JPH0668988A - Revolver type multi-rfq ion accelerator - Google Patents

Revolver type multi-rfq ion accelerator

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JPH0668988A
JPH0668988A JP22294592A JP22294592A JPH0668988A JP H0668988 A JPH0668988 A JP H0668988A JP 22294592 A JP22294592 A JP 22294592A JP 22294592 A JP22294592 A JP 22294592A JP H0668988 A JPH0668988 A JP H0668988A
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JP
Japan
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ion
rfq
accelerator
acceleration
support
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Application number
JP22294592A
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Japanese (ja)
Inventor
Akiyoshi Yamamoto
顕義 山本
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IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To adjust the acceleration energy of ions by providing a plurality of RFQ ion acceleration parts radially around the rotation shaft extending in the passing direction of particles, and by storing the acceleration parts in a vacuum chamber so that the acceleration parts can be rotated freely. CONSTITUTION:Required ions are drawn from an ion source, accelerated by an RFQ ion accelerator 9, and are sent to an end station. A rotation shaft 14 is supported in the center of a cylindrical vacuum chamber 13 in the accelerator 9, and a base board 15 is provided in an integrated manner with the rotation shaft around the rotation shaft, so that they can be rotated freely. Ion acceleration parts 16-19 are provided in the longitudinal direction, on the four side surfaces of the base board 15. The acceleration parts 16-19 are formed by raising a support 5 for supporting a pair of rods 6 that are opposed to one another sandwiching a passing direction A of particles, and the support 5 for supporting a pair of rods 6, which crosses the rod 6, on the base board 15 in the longitudinal direction of the base board 15. The acceleration parts can be provided radially on the shaft 14, and are stored in the chamber 13 so that they can be rotated freely, and the ion acceleration energy can thus be adjusted freely.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は高周波粒子加速器の1種
であるRFQ(Radio−Frequency−Qu
adrupole)に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is an RFQ (Radio-Frequency-Qu) which is one type of high frequency particle accelerator.
adrupole).

【0002】[0002]

【従来の技術】RFQイオン加速器は従来の静電加速器
に比べて大電流のイオンをMeVオーダまで容易に加速
できる上に、ドリフトチューブ等に比し入射エネルギー
が小さくなって、構造も比較的簡単であるため、産業用
イオン打込装置、分析装置等のイオン加速器として好都
合である。
2. Description of the Related Art The RFQ ion accelerator is capable of easily accelerating large-current ions to the MeV order as compared with the conventional electrostatic accelerator, and the incident energy is smaller than that of a drift tube and the structure is relatively simple. Therefore, it is convenient as an ion accelerator for industrial ion implanters, analyzers and the like.

【0003】図3及び図4はこのRFQイオン加速器の
構造例を示したものである。図示するように、このRF
Qイオン加速器2は真空排気されたチャンバ1内のベー
スプレート4上に、第一のサポート5aと第二のサポー
ト5bが間隔をおいて立設されており、第一のサポート
5aにはイオンの通路Aを挾んで相対向する一対のロッ
ド6a,6dが支持され、第二のサポート5bにはロッ
ド6a,6dと交差する方向に相対向する一対のロッド
6b,6cが支持された構造をしている。そして、この
RFQイオン加速器に高周波電力を供給することによっ
て第一のサポート5a,ベースプレート4及び第二サポ
ート5bを通じて共振電流iが流れ、隣接するロッド6
a〜6d間に電場が発生する。この状態でロッド6a〜
6dの中心部(図中A方向)に粒子ビームを入射する
と、そのビームはロッド6a〜6d間の4重極電場によ
って集束と加速とを受けて出射される。
3 and 4 show an example of the structure of this RFQ ion accelerator. As shown, this RF
The Q ion accelerator 2 has a first support 5a and a second support 5b which are erected at a distance from each other on a base plate 4 in the chamber 1 which is evacuated, and an ion passage is provided in the first support 5a. A pair of rods 6a and 6d that face each other across A are supported, and a pair of rods 6b and 6c that face each other in a direction intersecting with the rods 6a and 6d are supported by the second support 5b. There is. Then, by supplying high-frequency power to this RFQ ion accelerator, the resonance current i flows through the first support 5a, the base plate 4 and the second support 5b, and the adjacent rod 6
An electric field is generated between a and 6d. In this state, the rod 6a-
When a particle beam is incident on the central portion of 6d (direction A in the figure), the beam is focused and accelerated by the quadrupole electric field between the rods 6a to 6d and emitted.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記RFQ
における加速エネルギーは通常、共振周波数の2乗に比
例するため、RFQをイオン打込み装置に適用する場
合、共振周波数を任意に可変することが不可欠である。
しかしながら、この共振周波数は幾何学的寸法、すなわ
ち共振電流iの経路長(サポート高さHの2倍と間隔D
の和)によるインダクタンスLと、ロッド6a〜6d間
の静電容量Cによって決定されるため、従来のRFQに
あっては、この共振周波数は固定されており、これを任
意に変更することはできなかった。
By the way, the RFQ
Since the acceleration energy in is usually proportional to the square of the resonance frequency, it is essential to arbitrarily change the resonance frequency when applying RFQ to the ion implantation apparatus.
However, this resonance frequency has a geometrical dimension, that is, the path length of the resonance current i (twice the support height H and the distance D
The resonance frequency is fixed in the conventional RFQ, and can be changed arbitrarily because it is determined by the inductance L due to the sum of) and the capacitance C between the rods 6a to 6d. There wasn't.

