JPH0713165B2 - Thermosetting resin composition - Google Patents

Thermosetting resin composition

Info

Publication number
JPH0713165B2
JPH0713165B2 JP209186A JP209186A JPH0713165B2 JP H0713165 B2 JPH0713165 B2 JP H0713165B2 JP 209186 A JP209186 A JP 209186A JP 209186 A JP209186 A JP 209186A JP H0713165 B2 JPH0713165 B2 JP H0713165B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy
resin composition
thermosetting resin
group
prepolymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP209186A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS62161846A (en
Inventor
敬子 俵
永井  晃
純一 片桐
昭雄 高橋
元世 和嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP209186A priority Critical patent/JPH0713165B2/en
Publication of JPS62161846A publication Critical patent/JPS62161846A/en
Publication of JPH0713165B2 publication Critical patent/JPH0713165B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
    • H05K3/4676Single layer compositions

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、熱硬化性樹脂組成物に係り、詳しくは、難燃
性および耐熱性と、電気特性に優れた多層プリント回路
板に好適な積層材料に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thermosetting resin composition, and more specifically, it is suitable for a multilayer printed circuit board excellent in flame retardancy and heat resistance and electrical characteristics. Regarding laminated materials.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、多層プリント回路板用積層材料として、フエノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、およびポリイミド樹脂等の積層
板が主に使用されている。しかし近年、大型計算機の高
速演算処理化に伴い、信号伝送速度の向上のため、電気
特性の優れたプリント回路板が要求されている。特に信
号伝送遅延時間を短くし、かつ回路厚を小さくするため
に低誘電率のプリト回路板が必要とされている。このよ
うな難燃性低誘電率積層材料として四フツ化エチレン樹
脂(PTFE)積層板等が開発されている。
Conventionally, a laminated board of a phenol resin, an epoxy resin, a polyimide resin or the like has been mainly used as a laminated material for a multilayer printed circuit board. However, in recent years, a printed circuit board having excellent electric characteristics has been demanded in order to improve a signal transmission speed as a large-scale computer is operated at high speed. Particularly, in order to shorten the signal transmission delay time and reduce the circuit thickness, a low dielectric constant printed circuit board is required. As such a flame-retardant low dielectric constant laminated material, a tetrafluoroethylene resin (PTFE) laminated plate and the like have been developed.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかしPTFE積層板は、樹脂が熱可塑性であり、ガラス転
移温度が低いため、高温における熱膨張率が大きく寸法
安定性が十分でないなどの問題があり、特に多層化接着
した際のスルーホール信頼性等に不安があつて、多層プ
リント回路板に適用する場合エポキシ樹脂と同程度の配
線密度をとつており、低誘電率材料としてのメリツトが
あまりない。またPTFEには適当な溶媒がないので、一般
に加熱溶融圧着による接着法がとられているが、溶融温
度が非常に高いという欠点がある。このようにPTFEには
従来の方法と比較して、作業性、成形性においても困難
な面が多く製造方法を大幅に変更する必要がある。
However, the PTFE laminated plate has the problems that the resin is thermoplastic and the glass transition temperature is low, so the coefficient of thermal expansion is large at high temperatures and the dimensional stability is not sufficient. When applied to a multilayer printed circuit board, it has a wiring density similar to that of an epoxy resin and is not very merit as a low dielectric constant material. Further, since there is no suitable solvent for PTFE, the bonding method by heating, melting and pressing is generally used, but it has a drawback that the melting temperature is very high. As described above, compared with the conventional method, PTFE has many difficulties in workability and moldability, and thus it is necessary to significantly change the manufacturing method.

