される。被検レンズ4の軸上性能を検査する場合、液
晶2を液晶ドライバ3により制御し、検査する方向によ
り図3に示すテストパターン2−1aまたは2−1bの
どちらかを表示し、ミラー13aを軸上像検査位置13
a’に設置する。
In the above structure, the light beam emitted from the cold cathode tube 8 is applied to the liquid crystal 2 by the light guide 9. The liquid crystal 2 has a slit transmitted light opening as a test pattern for inspecting the performance of the lens 4 to be inspected, and a part of the light flux from the cold cathode tube 8 passes through this opening, and the opal glass 10
Are diffused by and are uniformly emitted toward the entire surface of the lens 4 to be inspected. When inspecting the on-axis performance of the lens 4 to be inspected, the liquid crystal 2 is controlled by the liquid crystal driver 3, and either the test pattern 2-1a or 2-1b shown in FIG. On-axis image inspection position 13
Install at a '.

【0017】液晶2の軸上像検査用テストパターン2−
1aまたは2−1bから射出された軸上光束は、軸上光
路4aを通過しコリメータレンズ14の集光作用によ
り、CCD11上にテストパターン2−1aまたは2−
1bの投影像を生成する。この時CCD11の走査方向
はテストパターン2−1aまたは2−1bの投影像に対
して垂直な回転位置に設定されている。
Test pattern 2 for on-axis image inspection of liquid crystal 2
The on-axis light flux emitted from 1a or 2-1b passes through the on-axis optical path 4a, and the collimating lens 14 condenses the test pattern 2-1a or 2-on the CCD 11.
Generate a projected image of 1b. At this time, the scanning direction of the CCD 11 is set to a rotational position perpendicular to the projected image of the test pattern 2-1a or 2-1b.

【0018】CCD11上に生成されたテストパターン
2−1aまたは2−1bの投影像の位置的光強度分布
は、CCD11により時系信号に変換され、この信号は
信号処理装置12aによりA/D変換され、記憶される
と共に、FFTによるMTF計算がなされ、モニタ12
bがMTF値を表示する。これにより、被検レンズ4に
より生成されたテストパターン2−1aまたは2−1b
の投影像の結像状態を検査することが可能となる。被検
レンズ4の偏心によりテストパターン2−1aまたは2
−1bがCCD11からはずれた場合には、液晶ドライ
バ3により図4(a)の2a’,2a”に示すようにス
リット透過光開口部の位置を調整し、CCD11上にテ
ストパターン2−1aまたは2−1bの投影像を生成す
るようにする。
The positional light intensity distribution of the projected image of the test pattern 2-1a or 2-1b generated on the CCD 11 is converted into a time-series signal by the CCD 11, and this signal is A / D converted by the signal processor 12a. It is stored and stored, and MTF calculation by FFT is performed, and the monitor 12
b displays the MTF value. Thereby, the test pattern 2-1a or 2-1b generated by the lens 4 to be inspected
It is possible to inspect the image formation state of the projected image of. Depending on the eccentricity of the lens 4 under test, the test pattern 2-1a or 2
When -1b is disengaged from the CCD 11, the position of the slit transmitted light opening is adjusted by the liquid crystal driver 3 as shown in 2a 'and 2a "of FIG. The projection image of 2-1b is generated.

【0019】被検レンズ4の軸外性能を検査する場合に
は、液晶2を液晶ドライバ3により制御し、検査する場
所及び方向により図3に示すテストパターン2−2a〜
5aまたは2−2b〜5bのうちのどれかを表示し、ミ
ラー13aを軸外像検査位置13a”に設置する。テス
トパターン2−2a〜5aまたは2−2b〜5bから射
出された軸外光束は、被検レンズ4の結像面A上に置か
れたオパールガラス10により拡散された後、被検レン
ズ4により平行光束となる。平行光束となった軸外光束
は、軸外光路4bからミラー13aとミラー13bとに
より光路が切り換えられ、軸上光路3aを通過し、コリ
メータレンズ14の集光作用によりCCD11上にテス
トパターン2−2a〜5aまたは2−2b〜5bの投影
像を生成する。この時にCCD11の走査方向はテスト
パターンに対して垂直な回転位置に設定されている。
When inspecting the off-axis performance of the lens 4 to be inspected, the liquid crystal 2 is controlled by the liquid crystal driver 3, and the test patterns 2-2a to 2a shown in FIG.
5a or any of 2-2b to 5b is displayed, and the mirror 13a is placed at the off-axis image inspection position 13a ". The off-axis light flux emitted from the test patterns 2-2a to 5a or 2-2b to 5b. After being diffused by the opal glass 10 placed on the image plane A of the lens 4 to be inspected, it becomes a parallel light beam by the lens 4 to be inspected. The optical path is switched by the mirror 13a and the mirror 13b, passes through the on-axis optical path 3a, and the condensing action of the collimator lens 14 produces a projected image of the test pattern 2-2a to 5a or 2-2b to 5b on the CCD 11. At this time, the scanning direction of the CCD 11 is set to a rotation position perpendicular to the test pattern.