【0005】従って、必要とする共振周波数の数だけR
FQを用意したり、RFQの下流側に、さらに空洞共振
器などのエネルギ調整手段を1段あるいは複数段設けた
りしてイオンの加速エネルギーを調整する必要があるた
め、装置が大型化したり、コストが非常に高価になって
しまうといった問題点があった。
Therefore, the number of required resonance frequencies is R.
Since it is necessary to adjust the acceleration energy of the ions by preparing an FQ or by providing one or more energy adjusting means such as a cavity resonator on the downstream side of the RFQ, the apparatus becomes large and the cost is reduced. There was a problem that it became very expensive.

【0006】そこで、本発明は上述した問題点を有効に
解決するために案出されたものであり、その目的は必要
に応じてイオンの加速エネルギーを調整することができ
るリボルバー型マルチRFQイオン加速器を提供するも
のである。
Therefore, the present invention has been devised to effectively solve the above-mentioned problems, and the purpose thereof is to provide a revolver type multi-RFQ ion accelerator capable of adjusting the ion acceleration energy as needed. Is provided.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は基台上に粒子の通路を挾んで相対向する一対
のロッドを支持する第一のサポートと、上記一対のロッ
ドと交差する方向に相対向する一対のロッドを支持する
第二のサポートとを所定の間隔を隔てて交互に立設した
RFQイオン加速部を、上記サポートの高さを異ならし
めて複数形成すると共に、これら複数のRFQイオン加
速部を上記粒子の通過方向に延出した回転軸の周囲に、
放射状に設けると共に、これを真空チャンバー内に回転
自在に収容したものである。
SUMMARY OF THE INVENTION To achieve the above object, the present invention provides a first support for supporting a pair of rods facing each other across a passage of particles on a base, and intersecting the pair of rods. A plurality of RFQ ion accelerating parts, in which a second support supporting a pair of rods facing each other in a direction opposite to each other are alternately set up at a predetermined interval, are formed at different heights of the support, and a plurality of these RFQ ion accelerating parts are formed. Around the rotation axis extending the RFQ ion accelerating part of the above in the passage direction of the particles,
It is provided radially and is housed rotatably in a vacuum chamber.

【0008】[0008]

【作用】本発明は上述したように、サポートの高さが異
なる複数のRFQイオン加速部を回転軸の周囲に、これ
を中心にして放射状に設けると共に、これを真空チャン
バー内に回転自在に収容したことにより、多くのエネル
ギのイオンビームを容易に得ることができる。また、回
転軸を回転駆動することだけで、容易に所望のRFQイ
オン加速部に変更することができる。
As described above, according to the present invention, a plurality of RFQ ion accelerating parts having different support heights are radially provided around the rotation axis and centered around the rotation axis, and are rotatably housed in the vacuum chamber. By doing so, an ion beam with a large amount of energy can be easily obtained. Further, it is possible to easily change to a desired RFQ ion accelerating unit simply by rotationally driving the rotating shaft.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図面に基づい
て詳述する。
An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

