JPH0668784A - Voltage bushing - Google Patents

Voltage bushing

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JPH0668784A
JPH0668784A JP1238093A JP1238093A JPH0668784A JP H0668784 A JPH0668784 A JP H0668784A JP 1238093 A JP1238093 A JP 1238093A JP 1238093 A JP1238093 A JP 1238093A JP H0668784 A JPH0668784 A JP H0668784A
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voltage bushing
support
enamel
glass
bushing according
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Christian Wolf
ヴォルフ クリスチャン
Richard Frank
フランク リヒャルト
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Siemens AG
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B17/00Insulators or insulating bodies characterised by their form
    • H01B17/26Lead-in insulators; Lead-through insulators
    • H01B17/30Sealing
    • H01B17/303Sealing of leads to lead-through insulators
    • H01B17/305Sealing of leads to lead-through insulators by embedding in glass or ceramic material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/90Leading-in arrangements; Seals therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J5/00Details relating to vessels or to leading-in conductors common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J5/32Seals for leading-in conductors

Abstract

PURPOSE: To facilitate manufacture and reduce the cost of a voltage bushing which is high in stability and insulating resistance by providing an insulating joint part of the vacuum electrical voltage bushing with a support body, provided with an enamel coating or a glass coating. CONSTITUTION: Voltage bushings 15, 16 are formed by applying an enamel coating or a glass coating to support bodies made of ceramic or plastic and inserted in hole parts 13, 14 of a first conductive member 2 and a second conductive member 3. The support bodies can be manufactured easily into sizes and shapes at a low cost using ceramic, plastic, or the like, and the support body is provided with desired vacuum airtightness, heat resistance and strength by applying an enamel coating or a glass coating to the whole or part of the support body.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、第1の導電部材からエ
ナメルまたはガラス製の絶縁接合部を介して第2の導電
部材への真空電気的電圧ブッシングに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum electrical voltage bushing from a first conductive member through an enamel or glass insulating joint to a second conductive member.

【0002】[0002]

【従来の技術】DE−A−3912607から比較的耐
久性のある真空気密のガラス−金属接合部またはガラス
ロウ付けを用いたガラス−金属接合部が公知である。こ
の接合部はガラスレーザ管の組立ての際に使用するのに
適する。
2. Description of the Related Art From DE-A-3912607, relatively durable vacuum-tight glass-metal joints or glass-metal joints using glass brazing are known. This joint is suitable for use in assembling a glass laser tube.

【0003】EP−A−0048510から、導電ピン
に対する電圧ブッシングが設けられたCRTが公知であ
る。ここではピンが絶縁接合部を介して支持板により案
内され、支持板に保持されている。さらにこの絶縁部は
ガラス封着部からなり、このガラス封着部は支持板のス
リットに充填されている。電極を相互に絶縁し間隔を保
持するために同様に、絶縁性の気密ガラス封着部が公知
である。
From EP-A-0048510 is known a CRT provided with a voltage bushing for a conductive pin. Here, the pin is guided by a support plate via an insulating joint and is held by the support plate. Further, the insulating portion is composed of a glass sealing portion, and the glass sealing portion is filled in the slit of the support plate. Similarly, insulative hermetic glass seals are known to insulate the electrodes from each other and maintain spacing.

【0004】ヨーロッパ特許出願番号9110578
5.9はx線画像増幅器に関するものである。この画像
増幅器は例えば、x線影画像から可視画像を形成するの
に使用される。このようなx線画像増幅器はほぼ円筒状
の真空容器を有しており、この真空容器の一方の端面に
は入口蛍光スクリーンが、他方の端面には出口蛍光スク
リーンが配置されている。真空容器の内部には電極が設
けられており、この電極は保持要素により真空容器内に
保持されている。x線ビームの発生時に入口蛍光スクリ
ーン上に形成された電子を出口蛍光スクリーン上にフォ
ーカシングするために電圧が電極に印加される。電圧は
電極に接触接続ピンを介して供給することができる。こ
の接触接続ピンは真空気密に真空容器を通って案内され
ている。電極は絶縁材料を介して相互に結合されてお
り、それにより安定した電極構成が真空容器内に得られ
ることが公知である。
European Patent Application No. 9110578
5.9 relates to the x-ray image amplifier. This image intensifier is used, for example, to form a visible image from an x-ray shadow image. Such an x-ray image amplifier has a substantially cylindrical vacuum container having an entrance fluorescent screen on one end face and an exit fluorescent screen on the other end face. An electrode is provided inside the vacuum container, and the electrode is held in the vacuum container by a holding element. A voltage is applied to the electrodes to focus the electrons formed on the entrance fluorescent screen during the generation of the x-ray beam onto the exit fluorescent screen. The voltage can be supplied to the electrodes via contact connection pins. The contact connecting pin is guided in a vacuum-tight manner through a vacuum container. It is known that the electrodes are connected to one another via an insulating material, whereby a stable electrode configuration is obtained in the vacuum vessel.

