JPH0674912A - Container stain monitoring device - Google Patents
Container stain monitoring deviceInfo
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- JPH0674912A JPH0674912A JP24728392A JP24728392A JPH0674912A JP H0674912 A JPH0674912 A JP H0674912A JP 24728392 A JP24728392 A JP 24728392A JP 24728392 A JP24728392 A JP 24728392A JP H0674912 A JPH0674912 A JP H0674912A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は容器の汚れモニタリング
装置に係り、特に真空、減圧及び常圧下で用いる容器の
汚れをモニタリングするための容器の汚れモニタリング
装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a container fouling monitoring device, and more particularly to a container fouling monitoring device for monitoring fouling of a container used under vacuum, reduced pressure and normal pressure.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体製造工程では、ウエハを搬送した
り保管したりするのに、粒子の存在のない空間を創りだ
す可能性のある真空下や極めて清浄度の高い窒素（Ｎ
2 ）雰囲気下で行うことがある。しかしながら、粒子の
存在のない真空、清浄度の高いＮ2 雰囲気下であるとは
いえ、搬送用のトンネルや保管庫は、ウエハ表面に塗布
されているレジストや、ウエハ裏面に付着しているレジ
ストが剥離しできる粒子、バルブ開閉に伴い発生する粒
子、Ｎ2 を用いた場合にはＮ2 中に含まれるわずかな粒
子等が壁に付着し汚れる。そして、壁に付着した粒子は
真空排気、真空リークの時の気流や機械の振動等によっ
て剥離し、ウエハを汚染し、製品の歩留まりの低下の原
因となることがある。2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, when a wafer is transferred or stored, it is possible to create a particle-free space under a vacuum or with an extremely clean nitrogen (N
2 ) May be performed in an atmosphere. However, even though the particle-free vacuum and N 2 atmosphere with a high degree of cleanliness, the transfer tunnel and the storage are provided with the resist applied to the front surface of the wafer or the resist attached to the back surface of the wafer. Can be peeled off, particles generated by opening and closing the valve, and when N 2 is used, a small amount of particles contained in N 2 adhere to the wall and stain. The particles adhering to the walls may be separated by vacuum exhaust, air flow at the time of vacuum leak, vibration of the machine, etc. to contaminate the wafer and cause a reduction in product yield.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】この壁に付着した汚れ
を取り除くのに、現状では作業員が経験的に洗浄時期を
定め洗浄を行っている。例えば、搬送を何十回繰り返し
たら、一回洗浄するとか、保管を何百時間行ったら一回
洗浄するとか言うような具合である。しかしながら、こ
のように経験にたよる方法では、正確な洗浄時期を知る
事ができず、容器が汚れていなくても分解し洗浄してし
まう場合があり、非能率的であるという問題点があっ
た。In order to remove the dirt adhering to the wall, at present, an operator empirically determines the cleaning time and performs cleaning. For example, if the transportation is repeated tens of times, it is washed once, or if it is stored for hundreds of hours, it is washed once. However, in such an experience-based method, it is not possible to know the exact cleaning time, and even if the container is not dirty, it may be disassembled and cleaned, which is inefficient. It was
【０００４】本発明は上述の事情に鑑みなされたもの
で、その目的とする処は、経験にたよることなく容器の
汚れを光学的手段を用いて正確にモニタリングできる容
器の汚れモニタリング装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a container contamination monitoring device capable of accurately monitoring contamination of a container using optical means without relying on experience. To do.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ため、本発明の容器の汚れモニタリング装置は、容器の
壁面の汚れをモニタリングする装置であって、容器の外
側に設置された光源と、容器の壁面に設けられ前記光源
からの光を容器内の鏡面に導く透光性材料と、前記鏡面
上に存在する異物から散乱光となって前記透光性材料を
透過した光を受ける暗視野顕微鏡とを備えたことを特徴
とするものである。In order to achieve the above-mentioned object, a container dirt monitoring device of the present invention is a device for monitoring dirt on a wall surface of a container, and includes a light source installed outside the container, A light-transmitting material that is provided on the wall surface of the container and guides light from the light source to a mirror surface inside the container, and a dark field that receives light transmitted through the light-transmitting material as scattered light from foreign matter existing on the mirror surface. It is characterized by having a microscope.