本発明の目的は、従来大型計算機に使用されているポリ
イミド系多層プリント配線板に代わる材料として、ポリ
イミド系積層材料と同程度の高密度配線が可能な難燃性
積層材料に関するものである。そのための樹脂組成物を
提供するものである。
An object of the present invention is to provide a flame-retardant laminated material capable of high-density wiring comparable to that of a polyimide-based laminated material, as a material replacing the polyimide-based multilayer printed wiring board that has been conventionally used in a large-scale computer. A resin composition for that purpose is provided.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明を概説すると、まずその第一は熱硬化性樹脂組成
物に関し、その特徴は、(a)下記一般式 (式中、Aは水素、その他の有機基、およびハロゲン基
であり、Rはアルケニルまたは不飽和カルボキシル基ル
であり、mは1〜4、nは1〜100の数を表わす)で表
されるポリ(p−ヒドロキシスチレン)誘導体からなる
プレポリマと、(b)下記一般式〔II〕で表されるブロ
ツク重合体{但し、Bはグリシジルエーテル系エポキシ
のコポリマー B−C−B 〔II〕 であり、Cは側鎖に二重結合を持ち、かつ主炭素鎖に0
〜10個の水酸基をもつポリブタジエン低重合体(分子量
300〜5000)である}であるエポキシ変性ポリブタジエ
ンとを必須成分としてなることである。
The present invention will be outlined. First, the first relates to a thermosetting resin composition, and its characteristics are (a) the following general formula: (Wherein A is hydrogen, other organic groups, and halogen groups, R is an alkenyl or unsaturated carboxyl group, m is 1 to 4, and n is a number of 1 to 100). Of a poly (p-hydroxystyrene) derivative, and (b) a block polymer represented by the following general formula [II] (where B is a glycidyl ether epoxy copolymer B-C-B [II]). Yes, C has a double bond in the side chain and is 0 in the main carbon chain.
Polybutadiene low polymer with ~ 10 hydroxyl groups (molecular weight
300-5000)} and an epoxy-modified polybutadiene that is an essential component.

本発明の熱硬化性樹脂組成物の必須成分であるプレポリ
マは、前記のように一般式Iで表される。その具体例を
あげれば、前記一般式Iに該当する化合物としては、ポ
リ(p−ヒドロキシスチレン)のビニルエーテル、イソ
ブテニルエーテル、アリルエーテルと、アクリル酸エス
テル、メタクリル酸エスエルと、エポキシメタクリレー
トおよびその臭化物がある。これらは所望に応じ1種ま
たは2種以上使用される。
The prepolymer which is an essential component of the thermosetting resin composition of the present invention is represented by the general formula I as described above. Specific examples thereof include the compounds corresponding to the general formula I: vinyl ether of poly (p-hydroxystyrene), isobutenyl ether, allyl ether, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, epoxy methacrylate and the like. There is bromide. These may be used alone or in combination of two or more as desired.

前記一般式〔II〕で表される本発明の熱硬化性樹脂の必
須成分の1つであるエポキシ変性ポリブタジエンにおい
て、変性に用いられたグリシジルエーテル系のエポキシ
樹脂の具体例をあげれば、シグリシジルエーテルビスフ
エノールA、ジグリシジルエーテル2,2′−ジブロモビ
スフエノールA、ジグリシジルエーテル2,2′,4,4′−
テトラブロモビスフエノールA、ジグリシジルエーテル
2,2′−ジメチルビスフエノールA、ジグリシジルエー
テル2,2′,4−トリメチルビスフエノールA、フエノー
ルノボラツク型エポキシ樹脂、オルソクレソールノボラ
ツク型エポキシ樹脂がある。これらは所望に応じ、1種
または2種以上使用される。上記(a)ポリ(p−ヒド
ロキシスチレン)に(b)エポキシ変性ポリブタジエン
を加えることにより、成形性、可撓性、銅箔との接着
性、機械的強度などが向上する。また上記樹脂組成物
(a),(b),(c)に、さらにエポキシ硬化剤を加
えることにより、前記諸特性の一層の向上と共に誘電率
の低減を実現した。
In the epoxy-modified polybutadiene which is one of the essential components of the thermosetting resin of the present invention represented by the general formula [II], specific examples of the glycidyl ether-based epoxy resin used for modification include cyglycidyl. Ether bisphenol A, diglycidyl ether 2,2'-dibromobisphenol A, diglycidyl ether 2,2 ', 4,4'-
Tetrabromobisphenol A, diglycidyl ether
There are 2,2'-dimethylbisphenol A, diglycidyl ether 2,2 ', 4-trimethylbisphenol A, phenol novolak type epoxy resin, and orthocresol novolak type epoxy resin. These may be used alone or in combination of two or more, if desired. By adding (b) epoxy-modified polybutadiene to (a) poly (p-hydroxystyrene), moldability, flexibility, adhesion with copper foil, mechanical strength, etc. are improved. Further, by further adding an epoxy curing agent to the above resin compositions (a), (b) and (c), the above various characteristics were further improved and the dielectric constant was reduced.