【0005】x線画像増幅器では、接触接続ピンまたは
保持ピンの真空容器を通るブッシングを−真空容器のバ
ルブがガラス製の場合−例えばVaconまたはガラス
により接合可能な他の材料からなる溶封金属ピンから作
製することが公知である。しかし真空容器が金属製の場
合、構成要素は真空容器の金属外套のスリットにロウ付
けされるかまたは溶接される。この種の公知の構成要素
は絶縁体(例えば酸化アルミニウムAl23)からな
り、この絶縁体に金属ピンがロウ付けされる。または構
成要素は絶縁体に設けられた金属外套を接合するための
溶接フランジからなる。このような接合はロウ付け個所
および溶接個所があるため気密性に対して弱い。
In x-ray image intensifiers, a bushing through the vacuum vessel of the contact-connecting pin or holding pin--if the valve of the vacuum vessel is made of glass--for example, a welded metal pin made of Vacon or another material that can be joined by glass It is known to make However, if the vacuum vessel is made of metal, the components are brazed or welded to the slits in the metal envelope of the vacuum vessel. Known components of this kind consist of an insulator (for example aluminum oxide Al 2 O 3 ) on which metal pins are brazed. Alternatively, the component comprises a weld flange for joining the metal overcoat on the insulator. Such a joint is vulnerable to airtightness because there are brazing points and welding points.

【0006】公知のロウ付け接合および溶接接合のこの
欠点を回避するためにヨーロッパ特許出願第91105
785.93では、ガラスまたはエナメルによる接着部
が設けられている。これによれば少なくとも1つの導電
部材にエナメルないしガラスの層が被覆され、導電部材
の接着は熱供給により行われる。すなわち、被覆部を所
定条件の下で溶封しと最終的に冷却が行われる。この提
案によれば真空気密かつ安定した接合ないしブッシング
を形成するために、絶縁層としてエナメルまたはガラス
が接着部に使用される。電圧の印加される接触接続ピン
を導電構成部材にエナメルまたはガラス溶封により保持
する場合、公知のセラミックブッシングに対して真空気
密性と機械的安定性の点で改善が得られるが、しかしこ
の種のエナメルまたはガラス溶封によるブッシングは接
合すべき部材が所定の大きさ場合および絶縁耐性におい
て限界がある。絶縁耐性を高めるためにガラスまたはエ
ナメルにより接着すべき部材を拡大しようとすると、エ
ナメル塗布の際ないしガラスまたはガラスロウによる接
合の際に安定性の問題が生じる。
In order to avoid this drawback of the known braze and weld joints, European Patent Application No. 91105
In 785.93, an adhesive portion made of glass or enamel is provided. According to this, at least one conductive member is coated with a layer of enamel or glass, and the bonding of the conductive member is performed by supplying heat. That is, the covering portion is sealed under a predetermined condition and finally cooled. According to this proposal, enamel or glass is used as an insulating layer in the adhesive part in order to form a vacuum-tight and stable bond or bushing. Retaining energized contact connection pins on conductive components by enamel or glass sealing provides an improvement in vacuum tightness and mechanical stability over known ceramic bushings, but this type of The enamel or glass-sealed bushings have limitations in the size of the members to be joined and in the insulation resistance. Attempts to enlarge the components to be bonded with glass or enamel in order to increase the insulation resistance lead to stability problems during enamel application or bonding with glass or glass wax.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
に述べた形式の電圧ブッシングを、簡単に製造でき、安
定性と絶縁耐性が高く比較的低コストであるように構成
することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the invention is to construct a voltage bushing of the type mentioned at the outset in such a way that it is easy to manufacture, has a high stability and a high dielectric strength and is relatively low in cost. .

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題は本発明によ
り、絶縁接合部はエナメル被覆またはガラス被覆を備え
た支持体を有しているように構成して解決される。
The above object is achieved according to the invention by constructing an insulating joint with a support having an enamel coating or a glass coating.

