JPH07115054A - Moving stage device - Google Patents

Moving stage device

Info

Publication number
JPH07115054A
JPH07115054A JP28180193A JP28180193A JPH07115054A JP H07115054 A JPH07115054 A JP H07115054A JP 28180193 A JP28180193 A JP 28180193A JP 28180193 A JP28180193 A JP 28180193A JP H07115054 A JPH07115054 A JP H07115054A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
guide surface
moving
driving
gravity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28180193A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobushige Korenaga
伸茂 是永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP28180193A priority Critical patent/JPH07115054A/en
Publication of JPH07115054A publication Critical patent/JPH07115054A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Abstract

PURPOSE:To accelerate realization of high speed for positioning by preventing rotation vibration of a stand. CONSTITUTION:A Y stage reciprocally moves in Y axis direction by a Y driving cylinder 3 on a base 1, and an X stage 4 reciprocally moves by an X drive cylinder 5 along X guide members 2a, 2b on a guide surface 2c of the Y stage 2. Movement of the X stage 4 is detected by an X position sensor 8 and fed back to the X cylinder 5. The X position sensor 8 is provided on the same side as a drive device of the X drive cylinder 5 with respect to a plane parallel to the guide surface 2c of the Y stage 2 passing through a center of gravity of the X stage 4 and a plane parallel to a guide surface of the X guide members 2a, 2b passing through a center of gravity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置、各種
精密加工機あるいは各種精密測定器等に用いられる移動
ステージ装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a moving stage apparatus used in semiconductor exposure apparatuses, various precision processing machines, various precision measuring instruments and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造等に用いられる露光装置や各
種精密加工機あるいは各種精密測定器においては、露光
されるウエハ等基板や被加工物あるいは被測定物を高精
度で位置決めすることが要求され、加えて、近年ではス
ループットの向上のために位置決めの高速化が望まれて
いる。図9は露光装置に用いられる移動ステージ装置の
従来例を示すもので、これは、水平な案内面101aを
有するベース101と、ベース101と一体である一対
のYガイド部材101b,101cに沿って水平面内で
直交する2軸の一方(以下、「Y軸」という。)の方向
に往復移動自在であるYステージ102と、これをY軸
方向に移動させるY駆動シリンダ103と、Yステージ
102と一体である一対のXガイド部材102a,10
2bに沿って前記2軸の他方(以下、「X軸」とい
う。)の方向に往復移動自在であるXステージ104
と、これをX軸方向に移動させるX駆動シリンダ105
と、Xステージ104の表面に設けられた保持盤106
からなり、保持盤106は真空吸着力によってウエハW
0 を吸着する。
2. Description of the Related Art In an exposure apparatus, various precision processing machines or various precision measuring instruments used in semiconductor manufacturing, it is required to position a substrate such as a wafer to be exposed, an object to be processed or an object to be measured with high accuracy. In addition, in recent years, it has been desired to speed up positioning for improving throughput. FIG. 9 shows a conventional example of a moving stage device used in an exposure apparatus, which includes a base 101 having a horizontal guide surface 101a and a pair of Y guide members 101b and 101c which are integral with the base 101. A Y stage 102 that is reciprocally movable in one of two axes (hereinafter, referred to as “Y axis”) orthogonal to each other in a horizontal plane, a Y drive cylinder 103 that moves the Y stage 102 in the Y axis direction, and a Y stage 102. A pair of X guide members 102a, 10 that are integrated
An X stage 104 that can reciprocate in the direction of the other of the two axes (hereinafter referred to as the "X axis") along 2b.
And an X drive cylinder 105 that moves this in the X-axis direction
And a holding plate 106 provided on the surface of the X stage 104.
The holding plate 106 is made of a wafer W by vacuum suction force.
Adsorb 0 .

【0003】Yステージ102は図示しない静圧軸受装
置によってベース101の案内面101aおよびYガイ
ド部材101b,101cにそれぞれ非接触に支持さ
れ、同様に、Xステージ104も図示しない静圧軸受装
置によってYステージ102の案内面102cとXガイ
ド部材102a,102bにそれぞれ非接触で支持され
る。
The Y stage 102 is supported by a static pressure bearing device (not shown) on the guide surface 101a of the base 101 and the Y guide members 101b and 101c in a non-contact manner. Similarly, the X stage 104 is also supported by a static pressure bearing device (not shown). The guide surface 102c of the stage 102 and the X guide members 102a and 102b are supported in a non-contact manner.

【0004】保持盤106は、Y軸方向にのびるXミラ
ー106aと、X軸方向にのびるYミラー106bを備
えており、Xミラー106aの反射光によって保持盤1
06のX軸方向の位置を検出するX干渉計107aと、
Yミラー106bの反射光によって保持盤106のY軸
方向の位置を検出するY干渉計107bのそれぞれの出
力は、モニタ信号としてX駆動シリンダ105とY駆動
シリンダ103のそれぞれの制御装置にフィードバック
される。
The holding board 106 comprises an X mirror 106a extending in the Y-axis direction and a Y mirror 106b extending in the X-axis direction, and the holding board 1 is reflected by the reflected light from the X mirror 106a.
An X interferometer 107a for detecting the position of 06 in the X-axis direction,
Each output of the Y interferometer 107b that detects the position of the holding plate 106 in the Y-axis direction by the reflected light of the Y mirror 106b is fed back to each control device of the X drive cylinder 105 and the Y drive cylinder 103 as a monitor signal. .

【0005】すなわち、Y駆動シリンダ103とX駆動
シリンダ105が図示しない指令ラインから送られる指
令信号に基づいてそれぞれ駆動され、これによって保持
盤106が移動するとき、保持盤106の移動量をX干
渉計107aとY干渉計107bによってモニタし、こ
れらの出力に基づいてX駆動シリンダ105とY駆動シ
リンダ103の駆動量を制御し、保持盤106の位置決
めを行う。
That is, the Y drive cylinder 103 and the X drive cylinder 105 are respectively driven based on a command signal sent from a command line (not shown), and when the holding plate 106 moves by this, the movement amount of the holding plate 106 is changed by the X interference. The total amount is monitored by the total 107a and the Y interferometer 107b, the drive amounts of the X drive cylinder 105 and the Y drive cylinder 103 are controlled based on these outputs, and the holding plate 106 is positioned.

【0006】上記の移動ステージ装置においては、X駆
動シリンダ105によるX軸方向の駆動力がXステージ
104の重心に作用するように設計する必要がある。そ
の理由は、X駆動シリンダ105の駆動力の作用軸から
Xステージ104の重心がずれているとXステージ10
4に回転モーメントが発生し、これによってXステージ
104が傾くと、前述の静圧軸受装置の予圧にアンバラ
ンス(局部的な増減)が発生し、これによってXステー
ジ104に回転振動が発生するからである。このような
回転振動は特に位置決めを高速化するときの大きな障害
となる。また、同様の理由で、Y駆動シリンダ103に
よって発生されるY軸方向の駆動力がXステージ104
および保持盤106を含むYステージ102全体の重心
に作用するように設計する必要がある。
In the above moving stage apparatus, it is necessary to design so that the driving force in the X-axis direction by the X driving cylinder 105 acts on the center of gravity of the X stage 104. The reason is that if the center of gravity of the X stage 104 deviates from the action axis of the driving force of the X drive cylinder 105, the X stage 10
When the X stage 104 is tilted due to the rotation moment generated in No. 4, an imbalance (local increase / decrease) occurs in the preload of the above-mentioned hydrostatic bearing device, which causes rotational vibration in the X stage 104. Is. Such rotational vibration becomes a big obstacle especially when speeding up positioning. Further, for the same reason, the driving force in the Y-axis direction generated by the Y driving cylinder 103 is applied to the X stage 104.
It is necessary to design it so as to act on the center of gravity of the entire Y stage 102 including the holding board 106.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、X駆動シリンダによる
X軸方向の駆動力がXステージの重心に作用するように
設計すると、X駆動シリンダの取付位置やそのロッドの
Xステージに対する連結部等の配設位置が著しく制約さ
れ、移動ステージ装置全体の設計が困難になり、移動ス
テージ装置の製造コストの上昇を招く。Y駆動シリンダ
についても同様である。また、設計の段階でXステージ
やYステージの重心を正確に求めることも容易ではな
い。さらに、Xステージに前述のような回転振動が発生
したとき、図8に示すように、Xミラー106aによる
モニタ信号の検出位置すなわちXミラー106aの反射
点がX駆動シリンダ105の駆動力Fx の方向と逆向き
に移動する位置に配設されていると、X干渉計107a
によるモニタ信号のフィードバックによって前記回転振
動が増強され、Xステージ104の回転振動が一層大き
くなるおそれがある。Yステージについても同様であ
る。
However, according to the above-mentioned conventional technique, if the driving force in the X-axis direction by the X-driving cylinder acts on the center of gravity of the X-stage as described above, The mounting position and the disposition position of the connecting portion of the rod with respect to the X stage are significantly restricted, which makes it difficult to design the entire moving stage device and increases the manufacturing cost of the moving stage device. The same applies to the Y drive cylinder. Further, it is not easy to accurately determine the center of gravity of the X stage and the Y stage at the design stage. Further, when the rotational vibration as described above occurs in the X stage, as shown in FIG. 8, the detection position of the monitor signal by the X mirror 106a, that is, the reflection point of the X mirror 106a is the driving force F x of the X driving cylinder 105. If it is arranged in a position that moves in the opposite direction, the X interferometer 107a
The rotation vibration is enhanced by the feedback of the monitor signal due to, and the rotation vibration of the X stage 104 may be further increased. The same applies to the Y stage.

【0008】本発明は、上記従来の技術の有する問題点
に鑑みてなされたものであって、X駆動シリンダやY駆
動シリンダ等の駆動装置の駆動力がXステージやYステ
ージ等の移動台の重心に作用するように設計されていな
くても、移動台に大きな回転振動が発生するのを避ける
ことができる移動ステージ装置を提供することを目的と
するものである。
The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, in which the driving force of a driving device such as an X driving cylinder or a Y driving cylinder is applied to a moving table such as an X stage or a Y stage. It is an object of the present invention to provide a moving stage device that can avoid generation of large rotational vibrations on a moving table even if it is not designed to act on the center of gravity.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の移動ステージ装置は、静圧軸受手段によっ
て案内面に非接触で支持された移動台と、該移動台を前
記案内面に沿って所定の軸方向に移動させる駆動手段
と、前記移動台の移動量を検出する検出手段と、その出
力に基づいて前記駆動手段を制御する制御手段を有し、
前記検出手段が、前記移動台の重心を通り前記案内面に
平行である平面に対して前記駆動手段の駆動力の作用軸
と同じ側で前記移動台の移動量を検出するように構成さ
れていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the moving stage device of the present invention is a moving stage supported by a static pressure bearing means in a non-contact manner on a guide surface, and the moving stage is provided with the guide surface. Drive means for moving in a predetermined axial direction along with, detection means for detecting the amount of movement of the moving table, and control means for controlling the drive means based on the output thereof,
The detection means is configured to detect the amount of movement of the movable table on the same side as the axis of action of the driving force of the driving means with respect to a plane that passes through the center of gravity of the movable table and is parallel to the guide surface. It is characterized by being

【0010】[0010]

【作用】上記装置によれば、検出手段が、移動台の重心
を通り案内面に平行な平面に対して駆動手段の駆動力の
作用軸と同じ側で移動台の移動量を検出するため、検出
手段が検出する移動量の方向は駆動力と同じである。駆
動力の作用軸が移動台の重心からずれていると、回転モ
ーメントが発生し、そのために移動台が傾斜し、静圧軸
受手段の予圧にアンバランスが発生して移動台が回転振
動を起す傾向があるが、このとき、検出手段によって移
動台の移動量を検出し、その出力を駆動手段に負帰還す
ることで、前記回転振動を速やかに減衰させることがで
きる。従って、駆動力の作用軸が移動台の重心からずれ
ていても大きな回転振動を発生するおそれはない。
According to the above apparatus, since the detecting means detects the moving amount of the moving table on the same side as the axis of action of the driving force of the driving means with respect to the plane passing through the center of gravity of the moving table and parallel to the guide surface, The direction of the movement amount detected by the detection means is the same as the driving force. When the action axis of the driving force is deviated from the center of gravity of the moving table, a rotational moment is generated, which causes the moving table to tilt, causing an imbalance in the preload of the hydrostatic bearing means and causing the rotational vibration of the moving table. Although there is a tendency, at this time, the rotational vibration can be rapidly attenuated by detecting the amount of movement of the movable table by the detecting means and negatively feeding back the output thereof to the driving means. Therefore, even if the axis of action of the driving force is deviated from the center of gravity of the moving table, there is no possibility of generating large rotational vibration.

【0011】[0011]

【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0012】図1は第1実施例を示す斜視図であって、
本実施例の移動ステージ装置E−1は、水平な案内面1
aを有するベース1と、ベース1と一体的に設けられた
第2の案内面である一対のYガイド部材1b,1cの案
内面に沿って水平面内で直交する2軸の一方(以下、
「Y軸」という。)の方向に往復移動自在である移動台
であるYステージ2と、これをY軸方向に移動させる駆
動手段であるY駆動シリンダ3と、Yステージ2と一体
的に設けられた第2の案内面である一対のXガイド部材
2a,2bの案内面に沿ってYステージ2の案内面2c
上を前記2軸の他方(以下、「X軸」という。)の方向
に往復移動自在である移動台であるXステージ4と、こ
れをX軸方向に移動させる駆動手段であるX駆動シリン
ダ5と、Xステージに支持された保持盤6からなり、保
持盤6は真空吸着力によってウエハW1 を吸着する。な
お、各Yガイド部材1b,1cの案内面および各Xガイ
ド部材2a,2bの案内面はベース1の案内面1aに垂
直であり、Yステージ2の案内面2cはこれと平行であ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment,
The moving stage device E-1 of the present embodiment has a horizontal guide surface 1
One of the two axes orthogonal to each other in the horizontal plane along the guide surface of the base 1 having a and the pair of Y guide members 1b and 1c that are the second guide surfaces integrally provided with the base 1 (hereinafter,
It is called "Y-axis". ), A Y stage 2 that is a movable table that is reciprocally movable, a Y drive cylinder 3 that is a drive unit that moves the Y stage 2 in the Y axis direction, and a second guide integrally provided with the Y stage 2. The guide surface 2c of the Y stage 2 along the guide surfaces of the pair of X guide members 2a and 2b, which are the surfaces.
An X stage 4, which is a movable table, which is reciprocally movable in the other direction of the two axes (hereinafter, referred to as "X axis"), and an X drive cylinder 5 which is a drive unit for moving the X stage in the X axis direction. And a holding plate 6 supported by the X stage. The holding plate 6 sucks the wafer W 1 by a vacuum suction force. The guide surface of each Y guide member 1b, 1c and the guide surface of each X guide member 2a, 2b are perpendicular to the guide surface 1a of the base 1, and the guide surface 2c of the Y stage 2 is parallel to this.

【0013】Yステージ2は図示しない静圧軸受手段に
よってベース1の案内面1aおよび各Yガイド部材1
b,1cの案内面にそれぞれに非接触に支持され、同様
に、Xステージ4も図示しない静圧軸受手段によってY
ステージ2の案内面2cと各Xガイド部材2a,2bの
案内面にそれぞれ非接触に支持される。
The Y stage 2 has a guide surface 1a of the base 1 and each Y guide member 1 by means of static pressure bearing means (not shown).
b and 1c are respectively supported in a non-contact manner on the guide surfaces, and similarly, the X stage 4 is also supported by a static pressure bearing means (not shown) in the Y direction.
The guide surface 2c of the stage 2 and the guide surfaces of the X guide members 2a and 2b are supported in a non-contact manner.

【0014】ベース1はY軸方向にのびるYスケール1
dを有し、Yステージ2に取付けられた検出手段である
Y位置センサ7は、Yスケール1d上を摺動してYステ
ージ2のY軸方向の移動量を検出する。またYステージ
2はX軸方向にのびるXスケール2dを有し、Xステー
ジ4に取付けられた検出手段であるX位置センサ8は、
Xスケール2d上を摺動してXステージ4のX軸方向の
移動量を検出する。
The base 1 is a Y scale 1 extending in the Y axis direction.
The Y position sensor 7, which has d and is a detection means attached to the Y stage 2, slides on the Y scale 1d to detect the amount of movement of the Y stage 2 in the Y axis direction. Further, the Y stage 2 has an X scale 2d extending in the X axis direction, and the X position sensor 8 which is a detection means attached to the X stage 4 is
The amount of movement of the X stage 4 in the X axis direction is detected by sliding on the X scale 2d.

【0015】X位置センサ8のXステージ4に対する取
付位置は、図2に示すように、Xステージ4の重心G1
を通りYステージ2の案内面2cに平行な平面(XY平
面)およびXステージ4の重心G1 を通りXガイド部材
2a,2bの案内面に平行な平面(XZ平面)のそれぞ
れに対して、X駆動シリンダ5の駆動力Fx の作用軸と
同じ側に設けられる。X位置センサ8の出力はX駆動シ
リンダ5の制御手段である制御装置にフィードバック
(負帰還)されて、X駆動シリンダ5を制御する。Xス
テージ4に前記静圧軸受手段の予圧のアンバランスによ
ってZ軸のまわりの回転モーメントが発生しても、図3
に示すように、X位置センサ8がXZ平面に対してX駆
動シリンダ5の駆動力Fx の作用軸と同じ側にあるた
め、X位置センサ8によって検出されるXステージ4の
移動量はX駆動シリンダ5の駆動力と同じ方向であり、
従ってX位置セン8の出力をフィードバックしてX駆動
シリンダ5を制御すれば、前記回転モーメントによる回
転振動をX駆動シリンダ5の駆動力Fx によって減衰さ
せることができる。Xステージ4にY軸のまわりの回転
モーメントが発生したときも、前述のようにX位置セン
サ8がXY平面に対してX駆動シリンダ5の駆動力Fx
の作用軸と同じ側にあるため、X位置センサ8の出力を
フィードバックすることで回転振動を減衰させることが
できる。すなわち、Xステージ4の重心G1 がX駆動シ
リンダ5の駆動力Fx の作用軸からずれていても、モニ
タ信号を発生するX位置センサ8が上記の位置に取付け
られていれば、大きな回転振動を発生するおそれはな
い。
The mounting position of the X position sensor 8 on the X stage 4 is, as shown in FIG. 2, the center of gravity G 1 of the X stage 4.
To a plane parallel to the guide surface 2c of the Y stage 2 (XY plane) and a plane parallel to the guide surface of the X guide members 2a and 2b (XZ plane) that passes through the center of gravity G 1 of the X stage 4. It is provided on the same side as the axis of action of the driving force F x of the X drive cylinder 5. The output of the X position sensor 8 is fed back (negative feedback) to the control device which is the control means of the X drive cylinder 5 to control the X drive cylinder 5. Even if a rotational moment about the Z axis is generated in the X stage 4 due to the imbalance of the preload of the hydrostatic bearing means,
Since the X position sensor 8 is on the same side of the XZ plane as the acting axis of the driving force F x of the X drive cylinder 5 as shown in Fig. 5, the movement amount of the X stage 4 detected by the X position sensor 8 is X. In the same direction as the driving force of the drive cylinder 5,
Therefore, if the output of the X position sensor 8 is fed back to control the X drive cylinder 5, the rotational vibration due to the rotation moment can be attenuated by the drive force F x of the X drive cylinder 5. Even when a rotational moment about the Y axis is generated in the X stage 4, the X position sensor 8 causes the driving force F x of the X driving cylinder 5 with respect to the XY plane as described above.
Since it is on the same side as the action axis of, the rotational vibration can be damped by feeding back the output of the X position sensor 8. That is, even if the center of gravity G 1 of the X stage 4 is deviated from the axis of action of the driving force F x of the X driving cylinder 5, if the X position sensor 8 for generating the monitor signal is attached at the above position, a large rotation is generated. There is no risk of vibration.

【0016】また、Y位置センサ7のYステージ2に対
する取付位置も、図4に示すように、Yステージ2の重
心G2 を通りベース1の案内面1aに平行な平面(XY
平面)およびYステージ2の重心G2 を通りYガイド部
材1b,1cの案内面に平行な平面(YZ平面)に対し
て、Y駆動シリンダ3の駆動力Fy の作用軸と同じ側に
設けられる。Y位置センサ7の出力をY駆動シリンダ3
の制御手段である制御装置にフィードバックすれば、前
述と同様にYステージ2の回転振動を防ぐことができ
る。
Further, as shown in FIG. 4, the mounting position of the Y position sensor 7 with respect to the Y stage 2 is also a plane (XY which passes through the center of gravity G 2 of the Y stage 2 and is parallel to the guide surface 1a of the base 1).
And a plane (YZ plane) that passes through the center of gravity G 2 of the Y stage 2 and is parallel to the guide surfaces of the Y guide members 1b and 1c, and is provided on the same side as the action axis of the driving force F y of the Y drive cylinder 3. To be The output of the Y position sensor 7 is used as the Y drive cylinder 3
By feeding back to the control device, which is the control means, the rotational vibration of the Y stage 2 can be prevented as described above.

【0017】本実施例によれば、位置センサの取付位置
を前述のように限定するだけでXステージおよびYステ
ージの回転振動を防ぐことができるため、両ステージの
重心がこれを移動させる駆動力の作用軸上にある必要は
ない。従って、防振のために移動ステージ装置の設計が
複雑化することなく、その結果、位置決めの高速化を促
進できるうえに製造コストの低い移動ステージ装置を実
現できる。
According to this embodiment, the rotational vibration of the X stage and the Y stage can be prevented only by limiting the mounting position of the position sensor as described above, so that the center of gravity of both stages moves the driving force. Need not be on the axis of action of. Therefore, the design of the moving stage device does not become complicated due to the vibration isolation, and as a result, it is possible to realize the moving stage device which can accelerate the positioning speed and have a low manufacturing cost.

【0018】図5は第2実施例を示すもので、本実施例
の移動ステージ装置E−2は、第1実施例のYスケール
1dとY位置センサ7の替わりに、Y駆動シリンダ3の
ロッドと同軸上に設けられたYミラー11dとその反射
光を受光するY干渉計17を用いるとともに、第1実施
例のXスケール2dとX位置センサ8の替わりに、X駆
動シリンダ5のロッドと同軸上に設けられたXミラー1
2dとその反射光を受光するX干渉計18を用いたもの
である。ベース1、Yステージ2、Y駆動シリンダ3、
Xステージ4、X駆動シリンダ5、保持盤6等について
は第1実施例と同じであるので、同一符号で表わし、説
明は省略する。X干渉計18によって受光された反射光
の一部分は、ベース1に固定されたリファランスミラー
19に照射され、再びX干渉計18に向って反射され
る。これによって、Yガイド部材1b,1cに対するY
ステージ2のX軸方向の微動位置ずれ等をモニタするこ
とができる。また、保持盤6はこれと一体であるL形ミ
ラー16を有し、L形ミラー16によって反射されたレ
ーザ光を図示しない干渉計によって検出することで、保
持盤6の最終位置を直接モニタすることができる。本実
施例は、Y駆動シリンダ3およびX駆動シリンダ5のそ
れぞれの駆動力の作用軸上にYミラー11dおよびXミ
ラー12dが配設されているため、より一層正確なモニ
タ信号をフィードバックできる。その他の点は第1実施
例と同様であるので説明は省略する。
FIG. 5 shows a second embodiment. The moving stage device E-2 of this embodiment is different from the Y scale 1d and the Y position sensor 7 of the first embodiment in that the rod of the Y drive cylinder 3 is used. A Y mirror 11d and a Y interferometer 17 that receives the reflected light are used coaxially with the X scale 2d and the X position sensor 8 of the first embodiment. X mirror 1 provided above
2d and an X interferometer 18 for receiving the reflected light thereof are used. Base 1, Y stage 2, Y drive cylinder 3,
The X stage 4, the X drive cylinder 5, the holding plate 6 and the like are the same as those in the first embodiment, and are therefore denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. A part of the reflected light received by the X interferometer 18 is irradiated on the reference mirror 19 fixed to the base 1, and is reflected toward the X interferometer 18 again. As a result, Y for the Y guide members 1b and 1c
It is possible to monitor the displacement of the stage 2 in the X-axis direction. Further, the holding board 6 has an L-shaped mirror 16 integrated with the holding board 6, and the laser beam reflected by the L-shaped mirror 16 is detected by an interferometer (not shown) to directly monitor the final position of the holding board 6. be able to. In this embodiment, since the Y mirror 11d and the X mirror 12d are arranged on the action axes of the driving forces of the Y drive cylinder 3 and the X drive cylinder 5, respectively, a more accurate monitor signal can be fed back. Since the other points are the same as those in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

【0019】図6は第2実施例の一変形例を示すもの
で、これは、第1および第2実施例の保持盤6と同様の
保持盤26にその傾斜角度を微調節するチルト機構26
aを設けるとともに、チルト機構26aによる微調節後
の保持盤26の傾斜角度を保持盤26と一体であるL形
ミラー36によって反射されたレーザ光によってモニタ
するXチルト干渉計28とYチルト干渉計27を設け、
両者の出力を、図7に示すように、X駆動シリンダ5と
Y駆動シリンダ3のそれぞれの制御手段である制御装置
1 ,C2 にフィードバックするように構成したもので
ある。図7の制御回路は、所定の指令信号を制御装置C
1 またはC2 に送信する指令ラインDと、X干渉計18
またはY干渉計17の出力を負帰還する第1のフィード
バックラインL1 と、Xチルト干渉計28またはYチル
ト干渉計27の出力を第1のフィードバックラインL1
より上流側に負帰還する第2のフィードバッグラインL
2 からなり、X駆動シリンダ5およびY駆動シリンダ3
は、それぞれ、前記指令信号と、第1および第2のフィ
ードバックラインL1 ,L2 によって負帰還されるモニ
タ信号に基づいてXステージ4およびYステージ2を移
動させる。
FIG. 6 shows a modification of the second embodiment, in which a holding plate 26 similar to the holding plates 6 of the first and second embodiments is provided with a tilt mechanism 26 for finely adjusting the tilt angle.
In addition, the X tilt interferometer 28 and the Y tilt interferometer monitor the tilt angle of the holding plate 26 after the fine adjustment by the tilt mechanism 26a by the laser light reflected by the L-shaped mirror 36 integrated with the holding plate 26. 27 is provided,
As shown in FIG. 7, the outputs of both of them are configured to be fed back to the control devices C 1 and C 2 which are the control means of the X drive cylinder 5 and the Y drive cylinder 3, respectively. The control circuit of FIG. 7 sends a predetermined command signal to the control device C.
Command line D sent to 1 or C 2 and X interferometer 18
Alternatively, the first feedback line L 1 for negatively feeding back the output of the Y interferometer 17 and the output of the X tilt interferometer 28 or the Y tilt interferometer 27 may be used as the first feedback line L 1.
The second feed bag line L that feeds back negatively to the upstream side
2 consists of X drive cylinder 5 and Y drive cylinder 3
Respectively move the X stage 4 and the Y stage 2 based on the command signal and the monitor signals negatively fed back by the first and second feedback lines L 1 and L 2 .

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明は、上述のように構成されている
ので、以下に記載するような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0021】X駆動シリンダやY駆動シリンダ等の駆動
装置の駆動力がXステージやYステージ等の移動台の重
心に作用するように設計されていなくても、移動台に大
きな回転振動が発生するのを避けることができる。その
結果、高速位置決めに適しており、しかも設計が簡単で
製造コストの低い移動ステージ装置を実現できる。
Even if the driving force of the driving device such as the X driving cylinder or the Y driving cylinder is not designed to act on the center of gravity of the moving stage such as the X stage or the Y stage, a large rotational vibration occurs in the moving stage. Can be avoided. As a result, it is possible to realize a moving stage device that is suitable for high-speed positioning, has a simple design, and is inexpensive to manufacture.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment.

【図2】第1実施例のX駆動シリンダによる駆動力の作
用軸と、Xステージの重心とX位置センサの関係を説明
する説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating a relationship between an action axis of a driving force by an X drive cylinder, a center of gravity of an X stage, and an X position sensor according to the first embodiment.

【図3】Xステージに回転モーメントが発生した状態を
説明する説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating a state in which a rotational moment is generated on the X stage.

【図4】第1実施例のY駆動シリンダによる駆動力の作
用軸と、Yステージの重心とY位置センサの関係を説明
する説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating a relationship between an acting axis of a driving force by a Y driving cylinder, a center of gravity of a Y stage, and a Y position sensor according to the first embodiment.

【図5】第2実施例を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a second embodiment.

【図6】第2実施例の一変形例を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a modification of the second embodiment.

【図7】図6の装置の制御回路を説明する説明図であ
る。
7 is an explanatory diagram illustrating a control circuit of the device in FIG.

【図8】従来例においてXステージに回転モーメントが
発生した状態を説明する説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating a state in which a rotational moment is generated in the X stage in the conventional example.

【図9】従来例を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ベース 1d Yスケール 2 Yステージ 2d Xスケール 3 Y駆動シリンダ 4 Xステージ 5 X駆動シリンダ 6,26 保持盤 7 Y位置センサ 8 X位置センサ 11d Yミラー 12d Xミラー 17 Y干渉計 18 X干渉計 1 Base 1d Y Scale 2 Y Stage 2d X Scale 3 Y Drive Cylinder 4 X Stage 5 X Drive Cylinder 6,26 Holding Board 7 Y Position Sensor 8 X Position Sensor 11d Y Mirror 12d X Mirror 17 Y Interferometer 18 X Interferometer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 静圧軸受手段によって案内面に非接触で
支持された移動台と、該移動台を前記案内面に沿って所
定の軸方向に移動させる駆動手段と、前記移動台の移動
量を検出する検出手段と、その出力に基づいて前記駆動
手段を制御する制御手段を有し、前記検出手段が、前記
移動台の重心を通り前記案内面に平行である平面に対し
て前記駆動手段の駆動力の作用軸と同じ側で前記移動台
の移動量を検出するように構成されていることを特徴と
する移動ステージ装置。
1. A movable table supported by a hydrostatic bearing means in a non-contact manner on a guide surface, a driving means for moving the movable table in a predetermined axial direction along the guide surface, and a movement amount of the movable table. And a control means for controlling the driving means on the basis of the output thereof, the detection means driving the driving means with respect to a plane passing through the center of gravity of the movable table and parallel to the guide surface. The moving stage apparatus is configured to detect the moving amount of the moving table on the same side as the action axis of the driving force of the moving stage.
【請求項2】 移動台が、第2の静圧軸受手段によって
第2の案内面に非接触で支持されており、検出手段が、
前記移動台の重心を通り前記第2の案内面に平行である
第2の平面に対して駆動手段の作用軸と同じ側で前記移
動台の移動量を検出するように構成されていることを特
徴とする請求項1記載の移動ステージ装置。
2. The moving table is supported by the second hydrostatic bearing means on the second guide surface in a non-contact manner, and the detecting means is
It is configured to detect the amount of movement of the movable table on the same side as the working axis of the driving means with respect to a second plane that passes through the center of gravity of the movable table and is parallel to the second guide surface. The movable stage apparatus according to claim 1, wherein the movable stage apparatus is a movable stage apparatus.
【請求項3】 検出手段が、駆動力の作用軸上またはこ
れに近接して設けられた位置センサを有することを特徴
とする請求項1または2記載の移動ステージ装置。
3. The moving stage apparatus according to claim 1, wherein the detecting means has a position sensor provided on or near the action axis of the driving force.
【請求項4】 検出手段が、駆動力の作用軸上またはこ
れに近接して設けられたミラーと、その反射光を受光す
る干渉計を有することを特徴とする請求項1または2記
載の移動ステージ装置。
4. The movement according to claim 1, wherein the detection means has a mirror provided on or near the axis of action of the driving force, and an interferometer for receiving the reflected light thereof. Stage device.
JP28180193A 1993-10-15 1993-10-15 Moving stage device Pending JPH07115054A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28180193A JPH07115054A (en) 1993-10-15 1993-10-15 Moving stage device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28180193A JPH07115054A (en) 1993-10-15 1993-10-15 Moving stage device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07115054A true JPH07115054A (en) 1995-05-02

Family

ID=17644175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28180193A Pending JPH07115054A (en) 1993-10-15 1993-10-15 Moving stage device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07115054A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005048325A1 (en) * 2003-11-17 2005-05-26 Nikon Corporation Stage drive method, stage apparatus, and exposure apparatus
WO2020038661A1 (en) * 2018-08-23 2020-02-27 Asml Netherlands B.V. Substrate support, lithographic apparatus, substrate inspection apparatus, device manufacturing method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005048325A1 (en) * 2003-11-17 2005-05-26 Nikon Corporation Stage drive method, stage apparatus, and exposure apparatus
WO2020038661A1 (en) * 2018-08-23 2020-02-27 Asml Netherlands B.V. Substrate support, lithographic apparatus, substrate inspection apparatus, device manufacturing method
US11156924B2 (en) 2018-08-23 2021-10-26 Asml Netherlands B.V. Substrate support, lithographic apparatus, substrate inspection apparatus, device manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100436323B1 (en) Stage apparatus and exposure apparatus provided with the stage apparatus
JP4338223B2 (en) Two-dimensionally balanced positioning device and lithographic apparatus provided with such a positioning device
EP0772801B1 (en) A positioning device with a reference frame for a measuring system
TW497147B (en) Stage device and exposure apparatus
US8319143B2 (en) Laser processing apparatus
EP0109718A1 (en) Displacement device, particularly for the photolithographic treatment of a substrate
EP0527739A1 (en) Servo guided stage system.
EP2708843B1 (en) Shape measuring apparatus
JPH07254555A (en) Aligner
JP2003197518A (en) Exposure system and exposure method
JPH06252034A (en) Electromagnetic alignment device
JP2001238485A (en) Stage equipment
JPH07115054A (en) Moving stage device
JP2001317933A (en) Shape-measuring apparatus
US5714860A (en) Stage device capable of applying a damping force to a movable member
JPH09312255A (en) Aligner
JPH05259263A (en) Xy fine-moving stage
JP2952166B2 (en) Portal drive
JPH07115053A (en) Moving stage device
JPH05134753A (en) Positioning device
JP2000182931A (en) Aligner
JPH08241849A (en) Aligner
JPH08292814A (en) Positioning device
JPH0536582A (en) Positioning stage apparatus
JPH10144601A (en) Command value determining method and stage device