【０００６】本発明の容器には、搬送用真空トンネル、
真空保管庫、搬送用真空トンネル及び真空保管庫以外の
真空チャンバ、常圧で使用する搬送用トンネル、常圧で
使用する保管庫、常圧で使用する搬送用トンネル及び保
管庫以外の容器等が含まれる。The container of the present invention includes a vacuum tunnel for transportation,
Vacuum storage, vacuum tunnel for transfer and vacuum chambers other than vacuum storage, transfer tunnel used at normal pressure, storage used at normal pressure, transfer tunnel used at normal pressure and containers other than storage included.
【０００７】[0007]
【作用】前述した構成からなる本発明によれば、光源か
ら発した光は容器の壁面に設けられた透光性材料を透過
し、容器内の鏡面に到達する。鏡面に粒子等の異物、す
なわち、汚れがあれば、前記光は汚れによって散乱光と
なって透光性材料を透過し、暗視野顕微鏡に到達する。
この散乱光を暗視野顕微鏡により観察することにより、
容器の汚染状況が定量的に把握でき、汚れのモニタリン
グができる。According to the present invention having the above-described structure, the light emitted from the light source passes through the light-transmitting material provided on the wall surface of the container and reaches the mirror surface in the container. If there is foreign matter such as particles on the mirror surface, that is, dirt, the light becomes scattered light due to the dirt, passes through the translucent material, and reaches the dark field microscope.
By observing this scattered light with a dark field microscope,
The contamination status of the container can be grasped quantitatively and the contamination can be monitored.
【０００８】[0008]
【実施例】以下、本発明に係る容器の汚れモニタリング
装置の実施例を図面を参照して説明する。まず、図１を
参照して汚れモニタリング方法の原理を説明する。光源
１とプリズム２とが設置されており、光源１から発した
光はプリズム２によって試料（例えば、ウエハ）３及び
試料３上に付着した粒子（汚れ）Ｐに導かれるようにな
っている。試料３の上方には暗視野顕微鏡４が設置され
ている。なお暗視野顕微鏡４は限外顕微鏡とも称されるDETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a container contamination monitoring device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. First, the principle of the stain monitoring method will be described with reference to FIG. A light source 1 and a prism 2 are installed, and light emitted from the light source 1 is guided by the prism 2 to a sample (for example, a wafer) 3 and particles (dirt) P attached to the sample 3. A dark field microscope 4 is installed above the sample 3. The dark field microscope 4 is also called an ultra microscope.
【０００９】前記暗視野顕微鏡４は顕微鏡レンズ４ａと
ビデオカメラ４ｂとを具備しており、ビデオカメラ４ｂ
はモニタテレビ５に接続されている。しかして、図１に
おいて、光源１から発した光をプリズム２を介して試料
３の表面に照射する。試料３の表面に粒子Ｐすなわち汚
れがあれば、光の散乱により粒子は輝く。その散乱され
輝く粒子Ｐを暗視野顕微鏡４で観察する。暗視野顕微鏡
４はモニタテレビ５に接続されているため、モニタテレ
ビ５上に粒子Ｐが写し出される。これにより粒子Ｐの有
無及び数量が判別される。The dark field microscope 4 comprises a microscope lens 4a and a video camera 4b, and a video camera 4b.
Is connected to the monitor TV 5. Then, in FIG. 1, the light emitted from the light source 1 is applied to the surface of the sample 3 via the prism 2. If the surface of the sample 3 has particles P, that is, dirt, the particles shine due to light scattering. The scattered and bright particles P are observed with the dark field microscope 4. Since the dark field microscope 4 is connected to the monitor television 5, the particles P are projected on the monitor television 5. Thereby, the presence or absence and the number of particles P are determined.
【００１０】暗視野顕微鏡は、鏡面上にある粒子に光を
照射し、その散乱光を顕微鏡を用いて観察するもので、
粒子は白く輝き鏡面部は黒くなるので、粒子すなわち汚
れを発見するのに極めて有効である。また、暗視野顕微
鏡は散乱光を観察するため、もともとの粒子よりも散乱
光は大きくなるので、通常、光学顕微鏡では観察できな
い１μｍ以下の小さな粒子の存在まで見つけることがで
きる。A dark-field microscope is one in which particles on a mirror surface are irradiated with light and the scattered light is observed using a microscope.
The particles shine white and the mirror surface becomes black, which is very useful for finding particles or stains. Further, since the dark-field microscope observes scattered light, the scattered light becomes larger than that of the original particles, so that it is possible to detect even the presence of small particles of 1 μm or less, which cannot be usually observed by an optical microscope.