【0009】本発明の電圧ブッシングは、大きさおよび
形状に応じて簡単かつ安価に製造し得る、例えばセラミ
ック、プラスチック等からなる支持体の使用を可能にす
る。従いこの絶縁部材は比較的安価な材料製とすること
ができ、必要に応じて全体または一部にエナメル被覆ま
たはガラス被覆を施すことができる。それにより所望の
真空気密性が達成される。有利にはこれにより支持体な
いし基台に対して多孔性、表面特質および真空気密性に
関して僅かな要求しか課せられない。支持体は単に、エ
ナメル塗布することができるかまたはガラス被覆を施す
だけでよく、またエナメル塗布(エナメル焼付け)ない
しガラス被覆に対して十分な耐熱性を有し、電圧ブッシ
ングとしての役目に対して必要な強度を有するだけでよ
い。
The voltage bushing according to the invention makes it possible to use supports made of, for example, ceramics, plastics, which can be manufactured simply and inexpensively according to size and shape. Therefore, this insulating member can be made of a relatively inexpensive material and can be enamel-coated or glass-coated in whole or in part if desired. Thereby the desired vacuum tightness is achieved. Advantageously, this imposes only low requirements on the support or the substrate in terms of porosity, surface properties and vacuum tightness. The support can be simply enamel-coated or glass-coated and has sufficient heat resistance for enamel-coating (enamel baking) or glass-coating to serve as a voltage bushing. It only has to have the required strength.

【0010】本発明の利点および特徴は後の実施例の説
明および図面から明らかである。相応する部材に対して
は図面中で同じ参照番号が使用される。
The advantages and features of the present invention will be apparent from the following description of the embodiments and the drawings. The same reference numbers are used in the figures for the corresponding parts.

【0011】[0011]

【実施例】図1はx線画像増幅器の基本構成を示す。こ
の増幅器に本発明の電圧ブッシングが設けられる。
1 shows the basic construction of an x-ray image amplifier. This amplifier is provided with the voltage bushing of the present invention.

【0012】図1には、x線増幅器1の断面が示されて
いる。ここでは、x線画像増幅器1の入口蛍光スクリー
ンの左側と出口蛍光スクリーンの右側は続くこととな
る。x線画像増幅器1のケーシングは図示のように台1
および台2の導電部材2、3から構成される。この導電
部材はシリンダとして薄板ベルトから形成される。領域
4では、第1のケーシング部材2の端部5が本発明の電
圧ブッシング6を介して第2のケーシング部材3の端部
7と接合されている。
FIG. 1 shows a cross section of the x-ray amplifier 1. Here, the left side of the entrance fluorescent screen and the right side of the exit fluorescent screen of the x-ray image amplifier 1 are connected. The casing of the x-ray image intensifier 1 is a stand 1 as shown.
And the conductive members 2 and 3 of the base 2. This conductive member is formed of a thin belt as a cylinder. In the region 4, the end 5 of the first casing member 2 is joined to the end 7 of the second casing member 3 via the voltage bushing 6 according to the invention.

【0013】x線画像増幅器1には第1と第2の円筒状
電極8、9が配置されている。これら電極は領域10で
電圧絶縁部を介して接合されている。
The x-ray image amplifier 1 is provided with first and second cylindrical electrodes 8 and 9. These electrodes are joined in the area 10 via a voltage insulation.

【0014】電極8、9の電気的接触接続のために導電
ピン11ないし12がブッシング13ないし14を通っ
てケーシング部2、3に案内されている。ここでブッシ
ング13、14には本発明の電圧ブッシング15ないし
16が設けられている。このピン11、12はその他に
x線画像増幅器1中での電極8、9の保持にも用いる。
そのために別のピン17、18も設けられている。これ
らピンは別の電圧ブッシング19、20を介して電極
8、9およびケーシング2、3と結合される。
Conductive pins 11 to 12 are guided through the bushings 13 to 14 into the casing parts 2, 3 for the electrical contact connection of the electrodes 8, 9. Here, the bushings 13 and 14 are provided with the voltage bushings 15 to 16 of the present invention. The pins 11, 12 are also used for holding the electrodes 8, 9 in the x-ray image amplifier 1.
For that purpose, further pins 17, 18 are also provided. These pins are connected to the electrodes 8, 9 and the casings 2, 3 via further voltage bushings 19, 20.

【0015】x線画像増幅器1はさらに、高電圧源への
端子22と接地端子23を備えた別の電極21を有す
る。ここで接地端子23と電極との間には電圧ブッシン
グ24が設けられている。この電圧ブッシングのエナメ
ルまたはガラス被覆された支持体25は抵抗ワイヤ等か
らなる巻線26を含み、抵抗ワイヤに接続されたアダプ
タ手段27、28を有している。アダプタ手段は一方で
電極21と接触接続し、他方で接地端子23と導電接続
している。電極端子22、23は電圧ブッシング29、
30によって円筒状ケーシング部3を通って絶縁され、
真空気密に外部へ案内されている。
The x-ray image amplifier 1 further comprises another electrode 21 with a terminal 22 to the high voltage source and a ground terminal 23. Here, a voltage bushing 24 is provided between the ground terminal 23 and the electrode. The enamel or glass covered support 25 of the voltage bushing comprises a winding 26 of resistance wire or the like and has adapter means 27, 28 connected to the resistance wire. The adapter means is in contact with the electrode 21 on the one hand and in conductive connection with the ground terminal 23 on the other hand. The electrode terminals 22 and 23 are voltage bushings 29,
Is insulated through the cylindrical casing part 3 by 30,
It is guided to the outside in a vacuum-tight manner.

