JPH07138746A - Thin film producing apparatus - Google Patents
Thin film producing apparatusInfo
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- JPH07138746A JPH07138746A JP5282184A JP28218493A JPH07138746A JP H07138746 A JPH07138746 A JP H07138746A JP 5282184 A JP5282184 A JP 5282184A JP 28218493 A JP28218493 A JP 28218493A JP H07138746 A JPH07138746 A JP H07138746A
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- vacuum chamber
- thin film
- side wall
- substrate
- clean room
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜製造装置に関し、
更に詳しくは、スパッタリングにより薄膜を形成するこ
とのできる薄膜製造装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film manufacturing apparatus,
More specifically, it relates to a thin film manufacturing apparatus capable of forming a thin film by sputtering.
【０００２】[0002]
【従来の技術】スパッタリングを行って薄膜を形成する
場合、従来において使用されている製造装置としては、
例えば、図４に示すような構造のものが開示されてい
る。2. Description of the Related Art When a thin film is formed by sputtering, a manufacturing apparatus used in the past is
For example, a structure as shown in FIG. 4 is disclosed.
【０００３】真空チャンバ３１は、いわゆるカルーセル
式に用いられる形状をなし、内側の側壁は、それぞれの
外周に沿った円柱の側面と、内周に沿った円柱の側面と
によって構成されている。その真空チャンバ３１内に、
基板３４と、その基板３４を載置する回転自在の載置台
３５が備えられ、真空チャンバ３１の内側の側壁のう
ち、外周に沿った円柱の側壁にはターゲット３２ａ，３
２ｂが、また、内周に沿った円柱の側壁にはターゲット
３３ａ，３３ｂが設けられた構造となっている。The vacuum chamber 31 has a shape used in a so-called carousel type, and the inner side wall is constituted by a side surface of a cylinder along each outer circumference and a side surface of the cylinder along an inner circumference. In the vacuum chamber 31,
A substrate 34 and a rotatable mounting table 35 on which the substrate 34 is mounted are provided, and among the inner sidewalls of the vacuum chamber 31, the targets 32a, 3 are provided on the sidewalls of the cylinder along the outer periphery.
2b, and targets 33a and 33b are provided on the side wall of the cylinder along the inner circumference.
【０００４】この製造装置はクリーンルーム内に配設さ
れている。また、この製造装置に用いられている真空チ
ャンバ３１は、チャンバ上部３１ａとチャンバ下部３１
ｂに分離可能になっており、例えば、基板３４の搬入お
よび搬出の際は、その度にこのチャンバ上部３１ａを持
ち上げて、その作業が行われている。This manufacturing apparatus is arranged in a clean room. Further, the vacuum chamber 31 used in this manufacturing apparatus includes a chamber upper portion 31a and a chamber lower portion 31.
It is separable into b. For example, when loading and unloading the substrate 34, the chamber upper part 31a is lifted each time and the work is performed.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の装置では、基板の搬入および搬出の度に、真空チャ
ンバの上部を持ち上げなければならず、その持ち上げ作
業用として、クレーン等の専用の吊り下げ装置を必要と
し、その作業は大掛かりで手間と時間を要し、生産性の
低下を招くことになっていた。上記のように真空チャン
バの上部を持ち上げての作業においては、真空チャンバ
内のダストによるクリーンルーム内の汚染という問題が
生じていた。クリーンルーム内のダストはピンホール等
の原因にもなりやすく、品質の低下を招くため、除く必
要があり、こうしたクリーンルーム内の汚染を取り除く
作業は、多くの時間を要するものであり、製造の効率を
低下させるものであった。In the above-mentioned conventional apparatus, the upper part of the vacuum chamber must be lifted each time a substrate is loaded or unloaded, and a dedicated lifting device such as a crane is used to lift the vacuum chamber. This requires a lowering device, which requires a large amount of work and time, which leads to a reduction in productivity. In the work of lifting the upper part of the vacuum chamber as described above, there is a problem that dust in the vacuum chamber contaminates the clean room. Dust in the clean room is likely to cause pinholes, etc., leading to deterioration in quality, so it must be removed, and the work of removing such contamination in the clean room requires a lot of time, which increases the manufacturing efficiency. It was the one that lowered.