【００１１】ここで用いる試料はウエハ、鏡面仕上げが
なされているアルミ板を用い試料表面は鏡面側とする。
また、チャンバーの一部を鏡面仕上げしそこを試料表面
としてもよい。通常はウエハの一部を切り取りその鏡面
側を試料面として用いる。光源となるランプは重水素ラ
ンプ、水銀ランプ、ハロゲンランプ、タングステンラン
プ、Ａｒレーザ、Ｈｅ−Ｎｅレーザ、半導体レーザ等何
でもよいが、通常は、Ｈｅ−Ｎｅレーザ、ＧａＡｓなど
の半導体レーザを用いる。The sample used here is a wafer and an aluminum plate with a mirror finish, and the sample surface is on the mirror side.
Further, a part of the chamber may be mirror-finished and used as the sample surface. Usually, a part of the wafer is cut out and the mirror side thereof is used as the sample surface. The lamp serving as the light source may be any of a deuterium lamp, a mercury lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, an Ar laser, a He-Ne laser, a semiconductor laser, etc., but a He-Ne laser, a semiconductor laser such as GaAs is usually used.
【００１２】散乱光はＭｉｅの理論式により（１）式で
表せる。 Ｉ（θ）＝（Ｉ0π2ｄ6／８Ｒ2λ4）・（ｍ2−１／ｍ2 ＋２)2（１＋ｃｏｓ θ2）…（１） Ｉ（θ）＝散乱光強度 Ｉ0 ＝照射する光の強度 ｄ ＝粒径 Ｒ ＝粒子からの距離 ｍ ＝屈折率 λ ＝光の波長The scattered light can be expressed by the equation (1) according to Mie's theoretical equation. I (θ) = (I 0 π 2 d 6 / 8R 2 λ 4 ) · (m 2 −1 / m 2 +2) 2 (1 + cos θ 2 ) ... (1) I (θ) = scattered light intensity I 0 = Intensity of irradiation light d = particle size R = distance from particle m = refractive index λ = wavelength of light
【００１３】したがって粒径の小さいものを観察する場
合には波長が短く、強度の強い光源を用いる方が有利で
ある。普通に使用するＨｅ−Ｎｅレーザ、λ＝６３２．
８ｎｍの光によって０．２〜０．３μｍ以上の粒子の観
察が可能である。Therefore, when observing an object having a small particle size, it is advantageous to use a light source having a short wavelength and a high intensity. He-Ne laser commonly used, λ = 632.
Particles of 0.2 to 0.3 μm or more can be observed with 8 nm light.
【００１４】次に、上記原理に基づく容器の汚れモニタ
リング装置を図２を参照して説明する。容器の一種であ
る真空トンネル１０に隣接して、これも容器の一種であ
る汚れモニタ用真空チャンバ１１が設置されている。真
空トンネル１０と真空チャンバ１１との間はゲートバル
ブＶ1 によって開閉可能に仕切られている。真空チャン
バ１１の壁面の一部は透光性材料であるガラス１２によ
って構成されている。そして、真空チャンバ１１内に
は、ＸＹステージ１３が設置されている。また、真空チ
ャンバ１１にはマニプレータ１４が設置されている。Next, a container contamination monitoring device based on the above principle will be described with reference to FIG. Adjacent to the vacuum tunnel 10 which is a kind of container, a vacuum chamber 11 for contamination monitoring which is also a kind of container is installed. A gate valve V 1 partitions the vacuum tunnel 10 and the vacuum chamber 11 so as to be opened and closed. A part of the wall surface of the vacuum chamber 11 is made of glass 12 which is a translucent material. An XY stage 13 is installed in the vacuum chamber 11. A manipulator 14 is installed in the vacuum chamber 11.
【００１５】一方、真空トンネル１０及び真空チャンバ
１１の外側には、図１に示す光源１、プリズム２、暗視
野顕微鏡４及びモニタテレビ５が設置されている。次
に、前述のように構成された容器の汚れモニタリング装
置の使用手順を説明する。ここでは、試料にウエハを用
いている。試料３をモニタリング部である汚れモニタ用
真空チャンバ１１内に入れ、ゲートバルブＶ1 を開け
る。次に、マニプレータ１４を用いて試料３を真空トン
ネル１０内に置き、ゲートバルブＶ1 を閉じる。一定時
間経過後、ゲートバルブＶ1 を開け、マニプレータ１４
を用いて試料３をモニタリング部である真空チャンバ１
１内に移す。On the other hand, outside the vacuum tunnel 10 and the vacuum chamber 11, the light source 1, the prism 2, the dark field microscope 4 and the monitor television 5 shown in FIG. 1 are installed. Next, a procedure for using the container contamination monitoring device configured as described above will be described. Here, a wafer is used as the sample. The sample 3 is put into the contamination monitoring vacuum chamber 11 which is a monitoring unit, and the gate valve V 1 is opened. Next, the sample 3 is placed in the vacuum tunnel 10 using the manipulator 14, and the gate valve V 1 is closed. After a certain period of time, the gate valve V 1 is opened and the manipulator 14 is opened.
Sample 3 using the vacuum chamber 1 as a monitoring unit
Move to 1.
【００１６】次に、光源１から発した光をプリズム２を
介して試料３の表面に照射する。試料３の表面に粒子Ｐ
すなわち汚れがあれば、光の散乱により粒子は輝く、そ
の散乱され輝く粒子Ｐを暗視野顕微鏡４で把え、モニタ
テレビ５を用いて観察する。そして、ＸＹステージ１３
を用いて試料３の一定の面積内の粒子数を計測する。一
定面積内の粒子数を計測することにより真空トンネル１
０内の壁の汚れ量を定量的に知ることができる。粒子の
観察はモニタテレビを用いずに直接顕微鏡を通して肉眼
で行ってもよい。Next, the light emitted from the light source 1 is applied to the surface of the sample 3 via the prism 2. Particle P on the surface of sample 3
That is, if there is dirt, the particles shine due to light scattering, and the scattered and shining particles P are grasped by the dark field microscope 4 and observed using the monitor television 5. And the XY stage 13
Is used to measure the number of particles within a certain area of the sample 3. Vacuum tunnel 1 by measuring the number of particles in a certain area
The amount of dirt on the wall inside 0 can be quantitatively known. The observation of particles may be carried out directly with a microscope without using a monitor TV, and may be visually observed.
【００１７】次に、図３を参照して、図１に示す暗視野
顕微鏡４とは異なったタイプの暗視野顕微鏡を用いた汚
れモニタリング方法の原理を説明する。暗視野顕微鏡４
に隣接して光源１が設置されている。暗視野顕微鏡４は
顕微鏡レンズ４ａとビデオカメラ４ｂとを具備してお
り、ビデオカメラ４ｂはモニタテレビ５に接続されてい
る。Next, the principle of a stain monitoring method using a dark field microscope of a type different from the dark field microscope 4 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. Dark field microscope 4
The light source 1 is installed adjacent to. The dark field microscope 4 includes a microscope lens 4a and a video camera 4b, and the video camera 4b is connected to a monitor television 5.
【００１８】しかして、光源１からでた光が顕微鏡レン
ズ４ａの外周部に内蔵された光ファイバーの中を通過
し、レンズの焦点位置に照射される。なお、符号１５は
光路である。試料３上に粒子Ｐ、即ち汚れがあれば、光
の散乱により粒子Ｐは輝く。その散乱された光を顕微鏡
を用いて観察する。散乱光の有無、数量から試料の汚れ
の度合いを知ることができる。Thus, the light emitted from the light source 1 passes through the optical fiber built in the outer peripheral portion of the microscope lens 4a and is irradiated to the focal position of the lens. Reference numeral 15 is an optical path. If there is a particle P, that is, a stain on the sample 3, the particle P shines due to light scattering. The scattered light is observed with a microscope. The degree of contamination of the sample can be known from the presence or absence of scattered light and the quantity.
【００１９】次に、上記原理に基づく容器の汚れモニタ
リング装置を図４を参照して説明する。容器の一種であ
る真空トンネル１０に隣接して、これも容器の一種であ
る汚れモニタ用真空チャンバ１１が設置されている。真
空トンネル１０と真空チャンバ１１との間はゲートバル
ブＶ1 によって開閉可能に仕切られている。真空チャン
バ１１の壁面の一部は透光性材料であるガラス１２によ
って構成されている。そして、真空チャンバ１１内には
ＸＹＺステージ１６が設置されている。又、真空チャン
バ１１にはマニプレータ１４が設置されている。Next, a container contamination monitoring device based on the above principle will be described with reference to FIG. Adjacent to the vacuum tunnel 10 which is a kind of container, a vacuum chamber 11 for contamination monitoring which is also a kind of container is installed. A gate valve V 1 partitions the vacuum tunnel 10 and the vacuum chamber 11 so as to be opened and closed. A part of the wall surface of the vacuum chamber 11 is made of glass 12 which is a translucent material. An XYZ stage 16 is installed in the vacuum chamber 11. A manipulator 14 is installed in the vacuum chamber 11.