【0016】図2に断面で示された電圧ブッシング33
において支持体34は、例えばセラミックまたはプラス
チック製のリング状絶縁部材からなる。絶縁耐性と場合
により電圧ブッシングの安定性を高めるために、支持体
は所望の大きさまたは必要な大きさと形状の絶縁構成要
素として構成することができる。エナメルまたはガラス
の完全な被覆ないし場合により必要な部分的被覆35に
より、絶縁部材の所望の真空気密性が達成される。ヨー
ロッパ特許出願第91105785.9による接着で
は、絶縁耐性および接合の安定性のためのエナメル技術
ないしガラス被覆に限界があり、エナメル管またはガラ
ス管を2つの導電部材の接合−絶縁部として使用しても
問題の解決手段とはならないであろう。一方、支持体3
4をエナメルまたはガラス被覆と関連して使用すること
により、前記の課題を完全に解決する手段が得られる。
The voltage bushing 33 shown in cross section in FIG.
In, the support 34 is made of a ring-shaped insulating member made of, for example, ceramic or plastic. In order to increase the insulation resistance and optionally the stability of the voltage bushing, the support can be configured as an insulating component of the desired size or the required size and shape. A complete vacuum coating or optionally a partial coating 35 of enamel or glass achieves the desired vacuum tightness of the insulation. Adhesion according to European Patent Application No. 91105785.9 has a limitation in the enamel technology or glass coating for insulation resistance and stability of the joint, using an enamel tube or a glass tube as the joint-insulator of two conductive members. Would not be a solution to the problem. On the other hand, the support 3
The use of 4 in connection with an enamel or glass coating provides a means of completely solving the above-mentioned problems.

【0017】図2の電圧ブッシング33は例えば第1の
導電部材2ないし3のブッシング(例えば孔部)13、
14に挿入することができ、リング開口部36を通って
ピン11、12が第2の導電部材として案内され得る。
ガラスまたはエナメル層35によりピン11、12はリ
ング開口部16に溶け込むことができ、それに続く冷却
の後、ピン11、12の支持体34に対する強固な接合
が得られる。支持体34も支持部材2ないし3のブッシ
ング13、14へエナメルまたはガラス層によりしっか
りと溶け込むことができる。部材2、3ないし11、1
2と支持体34との間の絶縁真空気密な構成のために同
様にガラスまたはエナメル層35が使用される。
The voltage bushing 33 of FIG. 2 is, for example, a bushing (for example, a hole) 13 of the first conductive members 2 to 3,
14 and the pins 11, 12 can be guided as second conductive members through the ring openings 36.
The glass or enamel layer 35 allows the pins 11, 12 to melt into the ring opening 16 and after subsequent cooling a strong bond of the pins 11, 12 to the support 34 is obtained. The support 34 can also be firmly melted into the bushings 13, 14 of the support members 2 to 3 by means of an enamel or glass layer. Members 2, 3 to 11, 1
A glass or enamel layer 35 is likewise used for the insulating vacuum-tight construction between the two and the support 34.

【0018】特に高電圧の作用する電圧ブッシングで
は、電圧絶縁部を流れる所定の許容電流がしばしば前提
とされる。特に真空気密の電圧ブッシングの場合、しば
しば100%の絶縁は所望されない。というのは完全な
絶縁は帯電と高電圧フラッシュオーバを惹起し得るから
である。
Particularly in voltage bushings with high voltages, a certain permissible current through the voltage insulation is often assumed. Often 100% insulation is not desired, especially for vacuum-tight voltage bushings. Full insulation can cause charging and high voltage flashover.

【0019】従い図7による本発明の実施例では、支持
体34がそのエナメルまたはガラス層35の上に例えば
酸化クローム製の半導体層37を有している。この層3
7により部材2、3間の絶縁部を介して所望の導電性が
得られる。
Thus, in the embodiment of the invention according to FIG. 7, the carrier 34 has a semiconductor layer 37, for example made of chrome oxide, on its enamel or glass layer 35. This layer 3
The desired conductivity is obtained by means of 7 through the insulating portion between the members 2 and 3.