【０００６】このように、従来の装置では、生産性や製
造工程における効率を悪化させる上、上記した汚染等に
より膜特性は低下し、歩留りが低下するという問題があ
った。As described above, the conventional apparatus has a problem that productivity and efficiency in the manufacturing process are deteriorated, and the film characteristics are deteriorated due to the above-mentioned contamination and the yield is decreased.
【０００７】本発明はこれらの問題を解決するためにな
されたもので、生産性の向上ならびに製造工程の効率化
を実現し、しかも、特性の向上した薄膜を得ることがで
きる薄膜製造装置を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve these problems, and provides a thin film manufacturing apparatus capable of improving productivity and manufacturing process efficiency and obtaining a thin film having improved characteristics. The purpose is to do.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の目的を達成する
ために、本発明の請求項１に係る薄膜製造装置（以下、
発明１という）は、二重円筒の側壁を有し、かつ、それ
ぞれの側壁は互いの底部で繋がった形状の真空チャンバ
と、その真空チャンバの内部には、基板を保持するため
の基板保持部を有し、かつ、その基板保持部により保持
された基板を上記二重円筒の側壁間で回転走行させるた
めの回転自在の載置台とを備えるとともに、その真空チ
ャンバにおける外側の側壁外周面および内側の側壁外周
面に沿って複数のターゲットを備えた薄膜製造装置にお
いて、上記チャンバにおける外側の側壁に、上記基板を
搬入・搬出するための開口部が設けられていることによ
って特徴付けられる。In order to achieve the object of the present invention, a thin film manufacturing apparatus according to claim 1 of the present invention (hereinafter, referred to as
Invention 1) has a double-chamber side wall, and the side walls are connected to each other at the bottoms of a vacuum chamber, and a substrate holder for holding a substrate inside the vacuum chamber. And a rotatable mounting table for rotating the substrate held by the substrate holding part between the side walls of the double cylinder, and the outer side wall outer surface and the inner side of the vacuum chamber. In the thin film manufacturing apparatus provided with a plurality of targets along the outer peripheral surface of the side wall, the outer side wall of the chamber is provided with an opening for loading / unloading the substrate.
【０００９】また、本発明の請求項２に係る薄膜製造装
置（以下、発明２という）は、上記の請求項１に係る薄
膜製造装置の手段に加え、開口部がクリーンルームに臨
ませて設けられているとともに、該開口部には真空チャ
ンバ内と上記クリーンルーム内とを連通または遮断する
ためのハッチが開閉自在に取付けられていることによっ
て特徴付けられる。Further, a thin film manufacturing apparatus according to claim 2 of the present invention (hereinafter referred to as invention 2) is provided in addition to the means of the thin film manufacturing apparatus according to claim 1 described above, with an opening facing a clean room. In addition, a hatch for connecting or disconnecting the inside of the vacuum chamber and the inside of the clean room is openably and closably attached to the opening.
【００１０】[0010]
【作用】発明１では、二重円筒形状とされた真空チャン
バの外側の側壁に開口部を備えた構成としたので、この
開口部を介してチャンバ内への基板の搬入あるいは該チ
ャンバ内からの基板の搬出が可能となる。According to the first aspect of the invention, since the opening is provided on the outer side wall of the vacuum chamber having the double cylindrical shape, the substrate is carried into the chamber or is removed from the chamber through the opening. The substrate can be carried out.
