JPH0690814B2 - Magneto-optical disk manufacturing method - Google Patents
Magneto-optical disk manufacturing methodInfo
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- JPH0690814B2 JPH0690814B2 JP61104253A JP10425386A JPH0690814B2 JP H0690814 B2 JPH0690814 B2 JP H0690814B2 JP 61104253 A JP61104253 A JP 61104253A JP 10425386 A JP10425386 A JP 10425386A JP H0690814 B2 JPH0690814 B2 JP H0690814B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 案内溝を備えた透明なディスク基板1上に第1の保護膜
2,記録層3,第2の保護膜4と順次に膜形成してなる光磁
気ディスクにおいて、透明なディスク基板1の上に窒化
物と希土類元素とを同時に膜形成して両者の混合物より
なる第1の保護膜6を形成した後、この基板1を加熱す
る安定化処理を行い、続いて記録層3,第2の保護膜4と
膜形成することを特徴として光磁気ディスクの製造方法
を構成する。DETAILED DESCRIPTION [Outline] A first protective film is formed on a transparent disk substrate 1 having a guide groove.
In a magneto-optical disk in which a film 2, a recording layer 3, and a second protective film 4 are sequentially formed, a film of nitride and a rare earth element is simultaneously formed on a transparent disk substrate 1, and a mixture of both is formed. After the first protective film 6 is formed, a stabilizing treatment of heating the substrate 1 is performed, and then the recording layer 3 and the second protective film 4 are formed to form a magneto-optical disk manufacturing method. Constitute.
本発明は経時変化を抑制した光磁気ディスクの製造方法
に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a magneto-optical disk that suppresses the change over time.
光磁気ディスクはレーザ光を用いて高密度の情報記録を
行うメモリであり、光ディスクと同様に記録容量が大き
く、非接触で記録と再生を行うことができ、また塵埃の
影響を受けないなど優れた特徴をもつメモリである。A magneto-optical disk is a memory that records information at high density using laser light, has a large recording capacity like an optical disk, can record and reproduce in a non-contact manner, and is excellent in that it is not affected by dust. It is a memory with unique characteristics.
すなわちレーザ光はレンズによって直径が1μm以下の
小さなスポットに絞り込むことが可能であり、従って1
ビットの情報記録に要する面積が1μm2程度で足りる。That is, the laser beam can be focused by a lens into a small spot having a diameter of 1 μm or less.
The area required to record information on bits is about 1 μm 2 .
そのため磁気ディスク或いは磁気テープが1ビットの情
報記録に数10〜数100μm2の面積が必要なのに較べて遥
かに少なくて済み、従って大容量記録が可能である。For this reason, the magnetic disk or magnetic tape requires much less area than several tens to several hundreds of μm 2 for recording 1-bit information, so that large capacity recording is possible.
このように光源としてレーザ光を用いる光磁気ディスク
および光ディスクは優れた特性を備えているが、この両
者を比較すると光ディスクは記録媒体として融点の低い
非金属あるいは金属との合金を用い、情報の記録と再生
を穴(ピット)の有無により行う読みだし専用メモリ
(Read Only Memory)が主であり、既に実用化されてい
る。As described above, the magneto-optical disc and the optical disc using the laser light as the light source have excellent characteristics. However, by comparing the two, the optical disc uses a non-metal having a low melting point or an alloy with a metal as a recording medium to record information. Mainly read-only memory (Read Only Memory) that plays with and without holes (pits) is already in practical use.
一方、光磁気ディスクは書き換え可能なメモリ(Erasab
le Memory)として開発されたもので、情報の記録と消
去はレーザ照射により磁性膜の温度が上昇した場合に、
磁性膜の保磁力が低下し、僅かの外部磁場の印加により
磁化反転が起こるのを利用して行っており、また情報の
読み出しは磁性膜の磁化の向きにより偏光面の回転方向
が変わることを利用して行われている。On the other hand, a magneto-optical disk is a rewritable memory (Erasab
It was developed as a le memory), and the recording and erasing of information is performed when the temperature of the magnetic film rises due to laser irradiation.
The coercive force of the magnetic film is lowered, and the magnetization reversal is caused by the application of a slight external magnetic field.Information is read out by changing the rotation direction of the polarization plane depending on the magnetization direction of the magnetic film. It is done by using.
光磁気ディスクは第3図に断面構造を示すようにディス
ク状の基板1の上に第1の保護膜2を設け、この上に記
録層3,第2の保護膜4と順次層形成されて構成されてい
る。As shown in the sectional structure of FIG. 3, the magneto-optical disk has a disk-shaped substrate 1 on which a first protective film 2 is provided, on which a recording layer 3 and a second protective film 4 are sequentially formed. It is configured.
ここで、基板1はトラックフォロー用の案内溝(プリグ
ルーブ)を備えたポリメチルメタクリレート(略称PMM
A),ポリカーボネート(略称PC),ポリスチレン(略
称PS),エポキシなどからなる樹脂基板、あるいは平坦
な上記樹脂基板がガラス基板の上に紫外線硬化樹脂を塗
布して案内溝をパターン形成した透明体からなってお
り、この上に第1の保護膜として窒化アルミ(Al N),
窒化チタン(Ti N),窒化シリコン(Si3N4)などの窒
化膜を約1000Åの厚さに被覆して形成されている。Here, the substrate 1 is a polymethylmethacrylate (abbreviated as PMM) provided with a guide groove (pre-groove) for track following.
A), a polycarbonate resin (abbreviated as PC), polystyrene (abbreviated as PS), epoxy resin substrate, or a transparent resin substrate in which the flat resin substrate is coated with UV curable resin on a glass substrate to form guide grooves. On this, aluminum nitride (Al N) as the first protective film,
It is formed by coating a nitride film such as titanium nitride (Ti N) or silicon nitride (Si 3 N 4 ) to a thickness of about 1000Å.
ここで、第1の保護膜2の必要条件は情報の記録,再生
などの処理に当たって、レーザ光は基板1を通して記録
層3に照射されるため、透明で光吸収が少なく、湿気や
酸素などの透過を防ぐ材料からなることである。Here, the necessary condition of the first protective film 2 is that, in the processing such as recording and reproducing of information, the laser light is applied to the recording layer 3 through the substrate 1, so that it is transparent and has little light absorption, and it is possible to prevent moisture and oxygen from being absorbed. It is made of a material that prevents permeation.
次に、記録層3の構成材としては希土類−遷移金属元素
からなる非晶質合金膜が成膜の容易さ、低ノイズなどの
理由から使用されている。Next, as a constituent material of the recording layer 3, an amorphous alloy film composed of a rare earth-transition metal element is used for reasons such as ease of film formation and low noise.
ここで希土類元素はランタン(La),セリウム(Ce),P
r(プラセオジウム),Nd(ネオジム),Pm(プロメチウ
ム),Sm(サマリウム),Eu(ユウロビウム),ガドリニ
ウム(Gd),テルビウム(Tb),ジスプロシウム(D
y),ホルミウム(Ho),エルビウム(Er),ツリウム
(Tm),イッテルビウム(Yb),ルテチウム(Lu)の17
元素を指し、また遷移金属は原子の電子配置において不
完全なd殻をもつ元素、または不完全なd殻をもつ陽イ
オンを生ずる元素で、原子番号が21(Sc)から29(Cu)
まで、39(Y)から49(Ag)まで、57(La)から79(A
u)までの元素である。Here, the rare earth elements are lanthanum (La), cerium (Ce), P
r (praseodymium), Nd (neodymium), Pm (promethium), Sm (samarium), Eu (eurobium), gadolinium (Gd), terbium (Tb), dysprosium (D
y), Holmium (Ho), Erbium (Er), Thulium (Tm), Ytterbium (Yb), Lutetium (Lu) 17
A transition metal is an element that has an incomplete d-shell in the electronic configuration of an atom, or an element that produces a cation with an incomplete d-shell and has an atomic number of 21 (Sc) to 29 (Cu).
From 39 (Y) to 49 (Ag), from 57 (La) to 79 (A
elements up to u).
光磁気ディスクの記録媒体としては、この両者の非晶質
合金膜が使用されているが、代表的な一,二の組成につ
いてカー回転角を示すとGd Feの0.35゜,Tb Feの0.30゜,
Gd Fe Biの0.41゜などである。Both of these amorphous alloy films are used as a recording medium for a magneto-optical disk. The typical Kerr rotation angles for the first and second compositions are 0.35 ° for Gd Fe and 0.30 ° for Tb Fe. ,
It is 0.41 ° of Gd Fe Bi.
次に第2の保護膜4は第1の保護膜2と同様な目的で記
録層3の上に設けられるものであるが、レーザ光の照射
面ではないため、Al,Tiなど耐湿性,耐酸化性のすぐれ
た金属薄膜が用いられている。Next, the second protective film 4 is provided on the recording layer 3 for the same purpose as that of the first protective film 2. However, since it is not the surface irradiated with laser light, it has moisture resistance and acid resistance such as Al and Ti. A metal thin film having excellent chemical properties is used.
然し、このような構成をとっていても経時変化を抑える
効果は充分ではない。However, even with such a structure, the effect of suppressing the change over time is not sufficient.
第2図の破線5は基板1としてPMMAを用い、第1の保護
膜2として約1000Åの厚さのSi3N4膜を、記録層3とし
て約1000Åの厚さのTb Fe Co層を、第2の保護膜4とし
て約1000Åの厚さのTi膜をそれぞれスパッタ法を用いて
形成した光磁気ディスクを60゜の大気中に放置した場合
の保磁力の経時変化を示すものであるが、80時間経過後
において3倍程度に保持力が増加している。A broken line 5 in FIG. 2 uses PMMA as the substrate 1, a Si 3 N 4 film having a thickness of about 1000 Å as the first protective film 2, and a Tb Fe Co layer having a thickness of about 1000 Å as the recording layer 3, The figure shows the change over time in coercive force when a magneto-optical disk formed by sputtering a Ti film having a thickness of about 1000Å as the second protective film 4 is left in the atmosphere at 60 °. After 80 hours, the holding power has increased about 3 times.
ここで縦軸は保磁力の初期値(HCO)に対する保磁力(H
C)の増加率を示している。Here the vertical axis represents the initial value of the coercive force (H CO) for coercive force (H
C ) shows the rate of increase.
このように、従来の光磁気ディスクは記録層3を挟んで
上下に保護膜が設けられているものゝ、記録層の経時変
化は避けられず、信頼性向上のために改良が必要であっ
た。As described above, in the conventional magneto-optical disk, the protective layers are provided on the upper and lower sides of the recording layer 3, so that the recording layer is inevitably changed over time and needs to be improved in order to improve reliability. .
以上記したように従来の光磁気ディスクは記録層の経時
変化を無くするために、この上下に第1の保護膜と第2
の保護膜が設けられているが、それでも記録層の劣化の
抑制には充分に寄与していない。As described above, in the conventional magneto-optical disk, the first protective film and the second protective film are formed above and below the recording layer in order to prevent the recording layer from changing with time.
Although the above protective film is provided, it still does not sufficiently contribute to suppressing the deterioration of the recording layer.
そこで、これを改良して特性の劣化を防ぎ、長期安定性
を確保することが課題である。Therefore, it is a subject to improve this to prevent deterioration of characteristics and ensure long-term stability.
上記の問題は案内溝を備えた透明なディスク基板上に第
1の保護膜,記録層,第2の保護膜と層構成してなる光
磁気ディスクにおいて、記録層を保護する第1の保護膜
が窒化物と希土類元素との混合物よりなる構成をとるこ
とにより解決することができる。The above-mentioned problem is, in a magneto-optical disk in which a first protective film, a recording layer, and a second protective film are layered on a transparent disk substrate having a guide groove, a first protective film for protecting the recording layer. Can be solved by adopting a structure of a mixture of a nitride and a rare earth element.
第2図の破線5に示すように従来の光磁気ディスクで顕
著な特性劣化を示す原因は、従来から知られているよう
に基板あるいは第1の保護膜2から拡散してくる酸素と
水分による記録層3の劣化によるものである。The cause of the remarkable characteristic deterioration in the conventional magneto-optical disk as shown by the broken line 5 in FIG. 2 is oxygen and moisture diffused from the substrate or the first protective film 2 as is conventionally known. This is due to deterioration of the recording layer 3.
ここで、Al N,Si3N4,Ti Nなど半導体デバイスや薄膜ハ
イブリッドデバイスで耐候性保護皮膜として充分な実績
をもつ窒化物が充分な効果を挙げていない理由は記録層
3を構成する希土類元素が非常に酸化し易い金属である
ことによる。Here, the reason why nitrides such as Al N, Si 3 N 4 and Ti N, which have a sufficient track record as weather-resistant protective films in semiconductor devices and thin film hybrid devices, do not show sufficient effects, is that rare earths that constitute the recording layer 3 are used. This is because the element is a metal that is very easily oxidized.
そこで、本発明は希土類元素が酸化し易いのを逆に利用
し、第1の保護膜を窒化物と希土類元素との混合物で形
成することにより基板からの酸素ガスや水分と結合さ
せ、完全なストッパとしての役割りを果たさせるもので
ある。Therefore, the present invention takes advantage of the fact that the rare earth element is easily oxidized, and by forming the first protective film with a mixture of a nitride and a rare earth element, the first protective film is combined with oxygen gas or moisture from the substrate to completely remove the element. It serves as a stopper.
第1図は本発明の原理図を示すもので、従来の第3図と
異なるところは基板1に接して設けられる第1の保護膜
6が従来の窒化物でなく、窒化物と希土類元素との混合
物からなっている点だけが異なっている。FIG. 1 shows the principle of the present invention. The difference from the conventional FIG. 3 is that the first protective film 6 provided in contact with the substrate 1 is not a conventional nitride but a nitride and a rare earth element. The only difference is that it consists of a mixture of.
ここで、希土類元素には有色の元素もあり、窒化物と希
土類元素との混合物からなる第1の保護膜6はレーザ光
の吸収が大きいように思われるが、混合状態にある希土
類元素はかなり窒化しており、そのため厚さが1000Å程
度の第1保護膜6は透明で光損失は微少である。Here, some rare earth elements include colored elements, and the first protective film 6 made of a mixture of a nitride and a rare earth element seems to absorb a large amount of laser light, but rare earth elements in a mixed state are considerably large. Since it is nitrided, the first protective film 6 having a thickness of about 1000Å is transparent and has a small optical loss.
特に窒化物と希土類元素とを窒素雰囲気中でスパッタし
て形成する場合は特に光損失は少ない。Especially, when the nitride and the rare earth element are formed by sputtering in a nitrogen atmosphere, the light loss is particularly small.
本発明はこのように基板1の上に形成した第1の保護膜
6を大気中で加熱し、基板1の中に残留している酸素
(O)や水分をトラップすると共に結晶学的に安定化さ
せた状態で記録層3の形成を行うことにより経時変化の
少ない光磁気ディスクを作るものである。According to the present invention, the first protective film 6 thus formed on the substrate 1 is heated in the atmosphere to trap oxygen (O) and water remaining in the substrate 1 and stabilize crystallographically. By forming the recording layer 3 in the converted state, a magneto-optical disk with little change with time is manufactured.
スパッタ装置内に径8インチのPMMAディスク基板をセッ
トし、径6インチの厚さが5mmのSi3N4ターゲットの上に
10mm角で厚さが1mmのTbチップを8個並べて複合ターゲ
ットとした。Set a PMMA disk substrate with a diameter of 8 inches in the sputtering system and place it on a Si 3 N 4 target with a diameter of 6 inches and a thickness of 5 mm.
Eight Tb chips having a 10 mm square and a thickness of 1 mm were arranged to form a composite target.
この場合、TbターゲットのSi3N4ターゲットに対する比
率は5〜5.2%となる。In this case, the ratio of Tb target to Si 3 N 4 target is 5 to 5.2%.
これをN2圧が1×10-1Pa,RFパワーが600W,成膜速度が10
Å/分の条件で1000Åの厚さの第1の保護膜を形成し
た。The N 2 pressure was 1 × 10 -1 Pa, the RF power was 600 W, and the film deposition rate was 10
The first protective film having a thickness of 1000 Å was formed under the condition of Å / min.
次に、かかる基板を60℃の大気中で10時間に亙って熱処
理を行って安定化させた。Next, the substrate was heat-treated in the air at 60 ° C. for 10 hours to be stabilized.
次に、この基板上に従来と同様な方法でTb Fe Co層を10
00Å、また第2の保護膜としてTiを1000Åの厚さに成膜
して光磁気ディスクを作った。Next, a Tb Fe Co layer is formed on the substrate in the same manner as the conventional method.
A magneto-optical disk was prepared by depositing 00Å and Ti as a second protective film to a thickness of 1000Å.
第2図の実線6はこのようにして形成した光磁気ディス
クを60℃の大気中に放置した場合の保磁力の経時変化
で、1000時間に亙っても保磁力の増加は認められなかっ
た。The solid line 6 in FIG. 2 shows the change over time in coercive force when the magneto-optical disk thus formed was left in the air at 60 ° C. No increase in coercive force was observed even after 1000 hours. .
なお、ターゲットとしてAlN,TiNのような窒化物を用
い、また希土類元素として他の元素を用いた場合も同様
な効果を示し、記録層の劣化を抑制することができた。When a nitride such as AlN or TiN was used as the target and another element was used as the rare earth element, the same effect was exhibited, and the deterioration of the recording layer could be suppressed.
以上記したように本発明の実施により基板からの酸素原
子や水分の浸透による酸化を抑制することが可能とな
り、これにより光磁気ディスクの長期安定性を確保する
ことが可能となる。As described above, by carrying out the present invention, it becomes possible to suppress the oxidation due to the permeation of oxygen atoms and moisture from the substrate, and thus it becomes possible to secure the long-term stability of the magneto-optical disk.
第1図は本発明の原理図、 第2図は光磁気ディスクの経時変化を示す図、 第3図は従来の光磁気ディスク基板の断面図、 である。 図において、 1は基板、2,6は第1の保護膜、 3は記録層、4は第2の保護膜、 である。 FIG. 1 is a principle diagram of the present invention, FIG. 2 is a view showing a change with time of a magneto-optical disk, and FIG. 3 is a sectional view of a conventional magneto-optical disk substrate. In the figure, 1 is a substrate, 2 and 6 are first protective films, 3 is a recording layer, and 4 is a second protective film.
フロントページの続き (72)発明者 岡田 誠二 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−219348(JP,A) 特開 昭59−129956(JP,A) 特開 昭61−22458(JP,A)Front page continuation (72) Inventor Seiji Okada 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Fujitsu Limited (56) References JP-A-62-219348 (JP, A) JP-A-59-129956 (JP, A) JP 61-22458 (JP, A)
Claims (1)
上に、スパッタ法により第1の保護膜(2),記録層
(3),第2の保護膜(4)と順次に膜形成してなる光
磁気ディスクにおいて、 前記透明なディスク基板(1)上に窒化物と希土類元素
とを同時に膜形成して両者の混合物よりなる第1の保護
膜(6)を形成した後、該基板(1)を加熱する安定化
処理を行ない、続いて、記録層(3),第2の保護膜
(4)と膜形成することを特徴とする光磁気ディスクの
製造方法。1. A transparent disk substrate (1) having a guide groove.
A magneto-optical disk having a first protective film (2), a recording layer (3), and a second protective film (4) sequentially formed thereon by a sputtering method, the transparent disk substrate (1) A film of nitride and a rare earth element is simultaneously formed on the upper surface to form a first protective film (6) made of a mixture of both, and then a stabilizing treatment of heating the substrate (1) is performed. A method for manufacturing a magneto-optical disk, which comprises forming a layer (3) and a second protective film (4).
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61104253A JPH0690814B2 (en) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | Magneto-optical disk manufacturing method |
DE8686402530T DE3685649T2 (en) | 1986-01-29 | 1986-11-14 | APPARATUS WITH OPTICAL MEMORY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF. |
EP86402530A EP0231672B1 (en) | 1986-01-29 | 1986-11-14 | Optical memory device and process for fabricating same |
KR1019860009659A KR900003688B1 (en) | 1986-01-29 | 1986-11-15 | Optical memory device and process for fabricating thereof |
Applications Claiming Priority (1)
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JP61104253A JPH0690814B2 (en) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | Magneto-optical disk manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62262246A JPS62262246A (en) | 1987-11-14 |
JPH0690814B2 true JPH0690814B2 (en) | 1994-11-14 |
Family
ID=14375766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP61104253A Expired - Lifetime JPH0690814B2 (en) | 1986-01-29 | 1986-05-07 | Magneto-optical disk manufacturing method |
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Families Citing this family (1)
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JPS6350940A (en) * | 1986-08-20 | 1988-03-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of information recording medium |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62219348A (en) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photomagnetic recording medium |
-
1986
- 1986-05-07 JP JP61104253A patent/JPH0690814B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS62262246A (en) | 1987-11-14 |
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