【0020】図2に同様に模式的に示したように、支持
体34にアダプタ手段38、例えばアダプタピン、アダ
プタフランジ、アダプタ舌片等を挿入し、埋め込み、ロ
ウ付け紙、焼結し、エナメル塗布しまたはガラスロウに
より溶かし込むことができる。
As also shown schematically in FIG. 2, adapter means 38, such as adapter pins, adapter flanges, adapter tongues, etc., are inserted into support 34 and embedded, brazed paper, sintered, enamel. It can be coated or melted in with a glass wax.

【0021】図3の電圧ブッシング32では支持体34
内で、導電材料製の巻線、バネ39等が電気抵抗を形成
し、この抵抗には支持体の端部側に設けられたアダプタ
手段38、例えばアダプタフランジを接続することがで
きる。実施例では、所望の形状に形成されたアダプタフ
ランジが抵抗ワイヤからなるバネ39と相互に接続され
ている。抵抗ワイヤは個々のターンが相互に突き合うの
を回避するために僅かな勾配を以て巻付けられている。
このように製造したバネはアダプタフランジと接触接続
される。さらにバネにより形成された支持体34にはエ
ナメルまたはガラス被覆35が、塗布法、浸潰法、スプ
レー法、沈積法により施される。支持体にはめ込まれた
バネにより、一方では比較的大きな強度を備えた絶縁部
材が得られ、他方では所定の電流値ないし電気抵抗値を
有する絶縁体が製造される。その際使用されるバネ材
料、ワイヤの太さ、バネ直径およびターン数により抵抗
値が定められる。バネ39の個々のターン間に発生する
電圧差は比較的小さく維持することができる。そのため
僅かなエナメルないしガラス被覆35により良好な絶縁
作用が得られる。被覆材料の膨張係数、および電圧ブッ
シングの所望の導電性を考慮すれば、選択された被覆材
料(エナメル、ガラス)、抵抗ワイヤ、フランジ材料と
支持体の構造的大きさとの間の調和が簡単に得られる。
電圧ブッシングに対して支持体34はアダプタ手段38
と共に中空シリンダを形成し、この中空シリンダ内へ例
えば接触接続ピンを収容することができる。
In the voltage bushing 32 of FIG.
Inside, a winding made of a conductive material, a spring 39, etc. forms an electrical resistance, to which an adapter means 38, for example an adapter flange, provided on the end side of the support can be connected. In the exemplary embodiment, the adapter flange formed into the desired shape is interconnected with a spring 39 of resistance wire. The resistance wire is wrapped with a slight slope to avoid the individual turns from abutting each other.
The spring thus manufactured is in contact with the adapter flange. Further, an enamel or glass coating 35 is applied to the support body 34 formed of a spring by a coating method, a dipping method, a spray method, or a deposition method. The spring fitted in the support makes it possible on the one hand to obtain an insulating member with a relatively high strength and, on the other hand, to produce an insulator with a predetermined current value or electrical resistance value. The resistance value is determined by the spring material used, the wire thickness, the spring diameter, and the number of turns used. The voltage difference generated between the individual turns of the spring 39 can be kept relatively small. Therefore, a slight enamel or glass coating 35 provides good insulation. Considering the coefficient of expansion of the coating material and the desired conductivity of the voltage bushing, it is easy to harmonize between the selected coating material (enamel, glass), the resistance wire, the flange material and the structural size of the support. can get.
For the voltage bushing the support 34 is an adapter means 38
Together with this, a hollow cylinder can be formed in which, for example, contact connection pins can be accommodated.

【0022】図4は、ターンの僅かな間隔で巻付けられ
た螺旋バネ40の支持体34が抵抗ワイヤからなる電圧
ブッシング31の実施例を示す。螺旋バネはエナメルま
たはガラス被覆35を有し、螺旋バネ40の端部はアダ
プタ手段、例えばアダプタフランジ38に接触接続して
いる。この実施例は、電圧ブッシングの直径を拡大すべ
き場合、電圧ブッシングの電気抵抗を螺旋バネにより高
めるべき場合お予備/または電圧ブッシングないし支持
体34の強度または安定性を改善すべき場合に適する。
FIG. 4 shows an embodiment of the voltage bushing 31 in which the support 34 of the spiral spring 40, which is wound at a slight interval of turns, consists of a resistance wire. The spiral spring has an enamel or glass coating 35, and the end of the spiral spring 40 is in contact with an adapter means, for example an adapter flange 38. This embodiment is suitable if the diameter of the voltage bushing is to be increased, if the electrical resistance of the voltage bushing is to be increased by means of a helical spring and / or if the strength or stability of the voltage bushing or the support 34 is to be improved.

【0023】図3および図4の実施例では、バネ39な
いし螺旋バネ40の抵抗ワイヤのターンは、電気的橋絡
を回避するため少なくとも僅かな間隔で相互に分離して
巻付けられている。バネ39ないし螺旋バネ40により
形成される抵抗の端部はアダプタ手段と溶接するかまた
は他の適切な形式で接触接続することができる。電圧ブ
ッシング31〜33の絶縁性ないし電気抵抗は支持体の
構成により実質的に定められる。すなわち、支持体の材
料、支持体バネないし支持体巻線39、40の材料、バ
ネワイヤの長さと太さおよびガラスまたはエナメル層3
5の厚さにより定められる。そこから電圧ブッシングの
利点として、所要の安定性への適合および電圧ブッシン
グの全抵抗ないし電圧ブッシングと接合すべき部材間の
許容電流の微調整が可能となる。
In the embodiment of FIGS. 3 and 4, the turns of the resistance wire of the spring 39 or the spiral spring 40 are wound apart from one another at least at small intervals to avoid electrical bridging. The end of the resistor formed by spring 39 or spiral spring 40 may be welded or otherwise contacted in a suitable manner with the adapter means. The insulation or electrical resistance of the voltage bushings 31-33 is substantially determined by the structure of the support. That is, the material of the support, the material of the support spring or the support windings 39, 40, the length and thickness of the spring wire and the glass or enamel layer 3
It is defined by a thickness of 5. From there, the advantages of the voltage bushing are that the required stability can be met and the total resistance of the voltage bushing or the fine adjustment of the permissible current between the voltage bushing and the component to be joined.

【0024】図5には電圧ブッシング15の実施例が示
されている。ここで第1の導電部材2の孔部13には、
セラミックまたはプラスチック製の支持体34がはめ込
まれている。実施例では、リング状に構成され、フラン
ジ41の設けられた支持体を通り、第2の導電部材とし
てピン11が案内されている。孔部13の領域では導電
部材2にガラスまたはエナメルの被覆35が施されてい
る。この被覆部は一方で接触接続ピン11の支持体34
に対する絶縁および固定のために用いられ、他方で支持
体の導電部材2に対する絶縁および固定のために用いら
れる。図5に示したようにエナメルないしガラス層35
は部材11と34の間、ないし部材2と34、41の間
にも同様に設けられる。電圧ブッシング15が所望の導
電性を有すべき場合は、導電部材2と11の間でガラス
またはエナメル層35に、例えば酸化クロムの半導体被
覆37を施すことができる。
FIG. 5 shows an embodiment of the voltage bushing 15. Here, in the hole 13 of the first conductive member 2,
A ceramic or plastic support 34 is fitted. In the embodiment, the pin 11 is configured as a second conductive member that is formed in a ring shape and passes through the support body provided with the flange 41. In the region of the hole 13, the conductive member 2 is covered with a glass or enamel coating 35. On the one hand, this covering is provided on the support 34
On the one hand, and on the other hand for the insulation and fixing to the conductive member 2 of the support. As shown in FIG. 5, the enamel or glass layer 35
Is likewise provided between the members 11 and 34 or between the members 2 and 34, 41. If the voltage bushing 15 should have the desired conductivity, the glass or enamel layer 35 between the conductive members 2 and 11 may be provided with a semiconductor coating 37, for example of chromium oxide.

【0025】図8の実施例では部材2に段付けられた低
部が設けられている。この低部へ、エナメルないしガラ
スに埋め込まれた管の形状の支持体34がはめ込まれ
る。図示の電圧ブッシングはさらに図1のように接触接
続ピン11を有する。
In the embodiment of FIG. 8, the member 2 is provided with a stepped lower portion. A support 34 in the form of a tube embedded in enamel or glass is fitted in this lower part. The illustrated voltage bushing further has contact connection pins 11 as in FIG.

【0026】図1に詳細に示された電圧ブッシング24
では、例えば支持体25のアダプタ手段27を直接電極
21として構成するか、または直接電極と接触接続する
ことが可能である。さらに例えば第2のアダプタ手段2
8を直接、電気部材、例えば導電線路または接触接続ピ
ンと、電圧端子ないしアース端子として接続することが
できる。
The voltage bushing 24 shown in detail in FIG.
Then, for example, it is possible to configure the adapter means 27 of the support 25 as the direct electrode 21 or to make direct contact with the electrode. Further, for example, the second adapter means 2
8 can be directly connected to an electrical component, for example a conductive line or a contact connection pin, as a voltage terminal or ground terminal.

【0027】図1に単に模式的に示した導電部材2と3
ないし電極8と9の間の電圧ブッシング6は例えば、セ
ラミックまたはプラスチックの支持体リングからなるこ
とができ、少なくともリング内面およびリング外套に
(領域4ないし10における部材2、3ないし8、9へ
の接触接続面および接合面)エナメルまたはガラス層を
有する。
The conductive members 2 and 3 shown only schematically in FIG.
The voltage bushing 6 between the electrodes 8 and 9 can, for example, consist of a ceramic or plastic carrier ring, at least on the inner surface of the ring and on the ring jacket (to the members 2, 3 to 8, 9 in the regions 4 to 10). Contact and joining surfaces) with an enamel or glass layer.

【0028】簡単な安定性、簡単で安価な製造並びに所
望の絶縁値ないし抵抗値への電圧ブッシングの良好な適
合性のため、請求項1から14の電圧ブッシング(支持
体によるその接続絶縁部付およびエナメルまたはガラス
被覆付)は特に有利に、真空管またはx線画像増幅器に
適用される。
Voltage bushings according to claims 1 to 14 (with their connecting insulation by means of a support) because of their simple stability, simple and inexpensive manufacture and the good suitability of the voltage bushings to the desired insulation or resistance values. And enamel or glass coating) are particularly preferably applied to vacuum tubes or x-ray image intensifiers.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明により、簡単に製造でき、安定性
と絶縁耐性が高く比較的低コストである電圧ブッシング
が得られる。
According to the present invention, a voltage bushing which is easy to manufacture, has high stability and insulation resistance, and is relatively low in cost can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の電圧ブッシングの設けられたx線増幅
器の模式図。
FIG. 1 is a schematic diagram of an x-ray amplifier provided with a voltage bushing of the present invention.

【図2】本発明の電圧ブッシングの第1の実施例の模式
図。
FIG. 2 is a schematic diagram of a first embodiment of the voltage bushing of the present invention.

【図3】本発明の電圧ブッシングの第2の実施例の模式
図。
FIG. 3 is a schematic diagram of a second embodiment of the voltage bushing of the present invention.

【図4】本発明の電圧ブッシングの第3の実施例の模式
図。
FIG. 4 is a schematic diagram of a third embodiment of the voltage bushing of the present invention.

【図5】本発明の電圧ブッシングの第4の実施例の模式
図。
FIG. 5 is a schematic diagram of a fourth embodiment of the voltage bushing of the present invention.

【図6】本発明の絶縁部の実施例の模式図。FIG. 6 is a schematic view of an example of an insulating portion of the present invention.

【図7】本発明の電圧絶縁部33の待史例の模式図。FIG. 7 is a schematic view of a waiting history example of the voltage insulating unit 33 of the present invention.

【図8】本発明の電圧ブッシングの別の実施例の模式
図。
FIG. 8 is a schematic view of another embodiment of the voltage bushing of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 x線画像増幅器、 2 第1の導電部材、 3 第
2の導電部材、 4領域、 5 第1部材の端部、 6
電圧ブッシング、 7 第2部材の端部、8 第1の
電極、 9 第2の電極、 10 領域、 11 ピ
ン、 12ピン、 13 ブッシング、 14 ブッシ
ング、 15、16 電圧ブッシング、 17、18
ピン、 19、20 電圧ブッシング、 21 電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 x-ray image amplifier, 2 1st conductive member, 3 2nd conductive member, 4 area | region, 5 End part of 1st member, 6
Voltage bushing, 7 end of second member, 8 first electrode, 9 second electrode, 10 region, 11 pin, 12 pin, 13 bushing, 14 bushing, 15, 16 voltage bushing, 17, 18
Pin, 19, 20 Voltage bushing, 21 Electrode