前記のポリ(p−ヒドロキシスチレン)のアルケニルエ
ーテル、アクリレート、メタクリレートとエポキシメタ
クリレートとおよびその誘電体とエポキシ変性ポリブタ
ジエとの配合比(重量)は90:10〜10:90の範囲で選ば
れ、前者の含有率がこれより多いと熱硬化樹脂の比誘電
率が高くなり、また、それが少なくすぎると、難燃性、
耐熱性、銅箔との接着性等の積層板特性に対するポリ
(p−ヒドロキシスチレン)のアルケニルエーテル、ア
クリレート、メタクリレート及びその誘導体の効果が有
意でなくなる。とくに好ましい両成分の配合比は70:30
〜30:70である。
The compounding ratio (weight) of the above-mentioned alkenyl ether of poly (p-hydroxystyrene), acrylate, methacrylate and epoxymethacrylate, and its dielectric and epoxy-modified polybutadien is selected in the range of 90:10 to 10:90. If the content of is higher than this, the relative permittivity of the thermosetting resin will be high, and if it is too low, flame retardancy,
The effects of alkenyl ethers of poly (p-hydroxystyrene), acrylates, methacrylates and their derivatives on laminate properties such as heat resistance and adhesion to copper foil become insignificant. A particularly preferable mixture ratio of both components is 70:30.
~ 30: 70.

次に本発明における積層板の一般的な製造方法について
説明する。
Next, a general method for manufacturing a laminated plate in the present invention will be described.

まず、ポリ(p−ヒドロキシスチレン)誘導体とエポキ
シ変性ポリブタジエンとを有機溶媒に溶解させてワニス
を調製する。このとき溶解を促進する目的で80℃以下の
温度において30分程度加熱してもよい。
First, a varnish is prepared by dissolving a poly (p-hydroxystyrene) derivative and epoxy-modified polybutadiene in an organic solvent. At this time, for the purpose of promoting dissolution, heating may be performed at a temperature of 80 ° C. or lower for about 30 minutes.

有機溶媒としては例えば、トルエン,キレンアセトン、
メチルエチルケトン、エタノール、メタノール、3−メ
トキシプロパノール、N,N′−ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、トリク
ロロエチレン、1,1,2−トリクロロエタンなどがあり、
前記成分重合体を均一に混合させうる溶媒であれば限定
することなく使用できる。調製したこのワニスにラジカ
ル重合開始剤とエポキシ硬化剤を添加して含浸用ワニス
とする。
Examples of the organic solvent include toluene, xylene acetone,
Methyl ethyl ketone, ethanol, methanol, 3-methoxypropanol, N, N'-dimethylformamide,
There are N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, trichloroethylene, 1,1,2-trichloroethane, etc.,
Any solvent can be used without limitation as long as it can uniformly mix the component polymers. A radical polymerization initiator and an epoxy curing agent are added to the prepared varnish to prepare an impregnating varnish.

ラジカル重合剤としての典型的例としては、ベンゾイル
パーオキシド、ジクミルパーオキシド、メチルエチルケ
トンパーオキシド、t−ブチルパーオキシラウエート、
ジ−t−ブチルパーオキシフタレート、ジベンジルオキ
シド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキ
シ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキシド、t−ブ
チルハイドロパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシ
ド、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(t−ブチルパーオキ
シ)ヘキシン(3)、ジイソプロピルベンゼンハイドロ
パーオキシド、p−メンタンハイドロパーオキシド、ピ
ナンバイロオキシド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジ
ハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシドな
どがある。これらは樹脂組成物100重量部に対して好ま
しくは0.1〜10重量部添加する。
Typical examples of the radical polymerization agent include benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, t-butyl peroxylaurate,
Di-t-butyl peroxy phthalate, dibenzyl oxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butyl peroxy) hexane, t-butyl cumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, di-t -Butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di- (t-butylperoxy) hexyne (3), diisopropylbenzene hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, pinanbairooxide, 2,5- Examples include dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide and cumene hydroperoxide. These are preferably added in an amount of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition.

エポキシ硬化剤の典型的例としては、4,4′−ジアミノ
ジシクロヘキシルメタン、1,4−ジアミノシクロヘキサ
ン、2,6−ジアミノピリジン、m−フエニレンジアミ
ン、p−フエニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフエ
ニルメタン、2,2′−ビス(4−アミノフエニル)プロ
パン、ベンジン、4,4′−ジアミノフエニルオキシド、
4,4′−ジアミノフエニルスルホン、ビス(4−アミノ
フエニル)メチルホスフインオキシド、ビス(4−アミ
ノフエニル)フエニルホスフインオキシド、ビス(4−
アミノフエニル)メチルアミン、1,5−ジアミノナフタ
レン、m−キシリレンジアミン、1,1′−ビス(pアミ
ノフエニル)フラタン、p−キシリレンジアミン、ヘキ
サメチレンジアミン、6,6′−ジアミノ−2,2′−ジピリ
ジル、4,4′−ジアミノベンゾフエノン、4,4′−ジアミ
ノアゾベンゼン、ビス(4−アミノフエニル)フエニル
メタン、1,1−ビス(4−アミノフエニル)シクロヘキ
サン、1,1−ビス(4−アミノ−3−メチルフエニル)
シクロヘキサン、2,5−ビス(m−アミノフエニル)−
1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(p−アミノフエ
ニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(m−ア
ミノフエニル)チアゾロ(4,5−d)チアゾール、5,5−
ジ(m−アミノフエニル)−(2,2′)ビス(1,3,4−オ
キシジアゾリル)、4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、4,4′−ビス(pアミノフエニル)−2,2′−ジチア
ゾール、m−ビス(4−p−アミノフエニル−2−チア
ゾリル)ベンゼン、4,4′−ジアミノベンズアニリド、
4,4′−ジアミノフエニルベンゾエート、N,N′−ビス
(4−アミノベンジル)−p−フエニレンジアミン、4,
4′−メチレンビス(2−ジクロロアニリン)、ベンゾ
クアナミン、メチルグアナミン、テトラメチルブタジア
ミン、無水フタル酸、無水トリメリツト酸、無水ピロメ
リツト酸、無水ベンゾフエノンテトラカルボン酸、エチ
レングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、グ
リセロールトリス(アンヒドロトリメリテート)、無水
マレイン酸、2−メチルイミダゾール、2−フエニルイ
ミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダソール、2
−ウンデシルイミダゾールなどがあり、少くとも1種以
上用いられる。その配合量は、エポキシ変性ポリブタジ
エン100重量部に対し、0.1〜30重量部、好ましく0.3〜1
0重量部の範囲で用いるのが適当である。
Typical examples of epoxy curing agents are 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 1,4-diaminocyclohexane, 2,6-diaminopyridine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'- Diaminodiphenylmethane, 2,2'-bis (4-aminophenyl) propane, benzine, 4,4'-diaminophenyl oxide,
4,4'-diaminophenyl sulfone, bis (4-aminophenyl) methylphosphine oxide, bis (4-aminophenyl) phenylphosphine oxide, bis (4-
Aminophenyl) methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, m-xylylenediamine, 1,1′-bis (paminophenyl) furatane, p-xylylenediamine, hexamethylenediamine, 6,6′-diamino-2,2 ′ -Dipyridyl, 4,4′-diaminobenzophenone, 4,4′-diaminoazobenzene, bis (4-aminophenyl) phenylmethane, 1,1-bis (4-aminophenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4- Amino-3-methylphenyl)
Cyclohexane, 2,5-bis (m-aminophenyl)-
1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (p-aminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (m-aminophenyl) thiazolo (4,5-d) thiazole , 5,5-
Di (m-aminophenyl)-(2,2 ') bis (1,3,4-oxydiazolyl), 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-bis (paminophenyl) -2,2 ′ -Dithiazole, m-bis (4-p-aminophenyl-2-thiazolyl) benzene, 4,4′-diaminobenzanilide,
4,4'-diaminophenylbenzoate, N, N'-bis (4-aminobenzyl) -p-phenylenediamine, 4,
4'-methylenebis (2-dichloroaniline), benzoquanamine, methylguanamine, tetramethylbutadiamine, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate) ), Glycerol tris (anhydrotrimellitate), maleic anhydride, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2
-Undecyl imidazole and the like, and at least one kind or more is used. The blending amount is 0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.3 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of epoxy-modified polybutadiene.
It is suitable to use in the range of 0 parts by weight.

次に得られた含浸用ワニスをシート状基材に含浸塗工
し、室温〜170℃で乾燥し、粘着性のないプリプレグを
得る。この時の乾燥温度の設定は用いた溶媒および開始
剤等によつて決まる。最後に得られたプリプレグを必要
枚数重ね、100〜250℃で1〜100kgf/cm2の圧力下で加熱
硬化反応を行い積層板を得る。
Next, the obtained varnish for impregnation is impregnated and coated on a sheet-shaped substrate and dried at room temperature to 170 ° C. to obtain a prepreg having no tackiness. The setting of the drying temperature at this time depends on the solvent and the initiator used. Finally, a required number of the obtained prepregs are stacked and a heat curing reaction is performed at 100 to 250 ° C. under a pressure of 1 to 100 kgf / cm 2 to obtain a laminated plate.

シート状基材としては、一般に積層材料に使用されてい
るものはほとんどすべて使用できる。無機繊維として
は、SiO2,Al2O3等を成分とするEガラス,Cガラス,Aガラ
ス,Sガラス,DガラスYM−31−Aガラスおよび石英を使用
したQガラス等の各種ガラス繊維がある。また有機繊維
としては、芳香族ポリアミドイミド骨格を有する高分子
化合物を成分とするアラミド繊維等がある。
As the sheet-shaped substrate, almost all those generally used for laminated materials can be used. As the inorganic fibers, various glass fibers such as E glass, C glass, A glass, S glass, D glass YM-31-A glass and Q glass using quartz, which contain SiO 2 , Al 2 O 3 etc. is there. Examples of the organic fibers include aramid fibers containing a polymer compound having an aromatic polyamideimide skeleton as a component.

〔実施例〕〔Example〕

実施例1 臭化ポリ(p−ヒドロキシスチレン)(丸善石油社製)
のメタクリレートプレポリマと、ジグリシジルエーテル
ビスフエノールAで変性したエポキシ変性ポリブタジエ
ンとをキシレン中で80℃30分加熱溶解させ、重合体配合
比5:5(重量比」固形分量40%のワニスを得た。さらに
ラジカル重合開始剤としてジクミルパーオキサイド、エ
ポキシ硬化剤として404′−ジアミノジフエニルメタン
をそれぞれ全樹脂に対し5%と1%加えた。このワニス
を50μmのガラスクロス(E−ガラス)に塗工し、110
℃,20分恒温槽中で乾燥し、タツクフリーのプリプレグ
を得た。該プリプレグを10枚重ね、圧力40〜50kgf/c
m2、温度130℃,30分加熱し、さらに170℃,240℃に昇温
し、2時間接着硬化反応をプレス中で行い、積層板を作
製した。
Example 1 Poly (p-hydroxystyrene) bromide (Maruzen Oil Co., Ltd.)
Of the methacrylate prepolymer and epoxy-modified polybutadiene modified with diglycidyl ether bisphenol A were heated and dissolved in xylene at 80 ° C for 30 minutes to obtain a varnish having a polymer compounding ratio of 5: 5 (weight ratio) and a solid content of 40%. Further, dicumyl peroxide as a radical polymerization initiator and 404'-diaminodiphenylmethane as an epoxy curing agent were added to the resin in an amount of 5% and 1%, respectively. Applied to 110
It was dried in a constant temperature bath at ℃ for 20 minutes to obtain a tack-free prepreg. 10 sheets of the prepreg are piled up, pressure 40 to 50 kgf / c
It was heated at m 2 at a temperature of 130 ° C. for 30 minutes, further heated to 170 ° C. and 240 ° C., and subjected to an adhesive curing reaction in a press for 2 hours to prepare a laminated plate.

実施例2 臭化ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のアクリル酸エス
テルとフエノールノボラツク型エポキシで変性したエポ
キシ変性ポリブタジエンを実施1と同様に用いて得らえ
たワニスにラジカル重合剤としてベンゾイルパーオキシ
ド、エポキシ硬化剤として2−メチルイミダゾールをそ
れぞれ全樹脂量に対して5%と2%添加して含浸用ワニ
スを得た。これを50μm厚さの石英ガラスに含浸させ、
タツクフリーのプリプレグを得た。このプリプレグを実
施例1と同様に用いて積層板を得た。
Example 2 A varnish obtained by using an acrylic acid ester of poly (p-hydroxystyrene) bromide and an epoxy-modified polybutadiene modified with a phenol novolak type epoxy in the same manner as in Example 1 was used as a radical polymerization agent with benzoyl peroxide and epoxy. 2-Methylimidazole as a curing agent was added to each of the resin amounts of 5% and 2% to obtain an impregnating varnish. This is impregnated into 50 μm thick quartz glass,
I got a tack-free prepreg. This prepreg was used in the same manner as in Example 1 to obtain a laminated plate.

比較例1 実施例1で使用したジグリシジルエーテルビスフエノー
ルAで変性したエポキシ変性ポリブタジエンをキシレン
中で80℃30分加熱溶解し、ラジカル重合開始剤としてジ
クミルパーオキシド、エポキシ硬化剤として4,4′−ジ
アミノジフエニルエタンをそれぞれ5%と1%加え、含
浸用ワニスを得た。これを実施例1と同様に用いて積層
板を得た。
Comparative Example 1 The epoxy-modified polybutadiene modified with diglycidyl ether bisphenol A used in Example 1 was heated and dissolved in xylene at 80 ° C. for 30 minutes, and dicumyl peroxide was used as a radical polymerization initiator and 4,4 as an epoxy curing agent. ′ -Diaminodiphenylethane was added at 5% and 1% respectively to obtain an impregnating varnish. This was used in the same manner as in Example 1 to obtain a laminated plate.

比較例2 比較例としてPTFE積層板(住友3M製 K6098)をあげ
る。
Comparative Example 2 A PTFE laminated plate (K6098 manufactured by Sumitomo 3M) is given as a comparative example.

比較例2に示した従来のPTFE積層板は誘電率は小さい
が、熱膨張率が大きいため、配線密度をあまり大きくで
きず、多層プリント配線板には使用できなかつた。実施
例1,2に示した本発明は、熱膨張率が小さく、多層プリ
ント配線板に適用可能な寸法安定性をもち、かつ現在多
層プリント配線板に使用されているポリイミド系積層材
料をε−48)に比べて大幅に信号伝送時間を短縮でき
る、低い、誘電率で、かつ難燃性に富む積層材料であ
る。
Although the conventional PTFE laminate shown in Comparative Example 2 has a small dielectric constant, it has a large thermal expansion coefficient, so that the wiring density cannot be increased so much that it cannot be used for a multilayer printed wiring board. The present invention shown in Examples 1 and 2 has a small coefficient of thermal expansion, has dimensional stability applicable to a multilayer printed wiring board, and is a polyimide-based laminate material currently used for a multilayer printed wiring board. Compared to 48), it is a laminated material with a low dielectric constant and high flame retardancy that can significantly reduce the signal transmission time.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明における樹脂組成物を用いた積層材料は、熱硬化
性樹脂組成物を使用したことにより、PTFE積層板と比較
して、寸法安定性に優れ、飛躍的な高密度配線を可能と
なる。また現在大型計算機の多層プリント配線板に適用
されているポリミイド系材料(比誘電率4.7)と比べ
て、比誘電率3.5以下と大幅な信号伝送速度の向上が期
待できる。
By using the thermosetting resin composition, the laminate material using the resin composition of the present invention has excellent dimensional stability and enables dramatic high-density wiring as compared with the PTFE laminate. In addition, compared with the polymide-based materials (relative permittivity 4.7) that are currently applied to multilayer printed wiring boards for large-scale computers, it is expected that the relative permittivity will be 3.5 or less, which is a significant improvement in signal transmission speed.

