JPH07108938B2 - Disc substrate made of polycarbonate - Google Patents

Disc substrate made of polycarbonate

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JPH07108938B2
JPH07108938B2 JP62150101A JP15010187A JPH07108938B2 JP H07108938 B2 JPH07108938 B2 JP H07108938B2 JP 62150101 A JP62150101 A JP 62150101A JP 15010187 A JP15010187 A JP 15010187A JP H07108938 B2 JPH07108938 B2 JP H07108938B2
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polycarbonate
acetone
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less
impurities
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元信 江副
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はポリカーボネートを素材とするディスク基板に
関し、詳しくは不純物の含有量が極めて少ない高純度の
ポリカーボネートを素材とする有用なディスク基板に関
する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a disk substrate made of polycarbonate, and more particularly to a useful disk substrate made of high-purity polycarbonate having an extremely low content of impurities.

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be Solved by Prior Art and Invention]

一般に、ポリカーボネートは光ディスクや磁気ディスク
等のディスク基板の素材として利用されている。
In general, polycarbonate is used as a material for disk substrates such as optical disks and magnetic disks.

しかし、このポリカーボネートは、ディスク基板として
成形使用するにあたって、この基板と記録膜との密着
性が不充分である、記録膜中に存在する鉄,ガリウ
ム,テルビウム等の金属が徐々に腐食を受ける、あるい
は成形時に金型が腐食を受けるため、スタンパー寿命
が短くなる等様々な問題があった。
However, when this polycarbonate is molded and used as a disk substrate, the adhesion between the substrate and the recording film is insufficient, and metals such as iron, gallium, and terbium present in the recording film are gradually corroded. Alternatively, since the mold is corroded during molding, there have been various problems such as shortening the stamper life.

そこで本発明者らは、ポリカーボネートをディスク基板
として使用するにあたっての上記の如き問題を解消すべ
く種々の検討を重ねたところ、従来のポリカーボネー
ト、特にホスゲン法によって得られるポリカーボネート
には、未反応原料や用いた溶媒あるいは低分子量成分が
不純物として含有されており、このような不純物が上述
した様々な問題を引き起こす大きな原因になっているこ
とが判明した。
Therefore, the present inventors have made various investigations to solve the above problems in using polycarbonate as a disk substrate, and the conventional polycarbonate, particularly the polycarbonate obtained by the phosgene method, has unreacted raw materials and It was found that the used solvent or low molecular weight component was contained as an impurity, and such an impurity was a major cause of the above-mentioned various problems.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明者らは、このような知見に基いてさらに研究を続
けたところ、これら不純物を含有するポリカーボネート
をアセトン等の有機溶剤で処理すると、不純物含量が極
めて少なく高純度のポリカーボネートとなり、これが上
述した問題をすべて解消し、ディスク基板として非常に
すぐれた性能を発揮することを見出した。
The present inventors continued their research based on such findings, and when a polycarbonate containing these impurities was treated with an organic solvent such as acetone, a highly pure polycarbonate with an extremely small amount of impurities was obtained. We have found that it solves all the problems and exhibits excellent performance as a disk substrate.

本発明はかかる過程を経て完成したものであり、その要
旨は不純物の含有量がアセトン溶媒ソックスレー抽出低
分子量成分2重量%以下,未反応ビスフェノール類20pp
m以下および塩化メチレン15ppm以下であるポリカーボネ
ートを用いることを特徴とするポリカーボネートを素材
とするディスク基板である。
The present invention has been completed through such processes, and the gist thereof is that the content of impurities is 2 wt% or less of low molecular weight components extracted by Soxhlet in acetone solvent, and 20 pp of unreacted bisphenols.
A disk substrate made of polycarbonate, characterized by using polycarbonate having m or less and methylene chloride of 15 ppm or less.

本発明で用いるポリカーボネートは、従来のポリカーボ
ネートに比べて不純物の含有量が少なく、純度の高いも
のである。一般に、従来のポリカーボネートには様々な
不純物が含有されているが、特にアセトン溶媒ソックス
レー抽出低分子量成分(ポリカーボネートオリゴマーな
ど)や未反応ビスフェノール類(ビスフェノールAな
ど)あるいは溶媒として用いた塩化メチレンが多く、ま
たこれらの不純物はポリカーボネートをディスク基板に
用いたときに、前述した如き種々の問題を引き起こす。
The polycarbonate used in the present invention has a smaller content of impurities and a higher purity than conventional polycarbonates. In general, conventional polycarbonates contain various impurities, but especially a lot of low molecular weight components such as acetone solvent Soxhlet extraction (polycarbonate oligomers), unreacted bisphenols (bisphenol A etc.) or methylene chloride used as a solvent, Further, these impurities cause various problems as described above when polycarbonate is used for the disk substrate.

本発明で用いるポリカーボネートは、上述した不純物の
含有量はいずれも少なく、アセトン溶媒ソックスレー抽
出低分子量成分は2重量%以下であり、未反応ビスフェ
ノール類は20ppm以下、好ましくは10ppm以下であって、
また塩化メチレンは15ppm以下である。
The polycarbonate used in the present invention has a low content of any of the above-mentioned impurities, an acetone solvent Soxhlet extraction low molecular weight component is 2% by weight or less, unreacted bisphenols is 20 ppm or less, preferably 10 ppm or less,
Methylene chloride content is 15 ppm or less.

ここで、アセトン溶媒ソックスレー抽出低分子量成分が
2重量%を越えたり、あるいは未反応ビスフェノール類
が20ppmを越えると、ディスク基板と記録膜との接着性
が低下する。さらに、塩化メチレンが15ppmを越える
と、記録膜が腐食を受けやすくなり、また成形時に金型
が腐食を受けるためスタンパー寿命も短くなる。なお、
上記アセトン溶媒ソックスレー抽出低分子量成分の含有
量は、後述するように対象とするポリカーボネートをア
セトンを溶媒としてソックスレー抽出された成分の割合
を意味する。
Here, if the low molecular weight component extracted with Soxhlet in acetone solvent exceeds 2% by weight or the amount of unreacted bisphenols exceeds 20 ppm, the adhesiveness between the disk substrate and the recording film deteriorates. Further, when the content of methylene chloride exceeds 15 ppm, the recording film is easily corroded, and the die is corroded at the time of molding, which shortens the stamper life. In addition,
The content of the low-molecular-weight component extracted by Soxhlet in acetone solvent means the ratio of the component extracted by Soxhlet using acetone as a solvent for the target polycarbonate, as described below.

本発明で用いるポリカーボネートは、様々な手法によっ
て得ることが可能であるが、通常は各種方法で得られた
不純物を含有する粉末状ポリカーボネートをアセトン等
の有機溶媒で抽出処理することによって得られる。
The polycarbonate used in the present invention can be obtained by various methods, but it is usually obtained by subjecting powdered polycarbonate containing impurities obtained by various methods to extraction treatment with an organic solvent such as acetone.

この不純物を含有する粉末状ポリカーボネートを製造す
る方法としては、特に制限はないが、通常はホスゲン
法、特にビスフェノールA等のビスフェノール類とホス
ゲンを原料とし、塩化メチレンを溶媒とする界面重縮合
法、とりわけ連続界面重縮合法をあげることができる。
そのほか、エステル交換法やホスゲン法のうちのピリジ
ンを溶媒とする所謂ピリジン重合法をあげることもでき
る。
The method for producing a powdery polycarbonate containing the impurities is not particularly limited, but is usually a phosgene method, particularly an interfacial polycondensation method using bisphenols such as bisphenol A and phosgene as raw materials and methylene chloride as a solvent, In particular, the continuous interfacial polycondensation method can be mentioned.
In addition, a so-called pyridine polymerization method using pyridine as a solvent among the transesterification method and the phosgene method can be mentioned.

上記の粉末状ポリカーボネートとは、厳密な意味での粉
末状のものに限定するわけではなく、フレーク状等のも
のをも包含する。つまり、ホスゲン法やエステル交換法
で得られる粉末状,粒状,フレーク状等のポリカーボネ
ートであって、ペレット化する前のものすべてを包含す
る。
The above-mentioned powdery polycarbonate is not limited to a powdery one in a strict sense, and includes a flake-like one and the like. That is, it includes all powdery, granular, and flake-like polycarbonates obtained by the phosgene method or the transesterification method and before being pelletized.

たとえば、上述の連続界面重縮合により得られる粉末状
ポリカーボネートは、通常はフレーク状であって、不純
物としてポリカーボネートのオリゴマー等の低分子量成
分を4〜8重量%,ビスフェノールA等の未反応ビスフ
ェノール類を70〜150ppmおよび溶媒として用いた塩化メ
チレンを50〜150ppm程度含有している。
For example, the powdery polycarbonate obtained by the above-mentioned continuous interfacial polycondensation is usually in a flake form, and contains 4 to 8% by weight of low molecular weight components such as oligomers of polycarbonate and unreacted bisphenols such as bisphenol A as impurities. It contains 70 to 150 ppm and about 50 to 150 ppm of methylene chloride used as a solvent.

本発明で用いるポリカーボネートは、このような不純物
を含有する粉末状ポリカーボネートを、アセトン,メチ
ルエチルケトンなどのケトン類,トルエン,キシレンな
どのポリカーボネートに対しては弱い沈澱効果があると
されている有機溶媒にて抽出処理することによって得ら
れる。抽出処理にあたっては、上記有機溶媒を粉末状ポ
リカーボネートの0.5〜20倍量の範囲で使用し、温度を4
0℃以上、用いる有機溶媒の沸点以下の範囲に設定する
ことが好ましい。なお、この抽出処理は、通常は常圧下
で行うが、加圧下で行うことも可能である。また、抽出
処理に使用する有機溶媒としては、特にアセトンが好適
である。
The polycarbonate used in the present invention is a powdered polycarbonate containing such impurities in an organic solvent which is said to have a weak precipitation effect on ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and polycarbonate such as toluene and xylene. It is obtained by extraction processing. In the extraction treatment, the above organic solvent was used in an amount in the range of 0.5 to 20 times that of the powdered polycarbonate, and the temperature was adjusted to 4
It is preferably set in the range of 0 ° C. or higher and the boiling point of the organic solvent used or less. The extraction process is usually performed under normal pressure, but it may be performed under pressure. Acetone is particularly suitable as the organic solvent used in the extraction treatment.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳しく
説明する。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例1 アセトン溶媒ソックスレー抽出低分子量成分(以下、低
分子量成分という)4重量%,未反応ビスフェノールA1
00ppmおよび塩化メチレン100ppmを含有するフレーク状
のポリカーボネート100kgに、アセトン225kgを加えて50
℃で1時間攪拌して接触処理(抽出処理)を行った。
Example 1 Soxhlet extraction with acetone solvent Low molecular weight component (hereinafter referred to as low molecular weight component) 4% by weight, unreacted bisphenol A1
To 100 kg of flaky polycarbonate containing 00 ppm and 100 ppm of methylene chloride, 225 kg of acetone was added to obtain 50
Contact treatment (extraction treatment) was carried out by stirring at 1 ° C for 1 hour.

その後、アセトンを除去し、120℃,30〜1mmHgの減圧下
で20時間乾燥した。得られたフレーク状のポリカーボネ
ート中の不純物含量は第1表の通りであった。
Then, acetone was removed, and the product was dried at 120 ° C. under a reduced pressure of 30 to 1 mmHg for 20 hours. The content of impurities in the obtained flaky polycarbonate was as shown in Table 1.

次に、このフレーク状のポリカーボネートにリン系酸化
防止剤4ppm(リン換算)および脂肪族エステル200ppmを
添加した後に、押出機でペレット化し、射出成形機で直
径13cmのディスク基板を成形した。この際、ディスクの
射出成形で5000ショット後の金型鏡面のくもり度合いを
目視観察して、これをスタンパー寿命として評価した。
結果を第1表に示す。
Next, 4 ppm of phosphorus-based antioxidant (phosphorus equivalent) and 200 ppm of aliphatic ester were added to the flaky polycarbonate, and then pelletized by an extruder, and a disk substrate having a diameter of 13 cm was molded by an injection molding machine. At this time, the degree of haze on the mirror surface of the die after 5000 shots in disk injection molding was visually observed and evaluated as the stamper life.
The results are shown in Table 1.

厚さ800Åの酸化珪素(SiOx)層/厚さ1000Åの金属(T
b,Fe,Co)層/厚さ800Åの酸化珪素(SiOx)層の三層構
造からなる光磁気膜を、スパッタリング法により上記デ
ィスク基板上に形成した。得られた光ディスクの性能
を、下記の如く接着性(光磁気膜と基板との接着性)お
よび腐食性のテストを行うことにより評価した。結果を
第1表に示す。
800 Å thick silicon oxide (SiO x ) layer / 1000 Å thick metal (T
A magneto-optical film having a three-layer structure of (b, Fe, Co) layer / 800 Å thick silicon oxide (SiO x ) layer was formed on the disk substrate by a sputtering method. The performance of the obtained optical disk was evaluated by conducting the adhesion (adhesion between the magneto-optical film and the substrate) and corrosiveness tests as described below. The results are shown in Table 1.

接着性テスト 上記光ディスクを、温度90℃,相対湿度90%の雰囲気下
に100時間放置後、セトハンテープによるゴバン目ピン
ホールテストを行い、次式に基いて接着性を表示した。
Adhesion test After the optical disc was left in an atmosphere of temperature 90 ° C and relative humidity 90% for 100 hours, a pinhole test using a sethan tape was performed, and the adhesion was displayed based on the following formula.

腐食性テスト 上記光ディスクを、温度60℃,相対湿度90%の雰囲気下
に300時間放置後、光学顕微鏡にて1000倍で250μm×20
0μmの視野中におけるピンホール腐食の数を測定し
た。
Corrosion test After leaving the above optical disc for 300 hours in an atmosphere of temperature 60 ° C and relative humidity 90%, it is 250μm × 20 at 1000 times with an optical microscope.
The number of pinhole corrosions in the 0 μm field of view was measured.

実施例2 実施例1において、アセトンによる抽出処理をアセトン
の沸点(約56.5℃)で行ったこと以外は、実施例1と同
様の操作を行った。結果を第1表に示す。
Example 2 The same operation as in Example 1 was performed, except that the extraction treatment with acetone was performed at the boiling point of acetone (about 56.5 ° C.). The results are shown in Table 1.

実施例3 実施例1において、アセトンによる抽出処理をアセトン
の沸点(約56.5℃)で30分間行ったこと以外は、実施例
1と同様の操作を行った。結果を第1表に示す。
Example 3 The same operation as in Example 1 was performed, except that the extraction treatment with acetone was performed at the boiling point of acetone (about 56.5 ° C.) for 30 minutes. The results are shown in Table 1.

実施例4 実施例1において、抽出処理をアセトンの代わりにトル
エンを使用して抽出処理を2回行い、トルエンを除去
後、40時間減圧下で乾燥したこと以外は、実施例1と同
様の操作を行った。結果を第1表に示す。
Example 4 The same operation as in Example 1 except that the extraction treatment was carried out twice using toluene instead of acetone in the same manner as in Example 1 and the toluene was removed, followed by drying under reduced pressure for 40 hours. I went. The results are shown in Table 1.

実施例5 実施例1において、抽出処理をアセトンの代わりにメチ
ルエチルケトンを使用して抽出処理を行い、メチルエチ
ルケトンを除去後、40時間減圧下で乾燥したこと以外
は、実施例1と同様の操作を行った。結果を第1表に示
す。
Example 5 The same operation as in Example 1 was carried out except that the extraction treatment was carried out by using methyl ethyl ketone instead of acetone in Example 1 and the methyl ethyl ketone was removed, followed by drying under reduced pressure for 40 hours. It was The results are shown in Table 1.

比較例1 実施例1において、アセトンによる抽出処理を行わなか
ったこと以外は、実施例1と同様の操作を行った。結果
を第1表に示す。
Comparative Example 1 The same operation as in Example 1 was performed except that the extraction treatment with acetone was not performed in Example 1. The results are shown in Table 1.

比較例2 実施例1において、アセトンによる抽出処理をアセトン
100kgを用いて25℃で行ったこと以外は、実施例1と同
様の操作を行った。結果を第1表に示す。
Comparative Example 2 In Example 1, the extraction treatment with acetone was performed using acetone.
The same operation as in Example 1 was performed except that 100 kg was used at 25 ° C. The results are shown in Table 1.

比較例3 実施例1において、ポリカーボネートとして低分子量成
分2重量%,未反応ビスフェノールA100ppmおよび塩化
メチレン100ppmを含有するフレーク状ポリカーボネート
を用いたこと及びアセトンによる抽出処理を行わなかっ
たこと以外は、実施例1と同様の操作を行った。結果を
第1表に示す。
Comparative Example 3 Example 1 was repeated except that a flaky polycarbonate containing 2% by weight of a low molecular weight component, 100 ppm of unreacted bisphenol A and 100 ppm of methylene chloride was used as the polycarbonate, and that extraction treatment with acetone was not performed. The same operation as in 1 was performed. The results are shown in Table 1.

比較例4 実施例1において、ポリカーボネートとして低分子量成
分8重量%,未反応ビスフェノールA10ppmおよび塩化メ
チレン10ppmを含有するフレーク状ポリカーボネートを
用いたこと及びアセトンによる抽出処理を行わなかった
こと以外は、実施例1と同様の操作を行った。結果を第
1表に示す。
Comparative Example 4 Example 1 was repeated except that a flaky polycarbonate containing 8% by weight of a low molecular weight component, 10 ppm of unreacted bisphenol A and 10 ppm of methylene chloride was used as the polycarbonate, and the extraction treatment with acetone was not performed. The same operation as in 1 was performed. The results are shown in Table 1.

比較例5 実施例1において、ポリカーボネートとして低分子量成
分2重量%,未反応ビスフェノールA10ppmおよび塩化メ
チレン100ppmを含有するフレーク状ポリカーボネートを
用いたこと及びアセトンによる抽出処理を行わなかった
こと以外は、実施例1と同様の操作を行った。結果を第
1表に示す。
Comparative Example 5 Example 1 was repeated except that a flaky polycarbonate containing 2% by weight of a low molecular weight component, 10 ppm of unreacted bisphenol A and 100 ppm of methylene chloride was used as the polycarbonate, and the extraction treatment with acetone was not performed. The same operation as in 1 was performed. The results are shown in Table 1.

比較例6 実施例1において、抽出処理をアセトンの代わりにヘキ
サンを用いたこと及び処理温度を40℃としたこと以外
は、実施例1と同様の操作を行った。結果を第1表に示
す。
Comparative Example 6 The same operation as in Example 1 was carried out except that in Example 1, hexane was used instead of acetone in the extraction treatment, and the treatment temperature was 40 ° C. The results are shown in Table 1.

比較例7 実施例1において、抽出処理をアセトンの代わりにメタ
ノールを用いたこと及び処理温度を40℃としたこと以外
は、実施例1と同様の操作を行った。結果を第1表に示
す。
Comparative Example 7 The same operation as in Example 1 was carried out except that in Example 1, the extraction process was performed using methanol instead of acetone, and the processing temperature was 40 ° C. The results are shown in Table 1.

比較例8 実施例1において、ポリカーボネートとして低分子量成
分4重量%,未反応ビスフェノールA10ppmおよび塩化メ
チレン10ppmを含有するフレーク状ポリカーボネートを
用いたこと及びアセトンによる抽出処理を行わなかった
こと以外は、実施例1と同様の操作を行った。結果を第
1表に示す。
Comparative Example 8 Example 1 was repeated except that a flaky polycarbonate containing 4% by weight of a low molecular weight component, 10 ppm of unreacted bisphenol A and 10 ppm of methylene chloride was used as the polycarbonate, and the extraction treatment with acetone was not performed. The same operation as in 1 was performed. The results are shown in Table 1.

比較例9 実施例1において、ポリカーボネートとして低分子量成
分1.5重量%,未反応ビスフェノールA10ppmおよび塩化
メチレン40ppmを含有するフレーク状ポリカーボネート
を用いたこと及びアセトンによる抽出処理を行わなかっ
たこと以外は、実施例1と同様の操作を行った。結果を
第1表に示す。
Comparative Example 9 Example 1 was repeated except that a flaky polycarbonate containing 1.5% by weight of a low molecular weight component, 10 ppm of unreacted bisphenol A and 40 ppm of methylene chloride was used as the polycarbonate, and the extraction treatment with acetone was not performed. The same operation as in 1 was performed. The results are shown in Table 1.

比較例10 実施例1において、ポリカーボネートとして低分子量成
分1.5重量%,未反応ビスフェノールA30ppmおよび塩化
メチレン10ppmを含有するフレーク状ポリカーボネート
を用いたこと及びアセトンによる抽出処理を行わなかっ
たこと以外は、実施例1と同様の操作を行った。結果を
第1表に示す。
Comparative Example 10 Example 1 was repeated except that a flaky polycarbonate containing 1.5% by weight of a low molecular weight component, 30 ppm of unreacted bisphenol A and 10 ppm of methylene chloride was used as the polycarbonate, and the extraction treatment with acetone was not performed. The same operation as in 1 was performed. The results are shown in Table 1.

*第1表中で、得られたポリカーボネート中の不純物含
量は、次の如く分析定量されたものである。
* In Table 1, the content of impurities in the obtained polycarbonate was analyzed and quantified as follows.

アセトン溶媒ソックスレー抽出低分子量成分(低分子量
成分) アセトンを溶媒としてソックスレー抽出された成分であ
る。即ち、試料であるポリカーボネートを粉砕して100
メッシュの金網を通過したもの15g(全試料)を円筒濾
紙No.84(28×100mm)に採取し、これを300mlのアセト
ンを用いて、3〜4分に1回(20ml/回)の還流量で8
時間還流させて抽出した。その後、300mlのアセトンを
蒸発させた後の残渣物を秤量し、これを低分子量成分と
し全試料に対する割合で示した。
Soxhlet extraction with acetone solvent Low molecular weight component (low molecular weight component) It is a component that was Soxhlet extracted with acetone as a solvent. That is, the sample polycarbonate is crushed to 100
15g (all samples) that passed through the mesh of wire mesh was sampled on cylindrical filter paper No.84 (28 x 100mm), and this was returned once every 3 to 4 minutes (20ml / time) using 300ml of acetone. 8 at flow rate
It was refluxed for an hour and extracted. After that, the residue after evaporating 300 ml of acetone was weighed, and this was designated as a low molecular weight component, and shown as a ratio to all samples.

未反応ビスフェノールA 上述の低分子量成分をアセトンを溶媒としてソックスレ
ー抽出を行った後、その抽出液について液体クロマトグ
ラフィーにより定量したものである。
Unreacted bisphenol A Soxhlet extraction of the above-mentioned low molecular weight components using acetone as a solvent, and then the extract was quantified by liquid chromatography.

塩化メチレン 1,2−ジクロロエタンに試料であるポリカーボネートを
溶解し、ガスクロマトグラフィー(FID)により定量し
たものである。
Polycarbonate as a sample was dissolved in methylene chloride 1,2-dichloroethane and quantified by gas chromatography (FID).

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によるディスク基板は、不純物の含有量が極めて
少なく高品質のポリカーボネートを素材としているた
め、光ディスクや磁気ディスク等のディスク基板とその
基板上に形成された記録膜との密着性がよく、しかも記
録膜を腐食させるおそれもなく、また成形時に金型が腐
食を受けないためスタンパー寿命も長い。
Since the disc substrate according to the present invention is made of high-quality polycarbonate with extremely low content of impurities, the disc substrate such as an optical disc or a magnetic disc has good adhesion to the recording film formed on the substrate, and There is no risk of corroding the recording film, and the stamper life is long because the mold is not corroded during molding.

したがって、本発明によるポリカーボネートを素材とす
るディスク基板は、性能が優れた光ディスクや磁気ディ
スクを製造するうえで実用上極めて価値の高いものであ
り、その幅広い利用が期待される。
Therefore, the disk substrate made of the polycarbonate according to the present invention is extremely valuable in practical use for manufacturing an optical disk or a magnetic disk having excellent performance, and its wide use is expected.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−77932(JP,A) 特開 昭63−97627(JP,A) 特公 昭38−16347(JP,B1) 特公 昭41−8475(JP,B1) 特公 昭55−21773(JP,B2) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-63-77932 (JP, A) JP-A-63-97627 (JP, A) JP-B 38-16347 (JP, B1) JP-B 41- 8475 (JP, B1) JPB 55-21773 (JP, B2)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】不純物の含有量が、アセトン溶媒ソックス
レー抽出低分子量成分2重量%以下、未反応ビスフェノ
ール類20ppm以下および塩化メチレン15ppm以下であるポ
リカーボネートを用いることを特徴とするポリカーボネ
ートを素材とするディスク基板。
1. A disc made of a polycarbonate characterized in that the content of impurities is 2% by weight or less of a low molecular weight component extracted with Soxhlet in acetone, 20 ppm or less of unreacted bisphenols and 15 ppm or less of methylene chloride. substrate.
【請求項2】粉末状ポリカーボネートを有機溶媒で抽出
処理することにより得られ、且つ、不純物の含有量が、
アセトン溶媒ソックスレー抽出低分子量成分2重量%以
下、未反応ビスフェノール類20ppm以下および塩化メチ
レン15ppm以下であるポリカーボネートを用いることを
特徴とするポリカーボネートを素材とするディスク基
板。
2. Obtained by subjecting powdered polycarbonate to an extraction treatment with an organic solvent, and the content of impurities is
A disk substrate made of polycarbonate, which is characterized by using a polycarbonate having a low-molecular-weight component of 2% by weight or less of Soxhlet extraction with an acetone solvent, 20 ppm or less of unreacted bisphenols and 15 ppm or less of methylene chloride.
【請求項3】抽出処理の有機溶媒が、アセトン、メチル
エチルケトン、トルエン、キシレンから選ばれたいづれ
か1つであることを特徴とする特許請求の範囲第2項記
載のディスク基板。
3. The disk substrate according to claim 2, wherein the organic solvent for the extraction treatment is any one selected from acetone, methyl ethyl ketone, toluene and xylene.
【請求項4】抽出処理の有機溶媒が、アセトンであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のディスク基
板。
4. The disk substrate according to claim 3, wherein the organic solvent for the extraction treatment is acetone.
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