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の導電部材(2、8、11、17、
21、22)からエナメルまたはガラス製の絶縁接合部
を介して第2の導電部材(3、9、12、18、23)
への真空電気的電圧ブッシング(6、15、16、1
9、20、24、29、30〜33)において、前記絶
縁接合部にはエナメル被覆またはガラス被覆(35)を
備えた支持体(34)が設けられていることを特徴とす
る電圧ブッシング。
1. A first conductive member (2, 8, 11, 17,
21, 22) to the second conductive member (3, 9, 12, 18, 23) via an insulating joint made of enamel or glass.
Vacuum electrical voltage bushings to (6, 15, 16, 1
9, 20, 24, 29, 30-33), wherein the insulating joint is provided with a support (34) with an enamel coating or a glass coating (35).
【請求項2】 前記支持体(34)は完全にエナメル層
またはガラス層(35)のより覆われている請求項1記
載の電圧ブッシング。
2. The voltage bushing according to claim 1, wherein the support (34) is completely covered by an enamel layer or a glass layer (35).
【請求項3】 前記支持体(34)は、エナメル塗布す
ることができ、エナメル焼付けまたはガラス被覆(3
5)に対する耐熱性を備えた材料からなり、該材料は導
電部材(2、3、8、9、11、12、17、18、2
1〜23)を接合するための十分な機械的強度を有して
いる請求項1記載の電圧ブッシング。
3. The support (34) can be enamel coated, enamelled or glass coated (3).
5) made of a material having heat resistance to the conductive material (2, 3, 8, 9, 11, 12, 17, 18, 2).
The voltage bushing according to claim 1, which has sufficient mechanical strength to bond 1 to 23).
【請求項4】 支持体(34)はセラミックからなる請
求項3記載の電圧ブッシング。
4. The voltage bushing according to claim 3, wherein the support (34) is made of ceramic.
【請求項5】 支持体(34)はプラスチックからなる
請求項3記載の電圧ブッシング。
5. The voltage bushing according to claim 3, wherein the support (34) is made of plastic.
【請求項6】 支持体(34)は、アダプタピン、アダ
プタフランジ、アダプタ舌片等のアダプタ手段(38)
を有している請求項1記載の電圧ブッシング。
6. The support (34) comprises adapter means (38) such as adapter pins, adapter flanges, adapter tongues and the like.
The voltage bushing according to claim 1, further comprising:
【請求項7】 アダプタ手段(38)は支持体(34)
に、挿入、はめ込み、ロウ付け、焼結、エナメル塗布ま
たはガラスロウにより溶接されている請求項6記載の電
圧ブッシング。
7. Adapter means (38) for a support (34)
7. The voltage bushing according to claim 6, which is welded by insertion, fitting, brazing, sintering, enamel coating or glass brazing.
【請求項8】 支持体(34)はエナメル層またはガラ
ス層(35)に半導体被覆(37)を有している請求項
1記載の電圧ブッシング。
8. The voltage bushing according to claim 1, wherein the support (34) has a semiconductor coating (37) on the enamel or glass layer (35).
【請求項9】 半導体被覆(37)は酸化クロムからな
る請求項8記載の電圧ブッシング。
9. The voltage bushing according to claim 8, wherein the semiconductor coating (37) consists of chromium oxide.
【請求項10】 支持体(34)内では、導電材料から
なる巻線、バネ等が電気抵抗を形成しており、アダプタ
手段(38)に接続可能である請求項1記載の電圧ブッ
シング。
10. The voltage bushing according to claim 1, wherein a winding, a spring or the like made of a conductive material forms an electric resistance in the support body (34) and is connectable to the adapter means (38).
【請求項11】 支持体(34)は導電材料の巻線(3
9、40)からなり、該巻線は安定化および真空気密の
ためにエナメル層またはガラス層(35)を有してお
り、巻線の端部側にはアダプタ手段(38)が設けられ
ている請求項10記載の電圧ブッシング。
11. The support (34) is a winding (3) of conductive material.
9, 40), said winding having an enamel or glass layer (35) for stabilization and vacuum tightness, with adapter means (38) provided on the end side of the winding. The voltage bushing according to claim 10.
【請求項12】 巻線(39、40)は抵抗ワイヤから
なる請求項10または11記載の電圧ブッシング。
12. A voltage bushing according to claim 10, wherein the windings (39, 40) consist of resistive wires.
【請求項13】 少なくとも1つのアダプタ手段(2
7)は電極(21)として構成されている請求項10記
載の電圧ブッシング。
13. At least one adapter means (2
Voltage bushing according to claim 10, wherein 7) is configured as an electrode (21).
【請求項14】 少なくとも1つのアダプタ手段(2
8)は導電ピン(23)として構成されている請求項1
0記載の電圧ブッシング。
14. At least one adapter means (2
8. The device according to claim 1, wherein 8) is embodied as a conductive pin (23).
0 voltage bushing.
【請求項15】 支持体とエナメル層またはガラス層を
有する絶縁接合部は真空管に使用される請求項1から1
4までのいずれか1記載の電圧ブッシング。
15. The insulating joint having a support and an enamel layer or a glass layer is used for a vacuum tube.
The voltage bushing according to any one of 4 to 4.
【請求項16】 支持体とエナメル層またはガラス層を
有する絶縁接合部はx線画像増幅器に使用される請求項
1から14までのいずれか1記載の電圧ブッシング。
16. The voltage bushing according to claim 1, wherein the insulating junction having a support and an enamel layer or a glass layer is used in an x-ray image amplifier.
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