以上、本発明により、難燃性、耐熱性に優れた多層プリ
ント配線板用として好適な低誘電査積層材料を製造する
ことが可能となつた。
As described above, according to the present invention, it is possible to manufacture a low dielectric constant laminated material suitable for a multilayer printed wiring board which is excellent in flame retardancy and heat resistance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 1/03 7011−4E (72)発明者 高橋 昭雄 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 和嶋 元世 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (56)参考文献 特開 昭61−243844(JP,A)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical indication location H05K 1/03 7011-4E (72) Inventor Akio Takahashi 4026 Kujicho, Hitachi City, Ibaraki Japan Hitachi Research Laboratory (72) Inventor Motoyo Wajima 4026 Kuji-machi, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (56) Reference JP-A-61-243844 (JP, A)

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a)下記一般式〔I〕 (式中、Aは水素、アルキル基、およびハロゲン基であ
り、Rは炭素数2〜4のアルケニルまたはアルケノイル
であり、mは1〜4、nは1〜100の数を表わす。)で
表されるポリ(p−ヒドロキシスチレン)誘導体からな
るプレポリマーと(b)下記一般式〔II〕で表されるブ
ロツク重合体(但し、 B−C−B 〔II〕 Bはグリシジルエーテル系エポキシのコポリマーであ
り、Cは側鎖に二重結合を持ち、かつ主炭素鎖に0〜10
個の水酸基が結合しているポリブタジエン低重合体(分
子量300〜5000)である。)であるエポキシ変性ポリブ
タジエンとを必須成分としてなることを特徴とする熱硬
化性樹脂組成物。
(A) The following general formula [I]: (Wherein A is hydrogen, an alkyl group, and a halogen group, R is alkenyl or alkenoyl having 2 to 4 carbon atoms, m is 1 to 4 and n is a number of 1 to 100). And a block polymer represented by the following general formula [II] (B-C-B [II] where B is a copolymer of glycidyl ether type epoxy). And C has a double bond in the side chain and 0 to 10 in the main carbon chain.
It is a polybutadiene low polymer (molecular weight 300 to 5000) in which individual hydroxyl groups are bonded. And an epoxy-modified polybutadiene which is) is an essential component.
【請求項2】該プレポリマとエポキシ変性ポリブタジエ
ンまたはその誘導体の配合比(重量)が90:10〜10:90で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の熱硬
化性樹脂組成物。
2. A thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the compounding ratio (weight) of the prepolymer and the epoxy-modified polybutadiene or its derivative is 90:10 to 10:90. .
【請求項3】(a)該プレポリマと(b)エポキシ変性
ポリブタジエンと(c)ラジカル重合開始剤とを必須成
分としてなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の熱硬化性樹脂組成物。
3. The thermosetting resin composition according to claim 1, which comprises (a) the prepolymer, (b) epoxy-modified polybutadiene, and (c) a radical polymerization initiator as essential components. object.
【請求項4】(a)該プレポリマと(b)エポキシ変性
ポリブタジエンと(c)ラジカル重合開始剤と(d)エ
ポキシ硬化剤とを必須成分としてなることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の熱硬化性樹脂組成物。
4. A method according to claim 1, wherein (a) the prepolymer, (b) epoxy modified polybutadiene, (c) radical polymerization initiator and (d) epoxy curing agent are essential components. The thermosetting resin composition described.
【請求項5】該プレポリマにおいてRがアリル基、ブテ
ニル基、ビニル基、メタクリノイル基、アクリノイル基
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の熱
硬化性樹脂組成物。
5. The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein R in the prepolymer is an allyl group, a butenyl group, a vinyl group, a methanoyl group or an acrynoyl group.
JP209186A 1986-01-10 1986-01-10 Thermosetting resin composition Expired - Fee Related JPH0713165B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP209186A JPH0713165B2 (en) 1986-01-10 1986-01-10 Thermosetting resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP209186A JPH0713165B2 (en) 1986-01-10 1986-01-10 Thermosetting resin composition

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6172268A Division JP2533747B2 (en) 1994-07-25 1994-07-25 Laminated board and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62161846A JPS62161846A (en) 1987-07-17
JPH0713165B2 true JPH0713165B2 (en) 1995-02-15

Family

ID=11519677

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP209186A Expired - Fee Related JPH0713165B2 (en) 1986-01-10 1986-01-10 Thermosetting resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0713165B2 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2866661B2 (en) * 1989-01-11 1999-03-08 日立化成工業株式会社 Thermosetting resin composition, prepreg and laminate using the same
JP4742425B2 (en) * 2001-02-02 2011-08-10 住友ベークライト株式会社 Heat resistant resin composition, prepreg and laminate using the same
JP4742426B2 (en) * 2001-02-02 2011-08-10 住友ベークライト株式会社 Heat resistant resin composition, prepreg and laminate using the same
KR100970063B1 (en) 2005-04-27 2010-07-16 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Composite, prepreg, laminated plate clad with metal foil, material for connecting circuit board, and multilayer printed wiring board and method for manufacture thereof
JP4613977B2 (en) * 2008-04-28 2011-01-19 日立化成工業株式会社 Prepreg including thin-layer quartz glass cloth and wiring board using the same
CN109082020A (en) * 2017-06-13 2018-12-25 广东生益科技股份有限公司 Polymer resin composition and its application in high-frequency circuit board
CN109082021B (en) * 2017-06-13 2021-01-01 广东生益科技股份有限公司 Polymer resin composition and application thereof in high-frequency circuit board
CN109082019B (en) * 2017-06-13 2020-04-14 广东生益科技股份有限公司 Polymer resin and application thereof in high-frequency circuit board

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62161846A (en) 1987-07-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0513184B2 (en)
US4931507A (en) Composition comprising poly(p-hydroxystrene) derivative, epoxy-modified polybutadiene and aromatic maleimide
JPH0713165B2 (en) Thermosetting resin composition
JPH0579686B2 (en)
JP2533747B2 (en) Laminated board and manufacturing method thereof
JPS6356548A (en) Thermosetting resin composition, laminated sheet produced by using same and production thereof
US4587162A (en) Resin composition and laminate produced therefrom comprising a cyclized polybutadiene and a prepolymer of a isocyanuric or cyanuric acid derivative
JP2776802B2 (en) Thermosetting resin composition
JP2570145B2 (en) Prepreg and laminate using thermosetting resin composition
US5212244A (en) Thermosetting resin composition, and prepreg and laminated sheet which use the same
JPH0632876A (en) New curable polyphenylene ether-epoxy resin composition
JPH0680094B2 (en) Flame-retardant resin composition
JPH0632875A (en) New curable polyphenylene ether-epoxy resin composition
JP2570138B2 (en) Laminated board using flame-retardant resin composition
WO2023145472A1 (en) Resin composition, prepreg, resin-bearing film, resin-bearing metal foil, metal-clad laminated board, and printed wiring board
WO2023145473A1 (en) Resin composition, prepreg, resin-equipped film, resin-equipped metal foil, metal-cladded laminated board, and printed wiring board
JPH0771843B2 (en) Laminate
JP4258594B2 (en) Epoxy resin composition and insulating substrate
JPS6372720A (en) Flame-retarding resin composition and laminate prepared by using same
JPH0737568B2 (en) Novel curable polyphenylene ether / epoxy resin composition, and composite material and laminate using the same
JPH0562589B2 (en)
JPH0698735B2 (en) Laminated board and manufacturing method thereof
JPH0734497B2 (en) Method for manufacturing high frequency laminated plate
JPH1197844A (en) Method of manufacturing multilayered printed wiring board
JPH0149379B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees