JPH0712649B2 - Transparent plastic film with excellent gas barrier properties - Google Patents
Transparent plastic film with excellent gas barrier propertiesInfo
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- JPH0712649B2 JPH0712649B2 JP63094506A JP9450688A JPH0712649B2 JP H0712649 B2 JPH0712649 B2 JP H0712649B2 JP 63094506 A JP63094506 A JP 63094506A JP 9450688 A JP9450688 A JP 9450688A JP H0712649 B2 JPH0712649 B2 JP H0712649B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ガスバリヤ性の優れた透明プラスチックフィ
ルムに関するものである。更に詳しくは、包装材料等に
好適に使用されるガスバリヤ性の優れた、しかも透明な
プラスチックフィルムに関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent plastic film having excellent gas barrier properties. More specifically, the present invention relates to a transparent plastic film having excellent gas barrier properties, which is preferably used as a packaging material or the like.
(従来の技術) 食品、医薬品、化学薬品等の包装材料に用いられる透明
なプラスチックフィルムは、包装された内容物の変質を
防ぐために、水蒸気や酸素などのガス透過率の小さい材
質のものが用いられている。そして、更に高度のガスバ
リヤ性が必要な包装材料の場合は、フィルムにアルミニ
ウム箔を貼り合せたものや、フィルムの表面にアルミニ
ウムを蒸着させたものが用いられててきた。しかし、こ
のような金属箔等を用いた包装材料は、水蒸気や酸素な
どに対するガスバリヤ性には優れているものの、不透明
であり、内容物を外から見ることができないという欠点
があって、包装材料としては適当でない面があった。(Prior art) Transparent plastic films used for packaging materials such as foods, pharmaceuticals, and chemicals are made of materials with low gas permeability such as water vapor and oxygen to prevent deterioration of the packaged contents. Has been. In the case of a packaging material that requires a higher gas barrier property, a film in which an aluminum foil is attached or a film in which aluminum is vapor-deposited has been used. However, a packaging material using such a metal foil has excellent gas barrier properties against water vapor, oxygen, etc., but is opaque and the contents cannot be seen from the outside. There was a side that was not suitable for.
一方、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンを主成分と
し、これと共重合可能な他の化合物、例えば塩化ビニ
ル、メチルアクリレート、メチルメタアクリレート、ア
クリロニトリルなどの共重合物等の塩化ビニリデン系樹
脂よりなるフィルム、及びこれらの塩化ビニリデン系樹
脂をポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド等より
なるフィルムにコーティングした塩化ビニリデン系樹脂
コートフィルムも、ガスバリヤ性を備えた包装材料とし
て用いられている。これらの塩化ビニリデン系樹脂フィ
ルムは、フィルム自体が水蒸気や酸素などに対するガス
バリヤ性を備えているが、これらのガスバリヤ性は、充
分なものではなく、高度のガスバリヤ性を必要とする包
装材料には不適当であった。On the other hand, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride as a main component, other compounds copolymerizable therewith, for example, vinyl chloride, methyl acrylate, methyl methacrylate, a film made of vinylidene chloride resin such as acrylonitrile copolymer, A vinylidene chloride resin-coated film obtained by coating a film made of polypropylene, polyester, polyamide or the like with these vinylidene chloride resins is also used as a packaging material having gas barrier properties. These vinylidene chloride resin films have gas barrier properties against water vapor, oxygen, etc., but these gas barrier properties are not sufficient, and are not suitable for packaging materials that require a high degree of gas barrier properties. It was suitable.
更に、ポリビニルアルコールフィルムや、エチレン−ビ
ニルアルコール共重合体フィルム等のポリビニルアルコ
ール系フィルムは、酸素バリヤ性に優れているので包装
材料として広く用いられている。しかしながら、ポリビ
ニルアルコール系フィルムは水蒸気バリヤ性において劣
り、更に高湿度の条件下では酸素バリヤ性も低下すると
いう欠点を有する。そのためにポリビニルアルコール系
フィルムを包装材料として用いる場合は、ポリプロピレ
ンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリエステルフィ
ルムなどの水蒸気バリヤ性を有するフィルムを、ポリビ
ニールアルコール系フィルムに積層した積層フィルムと
して通常用いられている。しかし、このような積層フィ
ルムも、高度のガスバリヤ性を必要とする包装材料とし
ては充分にその目的を果たすまでには至らなかった。Further, polyvinyl alcohol films and polyvinyl alcohol films such as ethylene-vinyl alcohol copolymer films are widely used as packaging materials because they have excellent oxygen barrier properties. However, the polyvinyl alcohol-based film is inferior in water vapor barrier property and further has a defect that the oxygen barrier property is deteriorated under the condition of high humidity. Therefore, when a polyvinyl alcohol-based film is used as a packaging material, a film having a water vapor barrier property such as a polypropylene film, a polyethylene film, and a polyester film is usually used as a laminated film obtained by laminating the polyvinyl alcohol-based film. However, such a laminated film has not been able to sufficiently fulfill its purpose as a packaging material which requires a high gas barrier property.
従って、このような積層フィルムに、高度のガスバリヤ
性を付与させるためには、積層フィルムの厚さを増大さ
せねばならず、フィルムの厚さを増大すると、積層フィ
ルムの透明性や柔軟性が損なわれ、包装材料として好ま
しい性質が失われるという欠点があった。Therefore, in order to impart a high degree of gas barrier property to such a laminated film, the thickness of the laminated film must be increased. When the thickness of the film is increased, the transparency and flexibility of the laminated film are impaired. However, there is a drawback that the preferable properties as a packaging material are lost.
また、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロ
ピレンフィルム、ポリアミド系フィルムなどにケイ素酸
化物やマグネシウム酸化物を蒸着したフィルムも提案さ
れている(特公昭53-12953、特開昭60-27532)が、これ
らのフィルムも高度のガスバリヤ性が必要とされる用途
には不充分である。Films prepared by vapor-depositing silicon oxide or magnesium oxide on polyethylene terephthalate film, polypropylene film, polyamide film, etc. have also been proposed (Japanese Patent Publication No. 53-12953 and Japanese Patent Laid-Open No. 60-27532), but these films are also available. It is insufficient for applications that require a high degree of gas barrier properties.