【0020】CCD11上に生成されたテストパターン
2−2a〜5aまたは2−2b〜5bの投影像の位置的
光強度分布は、CCD11により時系列信号に変換され
る。この信号は信号処理装置12aによりA/D変換さ
れ、記憶されると共に、FFTによるMTF計算がなさ
れ、モニタ12bがMTF値を表示する。これにより被
検レンズ4により生成されたテストパターン2−2a〜
5aまたは2−2b〜5bの投影像の結像状態を検査す
ることが可能である。被検レンズ4の偏心によりテスト
パターン2−2a〜5aまたは2−2b〜5bがCCD
11からはずれた場合には、液晶ドライバ3により図4
(a)に示すようにスリット透過光開口部の位置を調整
し、CCD11上にテストパターン2−2a〜5aまた
は2−2b〜5bの投影像を生成するようにする。
The positional light intensity distribution of the projected image of the test patterns 2-2a to 5a or 2-2b to 5b generated on the CCD 11 is converted by the CCD 11 into a time series signal. This signal is A / D converted by the signal processing device 12a and stored, and MTF calculation by FFT is performed, and the monitor 12b displays the MTF value. As a result, the test patterns 2-2a-
It is possible to inspect the image formation state of the projected image of 5a or 2-2b to 5b. Due to the eccentricity of the lens 4 to be inspected, the test patterns 2-2a to 5a or 2-2b to 5b are CCDs.
When it deviates from 11, the liquid crystal driver 3 is used.
As shown in (a), the position of the slit transmitted light aperture is adjusted so that a projected image of the test pattern 2-2a to 5a or 2-2b to 5b is generated on the CCD 11.

【0021】また被検レンズ4のFnoにより、液晶2
上のスリット透過光部のスリット幅を変化させ通過する
光量を調整する。ミラー13aを軸外像検査位置に設置
したままで、光路切り換え手段をα1〜α3毎に回転さ
せ(図3参照)、それに同期してCCD11をテストパ
ターン2−2a〜5aまたは2−2b〜5bの投影像に
対して走査方向が垂直となるように回転させることによ
り被検レンズ4の軸上を含む複数像高のテストパターン
投影像の結像状態の検査が可能となる。
Further, by the Fno of the lens 4 to be inspected, the liquid crystal 2
The slit width of the upper slit transmitted light portion is changed to adjust the amount of light passing therethrough. With the mirror 13a still installed at the off-axis image inspection position, the optical path switching means is rotated by every α1 to α3 (see FIG. 3), and the CCD 11 is synchronized with it to make the test patterns 2-2a to 5a or 2-2b to 5b. By rotating so that the scanning direction is perpendicular to the projected image of 1, the inspection state of the image formation state of the projected image of the test pattern of a plurality of image heights including the axis of the lens 4 to be inspected becomes possible.

【0022】このような本実施例によれば、冷陰極管8
を液晶2の平面に対して平行に配置し、また導光体9を
薄くし液晶2とオパールガラス10とに密着させること
が可能であるので、冷陰極管8,導光体9,液晶2,オ
パールガラス10を含んだ部分を小型化できる。また、
テストパターン投影像の光路が被検レンズ4からコリメ
ータレンズ14の間で平行光束であるため、被検レンズ
4,光路切り換え手段13,コリメータレンズ14の配
置に自由度がある。
According to this embodiment, the cold cathode fluorescent lamp 8
Can be arranged parallel to the plane of the liquid crystal 2, and the light guide 9 can be made thin so that the liquid crystal 2 and the opal glass 10 can be brought into close contact with each other. Therefore, the cold cathode tube 8, the light guide 9, the liquid crystal 2 The part including the opal glass 10 can be downsized. Also,
Since the optical path of the test pattern projection image is a parallel light beam between the lens 4 to be inspected and the collimator lens 14, there is flexibility in the arrangement of the lens 4 to be inspected, the optical path switching means 13, and the collimator lens 14.