【００１１】また、発明２では、上記開口部がクリーン
ルームに臨んで設けられているので、クリーンルーム側
から、基板の搬入・搬出作業を行う場合、例えば、基板
の搬出作業では、開口部に設けられたハッチを開いて該
開口部に基板が位置するように載置台を回転走行させ
て、その開口部から基板を搬出する。また、基板の搬入
作業は、クリーンルーム側から、その開口部を介して載
置台の所定位置に基板をセットする。こうした作業にお
いては、クリーンルームに対し、開口部のみが晒される
ので、真空チャンバ側からのダストの汚染は少ない。Further, according to the second aspect of the invention, since the opening is provided facing the clean room, when carrying in / out the substrate from the clean room side, for example, when carrying out the substrate, the opening is provided in the opening. The hatch is opened and the mounting table is rotated so that the substrate is positioned in the opening, and the substrate is carried out from the opening. Further, in the substrate loading operation, the substrate is set from the clean room side to a predetermined position on the mounting table through the opening. In such work, since only the opening is exposed to the clean room, dust contamination from the vacuum chamber side is small.
【００１２】[0012]
【実施例】以下、図面に基づいて本発明実施例を説明す
る。図１は本発明実施例の構成を示す基本構成図、図２
は本発明実施例に適用されるスパッタリング装置の断面
図を示すとともに、その構成を説明するための図であ
る。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a basic configuration diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention, FIG.
FIG. 2 is a diagram showing a cross-sectional view of a sputtering apparatus applied to an embodiment of the present invention and a diagram for explaining the configuration thereof.
【００１３】本発明実施例の薄膜製造装置Ａ１は、真空
チャンバ１の外側の側壁１ａに開口部３が設けられ、こ
の開口部３によって、真空チャンバ１とクリーンルーム
ＲCが互いに連結された構造となっている。また、この
開口部３にはクリーンルームＲC 側に開くハッチ４が設
けられている。In the thin film manufacturing apparatus A1 of the embodiment of the present invention, an opening 3 is provided on the outer side wall 1a of the vacuum chamber 1, and the opening 3 connects the vacuum chamber 1 and the clean room R C to each other. Has become. Further, a hatch 4 that opens to the clean room R C side is provided in the opening 3.
【００１４】まず、真空チャンバ１は、二重円筒の側壁
１ａ，１ｂを有し、かつ、それぞれの側壁は互いの底部
で繋がった形状をなしている。また、その外側の側壁の
外周面には複数のターゲット２・・・・２が配設されてお
り、また、内側の側壁の外周面には複数のターゲット６
・・・・６が配設されている。さらに、真空チャンバ１内部
には、複数の基板Ｓを保持する基板保持部８が備えられ
た載置台７が設けられ、この載置台７は、基板Ｓを二重
円筒の側壁間で回転走行させるよう回転自在となってい
る。また、この載置台７は回転機構部２３により、その
速度が制御され、駆動がなされる。また、上記したター
ゲット２および６は、それぞれ、ターゲット制御部２２
の制御により所定の電圧が印加されるようになってい
る。また、真空チャンバ１内の排気を行うための排気系
２４、スパッタリング時に反応ガスを供給するためのガ
ス供給系２１が備えられている。First, the vacuum chamber 1 has double cylinder side walls 1a and 1b, and the side walls are connected to each other at their bottoms. Further, a plurality of targets 2 ... 2 are arranged on the outer peripheral surface of the outer side wall, and a plurality of targets 6 are arranged on the outer peripheral surface of the inner side wall.
..... 6 are provided. Further, inside the vacuum chamber 1, there is provided a mounting table 7 provided with a substrate holding part 8 for holding a plurality of substrates S, and the mounting table 7 causes the substrate S to rotate between the side walls of the double cylinder. It is freely rotatable. Further, the speed of the mounting table 7 is controlled and driven by the rotation mechanism section 23. Further, the targets 2 and 6 described above are respectively the target control unit 22.
A predetermined voltage is applied under the control of. Further, an exhaust system 24 for exhausting the inside of the vacuum chamber 1 and a gas supply system 21 for supplying a reaction gas during sputtering are provided.
