JPH07105540B2 - Gas laser device - Google Patents
Gas laser deviceInfo
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- JPH07105540B2 JPH07105540B2 JP13621589A JP13621589A JPH07105540B2 JP H07105540 B2 JPH07105540 B2 JP H07105540B2 JP 13621589 A JP13621589 A JP 13621589A JP 13621589 A JP13621589 A JP 13621589A JP H07105540 B2 JPH07105540 B2 JP H07105540B2
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- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はマイクロ波放電を利用してレーザ励起を行う
気体レーザ装置に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a gas laser device that performs laser excitation using microwave discharge.
[従来の技術] 第3図は従来の気体レーザ装置を示す斜視図、第4図は
気体レーザ装置の断面図、第5図は第3図のV−V線断
面図である。図において、(1)はマイクロ波発振器で
あるマグネトロン、(2)はマイクロ波伝送路である導
波管、(3)は導波管(2)の巾を拡げるホーン導波
管、(4)はマイクロ波結合窓、(5)はレーザ発振用
の部分反射ミラー、(6)はマイクロ波回路であるレー
ザヘッド部、(7)はレーザ発振用の全反射ミラーであ
る。[Prior Art] FIG. 3 is a perspective view showing a conventional gas laser device, FIG. 4 is a sectional view of the gas laser device, and FIG. 5 is a sectional view taken along line VV of FIG. In the figure, (1) is a magnetron that is a microwave oscillator, (2) is a waveguide that is a microwave transmission path, (3) is a horn waveguide that widens the width of the waveguide (2), and (4) Is a microwave coupling window, (5) is a partial reflection mirror for laser oscillation, (6) is a laser head portion which is a microwave circuit, and (7) is a total reflection mirror for laser oscillation.
このレーザヘッド部(6)は、マイクロ波回路の一種で
あるリッジ導波管型のマイクロ波空胴の構造を持つ。第
4図において、(61)はマイクロ波結合窓(4)に続く
空胴壁、(62)および(63)はこの空胴壁の断面の中央
部に形成されたリッジ、(64)はこの一方のリッジ(6
2)に形成された溝であり、(65)はマイクロ波回路の
一部を構成する導電体壁であって、溝(64)の壁面が使
用される。(66)はこの導電体壁(65)に対向して設け
られた例えばアルミナなどの誘電体であり、(67)はこ
の誘電体(66)が上記溝(64)を覆うことにより上記導
電体壁(65)と誘電体(66)との間に形成される放電空
間であって、この放電空間(67)に例えばCO2レーザガ
スなどのレーザ気体が封入される。また(68)はリッジ
(62)および(63)に形成された冷却水路である。This laser head portion (6) has a structure of a ridge waveguide type microwave cavity which is a kind of microwave circuit. In FIG. 4, (61) is a cavity wall following the microwave coupling window (4), (62) and (63) are ridges formed in the central part of the cross section of the cavity wall, and (64) is this. One ridge (6
The groove formed in 2), (65) is a conductor wall forming a part of the microwave circuit, and the wall surface of the groove (64) is used. (66) is a dielectric such as alumina provided facing the conductor wall (65), and (67) is the conductor when the dielectric (66) covers the groove (64). A discharge space is formed between the wall (65) and the dielectric (66), and a laser gas such as CO 2 laser gas is enclosed in the discharge space (67). Further, (68) is a cooling water channel formed in the ridges (62) and (63).
上記のように構成された従来の気体レーザ装置におい
て、マグネトロン(1)で発生されたマイクロ波は導波
管(2)を通ってホーン導波管(3)で拡げられ、マイ
クロ波結合窓(4)でインピダンスマッチングをとるこ
とにより効率よくしレーザヘッド部(6)に結合され
る。レーザヘッド部(6)は第4図に示されるようにリ
ッジ空胴状になっており、マイクロ波はリッジ(62),
(63)の間に集中する。この集中したマイクロ波の強い
電磁界により放電空間(67)に封入されたレーザ気体が
放電破壊し、プラズマを発生し、レーザ媒質が励起され
る。ここで、冷却水路(68)に冷却水を流し、放電プラ
ズマを冷却するとともに、レーザ気体の圧力などの放電
条件を適切に選ぶことによってレーザ発振条件が得ら
れ、部分反射ミラー(5)および全反射ミラー(7)に
よりレーザ共振器を形成することでレーザ発振光を得る
ことができる。この時、気体レーザ装置においてはマイ
クロ波回路の一部を構成する導電体壁(65)と、この導
電体壁(65)に対向して設けられ、マイクロ波の入射窓
となる誘電体(66)との間に形成される放電空間(67)
においてマイクロ波放電を行なわせるため、マイクロ波
の入射はプラズマの一面からのみ行なわれることにな
り、プラズマを内導体とする同軸モードのマイクロ波モ
ードが支配的となる現象は起こらず、所期のマイクロ波
モードによる放電を行なわせることができる。また第4
図に示されるリッジ空胴のようにマイクロ波回路が上記
誘電体(66)とプラズマの境界に垂直な電界成分を有す
るマイクロ波モードを形成する場合、誘電体(66)と導
電体壁(65)は対向して設置されているので導電体壁
(65)にも垂直な電界成分を有することになり、プラズ
マを貫く電界ができる。この時、導電性を持つプラズマ
が発生してもマイクロ波入射窓である誘電体(66)に対
向してプラズマよりも数桁導電性の高い導電体壁(65)
があるために入射マイクロ波の終端電流はこの導電体壁
(65)を流れ、導電体壁(65)近傍の電界は強制的に導
電体壁(65)の表面に垂直にされ、上記のプラズマを貫
く電界が維持される。このため、マイクロ波がプラズマ
中に浸透し、プラズマを貫く電流が流れ、電流の連続性
から空間的に一様な放電プラズマが得られる。In the conventional gas laser device configured as described above, the microwave generated by the magnetron (1) is spread by the horn waveguide (3) through the waveguide (2), and the microwave coupling window ( By performing impedance matching in 4), it is efficiently coupled to the laser head section (6). The laser head portion (6) has a ridge cavity shape as shown in FIG.
Concentrate during (63). The concentrated electromagnetic field of microwaves causes the discharge of the laser gas sealed in the discharge space (67) to generate plasma, which excites the laser medium. Here, cooling water is caused to flow through the cooling water passage (68) to cool the discharge plasma, and laser oscillation conditions are obtained by appropriately selecting discharge conditions such as the pressure of the laser gas, and the partial reflection mirror (5) and total reflection mirror (5) are obtained. Laser oscillation light can be obtained by forming a laser resonator with the reflection mirror (7). At this time, in the gas laser device, the conductor wall (65) forming a part of the microwave circuit and the dielectric (66) which is provided so as to face the conductor wall (65) and serves as a microwave incident window. ) And the discharge space formed between them (67)
In order to cause microwave discharge in, the microwave is incident only from one side of the plasma, and the phenomenon that the microwave mode of the coaxial mode in which the plasma is the inner conductor dominates does not occur. Discharge in microwave mode can be performed. Also the fourth
When the microwave circuit forms a microwave mode having an electric field component perpendicular to the boundary between the dielectric (66) and the plasma like the ridge cavity shown in the figure, the dielectric (66) and the conductor wall (65 ) Are installed so as to face each other, so that the electric conductor wall (65) also has a vertical electric field component, and an electric field penetrating the plasma can be generated. At this time, even if conductive plasma is generated, it faces the dielectric (66) that is the microwave entrance window and has a conductive wall (65) that is several orders of magnitude more conductive than plasma.