【0023】[0023]

【実施例2】図5および図6は本発明の実施例2を示
す。4は被検レンズ、15は光源としてのELD、2は
テストパターンとしての透過光部を形成するための液晶
であり、軸上及び軸外の検査すべき像高に対応する位置
に図6に示すようにピンホール透過光開口部2−1〜2
−5を液晶ドライバ3により制御する。なお、図6には
測定箇所に対応するピンホール透過光開口部2−1〜2
−5の全てを示しているが、検査時には検査すべき箇所
に応じて、検査箇所に対応する位置にのみピンホール透
過光開口部を表示する。このピンホール透過光開口部
は、矢印で示すように微妙に透過光開口部の位置の調整
を行い、また透過光開口部の面積を変化させて、被検レ
ンズ4に照射する光量を変化させることができる。
Second Embodiment FIGS. 5 and 6 show a second embodiment of the present invention. Reference numeral 4 is a lens to be inspected, 15 is an ELD as a light source, and 2 is a liquid crystal for forming a transmitted light portion as a test pattern, which is shown in FIG. 6 at a position corresponding to an image height to be inspected on-axis and off-axis. As shown, the pinhole transmitted light openings 2-1 and 2-2
-5 is controlled by the liquid crystal driver 3. In FIG. 6, the pinhole transmitted light openings 2-1 and 2-2 corresponding to the measurement points are shown.
Although all of -5 are shown, the pinhole transmitted light apertures are displayed only at the positions corresponding to the inspection points during inspection. The position of the transmitted light opening of the pinhole transmitted light opening is finely adjusted as shown by the arrow, and the area of the transmitted light opening is changed to change the amount of light applied to the lens 4 to be inspected. be able to.

【0024】液晶2の表面は被検レンズ4に向け、被検
レンズの光軸に対し垂直に設置されており、その表面に
はピンホール透過光開口部から発せられる光束を被検レ
ンズ4の全面に均一に照射するための拡散板としてのオ
パールガラス10が密着状態で配置されている。
The surface of the liquid crystal 2 is oriented toward the lens to be inspected 4 and is perpendicular to the optical axis of the lens to be inspected. The light flux emitted from the pinhole transmitted light opening is provided on the surface of the lens to be inspected 4. Opal glass 10 as a diffusion plate for uniformly irradiating the entire surface is arranged in a close contact state.

【0025】16は被検レンズ4の結像面上に、被検レ
ンズ4の光軸に対して垂直に設置された像走査手段とし
ての2次元のCCDであり、このCCDは被検レンズ4
の結像面上に軸外測定位置に対応し複数個設置されてい
る。17はCCD16に接続され2次元でのFFTが可
能な信号処理装置17aとモニタ17bとを備えた信号
処理手段である。
Numeral 16 is a two-dimensional CCD as an image scanning means which is installed on the image plane of the lens 4 to be inspected and which is perpendicular to the optical axis of the lens 4 to be inspected.
A plurality of them are installed on the image forming plane corresponding to the off-axis measurement positions. Reference numeral 17 is a signal processing means connected to the CCD 16 and provided with a signal processing device 17a capable of two-dimensional FFT and a monitor 17b.

【0026】上記構成において、ELD15により液晶
2を照射する。液晶2には被検レンズ4の性能を検査す
るためのテストパターンとしてのピンホール透過光開口
部があり、この開口部をELD15からの光の一部が通
過し、オパールガラス10により拡散されて被検レンズ
4の全面に向けて一様に射出される。
In the above structure, the ELD 15 irradiates the liquid crystal 2. The liquid crystal 2 has a pinhole transmitted light opening as a test pattern for inspecting the performance of the lens 4 to be inspected. A part of the light from the ELD 15 passes through this opening and is diffused by the opal glass 10. It is uniformly ejected toward the entire surface of the lens 4 to be inspected.

【0027】被検レンズ4の軸上および軸外性能を検査
する場合、液晶2を液晶ドライバ3により制御し、検査
する場所により図6に示すテストパターン2−1〜5の
うちのどれかを表示する。液晶2のテストパターンから
射出された軸上および軸外光束は、軸上光路4aおよび
軸外光路4bを通過し被検レンズ4の結像作用により、
CCD16上にテストパターンの投影像を生成する。
When inspecting the on-axis and off-axis performances of the lens 4 to be inspected, the liquid crystal 2 is controlled by the liquid crystal driver 3 and any one of the test patterns 2-1 to 5 shown in FIG. indicate. The on-axis and off-axis light fluxes emitted from the test pattern of the liquid crystal 2 pass through the on-axis optical path 4a and the off-axis optical path 4b, and due to the imaging action of the lens 4 under test,
A projected image of the test pattern is generated on the CCD 16.