【００１５】以上の構成の本発明実施例では、基板Ｓの
搬入・搬出は開口部３を介してなされ、その搬入，搬出
作業が容易となるとともに、ターゲットの取り付け、真
空チャンバ１内の洗浄等のメンテナンスは、開口部３の
ハッチ４を閉じた状態で、メンテナンスゾーンＲM で行
うことができ、クリーンルームＲC 側は閉じた状態で行
うことができる。この結果、クリーンルームＲC のダス
トの汚染を低減することができ、しかも、効率的に生産
ラインを稼働することができる。In the embodiment of the present invention having the above construction, the substrate S is loaded and unloaded through the opening 3 to facilitate the loading and unloading work, and also to attach the target, clean the vacuum chamber 1 and the like. Can be performed in the maintenance zone R M with the hatch 4 of the opening 3 closed, and can be performed with the clean room R C side closed. As a result, it is possible to reduce dust pollution in the clean room R C , and to efficiently operate the production line.
【００１６】次に、以上の構成からなる本発明実施例の
使用方法について説明する。まず、メンテナンスゾーン
ＲM において、成膜すべき組成の物質を備えたターゲッ
トを、真空チャンバ１の所定位置に取りつける。また、
クリーンルームＲC側から、洗浄された基板を搬入す
る。そして開口部３のハッチ４を締め、排気後一連のス
パッタリングを行う。スパッタリング後の基板Ｓは、開
口部３から搬出し、再び、次にスパッタリングすべき基
板を真空チャンバ１内に搬入し、同様にスパッタリング
を行う。Next, a method of using the embodiment of the present invention having the above construction will be described. First, in the maintenance zone R M , a target provided with a substance having a composition to be deposited is attached to a predetermined position of the vacuum chamber 1. Also,
The cleaned substrate is loaded from the clean room R C side. Then, the hatch 4 of the opening 3 is closed, and after evacuation, a series of sputtering is performed. The substrate S after sputtering is carried out from the opening 3, the substrate to be sputtered next is carried into the vacuum chamber 1 again, and sputtering is performed in the same manner.
【００１７】また、本発明実施例では、１台の薄膜製造
装置をクリーンルームＲC に連結させた構成としたが、
例えば、図３に示すように、２台の薄膜製造装置Ａ２，
Ａ３を並列に設ける構成とすることも、あるいは、さら
に多くの台数の薄膜製造装置を必要に応じて並列に設け
る構成としてもよい。こうした場合、製品の量産化が可
能となることはいうまでもない。In the embodiment of the present invention, one thin film manufacturing apparatus is connected to the clean room R C.
For example, as shown in FIG. 3, two thin film manufacturing apparatuses A2,
A3 may be provided in parallel, or a larger number of thin film manufacturing apparatuses may be provided in parallel as needed. Needless to say, in such a case, mass production of the product becomes possible.
【００１８】[0018]
【発明の効果】以上説明したように、発明１では、二重
円筒形状とされた真空チャンバの外側の側壁に開口部を
備えた構成としたので、この開口部を介して基板の搬入
および搬出が可能となり、従来のように搬入や搬出の度
に、大掛かりな真空チャンバの持ち上げ作業を行う必要
がなく、製造工程は効率化し、生産性は向上する。As described above, according to the first aspect of the invention, since the outer side wall of the vacuum chamber having the double cylindrical shape is provided with the opening, the substrate can be loaded and unloaded through the opening. Since it is not necessary to carry out a large-scale work of lifting the vacuum chamber each time loading and unloading as in the conventional case, the manufacturing process is made efficient and the productivity is improved.