【0010】図2は本発明のリボルバー型マルチRFQ
イオン加速器を備えたイオン打込装置の一実施例を示し
たものである。図示するように、このイオン注入装置は
真空排気されたイオン源(IS)7と、このイオン源
(IS)7の下流側に接続された第一質量分析磁石(A
M)8と、本発明のリボルバー型マルチRFQイオン加
速器(RFQ)9を介して接続された4重極磁石(Q
M)10と、この4重極磁石(QM)10の下流側に接
続された第二質量分析磁石(AM)11と、この第二質
量分析磁石(AM)11の下流側に接続されたエンドス
テーション12とから構成されており、イオン源(I
S)7のうち、必要とする1種のイオンを取り出し、こ
れを本発明のリボルバー型マルチRFQイオン加速器
(RFQ)9で加速してエンドステーション12に送る
ようになっている。
FIG. 2 shows a revolver type multi-RFQ according to the present invention.
1 shows an embodiment of an ion implanting device equipped with an ion accelerator. As shown in the figure, this ion implanter includes an evacuated ion source (IS) 7 and a first mass analysis magnet (A) connected to the downstream side of the ion source (IS) 7.
M) 8 and a quadrupole magnet (Q) connected via a revolver type multi-RFQ ion accelerator (RFQ) 9 of the present invention.
M) 10, a second mass analysis magnet (AM) 11 connected to the downstream side of the quadrupole magnet (QM) 10, and an end connected to the downstream side of the second mass analysis magnet (AM) 11. Station 12 and the ion source (I
One of the required ions is taken out of S) 7, accelerated by the revolver type multi-RFQ ion accelerator (RFQ) 9 of the present invention, and sent to the end station 12.

【0011】このリボルバー型マルチRFQイオン加速
器9は図1及び図2に示すように、円筒状をした真空チ
ャンバー13の中心に回転軸14が軸支されており、ま
た、この回転軸14の周囲には、これを囲繞するように
導電性材料で形成された断面四角形の基台15が回転軸
14と一体的に回転自在に設けられている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the revolver type multi-RFQ ion accelerator 9 has a rotary shaft 14 supported at the center of a vacuum chamber 13 having a cylindrical shape, and the periphery of the rotary shaft 14. A base 15 having a quadrangular cross section and formed of a conductive material is provided to surround the rotary shaft 14 so as to be rotatable integrally with the rotary shaft 14.

【0012】また、この基台15の4つの側面には、そ
の長さ方向に沿ってそれぞれ第一イオン加速部16、第
二イオン加速部17、第三イオン加速部18、第四イオ
ン加速部19といった4つのRFQイオン加速器が設け
られている。
Further, on the four side surfaces of the base 15, along the length direction thereof, a first ion accelerator 16, a second ion accelerator 17, a third ion accelerator 18, and a fourth ion accelerator are respectively provided. Four RFQ ion accelerators, such as 19, are provided.

【0013】これらRFQイオン加速部16,17,1
8,19は上述したように、ベースプレートとなる基台
15上に粒子の通過方向Aを挾んで相対向する一対のロ
ッド6を支持する第一のサポート5と、上記一対のロッ
ド6と交差する方向に相対向する一対のロッド6を支持
する第二のサポート5とを基台15の長さ方向に沿って
所定の間隔を隔てて交互に立設して形成されている。ま
た、これら4つのイオン加速部のそれぞれのサポート5
の高さは第一イオン加速部16が最も高く(h1 )、次
いで第二イオン加速部17(h2 )、第三イオン加速部
18(h3 )となり、第四イオン加速部19(h4 )が
最も低くなっている。
These RFQ ion accelerators 16, 17, 1
As described above, the reference numerals 8 and 19 intersect the pair of rods 6 with the first support 5 that supports the pair of rods 6 that face each other across the passage direction A of the particles on the base 15 that serves as the base plate. The second supports 5 that support a pair of rods 6 facing each other in the direction are alternately formed upright at predetermined intervals along the length direction of the base 15. Also, support for each of these four ion accelerators 5
Of the first ion acceleration unit 16 (h 1 ), the second ion acceleration unit 17 (h 2 ), the third ion acceleration unit 18 (h 3 ), and the fourth ion acceleration unit 19 (h 4 ) is the lowest.

