JPH07122159B2 - Stripping device for plating equipment - Google Patents

Stripping device for plating equipment

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JPH07122159B2
JPH07122159B2 JP21082188A JP21082188A JPH07122159B2 JP H07122159 B2 JPH07122159 B2 JP H07122159B2 JP 21082188 A JP21082188 A JP 21082188A JP 21082188 A JP21082188 A JP 21082188A JP H07122159 B2 JPH07122159 B2 JP H07122159B2
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tank
plating
peeling
endless wire
stripping
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和広 谷口
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Electroplating Engineers of Japan Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はメッキ装置に組合わせて用いる剥離装置に関
するものであり、はんだメッキ装置に用いるはんだの剥
離装置として好適なものである。
The present invention relates to a stripping apparatus used in combination with a plating apparatus, and is suitable as a solder stripping apparatus used in a solder plating apparatus.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電気メッキ装置では、メッキを施す対象物にカソード電
流を流さねばならず、この一手段としてワイヤを採用し
メッキ槽中で水平方向にカソード用のエンドレスワイヤ
の移動路を形成し、対象物を縦形状態にしてこのエンド
レスワイヤに接触させつつメッキ槽中を移動させその間
にメッキ処理を施す技術を本出願人は先に提案した。
(特開昭63−33599号公報参照)。
In an electroplating device, a cathode current must be applied to an object to be plated, and a wire is adopted as one means for this to form a movement path of the endless wire for the cathode in the horizontal direction in the plating tank and to make the object vertical. The present applicant has previously proposed a technique in which the endless wire is brought into contact with the endless wire, and the endless wire is moved in a plating tank to perform a plating treatment therebetween.
(See JP-A-63-33599).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

上記のような従来技術では、カソード用のエンドレスワ
イヤにメッキがどうしても着いてしまうため、エンドレ
スワイヤの付着物(金属)をエンドレスワイヤから剥離
しないとカソード電流を対象物に流し難くなる。そこで
メッキ装置に剥離装置を組合わせエンドレスワイヤを通
しながら上記付着物を剥離することが考えられる。しか
し、剥離装置は剥離工程に応じた複数の処理槽を独立的
に設けねばならず各独立槽にエンドレスワイヤを通すに
しても単に挿通状態にして通すことは無理がある。更
に、ワイヤを『エンドレスワイヤ』として使用するの
で、エンドレスワイヤの保守管理のためには、必要時剥
離装置よりエンドレスワイヤを外さねばならない。
In the conventional technique as described above, the endless wire for the cathode is inevitably plated, so that it is difficult to cause the cathode current to flow to the target object unless the deposit (metal) of the endless wire is separated from the endless wire. Therefore, it is conceivable to combine the peeling device with the plating device and peel off the deposit while passing the endless wire. However, the stripping apparatus must be provided with a plurality of processing tanks corresponding to the stripping process independently, and even if an endless wire is passed through each of the independent tanks, it is impossible to simply pass the endless wires. Furthermore, since the wire is used as an "endless wire", in order to maintain and manage the endless wire, the endless wire must be removed from the stripping device when necessary.

〔課題を解決するための手段〕[Means for Solving the Problems]

そこでこの発明では、エンドレスワイヤの付着物を除去
するために剥離槽を用いるが、エンドレスワイヤを懸回
するホイール群の一部を剥離槽とはいわば独立させて剥
離槽内へ臨ませ且つ剥離槽に上下機構を組合わせてエン
ドレスワイヤの保守管理に必要な時には上記のホイール
群の一部はそのままに剥離槽全体を下降させてホイール
群の一部ごとそこへ懸回されているエンドレスワイヤの
一部を外部へ露出させ得るようにした。
Therefore, in the present invention, the peeling tank is used to remove the deposits on the endless wire. However, a part of the wheel group that suspends the endless wire is, so to speak, independent of the peeling tank and faces the peeling tank. When it is necessary to maintain and manage the endless wire by combining the upper and lower mechanisms, the entire stripping tank is lowered while part of the wheel group is left as it is, and part of the wheel group is suspended to the endless wire. The part can be exposed to the outside.

そして、複数の独立槽を連設する剥離槽にあって各独立
槽の入側・出側と内部とにホイールを臨ませることによ
り、エンドレスワイヤが各独立槽に対し出たり入ったり
する状態にして、剥離工程に対応せしめることにした。
Then, in a peeling tank in which a plurality of independent tanks are connected in series, the endless wire is moved in and out of each independent tank by making the wheels face the entrance / exit side and the inside of each independent tank. I decided to support the peeling process.

〔作用〕[Action]

エンドレスワイヤはメッキ槽内を移動しつつ接触してい
る対象物にカソード電流を施して対象物のメッキ処理を
し、次いでメッキ槽より出たエンドレスワイヤの部分は
ホイール群に懸回されている如くに剥離槽の各独立槽へ
入側より案内されて内部に入り込み次いで出側より出て
次工程の独立槽へ入り内部を通って出側より出ることを
繰返しその間にエンドレスワイヤの付着物(金属)は剥
離され剥離の済んだ部分が再びメッキ槽内へと案内され
てゆき、かかる処理がエンドレスワイヤの懸回・移動に
合わせ順次且つ連続的に行われる。
As the endless wire moves in the plating tank, a cathode current is applied to the contacting object to plate the object, and the part of the endless wire that comes out of the plating tank is suspended by the wheel group. In the stripping tank, each independent tank is guided from the entrance side to enter the inside, then exits from the exit side, enters the independent tank of the next process, passes through the inside, and exits from the exit side. ) Is peeled off and the peeled part is guided again into the plating tank, and such treatment is sequentially and continuously performed in accordance with the suspension and movement of the endless wire.

そしてエンドレスワイヤを保守管理のために手入れした
い場合上下機構を介して剥離槽全体を下降させれば、剥
離槽内に臨まされていたホイール群はその位置に残され
たまま剥離槽だけが下降してしまうので、ホイール群と
そこに懸回されているエンドレスワイヤの部分とが外部
に全く露呈された状態となる。そこで適宜エンドルスワ
イヤの手入れを施し再び剥離槽全体を上下機構にて復帰
上昇せしめて元の状態とし、メッキ槽に続いて剥離槽へ
とエンドレスワイヤを移動させて常に付着物を剥離済み
としたいわば新しいエンドレスワイヤでメッキ槽中の対
象物にメッキ処理を施してゆく。
If you want to care for the endless wire for maintenance, lower the entire stripping tank through the vertical mechanism and only the stripping tank descends while the wheels facing the stripping tank remain in that position. Therefore, the wheel group and the portion of the endless wire suspended around the wheel group are completely exposed to the outside. Therefore, the endless wire was properly cared for, and the whole peeling tank was returned to the original state by raising and lowering it again with the vertical mechanism, and the endless wire was moved to the peeling tank after the plating tank to always remove the deposits. So to speak, the new endless wire is used to plate the object in the plating tank.

〔実施例〕〔Example〕

図面を参照して次に実施例を説明する。第1図は『メッ
キ装置』としてのはんだメッキ装置1と、『メッキ槽』
としてのはんだメッキ槽2とを示している。はんだメッ
キ装置1の全体を工程順に述べれば、3がロード部で
『対象物』としての樹脂モールド後のICリードフレーム
(以下フレーム)4を前処理工程部5へ逐次供給する。
前処理工程部5は、電解脱脂部6、水洗部7、酸化膜除
去部8、水洗部9、化学研磨部10、水洗部11、活性化部
12、水洗部13、酸洗部14の各工程順に処理槽が連設され
ており、これら各工程の処理槽内を、フレーム4は水平
状態で移動させられてゆく。そしてはんだメッキ槽2内
はフレーム4が縦形の状態で移動するようにしてあり、
且つそこに水平方向で移動路16を形成しているエンドレ
スワイヤ17の上に乗るような状態でエンドレスワイヤと
接触するようにしてある。はんだメッキ槽15の次には、
後処理工程部18として回収部19、水洗部20、中和部21、
水洗部22、水洗部23、温純水洗部24、25脱水部26、エア
ブロー部27、そして乾燥部28の各工程順に処理槽が連設
されており、最後に処理済みのフレーム4をラインより
取出すアンロード部29がある。
Next, embodiments will be described with reference to the drawings. Figure 1 shows a solder plating device 1 as a "plating device" and a "plating tank".
And the solder plating bath 2 is shown. If the whole of the solder plating apparatus 1 is described in the order of steps, 3 is a load section, and the IC lead frame (hereinafter, referred to as a frame) 4 after resin molding as an "object" is sequentially supplied to the pretreatment step section 5.
The pretreatment process unit 5 includes an electrolytic degreasing unit 6, a water washing unit 7, an oxide film removing unit 8, a water washing unit 9, a chemical polishing unit 10, a water washing unit 11, and an activation unit.
The treatment tanks 12, 12, and the pickling portion 13 are sequentially arranged in this order, and the frame 4 is moved horizontally in the treatment tanks of these steps. The frame 4 moves vertically in the solder plating tank 2,
Further, the endless wire 17 is formed so as to be placed on the endless wire 17 forming the moving path 16 in the horizontal direction and is in contact with the endless wire. Next to the solder plating tank 15,
As the post-treatment process unit 18, a recovery unit 19, a water washing unit 20, a neutralization unit 21,
The treatment tanks are successively arranged in the order of each process of the water washing section 22, the water washing section 23, the warm pure water washing sections 24 and 25, the dehydration section 26, the air blow section 27, and the drying section 28. Finally, the treated frame 4 is connected from the line. There is an unloading section 29 to take out.

このようなはんだメッキ装置1に対し、〔直接的にはは
んだメッキ槽2にたいし、〕剥離槽30が付設されてい
る。剥離槽30は水洗、剥離、水洗そして酸洗の順で処理
を行うための独立槽31、32、33、34が連設されている。
A peeling tank 30 [directly to the solder plating tank 2] is attached to such a solder plating apparatus 1. In the stripping tank 30, independent baths 31, 32, 33, 34 for performing treatments in the order of washing with water, stripping, washing with water and pickling are connected in series.

エンドレスワイヤ17を懸回するホイール群35は、先ずは
んだメッキ槽15内で「往路」を形成させるための一対の
第1ホイール36、同じく「復路」を形成させる一対の第
2ホイール37、次にはんだメッキ槽15と剥離槽30間に3
ヶ所配置させた中間ホイール38、39、40、剥離槽30の内
部即ち水洗用独立槽31の内部ホイール41、仕切壁42上の
上部ホイール43、剥離用独立槽32の一対の内部ホイール
44、仕切壁45上の上部ホイール46、水洗用独立槽33の内
部ホイール47、仕切壁48上の上部ホイール49、そして酸
洗用独立槽34の内部ホイール50とから構成されている。
ホイール群35を構成するこれらの各ホイールには種々の
機能が付加されている。即ち、一対の第1ホイール36は
カソード用の電極ホイールとされ、中間ホイール38は駆
動ホイールとされてチェーン51を介して一方の第2ホイ
ール37及び上部ホイール43に接続されている。又他の中
間ホイール39、40は張力付与ホイールとされ、ホイール
群35よりエンドレスワイヤ17を外したり又は懸けたりす
る場合に位置を大きく変えるようにしてある。更に内部
ホイール41、47は剥離処理用の電極ホイールとしてあ
る。
The wheel group 35 around which the endless wire 17 is suspended includes a pair of first wheels 36 for forming a “forward path” in the solder plating tank 15, a pair of second wheels 37 for forming a “return path”, and then a second wheel 37. 3 between solder plating tank 15 and peeling tank 30
Intermediate wheels 38, 39, 40 arranged at various locations, inside wheel of peeling tank 30, that is, inner wheel 41 of independent tank for washing 31, upper wheel 43 on partition wall 42, pair of inner wheels of independent tank for peeling 32
44, an upper wheel 46 on the partition wall 45, an internal wheel 47 of the independent washing tank 33, an upper wheel 49 on the partition wall 48, and an internal wheel 50 of the independent pickling tank 34.
Various functions are added to each of the wheels forming the wheel group 35. That is, the pair of first wheels 36 is an electrode wheel for the cathode, and the intermediate wheel 38 is a drive wheel and is connected to one of the second wheels 37 and the upper wheel 43 via a chain 51. The other intermediate wheels 39, 40 are tension applying wheels, and their positions are largely changed when the endless wire 17 is detached or hung from the wheel group 35. Further, the inner wheels 41 and 47 are electrode wheels for peeling processing.

そして各独立槽31、32、33、34の入側・出側位置に配さ
れた上部ホイール43、46、49と内部位置に配された内部
ホイール41、44、47、50とは、剥離槽30に対して別途独
立的に設けられている。
And the upper wheels 43, 46, 49 arranged at the inlet / outlet positions of the independent tanks 31, 32, 33, 34 and the inner wheels 41, 44, 47, 50 arranged at the internal positions are the peeling tanks. Separately provided for 30.

次に剥離槽30に組合わせる上下機構52について述べる剥
離槽30の縁部53にネジ孔54が設けてあり、このネジ孔54
にボールネジ55が挿通されている。ボールネジ55の上下
両端は軸受56で支持され下方に設けたチェーンホイール
57そこへ懸回したチェーン58、駆動ホイール59、この駆
動ホイール59に接続のモータ60等で回転駆動系61を形成
している。62は一対のガイドバーであり、剥離槽30のガ
イド63に係合してその「下降」と「復帰上昇」を案内す
る。
Next, a description will be given of the vertical mechanism 52 to be combined with the peeling tank 30. A threaded hole 54 is provided in the edge portion 53 of the peeling tank 30.
Ball screw 55 is inserted in. The upper and lower ends of the ball screw 55 are supported by bearings 56, and the chain wheel is provided below.
57 A rotary drive system 61 is formed by a chain 58 suspended there, a drive wheel 59, a motor 60 connected to the drive wheel 59, and the like. Reference numeral 62 denotes a pair of guide bars, which engage with the guides 63 of the peeling tank 30 to guide the "falling" and the "returning rising".

ボールネジ55とガイドバー62は、剥離槽30の両側に対を
なして設けられておりモータ60の作動により駆動ホイー
ル59、チェーン58チェーンホイール57を介し両側のボー
ルネジ55を同時に回転せしめ剥離槽30はネジ孔54を介し
ボールネジ55の回転を受けると下降又は復帰上昇する。
そして、剥離槽30が最下降位置に至ると、元の位置に残
されたままの上部ホイール43、46、49、内部ホイール4
1、44、47、50はそこに懸回したエンドレスワイヤ17の
部分ごと外部に対して露呈されてしまう。そこで中間ホ
イール39、40の位置を変えればホイール群35に対するエ
ンドレスワイヤ17の取外しと懸回とを容易に行うことが
できる。
The ball screw 55 and the guide bar 62 are provided as a pair on both sides of the peeling tank 30, and the ball screw 55 on both sides is simultaneously rotated by the operation of the motor 60 via the drive wheel 59, the chain 58 and the chain wheel 57. When the ball screw 55 is rotated through the screw hole 54, the ball screw 55 descends or returns and rises.
Then, when the peeling tank 30 reaches the lowest position, the upper wheels 43, 46, 49 and the inner wheels 4 which are left in the original positions are retained.
1, 44, 47 and 50 are exposed to the outside together with the part of the endless wire 17 suspended there. Therefore, if the positions of the intermediate wheels 39 and 40 are changed, the endless wire 17 can be easily detached and suspended from the wheel group 35.

〔効果〕〔effect〕

この発明に係るメッキ装置用の剥離装置は以上説明して
来た如き内容のものなので、メッキ槽でカソードとして
利用しているエンドレスワイヤに付着物(金属)が付い
ても常に剥離槽で迅速にエンドレスワイヤより剥離して
しまうので対象物にカソード電流を常に効率よく流せる
ことは勿論のこと、剥離槽内にエンドレスワイヤを通す
に当って各独立槽の入側・出側と内部とに配したホイー
ル群によって剥離処理に合わせ支障なく各独立槽へ導入
してはそこより導出でき、しかもエンドレスワイヤを懸
回するホイール群の内、剥離装置に組合わせるホイール
を、剥離槽とは別途独立的に設けるようにしたので上下
機構を介し剥離槽を下降・復帰上昇させるのにホイール
が支障とはならず、又剥離槽の下降時、ホイールごとそ
こに懸回されているエンドレスワイヤを外部に露呈でき
るのでエンドレスワイヤの修理の交換その他の保守管理
がやり易いという多くの効果がある。
Since the stripping apparatus for the plating apparatus according to the present invention has the contents as described above, even if the adhered substance (metal) is attached to the endless wire used as the cathode in the plating tank, the stripping tank can always be quickly operated. Since it peels off from the endless wire, not only can the cathode current be made to flow through the object efficiently at all times, but the endless wire is placed inside the peeling tank at the inlet / outlet side and inside of each independent tank. Depending on the wheel group, it can be introduced into each independent tank without hindrance according to the peeling process and can be derived from it, and of the wheel group that suspends the endless wire, the wheel to be combined with the peeling device is independent of the peeling tank. Since it is provided, the wheels do not hinder the lowering and returning of the peeling tank via the vertical mechanism, and when the peeling tank descends, the wheels are suspended there. There are a number of effects that it is easy to do is exchange other maintenance management of the endless wire repair because it exposed the endless wire to the outside.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、メッキ装置としてのはんだメッキ装置の全体
を示す概略側面図、 第2図は、ホイール群に対するエンドレスワイヤの懸回
状態と剥離槽とを示す概略側面図。 第3図は第2図に示したエンドレスワイヤと剥離槽の概
略斜視図、 そして第4図は剥離槽に対する上下機構の組合わせ状態
を示す部分拡大斜視図である。 1……メッキ装置(はんだメッキ装置) 2……メッキ槽(はんだメッキ槽) 4……対象物(フレーム) 17……エンドレスワイヤ 30……剥離槽 35……ホイール群 52……上下機構 61……回転駆動系
FIG. 1 is a schematic side view showing the whole of a solder plating apparatus as a plating apparatus, and FIG. 2 is a schematic side view showing a suspension state of an endless wire with respect to a wheel group and a peeling tank. FIG. 3 is a schematic perspective view of the endless wire and the stripping tank shown in FIG. 2, and FIG. 4 is a partially enlarged perspective view showing a combination state of the vertical mechanism with the stripping tank. 1 …… plating device (solder plating device) 2 …… plating tank (solder plating tank) 4 …… object (frame) 17 …… endless wire 30 …… peeling tank 35 …… wheel group 52 …… upper and lower mechanism 61… … Rotation drive system

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】メッキ槽中で水平方向にカソード用のエン
ドレスワイヤの移動路を形成し、このエンドレスワイヤ
に接触しつつメッキ槽内を移動する対象物にメッキを施
すようにしたメッキ装置用の剥離装置であって、 剥離工程に応じた複数の独立槽を連設させた剥離槽を有
し、上記エンドレスワイヤを懸回させたホイール群の一
部を各独立槽の入側・出側と内部とへ剥離槽とは別途独
立して臨ませ、 各独立槽の内部に臨ませたホイール群の一部を外側へ露
呈せしめるべく剥離槽全体を下降・復帰上昇自在とする
上下機構を、剥離槽へ布設して成るメッキ装置用の剥離
装置。
Claim: What is claimed is: 1. A plating apparatus for a plating apparatus, wherein a moving path of a cathode endless wire is formed in a horizontal direction in a plating tank, and an object moving in the plating tank is plated while being in contact with the endless wire. A peeling device, which has a peeling tank in which a plurality of independent tanks are arranged in series according to the peeling process, and a part of the wheel group on which the above endless wire is suspended is used as an inlet / outlet side of each independent tank. Separately separates the vertical tank that separates the peeling tank from the inside and separates the entire peeling tank so as to expose a part of the wheel group facing the inside of each independent tank to the outside. A stripping device for plating equipment that is installed in a bath.
【請求項2】メッキ槽がはんだメッキ槽で、メッキ装置
がはんだメッキ装置であり、対象物が樹脂モールド後の
ICリードフレームである、請求項1記載のメッキ装置用
の剥離装置。
2. The plating bath is a solder plating bath, the plating device is a solder plating device, and the object is a resin-molded product.
The peeling device for a plating device according to claim 1, which is an IC lead frame.
【請求項3】剥離槽がエンドレスワイヤの入側より出側
にかけて、水洗、剥離、水洗、酸洗等の複数の独立槽を
連設したものである、請求項1又は2記載のメッキ装置
用の剥離装置。
3. The plating apparatus according to claim 1 or 2, wherein the stripping tank is a series of a plurality of independent baths for washing, stripping, washing with water, pickling, etc. from the entry side to the exit side of the endless wire. Peeling device.
【請求項4】各独立槽の内部と、各独立槽間の仕切壁の
上部とに配した複数のホイールが、ホイール群の一部を
構成するものである、請求項3記載のメッキ装置用の剥
離装置。
4. The plating apparatus according to claim 3, wherein a plurality of wheels arranged inside each of the independent tanks and above the partition wall between the independent tanks constitute a part of a wheel group. Peeling device.
【請求項5】上下機構が、剥離槽の縁部に設けたネジ孔
に挿通されている複数のボールネジと、これらボールネ
ジを回転させる回転駆動系と、剥離槽の下降・復帰上昇
を案内する複数のガイドバーとから構成される、請求項
1乃至4のいずれかに記載のメッキ装置用の剥離装置。
5. An up-and-down mechanism, a plurality of ball screws inserted into screw holes provided at the edge of the stripping tank, a rotary drive system for rotating these ball screws, and a plurality of guides for lowering and returning of the stripping tank. The stripping device for a plating apparatus according to any one of claims 1 to 4, further comprising:
JP21082188A 1988-08-26 1988-08-26 Stripping device for plating equipment Expired - Lifetime JPH07122159B2 (en)

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