【0028】CCD16上に生成されたテストパターン
の投影像の位置的光強度分布は、CCD16により時系
列信号に変換され、この信号は信号処理装置17aによ
りA/D変換され、記憶されると共に、FFTによる接
線方向および法線方向の2次元でのMTF計算が行われ
る。そしてモニタ17bがこの2次元のMTF値を表示
する。これにより被検レンズ4により生成されたテスト
パターンの投影像の接線方向および法線方向の2次元で
の結像状態を検査することが可能である。被検レンズ4
の偏心によりテストパターンがCCD16からはずれた
場合には、液晶ドライバ3により図6に示すようにピン
ホール透過光開口部の位置を調整し、CCD16上にテ
ストパターンの投影像を生成する。また被検レンズ4の
Fnoにより、液晶2上のピンホール開口部面積を変化
させ、通過する光量を調整する。
The positional light intensity distribution of the projected image of the test pattern generated on the CCD 16 is converted into a time series signal by the CCD 16, and this signal is A / D converted by the signal processing device 17a and stored. Two-dimensional MTF calculation in the tangential direction and the normal direction by FFT is performed. Then, the monitor 17b displays this two-dimensional MTF value. This makes it possible to inspect the two-dimensional image formation state in the tangential direction and the normal direction of the projected image of the test pattern generated by the lens 4 to be inspected. Lens to be inspected 4
When the test pattern deviates from the CCD 16 due to the eccentricity, the position of the pinhole transmitted light opening is adjusted by the liquid crystal driver 3 to generate a projected image of the test pattern on the CCD 16, as shown in FIG. The area of the pinhole opening on the liquid crystal 2 is changed by Fno of the lens 4 to be inspected, and the amount of light passing therethrough is adjusted.

【0029】このような本実施例では、光源としてのE
LD15を薄型化し、液晶2とオパールガラス10とに
密着させて構成することが可能であるので、ELD1
5,液晶2,オパールガラス10を含んだ部分を小型化
できる。また、被検レンズ4の任意像高位置の接線方向
および法線方向の結像性能をCCD16を回転させるこ
となく検査できる。
In this embodiment, as the light source, E
Since it is possible to make the LD 15 thin and make it adhere to the liquid crystal 2 and the opal glass 10, the ELD 1
5, the part including the liquid crystal 2 and the opal glass 10 can be miniaturized. Further, the imaging performance in the tangential direction and the normal direction at the arbitrary image height position of the test lens 4 can be inspected without rotating the CCD 16.

【0030】[0030]

【実施例3】図7および図8は本発明の実施例3を示
し、4は被検レンズ、19は光源としてのハロゲン光
源、20はレンズでハロゲン光源19から発した光を液
晶2に一様にむらなく照射する。2はテストパターンと
しての透過光開口部を形成するための液晶であり、軸上
及び軸外の検査すべき像高に対応する位置に図8に示す
ようにスリット透過光開口部を液晶ドライバ3により制
御する。この液晶2のスリット透過光開口部は被検レン
ズ4の法線方向と接線方向のどちらかを検査するかによ
ってパターンを切り換える。また、軸外像検査位置も実
施例1の図4に示したと同様にスリット開口部の位置を
任意に変える。なお図8には測定箇所に対応するスリッ
ト透過光開口部の全てを示しているが、検査時には検査
すべき箇所に応じて、対応する位置にのみスリット透過
光開口部を表示する。
Third Embodiment FIGS. 7 and 8 show a third embodiment of the present invention, in which 4 is a lens to be inspected, 19 is a halogen light source as a light source, and 20 is a lens which directs the light emitted from the halogen light source 19 to the liquid crystal 2. Irradiate evenly. Reference numeral 2 denotes a liquid crystal for forming a transmitted light opening as a test pattern, and a slit transmitted light opening is provided at a position corresponding to an image height to be inspected on-axis and off-axis as shown in FIG. Controlled by. The pattern of the slit transmitted light opening of the liquid crystal 2 is switched depending on whether the normal direction or the tangential direction of the lens 4 to be inspected is inspected. Further, the off-axis image inspection position is also arbitrarily changed as in the first embodiment shown in FIG. Although all of the slit transmitted light openings corresponding to the measurement points are shown in FIG. 8, the slit transmitted light openings are displayed only at the corresponding positions according to the points to be inspected at the time of inspection.

【0031】液晶2の表面は被検レンズ4に向け、被検
レンズ4の光軸に対し垂直に設置されており、スリット
透過光開口部を通過する光束は被検レンズ4の全面に均
一に照射される。
The surface of the liquid crystal 2 is directed toward the lens 4 to be inspected, and is installed perpendicularly to the optical axis of the lens 4 to be inspected. Is irradiated.

【0032】21は被検査レンズ4の結像面上に、被検
レンズ4の光軸に対して垂直に設置された像走査手段と
しての2次元のCCDである。このCCD21は被検レ
ンズ4の軸上光路4aに対して常に垂直な位置関係を保
ったまま同一平面上を移動可能かつCCD21を中心と
して回転可能なXYテーブル23上に設置されている。
22はCCD21に接続され2次元でのFFTが可能な
信号処理装置22aと、モニタ22bとからなる信号処
理手段を示す。
Reference numeral 21 denotes a two-dimensional CCD as an image scanning means installed on the image forming surface of the lens 4 to be inspected and perpendicularly to the optical axis of the lens 4 to be inspected. The CCD 21 is installed on an XY table 23 that can move on the same plane while maintaining a positional relationship that is always perpendicular to the axial optical path 4a of the lens 4 to be inspected and that can rotate about the CCD 21.
Reference numeral 22 denotes a signal processing unit which is connected to the CCD 21 and includes a signal processing device 22a capable of performing two-dimensional FFT and a monitor 22b.

【0033】上記構成において、ハロゲン光源19から
発した光はレンズ20により拡散されて液晶2に照射さ
れる。液晶2には被検レンズ4の性能を検査するための
テストパターンとしてのスリット透過光開口部があり、
この開口部をハロゲン光源19からの光の一部が通過
し、被検レンズ4の全面に向けて一様に射出される。
In the above structure, the light emitted from the halogen light source 19 is diffused by the lens 20 and applied to the liquid crystal 2. The liquid crystal 2 has a slit transmitted light opening as a test pattern for inspecting the performance of the lens 4 to be inspected,
Part of the light from the halogen light source 19 passes through this opening and is uniformly emitted toward the entire surface of the lens 4 to be inspected.

【0034】被検レンズ4の軸性能を検査する場合、液
晶2を液晶ドライバ3により制御しし、図8に示す軸上
像検査用テストパターン2−1c,1d,1e,1f,
1g,1hのどれかを表示し、XYテーブル23を駆動
しCCD21の中心を被検レンズ4の軸上光路4aに一
致させる。
When inspecting the axial performance of the lens 4 to be inspected, the liquid crystal 2 is controlled by the liquid crystal driver 3, and the on-axis image inspection test patterns 2-1c, 1d, 1e, 1f, shown in FIG.
Either 1g or 1h is displayed, the XY table 23 is driven, and the center of the CCD 21 is aligned with the on-axis optical path 4a of the lens 4 to be inspected.

【0035】液晶2の軸上像検査用テストパターン2−
1c,1d,1e,1f,1g,1hから射出された軸
上光束は、軸上光路4aを通過し被検レンズ4の結像作
用により、CCD21上にテストパターン2−1c,1
d,1e,1f,1g,1hの投影像を生成する。この
時CCD21の走査方向はテストパターン2−1c,1
d,1e,1f,1g,1hの投影像に対して垂直な回
転位置に設定されている。
Test pattern for on-axis image inspection of liquid crystal 2-
The on-axis light fluxes emitted from 1c, 1d, 1e, 1f, 1g, 1h pass through the on-axis optical path 4a and the test pattern 2-1c, 1 is formed on the CCD 21 by the imaging action of the lens 4 to be inspected.
The projected images of d, 1e, 1f, 1g, and 1h are generated. At this time, the scanning direction of the CCD 21 is the test pattern 2-1c, 1
The rotation positions are set perpendicular to the projected images of d, 1e, 1f, 1g, and 1h.