【００２０】一方、真空トンネル１０及び真空チャンバ
１１の外側には、図３に示す光源１、暗視野顕微鏡４及
びモニタテレビ５が設置されている。次に、前述のよう
に構成された容器の汚れモニタリング装置の使用手順を
説明する。ここでは、試料にウエハを用いている。試料
３をモニタリング部である汚れモニタ用真空チャンバ１
１内に入れ、ゲートバルブＶ1 を開ける。次に、マニプ
レータ１４を用いて試料３を真空トンネル１０内に置
き、ゲートバルブＶ1 を閉じる。一定時間経過後、ゲー
トバルブＶ1 を開け、マニプレータ１４を用いて試料３
をモニタリング部である真空チャンバ１１内に移す。そ
して、ＸＹＺステージ１６のＺ軸を動かし焦点を合わせ
る。On the other hand, outside the vacuum tunnel 10 and the vacuum chamber 11, the light source 1, the dark field microscope 4 and the monitor television 5 shown in FIG. 3 are installed. Next, a procedure for using the container contamination monitoring device configured as described above will be described. Here, a wafer is used as the sample. Vacuum chamber 1 for contamination monitoring, which is the monitoring unit for sample 3
1 and open the gate valve V 1 . Next, the sample 3 is placed in the vacuum tunnel 10 using the manipulator 14, and the gate valve V 1 is closed. After a certain period of time, the gate valve V 1 was opened and the manipulator 14 was used to prepare the sample 3
Is transferred to the vacuum chamber 11 which is a monitoring unit. Then, the Z axis of the XYZ stage 16 is moved to focus.
【００２１】次に、光源１から発した光を顕微鏡レンズ
４ａの外周部に内蔵された光ファイバーを介して試料３
の表面に照射する。試料３の表面に粒子Ｐすなわち汚れ
があれば、光の散乱により粒子は輝く。その散乱され輝
く粒子Ｐを暗視野顕微鏡４で把え、モニタテレビ５を用
いて観察する。そしてＸＹＺステージ１６のＸ軸及びＹ
軸を動かし、試料３の一定の面積内の粒子数を計測す
る。一定面積内の粒子数を計測することにより真空トン
ネル１０内の壁の汚れ量を定量的に知ることができる。
粒子の観察はモニタテレビを用いずに直接顕微鏡を通し
て肉眼で行ってもよい。Next, the light emitted from the light source 1 is passed through the optical fiber built in the outer peripheral portion of the microscope lens 4a to form the sample 3
Irradiate the surface of. If the surface of the sample 3 has particles P, that is, dirt, the particles shine due to light scattering. The scattered and shining particles P are grasped by the dark field microscope 4 and observed using the monitor television 5. Then, the X axis and Y of the XYZ stage 16
The axis is moved and the number of particles in a fixed area of the sample 3 is measured. By measuring the number of particles in a certain area, the amount of dirt on the wall inside the vacuum tunnel 10 can be quantitatively known.
The observation of particles may be carried out directly with a microscope without using a monitor TV, and may be visually observed.
【００２２】図２及び図４に示す実施例では真空トンネ
ルが汚れないように、真空トンネルと汚れモニタリング
部を分けたが、真空トンネル内にモニタリング部を設け
てもよい。また、試料にウエハを用いずに、前述したよ
うに真空トンネル又は真空チャンバの一部を鏡面にし
て、それを利用してもよい。ＸＹステージを用いたスキ
ャンニングは、光路（光源とプリズム）とビデオカメラ
を連動させ、ウエハを動かないようにしてもよい。In the embodiment shown in FIGS. 2 and 4, the vacuum tunnel and the contamination monitoring section are separated so that the vacuum tunnel is not contaminated, but the monitoring section may be provided in the vacuum tunnel. Further, instead of using a wafer as a sample, a part of the vacuum tunnel or the vacuum chamber may be mirror-finished and used as described above. In the scanning using the XY stage, the optical path (light source and prism) and the video camera may be interlocked to keep the wafer stationary.
【００２３】実施例では真空トンネルに暗視野顕微鏡を
用いた汚れモニタリング装置を取付けた場合のみ説明し
たが、同様の方法により、真空保管庫、真空トンネル及
び真空保管庫以外の真空チャンパ、常圧下で用いる搬送
用のトンネル、保管庫、常圧下で用いる搬送用のトンネ
ル及び保管庫以外の容器にも暗視野顕微鏡を用いたモニ
タリング装置を取付け、汚れのモニタリングをすること
ができる。In the embodiments, only the case where the dirt monitoring device using a dark field microscope is attached to the vacuum tunnel has been described. A monitoring device using a dark-field microscope can be attached to a container other than the transport tunnel to be used, the storage, the transport tunnel to be used under normal pressure, and the storage to monitor contamination.
【００２４】[0024]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
容器の汚れを光学的手段を用いて正確にモニタリングす
ることができる。したがって、半導体製造工程等におい
て、容器の壁に付着した汚染物質が剥離、飛散してウエ
ハに付着しウエハを汚染する事態を防止でき、歩留りの
向上を図ることができる。As described above, according to the present invention,
Container fouling can be accurately monitored using optical means. Therefore, in a semiconductor manufacturing process or the like, it is possible to prevent the contaminants attached to the wall of the container from being separated and scattered and attached to the wafer to contaminate the wafer, thereby improving the yield.
【図１】本発明に係る容器の汚れモニタリング装置の基
本原理を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing the basic principle of a container contamination monitoring device according to the present invention.
【図２】本発明に係る容器の汚れモニタリング装置の一
実施例を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory view showing an embodiment of the container contamination monitoring device according to the present invention.
【図３】本発明に係る容器の汚れモニタリング装置の他
の原理を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing another principle of the container contamination monitoring device according to the present invention.
【図４】本発明に係る容器の汚れモニタリング装置の他
の実施例を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing another embodiment of the container contamination monitoring device according to the present invention.
１ 光源 ２ プリズム ３ 試料 ４ 暗視野顕微鏡 ５ モニタテレビ １０ 真空トンネル １１ 真空チャンバ １２ ガラス １３ ＸＹステージ １４ マニプレータ １５ 光路 １６ ＸＹＺステージ 1 Light Source 2 Prism 3 Sample 4 Dark Field Microscope 5 Monitor TV 10 Vacuum Tunnel 11 Vacuum Chamber 12 Glass 13 XY Stage 14 Manipulator 15 Optical Path 16 XYZ Stage
Claims (1)
置であって、容器の外側に設置された光源と、容器の壁
面に設けられ前記光源からの光を容器内の鏡面に導く透
光性材料と、前記鏡面上に存在する異物から散乱光とな
って前記透光性材料を透過した光を受ける暗視野顕微鏡
とを備えたことを特徴とする容器の汚れモニタリング装
置。1. A device for monitoring dirt on a wall surface of a container, the light source being installed outside the container, and a translucent material provided on the wall surface of the container to guide light from the light source to a mirror surface in the container. And a dark field microscope which receives scattered light from foreign matter existing on the mirror surface and which has been transmitted through the light transmissive material.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24728392A JP3194495B2 (en) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | Container contamination monitoring device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24728392A JP3194495B2 (en) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | Container contamination monitoring device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0674912A true JPH0674912A (en) | 1994-03-18 |
| JP3194495B2 JP3194495B2 (en) | 2001-07-30 |
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ID=17161152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24728392A Expired - Fee Related JP3194495B2 (en) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | Container contamination monitoring device |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3194495B2 (en) |
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| JP2003075268A (en) * | 2001-09-06 | 2003-03-12 | Central Japan Railway Co | Measuring instrument for temperature or joint gap of rail |
| JP2006245440A (en) * | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Tdk Corp | Method for storing substrate and method for manufacturing coil component |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3916379A1 (en) * | 2020-05-29 | 2021-12-01 | Becton Dickinson France | Method for inspecting a medical container and system used therefor |
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1992
- 1992-08-24 JP JP24728392A patent/JP3194495B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
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|---|---|
| JP3194495B2 (en) | 2001-07-30 |
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Legal Events
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