特に、ポリアミド系フィルムは、その優れた強度の点か
ら包装材料として広く使用されているが、吸湿し易く、
吸湿することによってガスバリヤ性が著しく損なわれる
欠点があるため、高度のガスバリヤ性が要求される用途
には適用し難いという問題があった。また、ポリアミド
系フィルムにケイ素酸化物やマグネシウム酸化物を蒸着
したフィルムも、ポリエチレンテレフタレートフィルム
やポリプロピレンフィルムにケイ素酸化物やマグネシウ
ム酸化物を蒸着したフィルムよりもガスバリヤ性が劣
り、高度のガスバリヤ性が必要とされる用途には適用し
難いものであった。In particular, the polyamide-based film is widely used as a packaging material because of its excellent strength, but it easily absorbs moisture,
Since there is a drawback that the gas barrier property is remarkably impaired by absorbing moisture, there is a problem that it is difficult to apply it to an application requiring a high gas barrier property. Also, a film obtained by vapor-depositing silicon oxide or magnesium oxide on a polyamide-based film is inferior in gas barrier property to a film obtained by vapor-depositing silicon oxide or magnesium oxide on a polyethylene terephthalate film or a polypropylene film, and requires a high gas barrier property. It was difficult to apply to the intended use.
(発明が解決しようとする課題) 本発明は、以上に述べた事情に鑑み、優れた透明性と高
度のガスバリヤ性を有し、包装材料として好ましい性能
を有するプラスチックフィルムを提供することを目的と
する。前述のように、ポリアミド系フィルムは一般に吸
湿し易く、吸湿することによってガスバリヤ性が著しく
損なわれる欠点がある。本発明者等はポリアミド系フィ
ルムの物性とその応用について鋭意検討した結果、昇温
下における寸法変化率及び揮発減量が共に小さい延伸ポ
リアミド系フィルムを用い、このフィルムにケイ素酸化
物の透明な薄膜層を設けると、得られる積層フィルムが
優れた透明性を有するとともに、極めて優れたガスバリ
ヤ性を発揮することを見出し、この知見に基づいて本発
明を完成したものである。(Problems to be Solved by the Invention) In view of the above-mentioned circumstances, the present invention has an object of providing a plastic film having excellent transparency and a high degree of gas barrier property and having a preferable performance as a packaging material. To do. As described above, the polyamide-based film is generally easy to absorb moisture, and the gas barrier property is significantly impaired by absorbing moisture. As a result of diligent studies on the physical properties of the polyamide-based film and its application, the present inventors have used a stretched polyamide-based film having both a small dimensional change rate at elevated temperature and a small volatilization loss, and a transparent thin film layer of silicon oxide in this film. It was found that the laminated film obtained has excellent transparency and exhibits an extremely excellent gas barrier property when the above is provided, and the present invention has been completed based on this finding.
(課題を解決するための手段) 即ち、本発明の要旨とするところは、120℃、5分間の
条件における縦方向及び横方向の寸法変化率の各々の絶
対値の和が2%以下で、かつ上記条件における揮発減量
が2重量%以下であり、少なくとも一軸方向に3倍以上
延伸されたポリアミド系フィルムの片方の面に、ケイ素
酸化物の透明な薄膜層が形成されてなることを特徴とす
るガスバリヤ性の優れた透明プラスチックフィルム並び
にこの透明プラスチックフィルムに形成されているケイ
素酸化物の透明な薄膜層の面に別の透明なプラスチック
薄膜が積層形成されてなることを特徴とするガスバリヤ
性の優れた透明プラスチックフィルムに存する。(Means for Solving the Problem) That is, the gist of the present invention is that the sum of the absolute values of the dimensional change rates in the longitudinal direction and the lateral direction under conditions of 120 ° C. and 5 minutes is 2% or less, Further, the volatilization loss under the above conditions is 2% by weight or less, and a transparent thin film layer of silicon oxide is formed on one surface of a polyamide-based film stretched at least 3 times in a uniaxial direction. A transparent plastic film having excellent gas barrier properties, and another transparent plastic thin film laminated on the surface of the transparent thin film layer of silicon oxide formed on the transparent plastic film. Exists in excellent transparent plastic film.
以下に本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.
本発明に係る透明プラスチックフィルムにおいて使用さ
れるポリアミド系フィルムとしては、ナイロン6、ナイ
ロン66、ナイロン6-10、ナイロン4-6等のホモポリマー
又はこれ等の混合物よりなるフィルム、更にはこれ等ホ
モポリマーの基本的性質を変えない範囲のコポリマー等
よりなるフィルムが挙げられ、前記ホモポリマー、コポ
リマーは滑剤、酸化防止剤などの添加剤が添加されたも
のを包含する。The polyamide-based film used in the transparent plastic film according to the present invention is a film made of a homopolymer of nylon 6, nylon 66, nylon 6-10, nylon 4-6 or the like, or a mixture thereof, and further a homopolymer thereof. A film made of a copolymer or the like in a range that does not change the basic properties of the polymer can be mentioned, and the homopolymer and the copolymer include those to which additives such as a lubricant and an antioxidant are added.
本発明に使用されるポリアミド系フィルムは、120℃、
5分間の条件における縦方向及び横方向の寸法変化率の
各々の絶対値の和が2%以下で、かつ上記条件における
揮発減量が2重量%以下であり、少なくとも一軸方向に
3倍以上延伸されたポリアミド系フィルムを使用するこ
とが必要である。Polyamide film used in the present invention, 120 ℃,
The sum of absolute values of the dimensional change rates in the machine direction and the transverse direction under the condition of 5 minutes is 2% or less, and the volatilization loss under the above condition is 2% by weight or less, and the film is stretched at least uniaxially 3 times or more. It is necessary to use a polyamide based film.