【００１９】また、発明２では、開口部がクリーンルー
ムに臨んで設けられているので、従来のように基板の搬
入および搬出の度に、クリーンルームがダストで汚染さ
れることがない。その結果、ピンホール等のない特性の
向上した薄膜を得ることができ、製品の品質向上、信頼
性の向上を図ることができる。Further, according to the second aspect of the invention, since the opening is provided so as to face the clean room, the clean room is not contaminated with dust every time the substrate is loaded and unloaded, unlike the conventional case. As a result, it is possible to obtain a thin film with improved characteristics, such as pinholes, and to improve product quality and reliability.
【図１】本発明実施例の構成を示す基本構成図FIG. 1 is a basic configuration diagram showing a configuration of an embodiment of the present invention.
【図２】本発明実施例の構成を示す模式的側面図FIG. 2 is a schematic side view showing a configuration of an embodiment of the present invention.
【図３】他の実施例の概略構成図FIG. 3 is a schematic configuration diagram of another embodiment.
【図４】従来例の構成を示す図FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a conventional example.
１・・・・真空チャンバ １ａ・・・・外側側壁 １ｂ・・・・内側側壁 ２・・・・ターゲット（外） ６・・・・ターゲット（内） ３・・・・開口部 ４・・・・ハッチ ７・・・・載置台 ８・・・・基板保持部 Ａ１，Ａ２，Ａ３・・・・薄膜製造装置 Ｓ・・・・基板 1 ... Vacuum chamber 1a ... Outer side wall 1b ... Inner side wall 2 ... Target (outer) 6 ... Target (inner) 3 ... Opening 4 ...・ Hatch 7 ・ ・ ・ ・ Mounting table 8 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Substrate holder A1, A2, A3 ・ ・ ・ ・ Thin film manufacturing equipment S ・ ・ ・ ・ ・ ・ Substrate
Claims (2)
の側壁は互いの底部で繋がった形状の真空チャンバと、
その真空チャンバの内部には、基板を保持するための基
板保持部を有し、かつ、その基板保持部により保持され
た基板を上記二重円筒の側壁間で回転走行させるための
回転自在の載置台とを備えるとともに、その真空チャン
バにおける外側の側壁外周面および内側の側壁外周面に
沿って複数のターゲットを備えた薄膜製造装置におい
て、上記チャンバにおける外側の側壁に、上記基板を搬
入・搬出するための開口部が設けられていることを特徴
とする薄膜製造装置。1. A vacuum chamber having double cylinder side walls, each side wall being connected to each other at the bottom thereof.
Inside the vacuum chamber, there is a substrate holder for holding the substrate, and a rotatable mount for rotating the substrate held by the substrate holder between the side walls of the double cylinder. In a thin film manufacturing apparatus including a mounting table and a plurality of targets along the outer peripheral surface of the outer side wall and the outer peripheral surface of the inner side wall in the vacuum chamber, the substrate is loaded into or unloaded from the outer side wall of the chamber. A thin film manufacturing apparatus, which is provided with an opening for.
られているとともに、該開口部には真空チャンバ内と上
記クリーンルーム内とを連通または遮断するためのハッ
チが開閉自在に取付けられていることを特徴とする請求
項１記載の薄膜製造装置。2. The opening is provided so as to face the clean room, and a hatch for connecting or disconnecting the inside of the vacuum chamber and the inside of the clean room is openably and closably attached to the opening. The thin film manufacturing apparatus according to claim 1, which is characterized in that.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5282184A JPH07138746A (en) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | Thin film producing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5282184A JPH07138746A (en) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | Thin film producing apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07138746A true JPH07138746A (en) | 1995-05-30 |
Family
ID=17649177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5282184A Pending JPH07138746A (en) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | Thin film producing apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07138746A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100804616B1 (en) * | 2006-06-23 | 2008-02-20 | 박웅기 | Treatment Method and Apparatus for Autoclave |
-
1993
- 1993-11-11 JP JP5282184A patent/JPH07138746A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100804616B1 (en) * | 2006-06-23 | 2008-02-20 | 박웅기 | Treatment Method and Apparatus for Autoclave |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |