JPH0682761A - Plasma address display device - Google Patents

Plasma address display device

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Publication number
JPH0682761A
JPH0682761A JP4245922A JP24592292A JPH0682761A JP H0682761 A JPH0682761 A JP H0682761A JP 4245922 A JP4245922 A JP 4245922A JP 24592292 A JP24592292 A JP 24592292A JP H0682761 A JPH0682761 A JP H0682761A
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JP
Japan
Prior art keywords
plasma
electrodes
display device
electrode
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP4245922A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shoichi Tanamachi
正一 棚町
Takehiro Kakizaki
武広 蠣崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
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Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP4245922A priority Critical patent/JPH0682761A/en
Publication of JPH0682761A publication Critical patent/JPH0682761A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133374Constructional arrangements; Manufacturing methods for displaying permanent signs or marks

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PURPOSE:To facilitate the manufacture of a plasma cell used for addressing in a plasma address display device, and stabilize the operation. CONSTITUTION:A plurality of signal electrodes D almost parallel to each other are formed along the main surface of a base 4, and plasma electrodes 7 are printed orthogonally to the signal electrodes D and in parallel to each other. Further, opaque insulating strip patterns 8 or ribs are superposed and printed to be orthogonal to the plasma electrodes 7. Plasma chambers 10 are formed between a liquid crystal layer 5 and a base 6, and an ionizable gas is sealed therein. The gap space of the plasma chambers 10 is controlled by the film thicknesses of the plasma electrodes 7 and the stripe patterns 8. The gas is selectively ionized by the discharge of the adjacent plasma electrodes 7, and by using the discharge area in which the ionized gas is locally present as a scanning unit, the liquid crystal layer 5 situated in the intersection part between the signal electrodes D and the discharge area is driven.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶セル等の表示セルと
プラズマセルを重ねた積層構造を有するプラズマアドレ
ス表示装置に関し、より詳しくはアドレッシングを行な
うプラズマセルのパタン構成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma addressed display device having a laminated structure in which a display cell such as a liquid crystal cell and a plasma cell are stacked, and more particularly to a pattern configuration of a plasma cell for addressing.

【0002】[0002]

【従来の技術】マトリクスタイプの液晶表示装置の高解
像度化及び高コントラスト化を図る為の手段としては、
各表示画素毎に薄膜トランジスタ等のスイッチング素子
を設け、これを線順次で駆動する方式(所謂アクティブ
マトリクスアドレス方式)が一般に知られている。しか
しながら、この方式の場合、薄膜トランジスタ等の半導
体素子を多数基板上に形成する必要があり、特に大面積
化した時に歩留りが悪いという欠点がある。
2. Description of the Related Art As means for achieving high resolution and high contrast of a matrix type liquid crystal display device,
A method in which a switching element such as a thin film transistor is provided for each display pixel and is driven line-sequentially (so-called active matrix address method) is generally known. However, in the case of this method, it is necessary to form a large number of semiconductor elements such as thin film transistors on the substrate, and there is a drawback that the yield is poor especially when the area is increased.

【0003】この欠点を解決する手段として、ブザク等
は特開平1−217396号公報において、薄膜トラン
ジスタ等のスイッチング素子に代えてプラズマセルをア
ドレッシングの為のスイッチとして利用する方式を提案
している。以下、プラズマセルを利用して表示セル例え
ば液晶セルをアドレッシングする表示装置の構成を簡単
に説明する。この種の表示装置は、図6に示す様に、液
晶セル101とプラズマセル102とを薄板ガラス等か
らなる誘電体隔壁103を介して重ねた構造を有してい
る。プラズマセル102は下側の基板104を用いて形
成されており、その表面には互いに平行な複数の溝10
5が設けられている。各溝105は隔壁103によって
気密封止されている。その中にはイオン化可能なガスが
封入されており個々に分離したプラズマ室106を形成
している。従って、各溝105の間の凸条部107は個
々のプラズマ室106を分離する側壁又はリブとしての
役割を果たすとともに、隔壁103に対する基板104
のギャップスペーサとしての役割も果たしている。各溝
105の底部には互いに平行な一対の電極108及び1
09が設けられている。これら一対の電極はプラズマ室
106内のガスをイオン化し放電プラズマを発生する為
のアノード電極及びカソード電極として機能する。
As a means for solving this drawback, Buzaku et al., In Japanese Patent Laid-Open No. 1-217396, proposed a method of using a plasma cell as a switch for addressing instead of a switching element such as a thin film transistor. Hereinafter, the configuration of a display device that uses a plasma cell to address a display cell, for example, a liquid crystal cell will be briefly described. As shown in FIG. 6, this type of display device has a structure in which a liquid crystal cell 101 and a plasma cell 102 are stacked with a dielectric partition wall 103 made of thin plate glass or the like interposed therebetween. The plasma cell 102 is formed using a lower substrate 104, and has a plurality of grooves 10 parallel to each other on its surface.
5 are provided. Each groove 105 is hermetically sealed by a partition 103. An ionizable gas is enclosed therein to form an individually separated plasma chamber 106. Therefore, the ridges 107 between the grooves 105 serve as side walls or ribs for separating the individual plasma chambers 106, and also the substrate 104 for the partition walls 103.
Also plays a role as a gap spacer. The bottom of each groove 105 has a pair of electrodes 108 and 1 parallel to each other.
09 are provided. These pair of electrodes function as an anode electrode and a cathode electrode for ionizing the gas in the plasma chamber 106 and generating discharge plasma.

【0004】一方液晶セル101は誘電体隔壁103と
透明基板110とによって挟持された液晶層111を備
えている。透明基板110の内側表面には、信号電極1
12が形成されている。この透明導電薄膜からなる信号
電極112は個々のプラズマ室106と直交している。
信号電極112が列駆動単位となりプラズマ室106が
行走査単位となって両者の交差部分に行列状の画素が規
定される。
On the other hand, the liquid crystal cell 101 has a liquid crystal layer 111 sandwiched between a dielectric partition 103 and a transparent substrate 110. The signal electrode 1 is formed on the inner surface of the transparent substrate 110.
12 are formed. The signal electrode 112 made of this transparent conductive thin film is orthogonal to each plasma chamber 106.
The signal electrode 112 serves as a column driving unit and the plasma chamber 106 serves as a row scanning unit, and matrix pixels are defined at the intersections of the two.

【0005】かかる表示装置においては、プラズマ放電
が行なわれるプラズマ室106を線順次で切り換え走査
するとともに、液晶セル101側の信号電極112に対
して線順次走査と同期してアナログ駆動電圧を印加する
事により画素を駆動する。プラズマ室106に放電プラ
ズマが発生すると室内全体が略アノード電位に維持され
る。この状態で画素に駆動電圧を印加すると誘電体隔壁
103を介して各画素の液晶層111に電荷が注入され
る。プラズマ放電が終了するとプラズマ室106は浮遊
電位となり注入された電荷が各画素に保持される。所謂
サンプリングホールドが行なわれており、プラズマ室1
06はサンプリングスイッチとして機能する一方液晶層
111はサンプリングキャパシタとして機能する。サン
プリングされた電荷量に応じて液晶が動作し表示装置の
点灯及び消灯が画素単位で行なわれる。
In such a display device, the plasma chamber 106 in which plasma discharge is performed is line-sequentially switched and scanned, and an analog drive voltage is applied to the signal electrode 112 on the liquid crystal cell 101 side in synchronization with the line-sequential scanning. Drive pixels by things. When discharge plasma is generated in the plasma chamber 106, the entire chamber is maintained at a substantially anode potential. When a drive voltage is applied to the pixel in this state, charges are injected into the liquid crystal layer 111 of each pixel via the dielectric partition 103. When the plasma discharge ends, the plasma chamber 106 becomes a floating potential and the injected charges are held in each pixel. The so-called sampling hold is performed and the plasma chamber 1
06 functions as a sampling switch, while the liquid crystal layer 111 functions as a sampling capacitor. The liquid crystal operates according to the sampled charge amount, and the display device is turned on and off in pixel units.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述したプラズマアド
レス表示装置の実用化を図る場合、プラズマセルには構
造上及び製造上様々の問題点がある。一般に、プラズマ
室を構成する溝はフォトリソグラフィ及びエッチングを
用いて形成されていた。しかしながら、高精細及び高密
度の溝を大面積基板に精度良く形成する事は極めて困難
であり又多大の製造コストを要する。さらに、各溝の底
部に設けられるアノード電極やカソード電極等のプラズ
マ電極もやはり真空蒸着薄膜やスパッタ薄膜等の選択的
エッチングにより形成していた。この為、少なくとも溝
形成用のフォトマスクに加えてプラズマ電極形成用のフ
ォトマスクが必要となり、両マスク間の精密な位置合わ
せが困難であるという問題点がある。加えて表示装置を
大型化した場合必然的に薄膜電極が長くなる。薄膜電極
はその抵抗値が比較的大きい為電極に沿った電圧降下が
避けられず安定したプラズマ放電を引き起こす事ができ
ないという問題点がある。
When the plasma addressed display device described above is put to practical use, the plasma cell has various structural and manufacturing problems. Generally, the groove forming the plasma chamber has been formed by photolithography and etching. However, it is extremely difficult to form high-definition and high-density grooves on a large-area substrate with high accuracy, and a large manufacturing cost is required. Further, the plasma electrodes such as the anode electrode and the cathode electrode provided at the bottom of each groove are also formed by selective etching of the vacuum deposition thin film or the sputtered thin film. Therefore, at least a photomask for forming a plasma electrode is required in addition to a photomask for forming a groove, and there is a problem that precise alignment between both masks is difficult. In addition, when the display device is increased in size, the thin film electrode inevitably becomes long. Since the thin film electrode has a relatively large resistance value, a voltage drop along the electrode is inevitable and stable plasma discharge cannot be generated.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上述した従来の技術の問
題点あるいは課題に鑑み、本発明は製造が容易で安定動
作が可能なプラズマセルの構造を提供する事を目的とす
る。かかる目的を達成する為に以下の手段を講じた。即
ち、本発明にかかるプラズマアドレス表示装置は、所定
の主面に沿って互いに略平行な複数の第1電極即ち信号
電極を有する第1の基板を備えている。第2の基板がこ
の第1の基板に対向配置されている。第2の基板の主面
には、前記信号電極と略直交し且つ互いに平行に印刷焼
成された複数の第2電極あるいはプラズマ電極が形成さ
れている。さらに、このプラズマ電極に直交する様に重
ねて不透明な絶縁ストライプパタンも印刷焼成されてい
る。第1及び第2の基板間には液晶層等の電気光学材料
層が間挿されている。この電気光学材料層と第2の基板
間には連続的なプラズマ室が設けられておりイオン化可
能なガスが封入充填されている。かかる構成において、
隣接するプラズマ電極間の放電により封入ガスを選択的
にイオン化し、このイオン化ガスの局在した放電領域を
走査単位として信号電極と放電領域の交差部に位置する
電気光学材料層を駆動する。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the problems or problems of the above-mentioned conventional techniques, it is an object of the present invention to provide a plasma cell structure that is easy to manufacture and can operate stably. The following measures have been taken in order to achieve this object. That is, the plasma addressed display device according to the present invention includes a first substrate having a plurality of first electrodes, that is, signal electrodes, which are substantially parallel to each other along a predetermined main surface. The second substrate is arranged to face the first substrate. On the main surface of the second substrate, a plurality of second electrodes or plasma electrodes, which are printed and baked substantially orthogonal to the signal electrodes and parallel to each other, are formed. Further, an opaque insulating stripe pattern is printed and baked so as to be orthogonal to the plasma electrode. An electro-optical material layer such as a liquid crystal layer is interposed between the first and second substrates. A continuous plasma chamber is provided between the electro-optical material layer and the second substrate and is filled with an ionizable gas. In such a configuration,
The enclosed gas is selectively ionized by the discharge between the adjacent plasma electrodes, and the electro-optical material layer located at the intersection of the signal electrode and the discharge region is driven with the discharge region where the ionized gas is localized as a scanning unit.

【0008】好ましくは、プラズマ電極はニッケル厚膜
電極からなり、絶縁ストライプパタンは黒色ガラス厚膜
からなる。又、本発明の典型的な態様によれば、前記電
気光学材料層と接面する様に誘電体隔壁板が介在すると
ともに、前記絶縁ストライプパタンは平坦且つ連続的な
頂面を有し該誘電体隔壁板に当接支持してリブを構成す
る。特にカラー表示を行なう場合、前記第1の基板に
は、略平行な複数の第1電極に対応して設けられたRG
B三原色カラーフィルタが繰り返し配列されているとと
もに、前記リブは該繰り返し配列のピッチに対して非整
数倍のピッチで配列されている。
Preferably, the plasma electrode is a nickel thick film electrode and the insulating stripe pattern is a black glass thick film. According to a typical aspect of the present invention, a dielectric partition plate is interposed so as to be in contact with the electro-optical material layer, and the insulating stripe pattern has a flat and continuous top surface. A rib is formed by contacting and supporting the body partition plate. Particularly in the case of performing color display, the RG provided corresponding to the plurality of substantially parallel first electrodes on the first substrate.
The B three primary color filters are repeatedly arranged, and the ribs are arranged at a pitch that is a non-integer multiple of the pitch of the repeating arrangement.

【0009】[0009]

【作用】本発明によれば、第2の基板の表面に印刷で厚
膜のプラズマ電極を設けている。厚膜電極は薄膜電極に
比べて抵抗値が小さい為基板を大型化した場合でも電圧
降下を抑制できる。この厚膜プラズマ電極に重ねて直交
する様に絶縁ストライプパタンが印刷されている。スト
ライプパタンとプラズマ電極の交差部は盛り上がってお
りギャップスペーサの役割を果たす。即ち、この交差部
を介して第2の基板を電気光学材料層側に接着する事に
より連続的なプラズマ室を構成でき所謂オープンセル構
造が得られる。オープンセル構造であっても、放電プラ
ズマを各プラズマ電極に沿って局在化する事が可能であ
る。この局在した放電領域を走査単位として表示装置を
駆動する。上述した様に、プラズマ電極と絶縁ストライ
プパタンは直交印刷されており両者の位置合わせは比較
的粗い精度で良い。従って、作業性が向上するとともに
表示装置の製造コストも下げられる。
According to the present invention, a thick film plasma electrode is provided by printing on the surface of the second substrate. Since the thick film electrode has a smaller resistance value than the thin film electrode, the voltage drop can be suppressed even when the substrate is enlarged. An insulating stripe pattern is printed so as to be orthogonal to the thick film plasma electrode. The intersection of the stripe pattern and the plasma electrode is raised and acts as a gap spacer. That is, a continuous plasma chamber can be formed by adhering the second substrate to the electro-optical material layer side through this intersection, so that a so-called open cell structure can be obtained. Even with an open cell structure, discharge plasma can be localized along each plasma electrode. The display device is driven by using the localized discharge region as a scanning unit. As described above, the plasma electrode and the insulating stripe pattern are printed orthogonally, and the alignment between the two can be performed with relatively coarse accuracy. Therefore, the workability is improved and the manufacturing cost of the display device is reduced.

【0010】本発明の一態様によれば、前記絶縁ストラ
イプパタンはリブを構成しており、電気絶縁層側に連続
的に当接する。このリブはプラズマ電極に直交するの
で、走査単位を構成する放電領域はこのリブにより区画
化もしくは細分化される。隣接するプラズマ電極間距離
のばらつき等により特定の個所に放電が集中した場合、
リブにより区画化されているので放電の集中は局在化し
プラズマ放電を安定化できる。
According to one aspect of the present invention, the insulating stripe pattern constitutes a rib and continuously abuts on the electric insulating layer side. Since the rib is orthogonal to the plasma electrode, the discharge region forming the scanning unit is partitioned or subdivided by the rib. When the discharge is concentrated at a specific location due to variations in the distance between adjacent plasma electrodes,
Since it is partitioned by the ribs, the concentration of the discharge is localized and the plasma discharge can be stabilized.

【0011】カラー表示を行なう場合には信号電極に沿
ってRGB三原色カラーフィルタの繰り返し配列が第1
の基板内表面に設けられる。一方、前述したリブは信号
電極と平行なストライプパタンを有するので、RGB三
原色カラーフィルタとも平行な関係にある。加えてリブ
は所定の高さを有する為視角によってはRGB三原色カ
ラーフィルタの一部が遮られ所謂パララックスが発生す
る。この点に鑑み、前記リブはRBG三原色カラーフィ
ルタの繰り返し配列ピッチに対して非整数倍のピッチで
配列されており、特定色のカラーフィルタのみが遮られ
る事のない様にし、視角依存性の色シェーディングを防
止している。
In the case of performing color display, the repeating arrangement of the RGB three primary color filters is the first along the signal electrodes.
Is provided on the inner surface of the substrate. On the other hand, since the above-mentioned rib has a stripe pattern parallel to the signal electrodes, it also has a parallel relationship with the RGB three primary color filters. In addition, since the rib has a predetermined height, a part of the RGB three primary color filters is blocked depending on the viewing angle, so-called parallax occurs. In view of this point, the ribs are arranged at a pitch that is a non-integer multiple with respect to the repeating arrangement pitch of the RBG three primary color filters, so that only the color filters of a specific color are not blocked, and the visual angle-dependent color Prevents shading.

【0012】[0012]

【実施例】以下図面を参照して本発明の好適な実施例を
詳細に説明する。図1はプラズマアドレス表示装置の一
実施例を示す模式的な断面図である。本装置は表示セル
例えば液晶セル1とプラズマセル2と両者の間に介在す
る誘電体隔壁3とを重ねた積層構造を有する。液晶セル
1は透明な基板4を用いて構成される。基板4の内側表
面には列方向に整列した複数本の信号電極Dが形成され
ている。信号電極DはITO等の透明導電薄膜からな
る。基板4は所定の厚みを有するスペーサを介して誘電
体隔壁3に対向配置されている。両者の間隙には電気光
学材料層すなわち液晶層5が封入充填されている。電気
光学材料としては液晶等の流体材料に換えてPLZT等
の固体材料あるいはカプセル化された電気光学材料を用
いる事もできる。固体材料あるいはカプセル化された電
気光学材料を用いた時には誘電体隔壁3を除去する事も
可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a plasma addressed display device. This device has a laminated structure in which a display cell, for example, a liquid crystal cell 1 and a plasma cell 2 and a dielectric partition 3 interposed therebetween are stacked. The liquid crystal cell 1 is composed of a transparent substrate 4. A plurality of signal electrodes D arranged in the column direction are formed on the inner surface of the substrate 4. The signal electrode D is made of a transparent conductive thin film such as ITO. The substrate 4 is arranged to face the dielectric partition wall 3 with a spacer having a predetermined thickness interposed therebetween. An electro-optical material layer, that is, a liquid crystal layer 5 is enclosed and filled in the gap between the two. As the electro-optical material, a solid material such as PLZT or an encapsulated electro-optical material can be used instead of a fluid material such as liquid crystal. When using a solid material or an encapsulated electro-optical material, the dielectric partition 3 can be removed.

【0013】プラズマセル2は下側の基板6を用いて構
成されている。透過型表示装置の場合には一対の基板は
共に透明材料が用いられる。しかしながら、反射型の場
合には一方の基板は必ずしも透明である必要はない。基
板6の内表面にはアノード電極A及びカソード電極Kが
交互に形成されている。これらの電極がプラズマ電極7
となる。なおアノード電極A及びカソード電極Kは必ず
しも固定されたものではなく駆動方法によっては交互に
切り換えられる事もある。プラズマ電極7は列方向に延
びる信号電極Dに直交して配置されており行方向に延在
している。基板6の内表面にはさらに、プラズマ電極7
に直交して重ねられた不透明な絶縁ストライプパタン8
が形成されている。従って、ストライプパタン8は信号
電極Dと同様に列方向に延びている。プラズマ電極7と
ストライプパタン8の交差部に盛り上がった突起9は誘
電体隔壁3に当接している。つまり、この突起9はギャ
ップスペーサの役割を果たし誘電体隔壁3と基板6との
間に連続するプラズマ室10が形成される。プラズマ室
10の周囲は封止材11により気密封止されている。
又、ストライプパタン8はプラズマ電極7が直接誘電体
隔壁3に接触する事を防止している。プラズマ室10の
内部にはイオン化可能なガス例えばヘリウム、ネオン、
アルゴン、キセノンあるいはこれらの混合気体が封入さ
れている。
The plasma cell 2 is constructed using a lower substrate 6. In the case of a transmissive display device, a transparent material is used for both the pair of substrates. However, in the case of the reflection type, one substrate does not necessarily need to be transparent. Anode electrodes A and cathode electrodes K are alternately formed on the inner surface of the substrate 6. These electrodes are plasma electrodes 7
Becomes The anode electrode A and the cathode electrode K are not necessarily fixed and may be alternately switched depending on the driving method. The plasma electrode 7 is arranged orthogonal to the signal electrode D extending in the column direction and extends in the row direction. A plasma electrode 7 is further formed on the inner surface of the substrate 6.
Opaque insulating striped pattern 8 stacked orthogonally to
Are formed. Therefore, the stripe pattern 8 extends in the column direction like the signal electrode D. The protrusion 9 rising at the intersection of the plasma electrode 7 and the stripe pattern 8 is in contact with the dielectric partition wall 3. That is, the protrusion 9 plays the role of a gap spacer, and a continuous plasma chamber 10 is formed between the dielectric partition 3 and the substrate 6. The periphery of the plasma chamber 10 is hermetically sealed by a sealing material 11.
Further, the stripe pattern 8 prevents the plasma electrode 7 from directly contacting the dielectric partition wall 3. Inside the plasma chamber 10, an ionizable gas such as helium, neon,
Argon, xenon, or a mixed gas of these is sealed.

【0014】アノード電極Aとカソード電極Kとの間に
所定の電圧を印加するとガスがイオン化し放電プラズマ
が発生する。この放電プラズマは隣接するアノード電極
Aとカソード電極Kとの間に実質的に局在しており放電
領域を形成する。この放電領域を行走査単位として液晶
セル1を駆動するものである。本実施例においては、プ
ラズマ室10が基板全体に渡って連続した空間となって
いる。従って、プラズマ放電によって発生するイオン粒
子の拡散による解像度の劣化が懸念される。しかしなが
ら、かかる拡散は実際には殆ど生ぜず局在した放電領域
が得られる。良く知られている様に、プラズマ室に封入
されるガスの圧力については、これが高い程イオン粒子
の平均自由行程が小さくなり局在化の傾向が顕著とな
る。従って、このガス圧力をある程度高く設定する事に
より、放電プラズマを局在制御する事が可能である。但
し、ガス圧力を高くすると放電開始電圧が高くなる場合
がある。これについては、パッシェンの法則により、プ
ラズマ電極の間隔即ち隣接するアノード電極Aとカソー
ド電極Kとの間の間隔をガス圧力に反比例して小さく設
定する事により調整可能である。これらガス圧力や電極
間隔の最適値は使用するガスの種類等によっても異なる
が、適当なガスを選びガス圧と電極間隔を最適に設定す
れば1気圧で放電が可能となる。又、ストライプパタン
8の突起9の高さを適当に設定しプラズマ室10のギャ
ップ間隔をある程度小さくする事により、放電プラズマ
の拡散を抑制する事ができる。
When a predetermined voltage is applied between the anode electrode A and the cathode electrode K, the gas is ionized and discharge plasma is generated. This discharge plasma is substantially localized between the adjacent anode electrode A and cathode electrode K and forms a discharge region. The liquid crystal cell 1 is driven by using this discharge region as a row scanning unit. In this embodiment, the plasma chamber 10 is a continuous space over the entire substrate. Therefore, there is concern that the resolution may deteriorate due to the diffusion of ion particles generated by plasma discharge. However, such diffusion practically does not occur and a localized discharge region is obtained. As is well known, with respect to the pressure of the gas sealed in the plasma chamber, the higher the pressure is, the smaller the mean free path of the ion particles and the more prominent the localization tendency. Therefore, the discharge plasma can be locally controlled by setting the gas pressure to be high to some extent. However, if the gas pressure is increased, the discharge starting voltage may increase. This can be adjusted according to Paschen's law by setting the space between the plasma electrodes, that is, the space between the adjacent anode electrode A and cathode electrode K to be small in inverse proportion to the gas pressure. Although the optimum values of the gas pressure and the electrode interval vary depending on the type of gas used, etc., if an appropriate gas is selected and the gas pressure and the electrode interval are optimally set, discharge can be performed at 1 atm. Further, by appropriately setting the height of the protrusions 9 of the stripe pattern 8 and reducing the gap interval of the plasma chamber 10 to some extent, the diffusion of the discharge plasma can be suppressed.

【0015】図2は同一の実施例を示す断面図である
が、図1が列方向に沿って切断されたものであるのに対
して、図2は行方向に沿って切断されたものを示す。即
ち、図1に示すA−A線に沿って切断された断面図であ
る。図から明らかな様に、ストライプパタン8は信号電
極Dと平行な関係で形成されている。加えて、個々のス
トライプパタン8が隣接する信号電極Dの間の隙間に整
合する様に配置されている。ストライプパタン8は不透
明な材料からなりこの隙間に対するブラックストライプ
マスクの役割を果たす。即ち、この隙間に発生するクロ
ストークを外部から視認できない様にマスクする機能を
兼ねている。
FIG. 2 is a sectional view showing the same embodiment, but FIG. 1 is taken along the column direction, whereas FIG. 2 is taken along the row direction. Show. That is, it is a cross-sectional view taken along the line AA shown in FIG. 1. As is clear from the figure, the stripe pattern 8 is formed in parallel with the signal electrode D. In addition, the individual stripe patterns 8 are arranged so as to match the gaps between the adjacent signal electrodes D. The stripe pattern 8 is made of an opaque material and serves as a black stripe mask for this gap. That is, it also has a function of masking the crosstalk generated in this gap so that it cannot be visually recognized from the outside.

【0016】図3は本発明の特徴的構成要素であるプラ
ズマ電極及びストライプパタンの配列を示す模式的な斜
視図である。併せて、信号電極の配列も示してある。加
えて、図のA−A線は図2に関する切断線を示してお
り、B−B線は図1に関する切断線を示している。
FIG. 3 is a schematic perspective view showing an arrangement of plasma electrodes and stripe patterns, which are characteristic components of the present invention. In addition, the arrangement of the signal electrodes is also shown. In addition, the line AA of the figure shows the section line for FIG. 2 and the line BB shows the section line for FIG.

【0017】図示する様に、プラズマ電極7は所定の間
隔を介して列方向に伸びている。プラズマ電極7はスク
リーン印刷等により形成される。例えば、ニッケルペー
スト(例えばデュポン製ニッケルペースト9535)を
1回〜15回線幅50μm〜200μmで短冊状に重ね
印刷する。通常の温度プロファイルに従って焼成処理す
る事により5μm〜200μmの厚みを持つニッケル厚
膜電極が形成される。なお、焼成プロファイルのピーク
温度は例えば570℃〜600℃である。スクリーン印
刷の繰り返し回数を適宜設定する事により所定の膜厚を
得る事ができる。従来のフォトリソグラフィ及びエッチ
ングによる薄膜電極形成に比べて大面積の表示装置を製
造する場合有利である。又、厚膜電極は薄膜電極に比べ
て大きな膜厚を有するので電気抵抗が小さくプラズマ電
極7が長くなった場合でも電圧降下を抑制できる。
As shown in the figure, the plasma electrodes 7 extend in the column direction with a predetermined interval. The plasma electrode 7 is formed by screen printing or the like. For example, nickel paste (for example, DuPont nickel paste 9535) is printed once in a strip shape with a line width of 50 μm to 200 μm. A nickel thick film electrode having a thickness of 5 μm to 200 μm is formed by performing a firing process according to a normal temperature profile. The peak temperature of the firing profile is, for example, 570 ° C to 600 ° C. A predetermined film thickness can be obtained by appropriately setting the number of times screen printing is repeated. This is advantageous when manufacturing a display device having a large area as compared with the conventional thin film electrode formation by photolithography and etching. Further, since the thick film electrode has a larger film thickness than the thin film electrode, the voltage drop can be suppressed even if the electric resistance is small and the plasma electrode 7 becomes long.

【0018】不透明な絶縁ストライプパタン8はプラズ
マ電極7に直交する方向即ち列方向に沿って重ねて印刷
される。例えば、スクリーン印刷法により黒色ガラスペ
ースト(例えばデュポン製ガラスペースト9740)を
1回〜15回線幅50μm〜200μmで短冊状に繰り
返し印刷する。この黒ガラスペーストは通常の温度プロ
ファイル(ピーク温度570℃〜600℃)に従って焼
成処理され黒色ガラス厚膜が得られる。繰り返し印刷回
数を適当に設定する事により5μm〜200μmの厚み
を持つストライプパタンが形成でき、突起9の高さを1
0μm〜400μmの範囲で調節できる。前述した様
に、この突起9の高さがプラズマ室のギャップ間隔を規
定している。絶縁ストライプパタン8のスクリーン印刷
はプラズマ電極7に直交して行なわれる。従って、印刷
スクリーンの位置合わせは比較的粗くて良く製造コスト
を下げる事が可能である。
The opaque insulating stripe patterns 8 are printed in an overlapping manner in the direction orthogonal to the plasma electrodes 7, that is, in the column direction. For example, a black glass paste (for example, DuPont glass paste 9740) is printed once in a strip shape with a line width of 50 μm to 200 μm by a screen printing method. This black glass paste is fired according to a normal temperature profile (peak temperature of 570 ° C. to 600 ° C.) to obtain a black glass thick film. By appropriately setting the number of times of repeated printing, a stripe pattern having a thickness of 5 μm to 200 μm can be formed, and the height of the protrusion 9 can be set to 1
It can be adjusted in the range of 0 μm to 400 μm. As described above, the height of the protrusion 9 defines the gap distance of the plasma chamber. The screen printing of the insulating stripe pattern 8 is performed orthogonal to the plasma electrode 7. Therefore, the alignment of the printing screen is relatively rough, and the manufacturing cost can be reduced.

【0019】一方、信号電極Dは列方向に沿って形成さ
れている。加えて、隣接する信号電極Dの隙間に整合す
る様に不透明なストライプパタン8が配置される。従っ
て、この隙間に発生する所謂クロストークを外部から視
認できない様に効果的にマスクする事ができる。この
為、表示品位が改善される。
On the other hand, the signal electrode D is formed along the column direction. In addition, an opaque stripe pattern 8 is arranged so as to match the gap between the adjacent signal electrodes D. Therefore, so-called crosstalk generated in this gap can be effectively masked so that it cannot be visually recognized from the outside. Therefore, the display quality is improved.

【0020】図4を参照して本発明にかかるプラズマア
ドレス表示装置の動作について説明する。図4は駆動回
路の例を示す模式的なブロック図である。図示する様
に、駆動回路は信号回路21と走査回路22と制御回路
23とから構成されている。信号回路21には複数本の
信号電極D1〜Dmがバッファを介して接続されてい
る。一方、走査回路22にはプラズマ電極の内カソード
電極K1〜Knが同じくバッファを介して接続されてい
る。一方、アノード電極A1〜Anは接地されている。
信号回路21及び走査回路22は制御回路23によって
互いに同期をとる様に制御されている。カソード電極K
1〜Knは走査回路22によって線順次で選択される。
例えば、カソード電極K1が選択された場合には、隣接
するアノード電極A1,A2との間でプラズマ放電が発
生し局在的な放電領域が形成される。この放電領域が行
走査単位を構成する。一方、この線順次走査に同期して
各信号電極D1〜Dmにはアナログ駆動電圧が印加され
る。従って、信号電極D1〜Dmが各々列駆動単位を構
成する。列駆動単位と行走査単位との間の交差部に個々
の画素24が規定される。
The operation of the plasma addressed display device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic block diagram showing an example of a drive circuit. As shown, the drive circuit includes a signal circuit 21, a scanning circuit 22, and a control circuit 23. A plurality of signal electrodes D1 to Dm are connected to the signal circuit 21 via buffers. On the other hand, the inner cathode electrodes K1 to Kn of the plasma electrodes are also connected to the scanning circuit 22 via buffers. On the other hand, the anode electrodes A1 to An are grounded.
The signal circuit 21 and the scanning circuit 22 are controlled by the control circuit 23 so as to synchronize with each other. Cathode electrode K
1 to Kn are line-sequentially selected by the scanning circuit 22.
For example, when the cathode electrode K1 is selected, plasma discharge is generated between the adjacent anode electrodes A1 and A2, and a localized discharge region is formed. This discharge area constitutes a row scanning unit. On the other hand, an analog drive voltage is applied to each of the signal electrodes D1 to Dm in synchronization with the line-sequential scanning. Therefore, each of the signal electrodes D1 to Dm constitutes a column driving unit. Individual pixels 24 are defined at the intersections between the column driving units and the row scanning units.

【0021】図5は図4に示す画素24を2個だけ切り
取って示した模式図である。この図においては、理解を
容易にする為に2本の信号電極D1,D2と1本のカソ
ード電極K1と1本のアノード電極A1のみが示されて
いる。個々の画素24は、信号電極(D1,D2)と、
液晶層5と、誘電体隔壁層3と、プラズマ放電領域とか
らなる積層構造を有している。放電領域は活性化すると
略実質的にアノード電位になる。一方、プラズマ放電が
終了すると浮遊電位となる。従って、放電領域はプラズ
マスイッチング素子として機能するので模式的にスイッ
チシンボルS1を用いて表わされている。一方、信号電
極(D1,D2)と誘電体隔壁3との間に挟持された液
晶層5はサンプリングキャパシタとして機能する。線順
次走査によりプラズマスイッチS1が導通状態になると
アナログ駆動電圧がサンプリングキャパシタにホールド
されその電圧レベルに応じて各画素の階調的な点灯ある
いは消灯動作が行なわれる。プラズマスイッチS1が非
導通状態になった後にも駆動電圧はサンプリングキャパ
シタに保持され画像表示装置のアクティブマトリクス駆
動が行なわれる。
FIG. 5 is a schematic diagram showing only two pixels 24 shown in FIG. In this figure, for ease of understanding, only two signal electrodes D1 and D2, one cathode electrode K1 and one anode electrode A1 are shown. Each pixel 24 has a signal electrode (D1, D2),
It has a laminated structure composed of a liquid crystal layer 5, a dielectric partition layer 3, and a plasma discharge region. When activated, the discharge region is substantially at the anode potential. On the other hand, when the plasma discharge ends, the floating potential is reached. Therefore, the discharge region functions as a plasma switching element and is therefore schematically represented by the switch symbol S1. On the other hand, the liquid crystal layer 5 sandwiched between the signal electrodes (D1, D2) and the dielectric partition 3 functions as a sampling capacitor. When the plasma switch S1 is turned on by the line-sequential scanning, the analog drive voltage is held in the sampling capacitor, and the gradation lighting or extinguishing operation of each pixel is performed according to the voltage level. Even after the plasma switch S1 is turned off, the driving voltage is held in the sampling capacitor and the active matrix driving of the image display device is performed.

【0022】次に、図7を参照して本発明にかかるプラ
ズマアドレス表示装置の他の実施例を説明する。基本的
に、図1に示した実施例と同一の構造を有しており、理
解を容易にする為に対応する部分には対応する参照番号
を付してある。図1に示した実施例と異なる点は、絶縁
ストライプパタン8が平坦且つ連続的な頂面を有し誘電
体隔壁3に当接支持してリブを構成している事である。
換言すると、図1に示す実施例では、プラズマ電極7と
ストライプパタン8の交差部に位置する突起9のみが誘
電体隔壁3に当接しているのに対して、図7に示す実施
例ではこの突起9が完全に連続した構造となっている。
かかる構成を有するリブは、例えば絶縁ストライプパタ
ン8を予め厚めに印刷しておき、その頂面を研磨処理し
て平坦化すれば良い。
Next, another embodiment of the plasma addressed display device according to the present invention will be described with reference to FIG. Basically, it has the same structure as that of the embodiment shown in FIG. 1, and corresponding parts are provided with corresponding reference numerals for easy understanding. The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that the insulating stripe pattern 8 has a flat and continuous top surface and abuts and supports the dielectric partition wall 3 to form a rib.
In other words, in the embodiment shown in FIG. 1, only the projection 9 located at the intersection of the plasma electrode 7 and the stripe pattern 8 is in contact with the dielectric partition wall 3, whereas in the embodiment shown in FIG. The projection 9 has a completely continuous structure.
For the rib having such a structure, for example, the insulating stripe pattern 8 may be printed thickly in advance, and the top surface thereof may be polished to be flattened.

【0023】図8は、図7に示した実施例の平面パタン
を示す模式図である。図示する様にプラズマ電極7とリ
ブ8は互いに直交している。従って、両者の間の相対的
な印刷精度は粗くて良い。一対のアノード電極A及びカ
ソード電極Kの間に規定されるプラズマ室10は、直交
するリブ8によって分割化あるいは区画化されている。
図1に示した実施例と異なり各区画は連通していない。
仮に、カソード電極Kの一部に不規則な突起Pがある
と、放電が強く起りその近傍にイオンや電子が局在す
る。この異常な放電は徐々に拡大し数mmの長さに渡って
放電集中が発生する。この場合、本実施例ではリブ8が
介在しているので、放電集中は1個の区画内に局限さ
れ、隣接する区画は安定した放電を維持する事ができ
る。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a plane pattern of the embodiment shown in FIG. As shown, the plasma electrode 7 and the rib 8 are orthogonal to each other. Therefore, the relative printing accuracy between them may be coarse. The plasma chamber 10 defined between the pair of anode electrodes A and cathode electrodes K is divided or partitioned by the ribs 8 which are orthogonal to each other.
Unlike the embodiment shown in FIG. 1, the compartments do not communicate with each other.
If there is an irregular projection P on a part of the cathode electrode K, discharge will occur strongly and ions and electrons will be localized in the vicinity thereof. This abnormal discharge gradually expands and discharge concentration occurs over a length of several mm. In this case, since the ribs 8 are provided in this embodiment, the discharge concentration is limited to one section, and the adjacent sections can maintain stable discharge.

【0024】図9は参考の為プラズマアドレス表示装置
の比較例を示す。基本的に、図7に示した本発明の実施
例と同一であり、理解を容易にする為に対応する部分に
は対応する参照番号を付してある。この比較例が実施例
と異なる点は、リブ8がプラズマ電極7と直交しておら
ず平行にパタニングされているとともに各プラズマ電極
7と平面的に見て整合している事である。
FIG. 9 shows a comparative example of the plasma addressed display device for reference. Basically, it is the same as the embodiment of the present invention shown in FIG. 7, and corresponding parts are provided with corresponding reference numerals to facilitate understanding. The comparative example is different from the example in that the ribs 8 are not orthogonal to the plasma electrodes 7 but are patterned in parallel and are aligned with the respective plasma electrodes 7 in a plan view.

【0025】図10は、図9に示した比較例の平面パタ
ン形状を示す。隣接するアノード電極A及びカソード電
極Kとの間に規定されるプラズマ室10はこれと平行な
リブ8によって整然と区分けされており、理論的には図
8の直交配列に比べ優れている様に見える。しかしなが
ら、実際にはプラズマ電極とリブを互いに正確に整合し
て積層印刷する事は困難であり、相対的な位置ずれが生
じる。この為、各プラズマ室10で放電電流のばらつき
が大きくなるという欠点がある。例えば、一対のアノー
ド電極AC、カソード電極KRに着目すると、カソード
部が大きく露出している為、プラズマ室10Rの放電電
流が大きくなる。一方、他の一対のカソード電極KL、
アノード電極ACに着目すると、カソード部の露出面積
が比較的小さいのでプラズマ室10Lの放電電流も少な
くなる。これに対して、図8に示した本発明の実施例で
は、何れのカソード電極Kも基本的に同一の露出面積を
有しており、プラズマ室毎の放電電流のばらつきが小さ
いというメリットがある。又図10の比較例では、例え
ばカソード電極KRの突起Pに放電集中が発生すると、
図8に示す構造と異なり何ら遮るものがないので放電集
中が拡大し動作が不安定になるという欠点がある。
FIG. 10 shows a planar pattern shape of the comparative example shown in FIG. The plasma chamber 10 defined between the adjacent anode electrode A and cathode electrode K is neatly divided by the ribs 8 parallel to it, and theoretically seems to be superior to the orthogonal arrangement of FIG. . However, in practice, it is difficult to perform the layered printing by accurately aligning the plasma electrode and the rib with each other, and a relative displacement occurs. For this reason, there is a drawback that the discharge current varies greatly among the plasma chambers 10. For example, focusing on the pair of anode electrode AC and cathode electrode KR, the discharge current of the plasma chamber 10R becomes large because the cathode portion is largely exposed. On the other hand, another pair of cathode electrodes KL,
Focusing on the anode electrode AC, the discharge area of the plasma chamber 10L also decreases because the exposed area of the cathode portion is relatively small. On the other hand, in the embodiment of the present invention shown in FIG. 8, all the cathode electrodes K have basically the same exposed area, and there is an advantage that the variation of the discharge current among the plasma chambers is small. . Further, in the comparative example of FIG. 10, if discharge concentration occurs on the protrusion P of the cathode electrode KR, for example,
Unlike the structure shown in FIG. 8, there is nothing to block, so there is a drawback that discharge concentration is increased and operation becomes unstable.

【0026】図11は、本発明にかかるプラズマアドレ
ス表示装置のさらに他の実施例を示す模式的な断面図で
ある。基本的に、図7に示す実施例と同一の構造を有し
ており対応する部分には対応する参照番号を付して理解
を容易にしている。但し、説明の関係上切断面は図7と
異なりプラズマ電極7と平行になる様にとってある。図
7に示す実施例と異なる点は、カラー表示を行なう為
に、信号電極Dに対応してRGB三原色カラーフィルタ
31が設けられている事である。なお各RGB三原色カ
ラーフィルタ31の境界にはコントラストを上げる為ブ
ラックストライプ32が設けられている。図を見易くす
る為にカラーフィルタの厚みを誇張して描いているが実
際には薄い膜である。一方、信号電極Dと平行なストラ
イプ状のリブ8は夫々ブラックストライプ32と整合し
て配置されている。但し、リブ8の配列ピッチLPはR
GB三原色カラーフィルタ31の繰り返し配列ピッチF
Pと非整数倍の関係にある。本例では、LPはFPの2
/3に設定されている。かかる構成により、視角依存性
の色シェーディングを効果的に防止する事ができる。例
えば矢印33で示す様に左斜め後方から照明光が入射し
た場合を考えると、左から数えて1番目のリブ8により
Gカラーフィルタが遮られる。2番目のリブによりRフ
ィルタが遮られる。3番目のリブによりBフィルタが遮
られる。この様に、入射光のけられは全体として見ると
RGB三原色カラーフィルタの夫々に対して平均的に起
り所謂色シェーディングは生じない。
FIG. 11 is a schematic sectional view showing still another embodiment of the plasma addressed display device according to the present invention. Basically, it has the same structure as that of the embodiment shown in FIG. 7, and corresponding parts are given corresponding reference numerals to facilitate understanding. However, for the sake of explanation, the cut surface is arranged to be parallel to the plasma electrode 7 unlike FIG. The difference from the embodiment shown in FIG. 7 is that an RGB three primary color filter 31 is provided corresponding to the signal electrode D in order to perform color display. A black stripe 32 is provided at the boundary between the RGB primary color filters 31 in order to increase the contrast. The thickness of the color filter is exaggerated in order to make it easier to see, but it is actually a thin film. On the other hand, the stripe-shaped ribs 8 parallel to the signal electrodes D are arranged in alignment with the black stripes 32, respectively. However, the arrangement pitch LP of the ribs 8 is R
GB three primary color filter 31 repeated array pitch F
It has a non-integer multiple relationship with P. In this example, LP is FP 2
It is set to / 3. With this configuration, it is possible to effectively prevent viewing-angle-dependent color shading. For example, considering the case where the illumination light is incident from the diagonally left rear as shown by the arrow 33, the G color filter is blocked by the first rib 8 counting from the left. The second rib blocks the R filter. The third rib blocks the B filter. In this way, the eclipse of the incident light occurs on average for each of the RGB three primary color filters, and so-called color shading does not occur.

【0027】図12は、図11に示した実施例の変形例
を示す。基本的に同一の構造を有しているが、本例では
リブ8の配列ピッチLPがカラーフィルタの繰り返し配
列ピッチFPに対して非整数倍の1/3に設定されてい
る。本例では、矢印33で示す様に左斜め後方から入射
した光が各リブ8によって略等しくけられ、RGB三原
色カラーフィルタ間に不均衡が生じない。
FIG. 12 shows a modification of the embodiment shown in FIG. Although they have basically the same structure, the arrangement pitch LP of the ribs 8 is set to 1/3 which is a non-integer multiple of the repeating arrangement pitch FP of the color filter in this example. In this example, as shown by the arrow 33, the light incident from the left oblique rear side is substantially equally divided by the ribs 8, and an imbalance does not occur between the RGB three primary color filters.

【0028】図13は参考の為比較例を示す。この比較
例ではリブ8の配列ピッチLPが三原色カラーフィルタ
31の繰り返し配列ピッチFPに等しく設定されてい
る。従って、左斜め後方から入射した光に対して、常に
Gカラーフィルタのみが影になる。換言すると、RGB
三原色表示の内G成分のみの強度が弱くなるので色シェ
ーディングが発生する。一般に、リブ8の配列ピッチL
Pを三原色カラーフィルタの繰り返し配列ピッチFPに
対して整数倍に設定すると色シェーディングが顕著にな
り好ましくない。
FIG. 13 shows a comparative example for reference. In this comparative example, the arrangement pitch LP of the ribs 8 is set equal to the repeating arrangement pitch FP of the three primary color filters 31. Therefore, only the G color filter always has a shadow with respect to the light incident from the diagonally left rear. In other words, RGB
Since the intensity of only the G component in the display of the three primary colors becomes weak, color shading occurs. Generally, the arrangement pitch L of the ribs 8
If P is set to an integral multiple of the repeating array pitch FP of the three primary color filters, color shading becomes remarkable, which is not preferable.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、プ
ラズマ電極を印刷法により形成しているので従来に比し
電気抵抗が小さくなる。従って、大面積化した場合にも
電圧降下を有効に抑制でき安定なプラズマ放電が行なえ
るという効果がある。従来と異なり、印刷法を用いてい
るので大面積表示装置の製造に有利であり製造コストを
低減できるという効果がある。又、同じく印刷法により
プラズマ電極に直交して不透明な絶縁ストライプパタン
を重ねて形成しており、プラズマセルのギャップ制御機
能をもたせている。この為、従来に比しその製造工程が
簡単になるという効果がある。さらに、ストライプパタ
ンはプラズマ電極に直交して印刷されるので印刷マスク
の位置合わせ精度が粗くて済み作業性に優れているとい
う効果がある。加えて、絶縁ストライプパタンの頂面を
平坦且つ連続的な形状としリブを構成する事により、プ
ラズマセルの区画化を行ないプラズマ放電を従来に比し
安定且つ均一にできるという効果がある。又、信号電極
に整合してRGB三原色カラーフィルタを設けた場合に
は、リブの配列ピッチを三原色カラーフィルタの繰り返
し配列ピッチに対して非整数倍とする事により、色シェ
ーディングを有効に防止する事ができるという効果があ
る。
As described above, according to the present invention, since the plasma electrode is formed by the printing method, the electric resistance becomes smaller than the conventional one. Therefore, even if the area is increased, the voltage drop can be effectively suppressed and stable plasma discharge can be performed. Unlike the conventional method, the printing method is used, which is advantageous for manufacturing a large-area display device and has an effect of reducing manufacturing cost. Further, similarly, an opaque insulating stripe pattern is formed so as to be orthogonal to the plasma electrodes by a printing method so as to have a gap control function of the plasma cell. Therefore, there is an effect that the manufacturing process is simpler than the conventional one. Further, since the stripe pattern is printed orthogonally to the plasma electrode, the alignment accuracy of the print mask is rough and the workability is excellent. In addition, by forming the ribs with a flat and continuous top surface of the insulating stripe pattern, the plasma cell can be partitioned and the plasma discharge can be made stable and uniform as compared with the conventional case. Further, when the RGB three primary color filters are provided in alignment with the signal electrodes, the rib shading pitch is set to be a non-integer multiple of the repeating primary pitch of the three primary color filters to effectively prevent color shading. There is an effect that can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にかかるプラズマアドレス表示装置の一
実施例を示す模式的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a plasma addressed display device according to the present invention.

【図2】図1に示す表示装置をA−A線に沿って切断し
た断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the display device shown in FIG. 1 taken along line AA.

【図3】本発明の特徴的な要素であるプラズマ電極及び
ストライプパタンの配列を示す模式的な斜視図である。
FIG. 3 is a schematic perspective view showing an arrangement of plasma electrodes and stripe patterns, which are characteristic elements of the present invention.

【図4】図1及び図2に示す表示装置に用いられる駆動
回路の一例を示す模式的なブロック図である。
4 is a schematic block diagram showing an example of a drive circuit used in the display device shown in FIGS. 1 and 2. FIG.

【図5】図1及び図2に示す表示装置の画素を切り取っ
て示した模式的な線図である。
5 is a schematic diagram in which pixels of the display device shown in FIGS. 1 and 2 are cut out and shown. FIG.

【図6】従来のプラズマアドレス表示装置の例を示す一
部破断斜視図である。
FIG. 6 is a partially cutaway perspective view showing an example of a conventional plasma addressed display device.

【図7】本発明にかかるプラズマアドレス表示装置の他
の実施例を示す模式的な断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the plasma addressed display device according to the present invention.

【図8】図7に示す実施例のパタン平面図である。FIG. 8 is a pattern plan view of the embodiment shown in FIG.

【図9】比較例であるプラズマアドレス表示装置の模式
的な断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a plasma addressed display device as a comparative example.

【図10】図9に示したプラズマアドレス表示装置のパ
タン形状を示す平面図である。
10 is a plan view showing a pattern shape of the plasma addressed display device shown in FIG.

【図11】本発明にかかるプラズマアドレス表示装置の
さらに別の実施例を示す模式的な断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing still another embodiment of the plasma addressed display device according to the present invention.

【図12】図11に示した実施例の変形例を表わす断面
図である。
FIG. 12 is a sectional view showing a modification of the embodiment shown in FIG.

【図13】プラズマアドレス表示装置の比較例を示す模
式的な断面図である。
FIG. 13 is a schematic sectional view showing a comparative example of a plasma addressed display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶セル 2 プラズマセル 3 誘電体隔壁 4 基板 5 液晶層 6 基板 7 プラズマ電極 8 ストライプパタン(リブ) 9 突起 10 プラズマ室 31 カラーフィルタ 32 ブラックストライプ A アノード D 信号電極 K カソード 1 Liquid Crystal Cell 2 Plasma Cell 3 Dielectric Partition 4 Substrate 5 Liquid Crystal Layer 6 Substrate 7 Plasma Electrode 8 Stripe Pattern (Rib) 9 Protrusion 10 Plasma Chamber 31 Color Filter 32 Black Stripe A Anode D Signal Electrode K Cathode

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の主面に沿って互いに略平行な複数
の第1電極を有する第1の基板と、前記第1の基板に対
向配置されており所定の主面に沿って前記第1電極と略
直交し且つ互いに平行に印刷された複数の第2電極とこ
の第2電極に直交する様に重ねて印刷された不透明な絶
縁ストライプパタンを有する第2の基板と、前記第1及
び第2の基板間に間挿された電気光学材料層と、この電
気光学材料層と前記第2の基板間に設けられたイオン化
可能なガスを封入する為のプラズマ室とからなり、隣接
する第2電極間の放電により前記ガスを選択的にイオン
化し、このイオン化ガスの局在した放電領域を走査単位
として前記第1電極と前記放電領域の交差部に位置する
電気光学材料層を駆動する様に構成したプラズマアドレ
ス表示装置。
1. A first substrate having a plurality of first electrodes that are substantially parallel to each other along a predetermined main surface, and a first substrate that is disposed so as to face the first substrate and that follows the predetermined main surface. A second substrate having a plurality of second electrodes printed substantially orthogonal to the electrodes and parallel to each other, and an opaque insulating stripe pattern printed so as to be orthogonal to the second electrodes; An electro-optical material layer interposed between two substrates, and a plasma chamber for enclosing the ionizable gas, which is provided between the electro-optical material layer and the second substrate. The gas is selectively ionized by the discharge between the electrodes, and the electro-optical material layer located at the intersection of the first electrode and the discharge region is driven by using the localized discharge region of the ionized gas as a scanning unit. The configured plasma address display device.
【請求項2】 前記第2電極がニッケル厚膜電極であ
り、前記絶縁ストライプパタンが黒色ガラス厚膜である
請求項1記載のプラズマアドレス表示装置。
2. The plasma address display device according to claim 1, wherein the second electrode is a nickel thick film electrode, and the insulating stripe pattern is a black glass thick film.
【請求項3】 前記電気光学材料層と接面する様に誘電
体隔壁板が介在するとともに、前記絶縁ストライプパタ
ンは平坦且つ連続的な頂面を有し該誘電体隔壁板に当接
支持してリブを構成する請求項1記載のプラズマアドレ
ス表示装置。
3. A dielectric partition plate is interposed so as to be in contact with the electro-optical material layer, and the insulating stripe pattern has a flat and continuous top surface and is in contact with and supported by the dielectric partition plate. The plasma addressed display device according to claim 1, wherein the ribs are formed by a rib.
【請求項4】 前記第1の基板は、略平行な複数の第1
電極に対応して設けられたRGB三原色カラーフィルタ
の繰返し配列を備えている請求項3記載のプラズマアド
レス表示装置。
4. The first substrate comprises a plurality of first parallel substrates.
4. The plasma addressed display device according to claim 3, further comprising a repeating array of RGB three primary color filters provided corresponding to the electrodes.
【請求項5】 前記リブは該RGB三原色カラーフィル
タの繰り返し配列のピッチに対して非整数倍のピッチで
配列されている請求項4記載のプラズマアドレス表示装
置。
5. The plasma address display device according to claim 4, wherein the ribs are arranged at a pitch that is a non-integer multiple of the pitch of the repeating arrangement of the RGB three primary color filters.
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