ポリアミド系フィルムとして、120℃、5分間の条件に
おける上記寸法変化率が上記範囲を超えるものを用いる
と、このフィルムの片面にケイ素酸化物の透明な薄膜層
を設けても、ガスバリヤ性があまり向上しない。その詳
細な理由は定かではないが、真空蒸着法、スパッタリン
グ法又はイオンプレーティング法等の手段により、ケイ
素酸化物の透明な薄膜層を形成させる際にポリアミド系
フィルムが加熱され、加熱されたポリアミド系フィルム
に収縮または膨張が生起して寸法が変化し、この寸法変
化率が2%を超える場合には、ケイ素酸化物の薄膜層に
クラック、厚み斑、ピンホール等が発生し、均一かつ緻
密な薄膜層とはならないためではないかと推測される。When a polyamide film having a dimensional change rate exceeding 120 ° C. under the conditions of 120 ° C. and 5 minutes is used, even if a transparent thin film layer of silicon oxide is provided on one surface of the film, the gas barrier property is significantly improved. do not do. Although the detailed reason is not clear, the polyamide-based film is heated when the transparent thin film layer of silicon oxide is formed by means such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, and the heated polyamide is used. When the dimensional change occurs due to shrinkage or expansion of the system film and the dimensional change rate exceeds 2%, cracks, thickness irregularities, pinholes, etc. occur in the silicon oxide thin film layer, resulting in a uniform and dense film. It is presumed that this is because it is not a thin film layer.
また、ポリアミド系フィルムとして、上記揮発減量が上
記範囲を超えるものを用いると、このフィルムの片面に
ケイ素酸化物の透明な薄膜層を設けても、ガスバリヤ性
があまり向上しない。その詳細な理由も定かではない
が、このフィルムにケイ素酸化物の透明な薄膜層を形成
させる際にフィルムが加熱され、加熱されたフィルムか
ら揮発するモノマー等の揮発成分が正常な薄膜層の形成
を阻害するためではないかと推測される。When a polyamide film having a volatilization loss exceeding the above range is used, even if a transparent thin film layer of silicon oxide is provided on one surface of the film, the gas barrier property is not improved so much. Although the detailed reason for this is not clear, the film is heated when the transparent thin film layer of silicon oxide is formed on this film, and a volatile component such as a monomer volatilized from the heated film is formed normally. It is presumed that this is to inhibit
更に、ポリアミド系フィルムとして、無延伸のもの又は
延伸倍率が上記範囲に満たないものを用いると、このフ
ィルムの片面にケイ素酸化物の透明な薄膜層を設けて
も、ガスバリヤ性があまり向上しない。延伸倍率が3倍
以上のものであれば、一軸延伸のみであっても、また二
軸方向に延伸されたものであってもよい。このポリアミ
ド系フィルムは、一段階で延伸したものに限られず、多
段階で延伸したものであってもよい。Furthermore, when a non-stretched film or a film having a stretch ratio less than the above range is used as the polyamide film, the gas barrier property is not improved so much even if a transparent thin film layer of silicon oxide is provided on one surface of this film. As long as the draw ratio is 3 times or more, it may be uniaxially stretched only or may be biaxially stretched. This polyamide-based film is not limited to a film stretched in one step, and may be a film stretched in multiple steps.
昇温下における寸法変化率、揮発減量が上記範囲内であ
り、かつ延伸倍率が上記範囲内であるポリアミド系フィ
ルムを得るには、未延伸のポリアミド系フィルムを所定
の倍率に延伸した後、この延伸フィルムをそのガラス転
移点以上かつ融点未満の温度条件下において加熱し、い
わゆる熱固定操作を施しかつ揮発成分を所定の範囲内に
減少させればよい。揮発成分を所定の範囲内に減少させ
るには、通常、熱固定操作の施されたフィルムを熱固定
操作温度以下の温度で、常圧下加熱処理する。熱固定操
作と揮発成分の調節は、同時に行なっても、また別々に
異なる条件下で行なってもよい。熱固定操作とは別に揮
発成分の調節を行なう場合には、揮発成分の調節のため
の加熱処理を減圧下で行なうこともできる。ポリアミド
系フィルムの厚さは5〜400μmの範囲から選ばれ、特
に10〜200μmの範囲から選ぶのが好ましい。Dimensional change rate at elevated temperature, volatilization loss is within the above range, and the draw ratio is to obtain a polyamide-based film within the above range, after stretching the unstretched polyamide-based film to a predetermined draw ratio, The stretched film may be heated under a temperature condition of not less than the glass transition point and less than the melting point, a so-called heat setting operation may be performed, and the volatile components may be reduced within a predetermined range. In order to reduce the amount of volatile components within a predetermined range, the heat-fixed film is usually heat-treated at a temperature not higher than the heat-setting operation temperature under atmospheric pressure. The heat setting operation and the adjustment of the volatile components may be carried out simultaneously or separately under different conditions. When the volatile component is adjusted separately from the heat setting operation, the heat treatment for adjusting the volatile component can be performed under reduced pressure. The thickness of the polyamide-based film is selected from the range of 5 to 400 μm, particularly preferably 10 to 200 μm.
本発明に係る透明プラスチックフィルムは、上記ポリア
ミド系フィルムの片面にケイ素酸化物の透明な薄膜層が
形成されている。ポリアミド系フィルムの片面にケイ素
酸化物の透明な薄膜層を形成するには、真空蒸着法、ス
パッタリング法またはイオンプレーティング法の何れか
の方法によればよい。例えば、真空蒸着法の場合、蒸着
物質として一酸化ケイ素又は二酸化ケイ素を用い、10-3
〜10-5Torrの真空下で、電子ビーム、高周波誘導加熱抵
抗加熱方式で加熱蒸発させる。また、酸素ガスを供給し
ながら行なう反応蒸着法も採用でき、この場合は蒸着物
質としては金属ケイ素であってもよい。In the transparent plastic film according to the present invention, a transparent thin film layer of silicon oxide is formed on one surface of the polyamide film. In order to form a transparent thin film layer of silicon oxide on one surface of the polyamide-based film, any one of a vacuum deposition method, a sputtering method and an ion plating method may be used. For example, in the case of vacuum deposition, using a silicon monoxide or silicon dioxide as a deposition material, 10-3
It is heated and evaporated by electron beam, high frequency induction heating resistance heating method under vacuum of ~ 10 -5 Torr. Further, a reactive vapor deposition method performed while supplying oxygen gas can also be adopted, and in this case, the vapor deposition material may be metallic silicon.
ケイ素酸化物の透明薄膜層はスパッタリング法またはイ
オンプレーティング法でも形成させることができ、これ
らの方法では真空蒸着法に比較して密着性の高い透明薄
膜層が形成できる。なお、ケイ素酸化物には、10重量%
以下であれば、その中に不純物としてカルシウム、マグ
ネシウムまたはそれらの酸化物等が混入していても、透
明プラチックフィルムのガスバリヤ性の極端な低下は認
められない。ケイ素酸化物の透明薄膜層の厚さは5〜50
0nmの範囲で選ぶのが好ましい。透明薄膜層の厚さが5nm
未満であると、ガスバリヤ性が不十分であり、また500n
mを超えるとフィルムにカールが発生して問題となった
り、透明薄膜層自体に亀裂や剥離が生じ易いからであ
る。The transparent thin film layer of silicon oxide can also be formed by a sputtering method or an ion plating method, and these methods can form a transparent thin film layer having higher adhesion than the vacuum deposition method. The silicon oxide content is 10% by weight.
In the following cases, even if calcium, magnesium or their oxides are mixed in as impurities, the gas barrier property of the transparent plastic film is not extremely lowered. The thickness of the transparent thin film layer of silicon oxide is 5-50
It is preferable to select in the range of 0 nm. The thickness of the transparent thin film layer is 5 nm
Is less than 500n, the gas barrier property is insufficient.
If it exceeds m, curling occurs in the film, which causes a problem, or cracks or peeling easily occur in the transparent thin film layer itself.
本発明の目的は、上記ポリアミド系フィルムの片面に、
ケイ素酸化物の透明な薄膜層を設けたフィルムの透明な
薄膜層の面に、別の透明なプラスチック薄膜を新たに設
けることによって、一層効果的に達成される。別の透明
プラスチック薄膜を設けるには、透明プラスチックィル
ムを積層するか、又は透明プラスチック材料の塗布膜を
形成させる方法が採用される。The object of the present invention, on one side of the polyamide film,
This is more effectively achieved by newly providing another transparent plastic thin film on the surface of the transparent thin film layer of the film provided with the transparent thin film layer of silicon oxide. To provide another transparent plastic thin film, a method of laminating a transparent plastic film or forming a coating film of a transparent plastic material is adopted.
新たに設ける別の透明なプラスチック薄膜(フィルム又
は塗布膜)は、特に限定されないが、ASTM F372に準拠
して、温度40℃、相対湿度90%の条件において測定した
透湿度が、50g/m2・24hrs.以下の特性をもったものが好
ましく、その厚さは5〜400μmの範囲で選ぶことがで
きる。The new transparent plastic thin film (film or coating film) to be newly provided is not particularly limited, but the water vapor permeability measured at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% is 50 g / m 2 in accordance with ASTM F372. A material having a characteristic of 24 hrs. Or less is preferable, and its thickness can be selected in the range of 5 to 400 μm.
フィルムを積層して透明なプラスチック薄膜を設ける場
合、好適に使用されるプラスチックフィルムとしては、
ポリエチレン及びエチレン系共重合体、ポリプロピレン
及びプロピレン系共重合体等のオレフィン系樹脂よりな
るフィルム、ポリ塩化ビニル及びその共重合体等の塩化
ビニル系樹脂よりなるフィルム、塩化ビニリデン−塩化
ビニル共重合体などの塩化ビニリデン系樹脂よりなるフ
ィルム、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステ
ル樹脂よりなるフィルム、ポリテトラフルオロエチレン
などのフッ素樹脂よりなるフィルム、これ等のフィルム
にさらに、塩化ビニリデン系樹脂等の他の樹脂をコーテ
ィングしたコートフィルムなどが挙げられる。これ等の
フィルムは未延伸のもの、あるいは一軸または二軸に延
伸したものの何れであってもよい。このような別の透明
なプラスチックフィルムをケイ素酸化物の透明な薄膜層
に積層する場合には、ウレタン系接着剤、アクリル系接
着剤、ポリエステル系接着剤などを用いるドライラミネ
ート法及び押出しラミネート法等の公知の方法が採用さ
れる。When a transparent plastic thin film is provided by laminating films, the plastic film preferably used is
Film made of olefin resin such as polyethylene and ethylene copolymer, polypropylene and propylene copolymer, film made of vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride and its copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer Film made of vinylidene chloride resin such as, a film made of polyester resin such as polyethylene terephthalate, a film made of fluororesin such as polytetrafluoroethylene, and these films coated with other resin such as vinylidene chloride resin Examples include coated films. These films may be either unstretched or uniaxially or biaxially stretched. When laminating such another transparent plastic film on a transparent thin film layer of silicon oxide, a dry laminating method and an extrusion laminating method using a urethane adhesive, an acrylic adhesive, a polyester adhesive, etc. The known method of is adopted.
他方、別の透明なプラスチック薄膜を塗布によって形成
させる場合には塗布剤が使用される。好適な塗布剤とし
ては、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体などの塩化
ビニリデン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどの
ポリエステル樹脂、ポリテトラフルオロエチレンなどの
フッ素樹脂等の溶液又は乳濁液が挙げられ、中でも塩化
ビニリデン系樹脂のラテックス及び塩化ビニリデン系樹
脂をテトラヒドロフランなどの溶剤に溶解した溶液が好
ましい。塩化ビニリデン系樹脂をケイ素酸化物の透明な
薄膜層に塗布する場合、塩化ビニリデン系樹脂の接着強
度を上げるためアンカーコート剤が使用される。好適な
アンカーコート剤としては、イソシアネート系、ポリエ
チレンイミン系、有機チタン系などの接着促進剤及びポ
リウレタン系、ポリエステル系接着剤などが挙げられ
る。On the other hand, a coating agent is used when another transparent plastic thin film is formed by coating. Examples of suitable coating agents include vinylidene chloride-vinyl chloride-based resins such as vinylidene chloride-based resins, polyester resins such as polyethylene terephthalate, and solutions or emulsions of fluororesins such as polytetrafluoroethylene. A solution of a vinylidene-based resin latex and a vinylidene chloride-based resin dissolved in a solvent such as tetrahydrofuran is preferable. When the vinylidene chloride resin is applied to the transparent thin film layer of silicon oxide, an anchor coating agent is used to increase the adhesive strength of the vinylidene chloride resin. Suitable anchor coating agents include isocyanate-based, polyethyleneimine-based, organic titanium-based and other adhesion promoters, and polyurethane-based and polyester-based adhesives.
本発明に係るガスバリヤ性の優れた透明プラスチックフ
ィルムの厚さは、強度、柔軟性、経済性などの点から10
〜500μmの範囲で用途に応じて選ぶことができるが、
より好ましくは10〜200μmの厚さである。また、本発
明の透明プラスチックフィルムには、そのポリアミド系
フィルムの表面または他の表面、更には両面に、その使
用形態に応じてフィルムのヒートシール性を向上させる
物質を塗布したり積層してもよい。ヒートシール性を向
上させる物質としては、低密度ポリエチレン、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、アイオノマー
等が挙げられる。The thickness of the transparent plastic film having an excellent gas barrier property according to the present invention is 10 in terms of strength, flexibility, economy and the like.
It can be selected according to the application in the range of ~ 500 μm,
The thickness is more preferably 10 to 200 μm. In addition, the transparent plastic film of the present invention may be coated or laminated on the surface or other surface of the polyamide-based film, or on both sides with a substance that improves the heat-sealing property of the film depending on the usage form. Good. Examples of the substance that improves the heat-sealing property include low-density polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polypropylene, and ionomer.
(発明の効果) 本発明に係る透明プラスチックフィルムは、透明性に優
れ、かつ、極めて優れたガスバリヤ性を発揮するもので
あり、柔軟性があって、強度及び経済性の面でも優れて
いる。また、高湿度の条件下で長期間使用してもガスバ
リヤ性が損なわれることがない。従って食品、医薬品、
化学薬品等の包装材料をはじめとして、高度のガスバリ
ヤ性が要求される広範囲の用途の包装材料に用いること
ができ、その工業的利用価値は大きい。(Effect of the invention) The transparent plastic film according to the present invention is excellent in transparency and exhibits an extremely excellent gas barrier property, is flexible, and is also excellent in strength and economical efficiency. In addition, the gas barrier property is not impaired even when used for a long period under high humidity conditions. Therefore, food, medicine,
It can be used as a packaging material for a wide range of applications where a high gas barrier property is required, including packaging materials such as chemicals, and its industrial utility value is great.
(実施例) 以下本発明を実施例に基づいて、また比較例と対照させ
ながら詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。(Examples) Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Examples and in comparison with Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless the gist thereof is exceeded.
なお、以下の例において、ポリアミド系フィルムの加熱
時の寸法変化率及び揮発減量、得られた透明プラスチッ
クフィルムの透湿度、酸素透過度及び透明性は、次の方
法によって測定又は判定した。また、ケイ素酸化物の透
明な薄膜層の厚さは、水晶式膜厚計によって測定した。In the following examples, the dimensional change rate and volatilization loss of the polyamide-based film during heating, and the moisture permeability, oxygen permeability and transparency of the obtained transparent plastic film were measured or determined by the following methods. Further, the thickness of the transparent thin film layer of silicon oxide was measured by a crystal type film thickness meter.
ポリアミド系フィルムの加熱時の寸法変化率及び揮発減
量: (1)加熱処理フィルム: 300×300mmに切出した2枚のフィルムを夫々温度25℃、
相対湿度50%の雰囲気下でコンディショニングし、80℃
で60分、あるいは100℃で60分の加熱処理を行なう。加
熱処理したフィルムを温度25℃、相対湿度0%の雰囲気
下で48時間放置した後、一方のフィルムは重量を測定
し、他方のフィルムには、その表面に一辺の長さが200m
mの正方形の標線を、正方形の各辺がフィルムの縦方向
及び横方向に平行になるように描いた。次いでこの2枚
のフィルムを120℃のオーブン中で5分間加熱したのち
取出し、再び温度25℃、相対湿度0%の雰囲気下で48時
間放置した。120℃のオーブン中で加熱する前と加熱し
た後の重量の変化と正方形の寸法の変化を測定し、寸法
変化率及び揮発減量を次の計算式により求めた。Dimensional change rate and volatilization loss of polyamide film during heating: (1) Heat treatment film: Two films cut into 300 x 300 mm, each at a temperature of 25 ° C,
Conditioned at 50% relative humidity, 80 ℃
Heat treatment for 60 minutes at 100 ° C or 60 minutes at 100 ° C. After the heat-treated film was left in an atmosphere of temperature 25 ° C and relative humidity 0% for 48 hours, one film was weighed and the other film had a side length of 200 m.
A square mark of m was drawn so that each side of the square was parallel to the machine and transverse directions of the film. Then, the two films were heated in an oven at 120 ° C. for 5 minutes and then taken out, and left again in an atmosphere of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 0% for 48 hours. The weight change and the square size change before and after heating in an oven at 120 ° C were measured, and the dimensional change rate and volatilization loss were calculated by the following formulas.
(2)加熱処理を行なわないフィルム 上記加熱処理フィルムの寸法変化率及び揮発減量の測定
方法において、温度25℃、相対湿度50%の雰囲気下でコ
ンディショニングした後に、80℃で60分、あるいは100
℃で60分の加熱処理を行なわない以外は、加熱処理フィ
ルムの場合と全く同様の処理を行なって寸法変化率及び
揮発減量を求めた。(2) Film not subjected to heat treatment In the above method for measuring the dimensional change rate and volatilization loss of the heat treated film, after conditioning in an atmosphere at a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 50%, the temperature is kept at 80 ° C for 60 minutes or 100%.
The dimensional change rate and the volatilization loss were obtained by performing the same treatment as that of the heat-treated film except that the heat treatment was not performed at 60 ° C. for 60 minutes.
縦方向の寸法変化率(%)=I−I′/I×100 I:120℃、5分間加熱処理前の縦方向の寸法 I′:120℃、5分間加熱処理後の縦方向の寸法横方向の
寸法変化率(%)=II−II′/II×100 II:120℃、5分間加熱処理前の横方向の寸法 II′:120℃、5分間加熱処理後の横方向の寸法揮発減量
(%)=W−W′/W×100 W:120℃、5分間加熱処理前のフィルム重量 W′:120℃、5分間加熱処理後のフィルム重量透湿度: ASTM F372に準拠し、温度40℃、相対湿度90%の条件に
おいて、(イ)ポリアミド系フィルムの片面にケイ素酸
化物の薄膜層のみを形成させた透明プラスチックフィル
ムの場合には、ケイ素酸化物の薄膜層を高湿(90RH)
側、ポリアミド系フィルムを絶乾状態側に位置させて測
定した。また、(ロ)ケイ素酸化物の薄膜層の表面に、
ポリアミド系フィルム以外の別のプラスチック薄膜を更
に形成させた透明プラスチックフィルムの場合には、こ
のプラスチック薄膜の面を高湿(90%RH)側、他方の面
を絶乾状態側に位置させて測定した。Vertical dimensional change (%) = I-I '/ I x 100 I: 120 ° C, vertical dimension before heat treatment for 5 minutes I': 120 ° C, vertical dimension after heat treatment for 5 minutes Horizontal Dimensional change rate (%) = II-II '/ II x 100 II: 120 ° C, lateral dimension before heat treatment for 5 minutes II': 120 ° C, lateral dimension after heat treatment for 5 minutes Volatile loss (%) = W−W ′ / W × 100 W: 120 ° C., film weight before heat treatment for 5 minutes W ′: 120 ° C., film weight after heat treatment for 5 minutes Moisture vapor transmission rate: According to ASTM F372, temperature 40 (B) In the case of a transparent plastic film in which only a silicon oxide thin film layer is formed on one side of a polyamide-based film at 90 ° C and a relative humidity of 90%, the silicon oxide thin film layer is highly humidified (90RH).
Side, the polyamide-based film was positioned on the absolutely dry side, and the measurement was performed. Further, on the surface of the thin film layer of (b) silicon oxide,
In the case of a transparent plastic film on which another plastic thin film other than polyamide-based film is further formed, the surface of this plastic thin film is placed on the high humidity (90% RH) side and the other surface is placed on the absolute dry state side for measurement. did.
酸素透過度: モダンコントロール社製のOX−TRAN100型酸素透過度測
定装置を使用し、温度30℃、相対湿度80%の条件におい
て測定した。Oxygen permeability: Measured under the conditions of a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 80% using an OX-TRAN100 type oxygen permeability measuring device manufactured by Modern Control Co.
透明性: 肉眼により評価し、良好な透明性を示したものを◎で表
示した。Transparency: Evaluation was made with the naked eye, and those showing good transparency are indicated by ⊚.
実施例1 ナイロン6(三菱化成社製 ノバミッド1020CA)を280
℃で押出機よりシート状に押出し、冷却ドラムで急冷、
固定して無定形フィルムを得た。このフィルムを縦方向
に50℃で3倍、横方向に80℃で3倍(延伸倍率3×3
倍)延伸し、130℃で2秒間熱固定を行ない、厚さ15μ
mの二軸延伸されたフィルムを得た。Example 1 Nylon 6 (Novamid 1020CA manufactured by Mitsubishi Kasei) is used as 280
Extruded into a sheet form from the extruder at ℃, cooled rapidly with a cooling drum,
It was fixed to obtain an amorphous film. This film is 3 times in the machine direction at 50 ° C and 3 times in the transverse direction at 80 ° C (stretching ratio 3 × 3
Stretched and heat set at 130 ℃ for 2 seconds, thickness 15μ
A biaxially stretched film of m was obtained.
得られた二軸延伸ナイロン6フィルムについて、100℃
のオーブン中で60分間放置して加熱処理した後、前記の
寸法変化率及び揮発減量の測定方法に従って、120℃で
5分間加熱処理し、縦方向及び横方向の寸法変化率及び
揮発減量を測定した結果を表1に示す。About the obtained biaxially stretched nylon 6 film, 100 ° C
After heat-treating for 60 minutes in the oven, heat-treat at 120 ° C for 5 minutes according to the method for measuring the dimensional change rate and volatilization loss, and measure the dimensional change rate and volatility loss in the vertical and horizontal directions. The results obtained are shown in Table 1.
このナイロン6フィルムを真空蒸発装置に供給し、5×
10-5Torrの真空下、10kwの電子ビーム加熱方式により、
純度99.9%の一酸化ケイ素を加熱蒸発させて、ナイロン
6フィルムの片面に、厚さ50nmのケイ素酸化物の透明な
薄膜層が形成された透明プラスチックフィルムを得た。
得られた透明プラスチックフィルムについて、前記の方
法により透湿度及び酸素透過度を測定し、透明性を評価
した。その結果を第1に示す。This nylon 6 film is supplied to a vacuum evaporation device,
Under vacuum of 10 -5 Torr, by electron beam heating method of 10 kw,
99.9% pure silicon monoxide was evaporated by heating to obtain a transparent plastic film having a transparent thin film layer of silicon oxide having a thickness of 50 nm formed on one side of nylon 6 film.
With respect to the obtained transparent plastic film, the water vapor transmission rate and the oxygen transmission rate were measured by the methods described above, and the transparency was evaluated. The results are shown first.
実施例2 実施例1における、二軸延伸ナイロン6フィルムの100
℃、60分間の加熱処理の条件を80℃、60分間とした以外
は、実施例1と同様の方法で縦方向及び横方向の寸法変
化率及び揮発減量を測定し、更に、実施例1と全く同様
の方法により一酸化ケイ素の真空蒸着を行なって得られ
た透明プラスチックフィルムの透湿度及び酸素透過度を
測定し、透明性を評価した。その結果を表1に示す。Example 2 100 of biaxially stretched nylon 6 film in Example 1
The dimensional change rate and the volatilization loss in the longitudinal direction and the lateral direction were measured by the same method as in Example 1 except that the heat treatment conditions of 60 ° C. and 60 minutes were 80 ° C. and 60 minutes. The moisture vapor transmission rate and the oxygen transmission rate of the transparent plastic film obtained by vacuum-depositing silicon monoxide by the completely same method were measured, and the transparency was evaluated. The results are shown in Table 1.
実施例3 実施例1において、ナイロン6フィルムの片面に真空蒸
着された透明なケイ素酸化物の薄膜層の厚さを20nmとし
た以外は、実施例1と同様の処理及び評価を行なった。
その結果を表1に示す。Example 3 The same processes and evaluations as in Example 1 were performed, except that the thickness of the transparent silicon oxide thin film layer vacuum-deposited on one surface of the nylon 6 film was 20 nm.
The results are shown in Table 1.
実施例4 実施例1において、ナイロン6フィルムの片面に真空蒸
着された透明なケイ素酸化物の薄膜層の厚さを100nmと
した以外は、実施例1と同様の処理及び評価を行なっ
た。その結果を表1に示す。Example 4 The same treatment and evaluation as in Example 1 were carried out except that the thickness of the transparent silicon oxide thin film layer vacuum-deposited on one surface of the nylon 6 film was 100 nm. The results are shown in Table 1.
実施例5 実施例1において使用した、延伸倍率3×3倍で延伸処
理した二軸延伸ナイロン6フィルムの代りに、延伸倍率
3×5倍で延伸処理した二軸延伸ナイロン6フィルムを
使用し、その他は実施例1と同様の処理及び評価を行な
った。その結果を表1に示す。Example 5 Instead of the biaxially stretched nylon 6 film stretched at a draw ratio of 3 × 3 used in Example 1, a biaxially stretched nylon 6 film stretched at a draw ratio of 3 × 5 was used. Otherwise, the same processing and evaluation as in Example 1 were performed. The results are shown in Table 1.
実施例6 実施例1において、蒸着物質として使用した一酸化ケイ
素(SiO)の代りに、二酸化ケイ素(SiO2)を使用した
以外は、実施例1と同様の処理及び評価を行なった。そ
の結果を表1に示す。Example 6 The same treatment and evaluation as in Example 1 were carried out except that silicon dioxide (SiO 2 ) was used instead of silicon monoxide (SiO) used as the vapor deposition material in Example 1. The results are shown in Table 1.
比較例1 実施例1における、二軸延伸ナイロン6フィルムの100
℃、60分間の加熱処理を全く行なわない外は、実施例1
と同様の処理及び評価を行なった。その結果を表1に示
す。Comparative Example 1 100 of biaxially stretched nylon 6 film in Example 1
Example 1 except that no heat treatment was performed at 60 ° C. for 60 minutes.
The same treatment and evaluation as in the above were performed. The results are shown in Table 1.
比較例2 実施例1において使用した、延伸倍率3×3倍で延伸処
理した二軸延伸ナイロン6フィルムの代りに、延伸倍率
2×2倍で延伸した二軸延伸ナイロン6フィルムを使用
し、その他は実施例1と同様の処理及び評価を行なっ
た。その結果を表1に示す。Comparative Example 2 Instead of the biaxially stretched nylon 6 film stretched at a draw ratio of 3 × 3 used in Example 1, a biaxially stretched nylon 6 film stretched at a draw ratio of 2 × 2 was used. Was subjected to the same treatment and evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 1.
実施例7 実施例1で得られた、ナイロン6フィルムの片面にケイ
素酸化物の透明な薄膜層が形成されている透明プラスチ
ックフィルムにおいて、そのケイ素酸化物を蒸着した面
に、塩化ビニリデン系樹脂のコート層(厚さ3μm)を
積層した全体の厚さ23μmのポリプロピレンフィルム
(延伸倍率5×5倍、透湿度2.0g/m2・24hrs.)(以下
このフィルムを「K-OPP」という)を、塩化ビニリデン
系樹脂コート層とケイ素酸化物の蒸着面とが接するよう
に、ウレタン系接着剤(武田薬品社製、タケラックA-60
6とタケネートA-10との9:1の割合の二成分系接着剤)
(厚さ2μm)を介して積層して透明なプラスチックフ
ィルムを得た。この透明なプラスチックフィルムについ
て、前記方法により透湿度及び酸素透過度を測定し、透
明性を肉眼で評価した。測定結果を表2に示す。 Example 7 In a transparent plastic film obtained in Example 1 in which a transparent thin film layer of silicon oxide is formed on one surface of a nylon 6 film, the surface on which the silicon oxide is deposited is coated with vinylidene chloride resin. A 23 μm-thick polypropylene film (stretching ratio 5 × 5 times, moisture permeability 2.0 g / m 2 · 24 hrs.) With a coat layer (thickness 3 μm) laminated (hereinafter referred to as “K-OPP”) , So that the vinylidene chloride resin coating layer and the silicon oxide vapor deposition surface are in contact with each other, a urethane adhesive (Takelac A-60, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.
Two-component adhesive with a ratio of 6 to Takenate A-10 9: 1)
(Thickness 2 μm) was laminated to obtain a transparent plastic film. With respect to this transparent plastic film, the water vapor transmission rate and the oxygen transmission rate were measured by the above-mentioned methods, and the transparency was visually evaluated. The measurement results are shown in Table 2.
実施例8 実施例7で得られた透明プラスチックフィルムを用い、
そのナイロン6フィルム面に、厚さ40μmの低密度ポリ
エチレンフィルム(LDPE)を実施例7で使用したウレタ
ン系接着剤を介して積層して透明なプラスチックフィル
ムを得た。この透明なプラスチックフィルムについて、
透湿度、酸素透過度及び透明性を実施例7と同様に評価
した。その結果を表2に示す。Example 8 Using the transparent plastic film obtained in Example 7,
A 40 μm-thick low density polyethylene film (LDPE) was laminated on the nylon 6 film surface via the urethane adhesive used in Example 7 to obtain a transparent plastic film. About this transparent plastic film,
The moisture permeability, oxygen permeability and transparency were evaluated in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 2.
実施例9 実施例7に記載した透明なプラスチックフィルムにおい
て、ケイ素酸化物を蒸着した面に積層したK-OPPに代り
に、厚さ25μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルム(PET)(延伸倍率3×3倍、透湿度20g/m2・2
4hrs.)を用いた外は実施例7と同様にして、透明なプ
ラスチックフィルムを得た。この透明なプラスチックフ
ィルムについて、透湿度、酸素透過度及び透明性を実施
例7と同様に評価した。その結果を表2に示す。Example 9 In the transparent plastic film described in Example 7, a 25 μm thick biaxially oriented polyethylene terephthalate film (PET) (stretching ratio 3 ×) was used instead of K-OPP laminated on the surface on which silicon oxide was deposited. Triple, moisture permeability 20g / m 2・ 2
A transparent plastic film was obtained in the same manner as in Example 7, except that 4 hrs.) Was used. The moisture permeability, oxygen permeability and transparency of this transparent plastic film were evaluated in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 2.
比較例3 比較例1で得られた透明なプラスチックフィルムのケイ
素酸化物を蒸着した面に、実施例7で使用したK-OPPを
積層し、更にその反対側のナイロン6フィルム面に、実
施例8で使用したと同種の低密度ポリエチレンフィルム
(LDPE)を積層して透明なプラスチックフィルムを得
た。この透明なプラスチックフィルムについて、透湿
度、酸素透過度及び透明性を実施例7と同様に評価し
た。その結果を表2に示す。Comparative Example 3 The transparent plastic film obtained in Comparative Example 1 was laminated with K-OPP used in Example 7 on the silicon oxide vapor-deposited side, and the nylon 6 film surface on the opposite side was laminated with the example. A low density polyethylene film (LDPE) of the same type used in 8 was laminated to obtain a transparent plastic film. The moisture permeability, oxygen permeability and transparency of this transparent plastic film were evaluated in the same manner as in Example 7. The results are shown in Table 2.
表1及び表2から、次のことが明かとなる。 The following is clear from Tables 1 and 2.
(1)ポリアミド系フィルムの片方の面に、ケイ素酸化
物の透明な薄膜層が形成された透明プラスチックフィル
ム(以下「フィルムA」という)において、ポリアミド
系フィルムとして、120℃、5分間の条件における縦方
向及び横方向の寸法変化率の各々の絶対値の和、上記条
件における揮発減量及び延伸倍率が本発明で規定する範
囲内のフィルムを用いた場合には、「フィルムA」の透
湿度及び酸素透過度は共に小さく、このフィルムは優れ
たガスバリヤ性を発揮する(実施例1〜6)。(1) In a transparent plastic film (hereinafter referred to as “film A”) in which a transparent thin film layer of silicon oxide is formed on one surface of a polyamide-based film, the polyamide-based film at 120 ° C. for 5 minutes When the sum of the absolute values of the dimensional change rates in the machine direction and the transverse direction, the volatilization loss under the above conditions, and the draw ratio within the range specified in the present invention is used, the water vapor transmission rate of "Film A" and Both oxygen permeability is small, and this film exhibits excellent gas barrier properties (Examples 1 to 6).
(2)「フィルムA」において、ポリアミド系フィルム
として、本発明で規定するポリアミド系フィルム以外の
もの、即ち、120℃、5分における縦方向及び横方向の
寸法変化率の各々の絶対値の和、及び上記条件における
揮発減量が本発明で規定する範囲より大きいポリアミド
系フィルム(比較例1)を用いた場合、あるいは延伸倍
率が本発明で規定する延伸倍率より小さいポリアミド系
フィルム(比較例2)を用いた場合には、得られるフィ
ルムのガスバリヤ性は実施例1〜6のそれより劣ってい
る。(2) In "Film A", as the polyamide-based film, other than the polyamide-based film specified in the present invention, that is, the sum of the absolute values of the dimensional change rates in the longitudinal and transverse directions at 120 ° C for 5 minutes. And a polyamide-based film (comparative example 1) having a volatilization loss larger than the range specified by the present invention under the above conditions, or a polyamide-based film having a draw ratio smaller than the draw ratio specified by the present invention (comparative example 2). The gas barrier properties of the obtained films are inferior to those of Examples 1 to 6.
(3)「フィルムA」のケイ素酸化物の透明な薄膜層の
面に別の透明なプラスチック薄膜を形成させたフィルム
(以下「フィルムB」という)は、「フィルムA」より
更に透湿度及び酸素透過度が低下し、一層優れたガスバ
リヤ性を発揮する(実施例7〜9)。(3) A film in which another transparent plastic thin film is formed on the surface of the transparent thin film layer of silicon oxide of "Film A" (hereinafter referred to as "Film B") has more moisture permeability and oxygen than "Film A". The permeability is lowered, and a more excellent gas barrier property is exhibited (Examples 7 to 9).
(4)「フィルムB」にヒートシール性を向上させる物
質を積層しても「フィルムB」の優れたガスバリヤ性は
変らない。(4) The excellent gas barrier property of "Film B" does not change even if a substance improving the heat sealing property is laminated on "Film B".
(5)本発明に係るフィルムは、優れたガスバリヤ性を
発揮するのみならず、透明性も良好である。(5) The film according to the present invention not only exhibits excellent gas barrier properties, but also has good transparency.
Claims (2)
横方向の寸法変化率の各々の絶対値の和が2%以下で、
かつ上記条件における揮発減量が2重量%以下であり、
少なくとも一軸方向に3倍以上延伸されたポリアミド系
フィルムの片方の面に、ケイ素酸化物の透明な薄膜層が
形成されてなることを特徴とするガスバリヤ性の優れた
透明プラスチックフィルム。1. The sum of the absolute values of the dimensional change rates in the vertical and horizontal directions at 120 ° C. for 5 minutes is 2% or less,
And the volatilization loss under the above conditions is 2% by weight or less,
A transparent plastic film having an excellent gas barrier property, characterized in that a transparent thin film layer of silicon oxide is formed on one surface of a polyamide-based film stretched at least three times in a uniaxial direction.
れたケイ素酸化物の透明な薄膜層の面に、別の透明なプ
ラスチック薄膜が積層形成されてなることを特徴とする
請求項(1)記載のガスバリヤ性の優れた透明プラスチ
ックフィルム。2. A transparent plastic thin film is laminated on the surface of a transparent silicon oxide thin film layer formed on one surface of a polyamide-based film. A transparent plastic film having excellent gas barrier properties as described above.
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JP63094506A JPH0712649B2 (en) | 1988-04-19 | 1988-04-19 | Transparent plastic film with excellent gas barrier properties |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH01267036A JPH01267036A (en) | 1989-10-24 |
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