Because of this, the terminating current of the incident microwave flows through this conductor wall (65), and the electric field in the vicinity of the conductor wall (65) is forced to be perpendicular to the surface of the conductor wall (65). The electric field passing through is maintained. Therefore, the microwave penetrates into the plasma, a current flows through the plasma, and a spatially uniform discharge plasma can be obtained from the continuity of the current.
[発明が解決しようとする課題] 上記のような従来の気体レーザ装置では、レーザヘッド
部(6)の一部を構成する導電体壁(65)と、この導電
体壁(65)に対向して設けられた誘電体(66)との間に
形成される放電空間(67)にマイクロ波放電によるプラ
ズマを発生するレーザ気体を封入すると共にマイクロ波
回路(6)を誘電体(66)とプラズマとの境界に垂直な
電界成分を有するマイクロ波モードを形成するようにし
て空間的に一様なマイクロ波放電プラズマを発生できる
ようにしているが、放電空間(67)を気密を保って仕切
り、放電空間(67)を誘電体(66)を通して冷却する必
要から誘電体(66)が金属で形成されるリッジ(62)と
の金属接合性が良好で、熱伝導度の良いアルミナ、窒化
アルミ等の比較的誘電率の大きな材料で形成されている
ため、誘電率が大きいことによるマイクロ波の波長短縮
効果が大きくなり、放電空間(67)における軸方向の放
電の節Sの長さが短かく、多くの放電の節Sができ、マ
イクロ波をプラズマに均一に結合するのが難しく、放電
空間においてプラズマが均一に発生しないという問題点
があった。[Problems to be Solved by the Invention] In the conventional gas laser device as described above, the conductor wall (65) forming a part of the laser head portion (6) and the conductor wall (65) facing each other are disposed. A laser gas for generating plasma by microwave discharge is enclosed in a discharge space (67) formed between the dielectric (66) and the microwave circuit (6) and the dielectric (66) and the plasma. A microwave mode having an electric field component perpendicular to the boundary with is formed so that a spatially uniform microwave discharge plasma can be generated, but the discharge space (67) is partitioned airtightly, Since the discharge space (67) needs to be cooled through the dielectric (66), it has good metal-bonding properties with the ridge (62) in which the dielectric (66) is made of metal, and has good thermal conductivity, such as alumina and aluminum nitride. Formed of a material with a relatively large dielectric constant Therefore, the effect of shortening the microwave wavelength due to the large dielectric constant is large, the length of the axial discharge node S in the discharge space (67) is short, and many discharge nodes S can be formed. There is a problem that it is difficult to uniformly couple the waves to the plasma, and the plasma is not uniformly generated in the discharge space.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、放電空間に発生するマイクロ波放電プラズマ
を軸方向において均一に安定したものとし、高効率、大
出力のレーザ動作を可能とする気体レーザ装置を得るこ
とを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and makes the microwave discharge plasma generated in the discharge space uniform and stable in the axial direction, and enables high-efficiency, high-power laser operation. The purpose of the present invention is to obtain a gas laser device.
[課題を解決するための手段] この発明に係る気体レーザ装置は、マイクロ波の放電に
よりレーザ気体にプラズマを発生させてレーザ励起を行
うマイクロ波回路の誘電体は放電空間側に位置する金属
接合性が良好な第1セラミックス系材料層と放電空間の
反対側に位置する誘電率が低い第2セラミックス系材料
層とから形成されるようにしたものである。[Means for Solving the Problems] In the gas laser device according to the present invention, the dielectric of the microwave circuit for performing laser excitation by generating plasma in the laser gas by the discharge of microwaves is a metal junction located on the discharge space side. The first ceramic material layer having good properties and the second ceramic material layer having a low dielectric constant located on the opposite side of the discharge space are formed.
[作用] この発明においては、マイクロ波回路の誘電体は放電空
間側に位置する金属接合性が良好な第1セラミックス系
材料層と放電空間の反対側に位置する誘電率が低い第2
セラミックス材料層から形成されているから、誘電体全
体の平均的な誘電率が小さくなり、マイクロ波の波長短
縮効果を小さくでき、放電空間における軸方向の放電の
節の長さが長くなってマイクロ波をプラズマに均一に結
合するのが容易になると共に放電体積も大きくなって、
放電空間においてプラズマが均一に発生する。[Operation] In the present invention, the dielectric of the microwave circuit is the second ceramic layer located on the discharge space side and having a good metal-bonding property and the second ceramic layer located on the opposite side to the discharge space and having a low dielectric constant.
Since it is formed from the ceramic material layer, the average dielectric constant of the entire dielectric is reduced, the wavelength shortening effect of the microwave can be reduced, and the length of the axial discharge node in the discharge space is lengthened to increase the It becomes easier to couple the waves into the plasma uniformly, and the discharge volume increases,
Plasma is uniformly generated in the discharge space.
[実施例] 第1図はこの発明の一実施例を示す断面図、第2図はマ
イクロ波回路の断面図である。図において、従来例と同
一の構成は同一符号を付して重複した構成の説明を省略
する。(661)はマイクロ波の入射窓となる誘電体(6
6)の一部を構成するアルミナからなる厚さが薄い第1
セラミックス系材料層で、放電空間(67)側に位置して
おり、金属のリッジ(62)と例えば接着剤で接合されて
いる。(662)は誘電体(66)の一部を構成するボロン
ナイトライドからなる厚さが厚い第2セラミックス系材
料層で、放電空間(67)の反対側に位置している。[Embodiment] FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of a microwave circuit. In the figure, the same components as those of the conventional example are designated by the same reference numerals, and the description of the duplicate components is omitted. (661) is a dielectric (6
1) Thin thickness consisting of alumina that forms part of 6)
The ceramic material layer is located on the discharge space (67) side and is joined to the metal ridge (62) by, for example, an adhesive. (662) is a second thick ceramic material layer made of boron nitride that constitutes a part of the dielectric (66), and is located on the opposite side of the discharge space (67).
上記のように構成された気体レーザ装置においては、マ
イクロ波回路であるレーザヘッド部(6)の誘電体(6
6)は放電空間(67)側に位置するアルミナからなる第
1セラミックス系材料層(661)と放電空間(67)の反
対側に位置するボロンナイトライドからなる第2セラミ
ックス系材料層(662)とから形成されており、第1セ
ラミックス系材料層(661)のアルミナは金属接合性が
良好で比誘電率が約10で、第2セラミックス材料層(66
2)のボロンナイトライドは金属接合性は劣るが、比誘
電率が約3.5であるから、誘電体(66)全体の平均的な
誘電率はアルミナ単体の誘電体(6)のものより小さく
なり、マイクロ波の波長短縮効果を小さくする。従っ
て、第2図に示すように、放電空間(67)における軸方
向の放電の節Sの長さが長くなり、マイクロ波をプラズ
マに均一に接合するのが容易になると共に放電体積も大
きくなって放電空間(67)において、安定且つ均一なプ
ラズマが発生してレーザ出力を高効率、大出力にて得る
ことができる。In the gas laser device configured as described above, the dielectric (6
6) is a first ceramic material layer (661) made of alumina located on the discharge space (67) side and a second ceramic material layer (662) made of boron nitride located on the opposite side of the discharge space (67). The alumina of the first ceramic material layer (661) has good metal bondability and a relative permittivity of about 10, and is made of the second ceramic material layer (66).
The boron nitride of 2) has poor metal-bonding property, but since the relative dielectric constant is about 3.5, the average dielectric constant of the whole dielectric (66) is smaller than that of the dielectric (6) made of alumina alone. , The effect of shortening the microwave wavelength is reduced. Therefore, as shown in FIG. 2, the length of the axial discharge node S in the discharge space (67) becomes longer, which makes it easier to uniformly bond the microwave to the plasma and also increases the discharge volume. As a result, stable and uniform plasma is generated in the discharge space (67), and laser output can be obtained with high efficiency and large output.
また、アルミナの第1セラミックス系材料層(661)の
厚さを薄く、ボロンナイトライドの第2セラミックス系
材料層(662)の厚さを厚くしているのは、これら二つ
のセラミックス系材料層(661),(662)からなる誘電
体(66)全体の平均的な誘電率をできるだけ小さな値と
するようにしたためである。更に、第1セラミックス系
材料層(661)を放電空間(67)側に位置させ、第2セ
ラミックス系材料層(662)を放電空間(67)の反対側
に位置させているのは、第1セラミックス系材料層(66
1)のアルミナは金属接合性が良好で、第2セラミック
ス系材料層(661)のボロンナイトライドは金属接合性
が劣るため、放電空間(67)の気密を保つために、放電
空間(67)の一面となる部分は金属のリッジ(62)と気
密接合ができる金属接合性が良好なもの、即ちアルミナ
の第1セラミックス系材料層(661)が必要とされるか
らである。Further, the thickness of the first ceramic material layer (661) of alumina is thin, and the thickness of the second ceramic material layer (662) of boron nitride is thick. This is because the average dielectric constant of the entire dielectric (66) composed of (661) and (662) is set to be as small as possible. Further, the first ceramic material layer (661) is located on the discharge space (67) side, and the second ceramic material layer (662) is located on the opposite side to the discharge space (67). Ceramic material layer (66
Alumina of 1) has a good metal bonding property, and boron nitride of the second ceramics material layer (661) has a poor metal bonding property, so that the discharge space (67) is kept airtight. This is because the part which is one surface is required to have a good metal bondability capable of airtightly bonding to the metal ridge (62), that is, the first ceramic material layer (661) of alumina.
なお、この実施例で、第1セラミックス系材料層(66
1)はアルミナとしているが、窒化アルミナ等金属接合
性が良好なものであればよい。アルミナや窒化アルミは
接着剤で金属と接合できるだけでなく、金属と接触する
部分の表面をメタライズし、金属とハンダ付けあるいは
ロウ付け等のメタル接合を行なうこともできる。また第
2セラミックス材料層(662)はボロンナイトライドと
しているが、ボロンナイトライド複合材料等誘電率が小
さいものであればよい。In this example, the first ceramic material layer (66
Although 1) is made of alumina, any material having good metal bonding property such as alumina nitride may be used. Not only can alumina and aluminum nitride be bonded to a metal with an adhesive, but the surface of a portion that comes into contact with the metal can be metalized to perform metal bonding such as soldering or brazing with the metal. Although the second ceramic material layer (662) is made of boron nitride, any material such as a boron nitride composite material having a small dielectric constant may be used.
更に、この実施例では、導波管(2)及びホーン導波管
(3)とレーザヘッド部(6)とはレーザ光軸と直交す
る方向に配置されている気体レーザ装置について説明し
ているが、導波管とレーザヘッド部とがレーザ光軸に沿
う方向に並列配置された気体レーザ装置について適用で
きることはいうまでもない。Further, in this embodiment, the gas laser device in which the waveguide (2), the horn waveguide (3), and the laser head portion (6) are arranged in the direction orthogonal to the laser optical axis will be described. However, it goes without saying that the present invention can be applied to a gas laser device in which a waveguide and a laser head part are arranged in parallel in a direction along the laser optical axis.
[発明の効果] この発明は以上説明したとおり、マイクロ波回路の誘電
体は放電空間側に位置する金属接合性が良好な第1セラ
ミックス系材料層と放電空間の反対側に位置する誘電率
が低い第2セラミックス系材料層とから形成され、誘電
体全体の平均的な誘電率を小さくしてマイクロ波の波長
短縮効果を小さくするようにしているので、放電空間に
おける軸方向の放電の節の長さが長くなってマイクロ波
をプラズマに均一に接合するのが容易になると共に放電
体積も大きくなり、放電空間において長手方向にプラズ
マが安定かつ均一に発生してレーザ出力を高効率、大出
力にて得ることができるという効果を有する。EFFECTS OF THE INVENTION As described above, according to the present invention, the dielectric of the microwave circuit has the dielectric constant located on the opposite side of the discharge space and the first ceramic material layer located on the discharge space side and having good metal bonding property. Since it is formed of a low second ceramics material layer to reduce the average dielectric constant of the entire dielectric to reduce the effect of shortening the wavelength of the microwave, the node of the axial discharge in the discharge space is reduced. As the length becomes longer, it becomes easier to bond microwaves to plasma uniformly, and the discharge volume also increases. Plasma is generated stably and uniformly in the discharge space in the longitudinal direction, and laser output is highly efficient and large output. There is an effect that can be obtained in.
第1図はこの発明の一実施例を示す断面図、第2図はマ
イクロ波回路の断面図、第3図は従来の気体レーザ装置
を示す斜視図、第4図は気体レーザ装置の断面図、第5
図は第3図のV−V線断面図である。 図において、(6)はレーザヘッド部(マイクロ波回
路)、(66)は誘電体、(661)は第1セラミックス系
材料層、(662)は第2セラミックス系材料層である。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of a microwave circuit, FIG. 3 is a perspective view showing a conventional gas laser device, and FIG. 4 is a sectional view of a gas laser device. , Fifth
The drawing is a sectional view taken along line VV of FIG. In the figure, (6) is a laser head portion (microwave circuit), (66) is a dielectric, (661) is a first ceramic material layer, and (662) is a second ceramic material layer. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
Claims (1)
と、マイクロ波を伝送するマイクロ波伝送路と、マイク
ロ波伝送路により伝送されたマイクロ波の放電により、
レーザ気体にプラズマを発生させてレーザ励起を行うマ
イクロ波回路とを備え、前記マイクロ波回路中に設けら
れ、マイクロ波の入射窓となる誘電体を一面とする放電
空間に前記レーザ気体を封入し、前記マイクロ波回路に
よって前記誘電体とレーザ気体中に発生したプラズマと
の境界に垂直な電界成分を有するマイクロ波モードを形
成するようにしたマイクロ波励起方式の気体レーザ装置
において、 前記マイクロ波回路の誘電体は放電空間側に位置する金
属接合性が良好な第1セラミックス系材料層と放電空間
の反対側に位置する誘電率が低い第2セラミックス系材
料層とから形成されていることを特徴とする気体レーザ
装置。1. A microwave oscillator that oscillates microwaves, a microwave transmission line that transmits microwaves, and a discharge of the microwaves transmitted by the microwave transmission line,
A microwave circuit for generating plasma in a laser gas for laser excitation is provided, and the laser gas is sealed in a discharge space provided in the microwave circuit and having a dielectric serving as a microwave entrance window on one surface. A microwave excitation type gas laser device configured to form a microwave mode having an electric field component perpendicular to a boundary between the dielectric and plasma generated in the laser gas by the microwave circuit, Is characterized in that it is formed of a first ceramics material layer located on the discharge space side and having good metal bonding properties, and a second ceramics material layer located on the opposite side of the discharge space and having a low dielectric constant. Gas laser device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13621589A JPH07105540B2 (en) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | Gas laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13621589A JPH07105540B2 (en) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | Gas laser device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH033381A JPH033381A (en) | 1991-01-09 |
JPH07105540B2 true JPH07105540B2 (en) | 1995-11-13 |
Family
ID=15169995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13621589A Expired - Lifetime JPH07105540B2 (en) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | Gas laser device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07105540B2 (en) |
-
1989
- 1989-05-31 JP JP13621589A patent/JPH07105540B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH033381A (en) | 1991-01-09 |
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