【0014】また、図示するように、第一イオン加速部
16を除く、第二イオン加速部17、第三イオン加速部
18、第四イオン加速部19の各サポート5は基台15
上に設けられた高さの異なる導電性のベースプレート2
0,21,22を介して設けられており、また、これら
ベースプレート20,21,22の高さはベースプレー
ト20が最も低く、ベースプレート21、22になるに
従って順次その高さが高くなっている。この高さ関係を
具体的に説明すると、ベースプレート20の高さは第一
イオン加速部16の高さ(h1 )から第二イオン加速部
17の高さ(h2 )を差し引いた高さであり、また、ベ
ースプレート21の高さは第一イオン加速部16の高さ
(h1 )から第三イオン加速部18の高さ(h3 )を差
し引いたものであり、さらにベースプレート22の高さ
は第一イオン加速部16の高さ(h1 )から第四イオン
加速部19の高さ(h4 )を差し引いた高さとなってい
る。
Further, as shown in the drawing, each support 5 of the second ion acceleration unit 17, the third ion acceleration unit 18, and the fourth ion acceleration unit 19 excluding the first ion acceleration unit 16 is a base 15.
Conductive base plates 2 with different heights provided above
The height of the base plates 20, 21, 22 is the lowest in the base plate 20, and the heights of the base plates 21 and 22 increase sequentially. Explaining this height relationship concretely, the height of the base plate 20 is the height obtained by subtracting the height (h 2 ) of the second ion acceleration unit 17 from the height (h 1 ) of the first ion acceleration unit 16. The height of the base plate 21 is obtained by subtracting the height (h 3 ) of the third ion acceleration unit 18 from the height (h 1 ) of the first ion acceleration unit 16, and the height of the base plate 22. Is the height obtained by subtracting the height (h 4 ) of the fourth ion accelerator 19 from the height (h 1 ) of the first ion accelerator 16.

【0015】従って、回転軸14に対する、これら第一
イオン加速部16、第二イオン加速部17、第三イオン
加速部18、第四イオン加速部19の粒子の通路Aは全
て同じ高さとなっている。また、上述したように、これ
ら第一イオン加速部16、第二イオン加速部17、第三
イオン加速部18、第四イオン加速部19のそれぞれの
電流経路長は第一イオン加速部16が最も長く、以下第
二イオン加速部17、第三イオン加速部18、第四イオ
ン加速部19になるにしたがって順次短くなっているた
め、インダクタンスLによる共振周波数が異なって加速
エネルギーも第一イオン加速部16から第四イオン加速
部19になるに従って順次強くなっている。
Therefore, the particle paths A of the first ion accelerating section 16, the second ion accelerating section 17, the third ion accelerating section 18, and the fourth ion accelerating section 19 with respect to the rotating shaft 14 are all at the same height. There is. Further, as described above, the current path length of each of the first ion acceleration unit 16, the second ion acceleration unit 17, the third ion acceleration unit 18, and the fourth ion acceleration unit 19 is the largest in the first ion acceleration unit 16. Since the resonance frequency due to the inductance L is different, the acceleration energy is also longer than the first ion acceleration unit because the second ion acceleration unit 17, the third ion acceleration unit 18, and the fourth ion acceleration unit 19 sequentially become shorter. The intensity gradually increases from 16 to the fourth ion accelerator 19.

【0016】また、図2に示すように上記回転軸14の
端部には、この回転軸14を90゜ずつ段階的に回転す
るための回転駆動機構28が設けられており、第一イオ
ン加速部16、第二イオン加速部17、第三イオン加速
部18、第四イオン加速部19のいずれかの粒子の通過
位置Aが、真空チャンバー13に形成されたイオン入射
部23に位置するように回転制御するようになってい
る。この回転駆動機構28はステップモータのような駆
動モータを用いて自動的に駆動制御するように構成して
も良く、また、手動により任意に駆動させるものであっ
ても良い。
Further, as shown in FIG. 2, a rotary drive mechanism 28 for rotating the rotary shaft 14 in steps of 90 ° is provided at the end of the rotary shaft 14 for the first ion acceleration. The particle passing position A of any one of the portion 16, the second ion accelerating portion 17, the third ion accelerating portion 18, and the fourth ion accelerating portion 19 is located at the ion incident portion 23 formed in the vacuum chamber 13. It is designed to control rotation. The rotary drive mechanism 28 may be configured to automatically drive and control using a drive motor such as a step motor, or may be manually driven arbitrarily.