【0036】CCD21上に生成されたテストパターン
2−1c,1d,1e,1f,1g,1hの投影像の位
置的光強度分布は、CCD21により時系列信号に変換
され、この信号は信号処理装置22aによりA/D変換
され、記憶されると共に、FETによるMTF計算が行
われ、モニタ22bがMTF値を表示する。これにより
被検レンズ4により生成されたテストパターン2−1
c,1d,1e,1f,1g,1hの投影像の結像状態
を検査することが可能である。被検レンズ4の偏心によ
りテストパターン2−1c,1d,1e,1f,1g,
1hがCCD21からはずれた場合には、液晶ドライバ
3によりスリット透過光開口部の位置を調整し、CCD
21上にテストパターン2−1c,1d,1e,1f,
1g,1hの投影像を生成する。また目視検査の場合に
は、目視軸上像検査用のスリット透過光開口部である図
8(e),(f)の2−1g,1hを液晶2上に設け、
その投影像をCCD21により時系列信号に変換し、該
信号をモニタ22bに表示し、それを検査者が観察し判
断することにより行う。
The positional light intensity distribution of the projected images of the test patterns 2-1c, 1d, 1e, 1f, 1g, 1h generated on the CCD 21 is converted into a time series signal by the CCD 21, and this signal is converted into a signal processing device. 22a is A / D converted and stored, the MTF is calculated by the FET, and the monitor 22b displays the MTF value. Thereby, the test pattern 2-1 generated by the lens 4 to be inspected
It is possible to inspect the image formation state of the projected images of c, 1d, 1e, 1f, 1g, 1h. Due to the eccentricity of the lens 4 to be tested, test patterns 2-1c, 1d, 1e, 1f, 1g,
If 1h is off the CCD 21, the liquid crystal driver 3 adjusts the position of the slit transmitted light opening,
21 on the test patterns 2-1c, 1d, 1e, 1f,
The projected images of 1g and 1h are generated. Further, in the case of visual inspection, 2-1g and 1h shown in FIGS. 8 (e) and 8 (f), which are slit transmitted light opening portions for on-axis visual image inspection, are provided on the liquid crystal 2.
The projected image is converted into a time series signal by the CCD 21, the signal is displayed on the monitor 22b, and the inspector observes and judges the signal.

【0037】被検レンズ4の軸外性能を検査する場合に
は、液晶2を液晶ドライバ3により制御し、検査する場
所及び方向により図8に示す軸外像検査用テストパター
ン2−2c,2d,2e,2f,2g,2h〜5c,5
d,5e,5f,5g,5hのうちのどれかを表示し、
XYテーブル23を駆動し、CCD21の中心が被検レ
ンズ4の軸外光路4bに一致するように設置する。軸外
像検査用テストパターン2−2c,2d,2e,2f,
2g,2h〜5c,5d,5e,5f,5g,5hから
射出された軸外光束は、被検レンズ4の結像作用により
CCD21上に軸外像検査用テストパターンの投影像を
生成する。この時CCD21の走査方向はテストパター
ンの投影像に対して垂直な回転位置に設定されている。
When inspecting the off-axis performance of the lens 4 to be inspected, the liquid crystal 2 is controlled by the liquid crystal driver 3 and the off-axis image inspection test patterns 2-2c and 2d shown in FIG. , 2e, 2f, 2g, 2h to 5c, 5
Display any of d, 5e, 5f, 5g, 5h,
The XY table 23 is driven and installed so that the center of the CCD 21 coincides with the off-axis optical path 4b of the lens 4 to be inspected. Off-axis image inspection test patterns 2-2c, 2d, 2e, 2f,
The off-axis light fluxes emitted from 2g, 2h to 5c, 5d, 5e, 5f, 5g, 5h generate a projected image of the off-axis image inspection test pattern on the CCD 21 by the imaging action of the lens 4 to be inspected. At this time, the scanning direction of the CCD 21 is set to a rotation position perpendicular to the projected image of the test pattern.

【0038】CCD21上に生成された軸外像検査用テ
ストパターン2−2c,2d,2e,2f,2g,2h
〜5c,5d,5e,5f,5g,5hの投影像の位置
的光強度分布は、CCD21により時系列信号に変換さ
れ、この信号は信号処理装置22aによりA/D変換さ
れ、記憶されると共に、FFTによるMTF計算が行わ
れ、モニタ22bがMTF値を表示する。これにより被
検レンズ4により生成された軸外像検査用テストパター
ンの投影像の結像状態を検査することが可能である。被
検レンズ4の偏心によりテストパターンの投影像がCC
D21からはずれた場合には、液晶ドライバ3によりス
リット開口部位置を調整して、CCD21上にテストパ
ターンの投影像を生成する。
Off-axis image inspection test patterns 2-2c, 2d, 2e, 2f, 2g, 2h generated on the CCD 21.
The positional light intensity distributions of the projected images of 5c, 5d, 5e, 5f, 5g, and 5h are converted into time series signals by the CCD 21, and the signals are A / D converted by the signal processing device 22a and stored. , MFT calculation by FFT is performed, and the monitor 22b displays the MTF value. This makes it possible to inspect the image formation state of the projection image of the off-axis image inspection test pattern generated by the lens 4 to be inspected. Due to the eccentricity of the lens 4 to be inspected, the projected image of the test pattern is CC
If it deviates from D21, the position of the slit opening is adjusted by the liquid crystal driver 3 to generate a projected image of the test pattern on the CCD 21.

【0039】また目視検査の場合には、目視軸外像検査
用のスリット透過光開口部である図8(e),(f)に
おける2−2g,3g,4g,5g,または2−2h,
3h,4h,5hのスリット透過光開口部を液晶2上に
設け、その投影像をCCD21により時系列信号に変換
し、この信号をモニタ22bに表示し、それを検査者が
観察し判断により行う。
In the case of visual inspection, 2-2g, 3g, 4g, 5g or 2-2h in FIGS. 8 (e) and 8 (f), which are slit transmitted light openings for visual off-axis image inspection,
3h, 4h, 5h slit transmitted light apertures are provided on the liquid crystal 2, the projected image thereof is converted into a time series signal by the CCD 21, and this signal is displayed on the monitor 22b, which the observer observes and makes a judgment. .

【0040】このような本実施例によれば、モニタ22
bにより目視検査を行うことも可能である。また、液晶
2上のスリット透過光開口部を任意位置に設置し、CC
D21の中心をXYテーブル23によりその軸外光路に
一致するようにして移動させることにより、被検レンズ
4の任意像高位置に対する結像性能を検査することも可
能である。
According to this embodiment as described above, the monitor 22
It is also possible to perform a visual inspection with b. In addition, the slit transmitted light opening on the liquid crystal 2 is installed at an arbitrary position, and CC
By moving the center of D21 by the XY table 23 so as to match the off-axis optical path, it is possible to inspect the imaging performance of the lens 4 to be inspected at an arbitrary image height position.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、テ
ストパターン部に回転等の機構を用いることなく被検レ
ンズの任意測定位置の任意方向の結像性能を検査するこ
とが可能である。また被検レンズの検査をMTF値によ
り行うとき、被検レンズのFnoが大きな場合は、液晶
の透過光開口部の幅を広くし通過する光量を調整するこ
とにより、被検レンズに照射する光量を増加させること
ができる。さらに、検査の際には検査箇所に対応する場
所にのみテストパターンを表示させ、その投影像を像走
査手段により取り込み、信号処理装置によりA/D変換
等の処理を行い記録し、その後、テストパターンを全て
表示しない状態で像走査手段の信号を取り込み、同様に
A/D変換等の処理を行い、先に記録したデータから減
算することにより、像走査手段のノイズ、テストパター
ン以外のもれ光の影響を校正できるため、より正確な検
査を行うことが可能である。
As described above, according to the present invention, it is possible to inspect the imaging performance in an arbitrary direction at an arbitrary measurement position of the lens to be inspected without using a mechanism such as rotation in the test pattern portion. . When the inspection lens is inspected by the MTF value and the Fno of the inspection lens is large, the amount of light radiated to the inspection lens is adjusted by increasing the width of the transmitted light aperture of the liquid crystal and adjusting the passing light amount. Can be increased. Further, at the time of the inspection, the test pattern is displayed only at the position corresponding to the inspection position, the projected image thereof is captured by the image scanning means, the signal processing device performs the processing such as A / D conversion, and is recorded, and then the test is performed. The signal of the image scanning means is fetched in a state where all the patterns are not displayed, the A / D conversion is similarly performed, and the noise is generated in the image scanning means by the subtraction from the previously recorded data. Since the influence of light can be calibrated, more accurate inspection can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の基本構成を示す側面図。FIG. 1 is a side view showing a basic configuration of the present invention.

【図2】実施例1を示す側面図。FIG. 2 is a side view showing the first embodiment.

【図3】実施例1の液晶の正面図。FIG. 3 is a front view of the liquid crystal of Example 1.

【図4】図3の透過光部分の正面図。FIG. 4 is a front view of a transmitted light portion of FIG.

【図5】実施例2を示す側面図。FIG. 5 is a side view showing a second embodiment.

【図6】実施例2の液晶の正面図。6 is a front view of the liquid crystal of Example 2. FIG.

【図7】実施例3の正面図。FIG. 7 is a front view of the third embodiment.

【図8】実施例3の液晶の正面図。8 is a front view of the liquid crystal of Example 3. FIG.

【図9】従来装置の斜視図。FIG. 9 is a perspective view of a conventional device.

【図10】従来装置の測定を示す平面図。FIG. 10 is a plan view showing measurement of a conventional device.

