JPH0693120A - Gas-barrier packaging material - Google Patents
Gas-barrier packaging materialInfo
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- JPH0693120A JPH0693120A JP4240627A JP24062792A JPH0693120A JP H0693120 A JPH0693120 A JP H0693120A JP 4240627 A JP4240627 A JP 4240627A JP 24062792 A JP24062792 A JP 24062792A JP H0693120 A JPH0693120 A JP H0693120A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ガスバリヤー性に優れ
た包装材料に関する。より詳しくは、ガスバリヤー層と
しての無機物質の薄膜を含む包装材料の改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a packaging material having an excellent gas barrier property. More particularly, it relates to improvements in packaging materials that include a thin film of inorganic material as a gas barrier layer.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、酸素等の透過を防ぐ、ガスバリヤ
ー性を付与した包装材料としては、アルミニウム箔など
の金属箔を、プラスチックフィルムをベースとする包装
材料に積層したものが広く用いられている。また、アル
ミニウム箔に変えて、プラスチックフィルムに金属を真
空蒸着したものも、同様に広く使用されている。これら
金属箔や金属蒸着層を形成したものは、きわめて高いガ
スバリヤー性を示すが、不透明であることが場合により
欠点である。また、金属であるため、マイクロ波を透過
させないことも、場合により欠点である。2. Description of the Related Art Conventionally, as a packaging material having a gas barrier property for preventing the permeation of oxygen and the like, a laminate of a metal foil such as an aluminum foil and a plastic film-based packaging material has been widely used. There is. Also, instead of the aluminum foil, a vacuum-deposited metal on a plastic film is also widely used. Those formed with these metal foils and metal vapor-deposited layers show extremely high gas barrier properties, but their opacity is sometimes a drawback. Further, since it is a metal, it is also a defect that microwaves are not transmitted.
【０００３】この欠点を克服するため、酸化ケイ素を代
表とする、透明な無機物質の薄膜をプラスチック基材に
真空蒸着等により形成した、ガスバリヤー性に優れた包
装材料が提案されている。この無機物質の薄膜は、高い
ガスバリヤー性を示すとともに、マイクロ波を透過可能
である。In order to overcome this drawback, there has been proposed a packaging material excellent in gas barrier property in which a thin film of a transparent inorganic substance represented by silicon oxide is formed on a plastic substrate by vacuum deposition or the like. The thin film of this inorganic material shows a high gas barrier property and is permeable to microwaves.
【０００４】特に酸化ケイ素を用いたものは、２００〜
２０００Åという厚さで優れたガスバリヤー性を示し、
かつ、真空蒸着法により比較的安価で容易に製造できる
ことから、一部実用化されている。例えば２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレートフィルム（２５μｍ）に酸化ケ
イ素の薄膜（１０００Å）を形成したものの酸素透過度
は、２〜３cc／ｍ2 ・24hrs ・atm 程度である。In particular, those using silicon oxide are 200 to
With a thickness of 2000Å, it has excellent gas barrier properties,
Moreover, since it is relatively inexpensive and can be easily manufactured by the vacuum deposition method, it has been partially put into practical use. For example, the oxygen permeability of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (25 μm) formed with a silicon oxide thin film (1000 Å) is about 2 to 3 cc / m 2 · 24 hrs · atm.
【０００５】他方、成形容器にガスバリヤー性を付与す
る場合には、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物や
ポリ塩化ビニリデンなどのガスバリヤー性樹脂を含む構
成とすることが一般的であったが、近年では、成形した
容器の表面に、プラズマＣＶＤなどの方法により前記無
機物質の薄膜を形成する技術が提案されている。この技
術は、プラスチックフィルムないしはシートにも応用さ
れる。On the other hand, when imparting a gas barrier property to a molding container, it has been a general practice to include a gas barrier resin such as a saponified ethylene-vinyl acetate copolymer or polyvinylidene chloride. In recent years, there has been proposed a technique of forming a thin film of the inorganic substance on the surface of a molded container by a method such as plasma CVD. This technique is also applied to plastic films or sheets.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記酸化ケ
イ素の薄膜を設ける基材フィルムとしては、ポリプロピ
レンやナイロンも使用可能であるが、実際には殆どがポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムであっ
た。この理由は、ポリエチレンテレフタレートが耐熱
性、寸法安定性、強度に優れ、しかも印刷適性にも優れ
るためである。また、成形容器の場合でも、ベースとな
る樹脂はポリエチレンテレフタレートであった。この理
由は、前記フィルムの場合とほぼ同様である。By the way, although polypropylene and nylon can be used as the substrate film on which the thin film of silicon oxide is provided, in reality, most of them are polyethylene terephthalate (PET) films. The reason for this is that polyethylene terephthalate is excellent in heat resistance, dimensional stability and strength, and also excellent in printability. Also in the case of a molded container, the base resin was polyethylene terephthalate. The reason for this is almost the same as in the case of the film.
【０００７】しかし、このようなポリエチレンテレフタ
レートをベースとして酸化ケイ素の薄膜を形成した包装
材料であっても、内容物によっては未だガスバリヤー性
が十分ではないことがあった。例えば、内容物として油
脂分の多い食品や、例えばオレンジジュースのようにビ
タミンＣなどの酸化分解しやすい物質を含む食品を収納
する袋やボトルの場合、これら食品の酸化劣化、酸化分
解を防止するため、酸素透過度はできる限り低く抑える
ことが必要であり、具体的には、１cc／ｍ2 ・24hrs ・
atm 以下であることが好ましい。However, even with such a packaging material in which a thin film of silicon oxide is formed based on polyethylene terephthalate, the gas barrier property may not be sufficient depending on the content. For example, in the case of a bag or a bottle that contains foods rich in oils and fats, or foods containing substances such as orange juice that easily oxidize and decompose, such as orange juice, oxidative deterioration and oxidative decomposition of these foods are prevented. Therefore, it is necessary to keep the oxygen permeability as low as possible. Specifically, 1 cc / m 2 · 24hrs ·
It is preferably atm or less.
【０００８】ガスバリヤー性を改善する手段として、酸
化ケイ素の薄膜の厚さを厚くすることが考えられるが、
１０００Åを超えると、ガスバリヤー性の改善は殆ど見
られず、かえって薄膜にクラックが発生する等の問題が
生じていた。As a means for improving the gas barrier property, it is conceivable to increase the thickness of the silicon oxide thin film.
If it exceeds 1000 Å, almost no improvement in gas barrier property is observed, and on the contrary, problems such as cracking of the thin film occur.
【０００９】そこで本発明は、無機物質の薄膜を形成し
た包装材料において、ガスバリヤー性をさらに高めた、
きわめて優れたガスバリヤー性を有する包装材料を提供
することを目的とするものである。Therefore, the present invention further enhances the gas barrier property in a packaging material having a thin film of an inorganic substance formed thereon.
It is intended to provide a packaging material having an extremely excellent gas barrier property.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、２，
６−ナフタレンジカルボン酸とグリコール成分とを主成
分とするポリエステル系樹脂からなる基材上に、無機物
質の薄膜を形成したガスバリヤー層を含むことを特徴と
する、ガスバリヤー性包装材料である。本発明で形成す
る無機物質の薄膜の好ましい態様は、酸化ケイ素の薄膜
である。Means for Solving the Problems That is, the present invention is
A gas barrier packaging material comprising a gas barrier layer formed by forming a thin film of an inorganic substance on a base material made of a polyester resin containing 6-naphthalenedicarboxylic acid and a glycol component as main components. A preferred embodiment of the thin film of the inorganic substance formed in the present invention is a thin film of silicon oxide.
【００１１】[0011]
【作用】本発明では、ベースとなる樹脂層としてガスバ
リヤー性に優れたポリエチレンナフタレート、ポリブチ
レンナフタレート等の、２，６−ナフタレンジカルボン
酸とグリコール成分とを主成分とするポリエステル系樹
脂を採用したので、ベースを透過する酸素が低く抑えら
れ、従って、包装材料全体としての酸素透過度が低く抑
えられる。In the present invention, a polyester resin containing 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and a glycol component as main components, such as polyethylene naphthalate and polybutylene naphthalate having excellent gas barrier properties, is used as the base resin layer. Since it is adopted, oxygen permeating through the base is kept low, and therefore the oxygen permeability of the packaging material as a whole is kept low.
【００１２】[0012]
【実施例】以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、
特定の基材上に無機物質の薄膜を形成してなる、ガスバ
リヤー層を含む包材材料である。The present invention will be described in detail below. The present invention is
It is a packaging material including a gas barrier layer formed by forming a thin film of an inorganic substance on a specific base material.
【００１３】上記基材には、酸成分として２，６−ナフ
タレンジカルボン酸を用い、グリコール成分としてエチ
レングリコールを重合させたポリエチレンナフタレート
（以下ＰＥＮ）、または、グリコール成分として１，４
−ブタンジオールを重合させたポリブチレンナフタレー
ト（以下ＰＢＮ）を使用することができる。この樹脂
は、従来のポリエチレンテレフタレートに比べ、酸素バ
リヤー性が２〜６倍程度優れている。Polyethylene naphthalate (hereinafter referred to as PEN) obtained by polymerizing ethylene glycol as a glycol component using 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as an acid component or 1,4 as a glycol component is used as the base material.
-Polybutylene naphthalate (hereinafter PBN) obtained by polymerizing butanediol can be used. The oxygen barrier property of this resin is about 2 to 6 times better than that of conventional polyethylene terephthalate.
【００１４】この樹脂を、目的に応じ、常法に従いフィ
ルムまたはシートとし、あるいはブロー成形や射出成形
により成形品とした後、この樹脂（基材）上に、無機物
質の薄膜を形成する。Depending on the purpose, the resin is formed into a film or sheet by a conventional method, or a molded product is formed by blow molding or injection molding, and then a thin film of an inorganic substance is formed on the resin (base material).
【００１５】基材の厚さは任意であるが、フィルムまた
はシートとした場合には、１０〜３０μｍの厚さが好ま
しく、また、ボトル等の容器とした場合には、０．１〜
２ｍｍの厚さが好ましい。通常、フィルムないしシート
の場合は、単層で用いるのではなく、他のフィルム等と
積層して複合シートとし、袋等の材料とするので、上記
厚さで十分である。また、容器の場合は、容器自体の強
度や成形性を考慮して、上記厚さとすることが実用的で
ある。The thickness of the substrate is arbitrary, but when it is a film or sheet, it is preferably 10 to 30 μm, and when it is a container such as a bottle, it is 0.1 to 30 μm.
A thickness of 2 mm is preferred. Usually, in the case of a film or sheet, the above thickness is sufficient because it is not used as a single layer but is laminated with another film or the like to form a composite sheet and used as a material such as a bag. Further, in the case of a container, it is practical to set the above thickness in consideration of the strength and moldability of the container itself.
【００１６】本発明で使用できる無機物質としては、酸
化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化
チタン等、公知の物質が適用できる。As the inorganic substance that can be used in the present invention, known substances such as silicon oxide, magnesium oxide, aluminum oxide and titanium oxide can be used.
【００１７】また、無機物質の薄膜を形成する手段も任
意である。例えば、真空蒸着、イオンプレーティング、
スパッタリング等のドライプレーティングが適用でき
る。これらの方法は、一般には減圧下において酸化ケイ
素等の無機物質に熱等のエネルギを与えて蒸発させ、基
材に薄膜として堆積させるものである。また、無機物質
を組成に含むガスを反応させて基材上に無機物質の薄膜
を形成する、ＣＶＤ法も適用できる。特に、高いエネル
ギにより原料ガスをプラズマ状態として反応させる、プ
ラズマＣＶＤは、比較的低温で加工が可能なため、プラ
スチックへの適用に好適である。The means for forming a thin film of an inorganic substance is also arbitrary. For example, vacuum deposition, ion plating,
Dry plating such as sputtering can be applied. In these methods, generally, under reduced pressure, energy such as heat is applied to an inorganic substance such as silicon oxide to evaporate it and deposit it as a thin film on a substrate. Further, a CVD method in which a gas containing an inorganic substance in the composition is reacted to form a thin film of the inorganic substance on the substrate can also be applied. In particular, plasma CVD, in which a raw material gas is made to react in a plasma state with high energy, can be processed at a relatively low temperature, and thus is suitable for application to plastics.
【００１８】プラズマＣＶＤにより酸化ケイ素の薄膜を
形成する場合に使用できる原料ガスとしては、１，１，
３，３−テトラメチルジジロキサン、ヘキサメチルジシ
ロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメトキ
シシランが例示できる。また、その際のキャリアーガス
としてはヘリウムが、プラズマ電源としては高周波電源
（ＲＦ）；１３．５６ＭＨｚ（５０〜１００Ｗ）、ある
いは直流電源（ＤＣ）；４０ＫＨｚ〜４００ＫＨｚ（１
００〜１０００Ｗ）、真空度１０-2〜１０-3Torrの条件
が例示できる。なお、使用する電極は、基材がフィルム
である場合には平行平板が、容器の場合には棒状電極が
それぞれ使用できる。The raw material gases that can be used when forming a silicon oxide thin film by plasma CVD are 1, 1,
Examples are 3,3-tetramethyldidyloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, and methyltrimethoxysilane. Further, helium is used as a carrier gas at that time, and a radio frequency power source (RF); 13.56 MHz (50 to 100 W) or a direct current power source (DC); 40 KHz to 400 KHz (1) as a plasma power source.
The conditions are, for example, 0 to 1000 W) and a vacuum degree of 10 -2 to 10 -3 Torr. The electrodes used may be parallel plates when the substrate is a film, and rod-shaped electrodes when it is a container.
【００１９】形成する無機物質の薄膜は、厚さ２００〜
２０００Åであることが好ましい。これよりも薄いと、
膜ムラが発生して十分なガスバリヤー性が得られないこ
とがあり、これより厚い場合は、薄膜にクラックが発生
しやすくなり、同様に十分なガスバリヤー性が得られな
くなる恐れがある。The thin film of inorganic material to be formed has a thickness of 200 to
It is preferably 2000Å. If it is thinner than this,
In some cases, film unevenness may occur and sufficient gas barrier properties may not be obtained. If it is thicker than this, cracks may easily occur in the thin film, and similarly sufficient gas barrier properties may not be obtained.
【００２０】本発明は、上述した基材上に無機物質の薄
膜を形成してなるガスバリヤー層を、任意の位置に含む
ものである。すなわち、上記ガスバリヤー層に任意の他
の層を任意の位置に積層することができる。The present invention includes a gas barrier layer formed by forming a thin film of an inorganic substance on the above-mentioned substrate at an arbitrary position. That is, any other layer can be laminated on the gas barrier layer at any position.
【００２１】例えば、袋等を形成するための柔軟性を有
する包装材料に本発明を適用する場合、ＰＥＮ（１２μ
ｍ）／Ｓｉx Ｏy （１０００Å）／ＰＥ（４０μｍ）、
ＰＥＮ（１２μｍ）／Ｓｉx Ｏy （１０００Å）／ＯＮ
ｙ（１５μｍ）／ＣＰＰ（６０μｍ）などが例示でき
る。また、ボトルを形成する場合、Ｓｉx Ｏy （１００
０Å）／ＰＢＮ（２０μｍ）／共重合ポリエステル（４
０μｍ）という構成が例示できる。なお、上記記号は以
下の樹脂（フィルム）等を示す。 ・Ｓｉx Ｏy ：酸化ケイ素 ・ＰＥ：ポリエチレン ・ＯＮｙ：延伸ナイロン ・ＣＰＰ：無延伸ポリプロピレンFor example, when the present invention is applied to a flexible packaging material for forming a bag or the like, PEN (12 μm
m) / Si x O y (1000Å) / PE (40 μm),
PEN (12 μm) / Si x O y (1000Å) / ON
An example is y (15 μm) / CPP (60 μm). When forming a bottle, Si x O y (100
0Å) / PBN (20 μm) / Copolyester (4
The structure of 0 μm) can be exemplified. The above symbols represent the following resins (films) and the like.・ Si x O y : Silicon oxide ・ PE: Polyethylene ・ ONy: Stretched nylon ・ CPP: Unstretched polypropylene
【００２２】＜実験１＞Ｔダイキャスト法により、ポリ
エチレンナフタレート樹脂を厚さ２５μｍの未延伸フィ
ルムとして形成した。このフィルムの酸素透過度は、６
６．７cc／ｍ2・24hrs ・atm であった。このフィルム
上に、プラズマＣＶＤ法にて酸化ケイ素の薄膜を形成し
た（原料ガス：ヘキサメチルジシロキサン、直流電源：
５０ＫＨｚ，８００Ｗ、処理時間：７分間、真空度：１
０-2Torr）。得られた薄膜の組成はＳｉＯ2 、厚さは１
２００Åであった。このフィルムの酸素バリヤー性を、
モダン・コントロール社製の酸素透過率測定装置：ＯＸ
−ＴＲＡＮにて測定したところ、１．５cc／ｍ2 ・24hr
s ・atm であった。<Experiment 1> A polyethylene naphthalate resin was formed as an unstretched film having a thickness of 25 μm by the T die casting method. The oxygen permeability of this film is 6
It was 6.7 cc / m 2 · 24hrs · atm. A thin film of silicon oxide was formed on this film by a plasma CVD method (source gas: hexamethyldisiloxane, direct current power source:
50KHz, 800W, processing time: 7 minutes, vacuum degree: 1
0 -2 Torr). The composition of the obtained thin film is SiO 2 , and the thickness is 1
It was 200Å. The oxygen barrier property of this film
Oxygen Permeability Measuring Device by Modern Control: OX
-When measured with TRAN, it is 1.5cc / m 2 · 24hr
It was s-atm.
【００２３】＜実験２＞Ｔダイ延伸法により、ポリエチ
レンナフタレート樹脂を厚さ２５μｍの２軸延伸フィル
ム（延伸倍率：縦＝１５倍、横＝１０倍）として形成し
た。このフィルムの酸素透過度は、１９．１cc／ｍ2 ・
24hrs ・atm であった。このフィルム上に、実験１と同
様に酸化ケイ素の薄膜を形成した。このフィルムの酸素
バリヤー性を測定したところ、０．３cc／ｍ2 ・24hrs
・atm であった。<Experiment 2> A polyethylene naphthalate resin was formed into a 25 μm thick biaxially stretched film (stretching ratio: length = 15 times, width = 10 times) by the T-die stretching method. The oxygen permeability of this film is 19.1cc / m 2 ·
It was 24hrs-atm. A thin film of silicon oxide was formed on this film as in Experiment 1. The oxygen barrier property of this film was measured and found to be 0.3 cc / m 2 · 24hrs
・ It was atm.
【００２４】＜実験３＞樹脂をポリブチレンナフタレー
トに変えた以外は実験１と同様にして、厚さ２５μｍの
未延伸フィルムを得た。このフィルムの酸素透過度は、
２８．６cc／ｍ 2 ・24hrs ・atm であった。このフィル
ム上に、実験１と同様に酸化ケイ素の薄膜を形成した。
このフィルムの酸素バリヤー性を測定したところ、０．
６cc／ｍ2 ・24hrs ・atm であった。なお、ポリブチレ
ンナフタレート樹脂は結晶化速度が早いため、延伸フィ
ルムとして形成することは困難であった。<Experiment 3> Polybutylene naphthalate was used as the resin.
The thickness of 25 μm was the same as in Experiment 1 except that
An unstretched film was obtained. The oxygen permeability of this film is
28.6cc / m 2・ It was 24hrs ・ atm. This fill
A thin film of silicon oxide was formed on the film in the same manner as in Experiment 1.
When the oxygen barrier property of this film was measured, it was found to be 0.
6cc / m2・ It was 24hrs ・ atm. In addition, polybutylene
Since the naphthalate resin has a high crystallization rate,
It was difficult to form as Rum.
【００２５】＜実験４＞樹脂をポリエチレンテレフタレ
ートに変えた以外は実験１と同様にして、厚さ２５μｍ
の未延伸フィルムを得た。このフィルムの酸素透過度
は、１８０．３cc／ｍ2 ・24hrs ・atm であった。この
フィルム上に、実験１と同様に酸化ケイ素の薄膜を形成
した。このフィルムの酸素バリヤー性を測定したとこ
ろ、３．９cc／ｍ2 ・24hrs ・atm であった。<Experiment 4> A thickness of 25 μm was obtained in the same manner as in Experiment 1 except that the resin was changed to polyethylene terephthalate.
An unstretched film of was obtained. The oxygen permeability of this film was 180.3 cc / m 2 · 24hrs · atm. A thin film of silicon oxide was formed on this film as in Experiment 1. When the oxygen barrier property of this film was measured, it was 3.9 cc / m 2 · 24 hrs · atm.
【００２６】＜実験５＞Ｔダイ延伸法により、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂を厚さ２５μｍの２軸延伸フィ
ルム（延伸倍率：縦＝１５倍、横＝１０倍）として形成
した。このフィルムの酸素透過度は、５０．１cc／ｍ2
・24hrs ・atm であった。このフィルム上に、実験１と
同様に酸化ケイ素の薄膜を形成した。このフィルムの酸
素バリヤー性を測定したところ、１．２cc／ｍ2 ・24hr
s ・atm であった。<Experiment 5> A polyethylene terephthalate resin was formed into a 25 μm thick biaxially stretched film (stretching ratio: length = 15 times, width = 10 times) by the T-die stretching method. The oxygen permeability of this film is 50.1 cc / m 2
・ It was 24hrs ・ atm. A thin film of silicon oxide was formed on this film as in Experiment 1. The oxygen barrier property of this film was measured and found to be 1.2 cc / m 2 · 24 hr
It was s-atm.
【００２７】以上の結果を表１にまとめて示す。The above results are summarized in Table 1.
【００２８】[0028]
【表１】 [Table 1]
【００２９】以上の結果から明らかなように、本発明に
よるものは、いずれも従来のポリエチレンテレフタレー
トを基材とするものに比べて高いガスバリヤー性を有す
るものである。特に、ガスバリヤー性のみを考慮する場
合、延伸ポリエチレンナフタレートを用いたものが最も
良好な結果を示した。As is clear from the above results, all of the materials according to the present invention have a higher gas barrier property than those using conventional polyethylene terephthalate as a base material. In particular, when only the gas barrier property was considered, the one using stretched polyethylene naphthalate showed the best result.
【００３０】＜実験６＞ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート
樹脂をそれぞれ用いて、インジェクションブロー法によ
りボトル形状の容器（容量：１リットル）を作成した。
容器の平均肉厚は０．６ｍｍであった。この容器の表面
に、プラズマＣＶＤ法にて、酸化ケイ素の薄膜を形成し
た（原料ガス：１，１，３，３−テトラメチルジシロキ
サン、直流電源：４０ＫＨｚ，１０００Ｗ、処理時間：
７分間、真空度：１０-2Torr）。得られた薄膜の組成は
ＳｉＯ2 、厚さは１３００Åであった。得られた容器１
つ当たりの酸素透過量を測定したところ、ＰＥＴ容器は
０．０１０〜０．０２０ｃｃ／ｄａｙ、ＰＥＮ容器は
０．００２〜０．００７ｃｃ／ｄａｙ、ＰＢＮ容器は
０．００５〜０．０１０ｃｃ／ｄａｙであり、本発明の
ものは従来の容器に比べて格段に酸素バリヤー性に優れ
ていた。<Experiment 6> Polyethylene terephthalate,
Bottle-shaped containers (capacity: 1 liter) were prepared by injection blow method using polyethylene naphthalate and polybutylene naphthalate resins, respectively.
The average wall thickness of the container was 0.6 mm. A thin film of silicon oxide was formed on the surface of this container by the plasma CVD method (source gas: 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, DC power supply: 40 KHz, 1000 W, processing time:
7 minutes, vacuum: 10 -2 Torr). The composition of the obtained thin film was SiO 2 , and the thickness was 1300Å. Container 1 obtained
The oxygen transmission rate per unit was measured to be 0.010 to 0.020 cc / day for the PET container, 0.002 to 0.007 cc / day for the PEN container, and 0.005 to 0.010 cc / day for the PBN container. However, the one of the present invention was remarkably excellent in oxygen barrier property as compared with the conventional container.
【００３１】[0031]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、従
来に比べて高いガスバリヤー性を有する包装材料が得ら
れる。従って、従来のポリエチレンテレフタレートに酸
化ケイ素等を形成した包装材料を用いたのでは、ガスバ
リヤー性が不十分であったために保存期間が短かった、
酸素に対してきわめて敏感な内容物について、シェルフ
ライフを１．５〜３倍に延長させることができる。ま
た、この包装材料は、十分なガスバリヤー性を有し、か
つ、透明で、マイクロ波の透過が可能な包装材料であ
る。As described above, according to the present invention, a packaging material having a higher gas barrier property than the conventional one can be obtained. Therefore, using a conventional packaging material in which silicon oxide or the like is formed on polyethylene terephthalate has a short storage period due to insufficient gas barrier properties,
For contents that are extremely sensitive to oxygen, shelf life can be extended 1.5 to 3 times. Further, this packaging material is a packaging material which has a sufficient gas barrier property and is transparent and capable of transmitting microwaves.
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Claims (3)
ール成分とを主成分とするポリエステル系樹脂からなる
基材上に無機物質の薄膜を形成してなるガスバリヤー層
を含むことを特徴とする、ガスバリヤー性包装材料。1. A gas barrier layer formed by forming a thin film of an inorganic substance on a base material made of a polyester resin containing 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and a glycol component as main components. Gas barrier packaging material.
を特徴とする、請求項１記載のガスバリヤー性包装材
料。2. The gas barrier packaging material according to claim 1, wherein the thin film of an inorganic substance is silicon oxide.
請求項１記載のガスバリヤー性包装材料。3. The substrate is stretched,
The gas barrier packaging material according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4240627A JPH0693120A (en) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | Gas-barrier packaging material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4240627A JPH0693120A (en) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | Gas-barrier packaging material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0693120A true JPH0693120A (en) | 1994-04-05 |
Family
ID=17062316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4240627A Pending JPH0693120A (en) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | Gas-barrier packaging material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0693120A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994029103A1 (en) * | 1993-06-03 | 1994-12-22 | Tetra Pak (Suisse) Sa | Packaging laminate with gas and aroma barrier properties |
| US5747623A (en) * | 1994-10-14 | 1998-05-05 | Tonen Corporation | Method and composition for forming ceramics and article coated with the ceramics |
| US6858106B1 (en) | 2000-05-26 | 2005-02-22 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Process for producing packaging laminate |
-
1992
- 1992-09-09 JP JP4240627A patent/JPH0693120A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994029103A1 (en) * | 1993-06-03 | 1994-12-22 | Tetra Pak (Suisse) Sa | Packaging laminate with gas and aroma barrier properties |
| EP0943426A3 (en) * | 1993-06-03 | 1999-11-03 | Tetra Pak (Suisse) S.A. | Packaging laminate with gas and aroma barrier properties |
| US5747623A (en) * | 1994-10-14 | 1998-05-05 | Tonen Corporation | Method and composition for forming ceramics and article coated with the ceramics |
| US6858106B1 (en) | 2000-05-26 | 2005-02-22 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Process for producing packaging laminate |
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