【0017】尚、図1中24,25はそれぞれ共振周波
数を微調整するためのチューナー、高周波電力を供給す
るためのカップラ、26は真空チャンバー13内を真空
排気するための排気管、図2図中27は加速されたイオ
ンを上記4重極磁石10側へ出射するためのイオン出射
部である。
1, 24 and 25 are tuners for finely adjusting the resonance frequency, a coupler for supplying high-frequency power, and 26 is an exhaust pipe for evacuating the inside of the vacuum chamber 13, and FIG. The middle 27 is an ion emitting portion for emitting accelerated ions to the quadrupole magnet 10 side.

【0018】次に、本実施例の作用を説明する。Next, the operation of this embodiment will be described.

【0019】図2に示すように、イオン源(IS)7で
発生したイオンは第一質量分析磁石(AM)8によって
質量分析されて所望の質量のイオンのみが導出され、本
発明のリボルバー型マルチRFQイオン加速器9の真空
チャンバー13に形成された入射部23から真空チャン
バー13内に入射される。そして、このイオンはイオン
入射部23に位置する、例えば第一イオン加速部16に
よって所定の加速エネルギーを受けて加速されてイオン
出射部27から出射されると共に、4重極磁石(QM)
10で成形され、さらに、第二質量分析磁石(AM)1
1で所望のエネルギーかつ質量のイオンのみが選択的に
導出された後、エンドステーション12でターゲット
(図示せず)に注入されることになる。
As shown in FIG. 2, the ions generated by the ion source (IS) 7 are mass-analyzed by the first mass analysis magnet (AM) 8 to derive only ions having a desired mass, and the revolver type of the present invention is used. The multi-RFQ ion accelerator 9 is made to enter the vacuum chamber 13 from an entrance portion 23 formed in the vacuum chamber 13. Then, the ions are positioned in the ion incidence unit 23, for example, are accelerated by receiving predetermined acceleration energy by the first ion acceleration unit 16 and are emitted from the ion emission unit 27, and are also quadrupole magnets (QM).
The second mass analysis magnet (AM) 1
Only ions of desired energy and mass are selectively extracted at 1 and then injected into a target (not shown) at the end station 12.

【0020】この時、リボルバー型マルチRFQイオン
加速器9で加速されるイオンの加速エネルギーは第一イ
オン加速部16固有の共振周波数によって決定されるこ
とになる。すなわち、このRFQにおける共振周波数f
は、 f∝1/2π(LC)1/2 …(1) と表される。ここでCはロッド間の静電容量であり、ま
た、Lは基台15またはベースプレート20〜22で決
まるインダクタンスで、基台15またはベースプレート
20〜22の上面からビームA位置までの高さHの2倍
とそれぞれのサポート5の間隔の和(電流経路長)によ
ってきまる。このため、サポート5の高さが異なればイ
ンダクタンスLひいては共振周波数fが異なり、1種の
イオンを所望のエネルギーで加速することができる。
At this time, the acceleration energy of the ions accelerated by the revolver type multi-RFQ ion accelerator 9 is determined by the resonance frequency specific to the first ion accelerator 16. That is, the resonance frequency f at this RFQ
Is expressed as f∝1 / 2π (LC) 1/2 (1). Here, C is the capacitance between the rods, L is the inductance determined by the base 15 or base plates 20-22, and the height H from the upper surface of the base 15 or base plates 20-22 to the beam A position is It depends on twice the sum of the intervals of the supports 5 (current path length). Therefore, if the height of the support 5 is different, the inductance L and thus the resonance frequency f are different, and one type of ion can be accelerated with desired energy.

【0021】例えば、基台15に対して最も、高さの高
いサポートを使用している第一イオン加速部16を基準
にして考えると、第二イオン加速部17では、サポート
間の距離が同じであっても、その電流経路長はベースプ
レート20の高さ×2の分だけ、第一イオン加速部16
より短いため、インダクタンスLも小さくなり、これを
式(1)に当て嵌めると、その共振周波数は増大するこ
とになる。従って、第二イオン加速部17の加速エネル
ギーは第一イオン加速部16も大きいものとなる。ま
た、第三イオン加速部18にあっては、上述したよう
に、第一イオン加速部16よりは勿論、第二イオン加速
部17よりも、そのサポートの高さが低くなっているた
め、電流経路長も短く、インダクタンスLも小さくなっ
て、その共振周波数はさらに大きいものとなる。また、
さらに、第四イオン加速部19に至っては、そのサポー
ト高さが4つのイオン加速部のうち、最も低いため、電
流経路長も最も短く、インダクタンスLも最も小さくな
って、その共振周波数は4つのイオン加速部のうち、最
も高いものとなる。
Considering, for example, the first ion accelerating unit 16 using a support having the highest height with respect to the base 15, the second ion accelerating unit 17 has the same distance between the supports. However, the current path length is equal to the height of the base plate × 2, and the first ion acceleration unit 16
Since it is shorter, the inductance L also becomes smaller, and if this is applied to equation (1), its resonance frequency will increase. Therefore, the acceleration energy of the second ion acceleration unit 17 is also large in the first ion acceleration unit 16. Further, in the third ion accelerating section 18, as described above, the height of the support is lower than that of the second ion accelerating section 17 as well as the first ion accelerating section 16, so that the current The path length is short, the inductance L is small, and the resonance frequency is even higher. Also,
Further, since the support height of the fourth ion acceleration unit 19 is the lowest among the four ion acceleration units, the current path length is the shortest, the inductance L is also the smallest, and its resonance frequency is four. It is the highest among the ion accelerators.

【0022】従って、回転駆動機構28によって回転軸
14を回転させることによって、これら4つのイオン加
速部16,17,18,19のいずれかを任意に選択す
ることができ、これによって容易に所望の加速エネルギ
ーを得ることができる。また、上述したように、これら
4つのイオン加速部16,17,18,19はそのサポ
ートの高さがいずれも異なっているものの、イオン加速
部16を除く残りのイオン加速部17,18,19にあ
っては、それぞれ高さの異なるベースプレート20,2
1,22を介在させたことにより、回転軸14に対す
る、それぞれのビーム通路Aの高さは全て同一となるた
め、真空チャンバー13内に形成されるビーム入射部2
3及びビーム出射部27は一箇所で充分である。
Therefore, by rotating the rotary shaft 14 by the rotary drive mechanism 28, any one of these four ion accelerating units 16, 17, 18, and 19 can be arbitrarily selected, and this makes it easy to obtain a desired one. Acceleration energy can be obtained. Further, as described above, although the four ion accelerating units 16, 17, 18, 19 have different heights of their supports, the remaining ion accelerating units 17, 18, 19 excluding the ion accelerating unit 16 are different. In that case, the base plates 20 and 2 having different heights are used.
Since the heights of the beam passages A with respect to the rotating shaft 14 are all the same by interposing the first and second beams 1 and 22, the beam entrance portion 2 formed in the vacuum chamber 13 is formed.
3 and the beam emitting part 27 are sufficient at one place.

【0023】このように、本発明はサポート、すなわち
インダクタンスLの異なる複数のRFQイオン加速部を
回転軸の周囲に、これを中心にして放射状に設けると共
に、これを真空チャンバー内に回転自在に収容したこと
により、多くのエネルギのイオンビームを容易に得るこ
とができる。また、回転軸を回転駆動することだけで、
容易に所望のRFQイオン加速部に変更することができ
る。
As described above, according to the present invention, the support, that is, the plurality of RFQ ion accelerating portions having different inductances L are radially provided around the rotation axis and centered around the rotation axis, and are rotatably accommodated in the vacuum chamber. By doing so, an ion beam with a large amount of energy can be easily obtained. Also, by simply rotating the rotary shaft,
The desired RFQ ion accelerator can be easily changed.

【0024】尚、本実施例では回転軸14に共振周波数
の異なるRFQイオン加速器を4つ、設けた構成で説明
したが、本発明はこれに限られるものではなく、回転軸
14に設けるRFQイオン加速器の数を4つ以上あるい
は反対に2つまたは3つといった必要に応じて増減させ
ても良いことは勿論である。また、本発明の変形実施例
として、上記ベースプレート20,21,22を廃止
し、各RFQイオン加速器の高さが異なることによっ
て、そのビーム通路Aの高さに応じた複数のビーム入射
部23及びビーム出射部27を真空チャンバー13の径
方向に相対させて形成することも考えられる。
In this embodiment, the rotation shaft 14 is described with four RFQ ion accelerators having different resonance frequencies. However, the present invention is not limited to this, and the RFQ ions provided on the rotation shaft 14 are not limited to this. It goes without saying that the number of accelerators may be increased or decreased as needed, such as four or more, or conversely two or three. Further, as a modified example of the present invention, the base plates 20, 21, 22 are eliminated, and the heights of the RFQ ion accelerators are different from each other. It is also conceivable to form the beam emitting portion 27 so as to face the radial direction of the vacuum chamber 13.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、回転軸を
回転駆動することだけで、容易に所望のRFQイオン加
速部に変更することができるため、多くのエネルギのイ
オンビームを容易に得ることができ、作業性が大巾に向
上する。また、真空チャンバーは一つですむため、全体
として小型化が達成される上に、カップラ、モニタルー
プ、真空排気装置等が一つですみ、大巾にコストの低減
が達成される等といった優れた効果を有する。
In summary, according to the present invention, it is possible to easily change to a desired RFQ ion accelerating portion only by rotationally driving the rotating shaft, and thus it is possible to easily obtain an ion beam of many energies. The workability is greatly improved. Also, since only one vacuum chamber is required, the overall size can be reduced, and in addition, only one coupler, monitor loop, vacuum exhaust device, etc. are required, resulting in a significant cost reduction. Have the effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例を示す一部破断側面図であ
る。
FIG. 2 is a partially cutaway side view showing an embodiment of the present invention.

【図3】従来のRFQイオン加速器の一例を示す断面図
である。
FIG. 3 is a sectional view showing an example of a conventional RFQ ion accelerator.

【図4】従来のRFQイオン加速器のイオン加速部を示
す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing an ion acceleration unit of a conventional RFQ ion accelerator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 サポート 6 ロッド 13 真空チャンバー 14 回転軸 15 基台 16,17,18,19 RFQイオン加速部 A 粒子(ビーム)の通路 5 Support 6 Rod 13 Vacuum Chamber 14 Rotating Shaft 15 Base 16, 17, 18, 19 RFQ Ion Accelerator A Particle (Beam) Passage

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基台上に粒子の通路を挾んで相対向する
一対のロッドを支持する第一のサポートと、上記一対の
ロッドと交差する方向に相対向する一対のロッドを支持
する第二のサポートとを所定の間隔を隔てて交互に立設
したRFQイオン加速部を、上記サポートの高さを異な
らしめて複数形成すると共に、これら複数のRFQイオ
ン加速部を上記粒子の通過方向に延出した回転軸の周囲
に、放射状に設けると共に、これを真空チャンバー内に
回転自在に収容したことを特徴とするリボルバー型マル
チRFQイオン加速器。
1. A first support for supporting a pair of rods facing each other across a passage of particles on a base, and a second support for supporting a pair of rods facing each other in a direction intersecting with the pair of rods. A plurality of RFQ ion accelerating parts, which are alternately erected at predetermined intervals, are formed with different heights of the supports, and the plurality of RFQ ion accelerating parts are extended in the passage direction of the particles. A revolver-type multi-RFQ ion accelerator characterized in that the revolver-type multi-RFQ ion accelerator is radially provided around the rotation axis and is rotatably housed in a vacuum chamber.
JP22294592A 1992-08-21 1992-08-21 Revolver type multi-rfq ion accelerator Pending JPH0668988A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015100843A1 (en) 2014-01-28 2015-07-30 Fanuc Corporation Contact state monitoring device for monitoring contact states of a connector

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