【図11】従来装置の測定を示す平面図。FIG. 11 is a plan view showing measurement of a conventional device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光源 2 液晶 3 液晶ドライバ 4 被検レンズ 5 像走査手段 6 信号処理手段 1 light source 2 liquid crystal 3 liquid crystal driver 4 lens to be inspected 5 image scanning means 6 signal processing means

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光源と、光源からの光束により照射され
るテストパターンと、このテストパターンの投影像を結
像させる被検レンズと、前記投影像の位置的光強度分布
を時系列信号に変換する像走査手段と、この像走査手段
からの信号を処理する信号処理手段とを備え、前記テス
トパターンが液晶からなり、この液晶が液晶ドライバに
より駆動制御可能となっていることを特徴とするレンズ
性能検査装置。
1. A light source, a test pattern illuminated by a light beam from the light source, a lens to be examined for forming a projected image of the test pattern, and a positional light intensity distribution of the projected image converted into a time-series signal. Image scanning means and signal processing means for processing a signal from the image scanning means, the test pattern is made of liquid crystal, and the liquid crystal can be driven and controlled by a liquid crystal driver. Performance inspection device.
JP31251093A 1993-11-18 1993-11-18 Inspection equipment for lens performance Withdrawn JPH07140046A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31251093A JPH07140046A (en) 1993-11-18 1993-11-18 Inspection equipment for lens performance

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31251093A JPH07140046A (en) 1993-11-18 1993-11-18 Inspection equipment for lens performance

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07140046A true JPH07140046A (en) 1995-06-02

Family

ID=18030093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31251093A Withdrawn JPH07140046A (en) 1993-11-18 1993-11-18 Inspection equipment for lens performance

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07140046A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006138644A (en) * 2004-11-10 2006-06-01 Nikon Corp Projector unit and illuminator device for inspection of imaging device provided with the same
JP2008501960A (en) * 2004-06-09 2008-01-24 オートメーション アンド ロボティクス Device for controlling transparent or reflective parts
WO2021132101A1 (en) * 2019-12-26 2021-07-01 株式会社ニデック Spectacle lens measurement device and spectacle lens measurement program
JP2021105573A (en) * 2019-12-26 2021-07-26 株式会社ニデック Spectacle lens measuring device and spectacle lens measuring program
JP2021105572A (en) * 2019-12-26 2021-07-26 株式会社ニデック Spectacle lens measuring device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008501960A (en) * 2004-06-09 2008-01-24 オートメーション アンド ロボティクス Device for controlling transparent or reflective parts
JP2006138644A (en) * 2004-11-10 2006-06-01 Nikon Corp Projector unit and illuminator device for inspection of imaging device provided with the same
WO2021132101A1 (en) * 2019-12-26 2021-07-01 株式会社ニデック Spectacle lens measurement device and spectacle lens measurement program
JP2021105573A (en) * 2019-12-26 2021-07-26 株式会社ニデック Spectacle lens measuring device and spectacle lens measuring program
JP2021105572A (en) * 2019-12-26 2021-07-26 株式会社ニデック Spectacle lens measuring device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102347059B1 (en) Overlay metrology using multiple parameter configurations
JP3660680B2 (en) Spectrometer
JPH0727709A (en) Inspecting apparatus surface defect
KR100425412B1 (en) A device for measuring the photometric and colorimetric characteristics of an object
JPH0797078B2 (en) Infrared microspectrophotometer
JP3577164B2 (en) Lighting device and color / shape measuring device
JP2558864B2 (en) Spectroscopic analyzer
JP7379305B2 (en) optical equipment
JPH07140046A (en) Inspection equipment for lens performance
JPH08128923A (en) Image evaluation device
JP2001021810A (en) Interference microscope
JPH09178564A (en) Spectrometric system
JP7318868B2 (en) Sample measuring device, measuring method and program
JP3667397B2 (en) Raman spectrometer
JPH10176906A (en) Measuring device
JP2005274156A (en) Flaw inspection device
JPH10186240A (en) Darkfield vertical illumination microscope device
JPH02218935A (en) Inspection method and apparatus for optical system
JP2518171B2 (en) Lighting fiber bundle inspection device
JP2022512343A (en) Assembly for switching optical paths and optical microscope including it
JP2769405B2 (en) 2D light distribution measurement device for liquid crystal display panel
US12007542B2 (en) Assembly for switching optical path and optical microscope including the assembly
JPH04297810A (en) Optical tester
JP2907879B2 (en) Spectrophotometer
JPH1054793A (en) Spectral reflection light amount measuring device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20010130