JPH0667594A - Method for reproducing hologram - Google Patents

Method for reproducing hologram

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Publication number
JPH0667594A
JPH0667594A JP22160992A JP22160992A JPH0667594A JP H0667594 A JPH0667594 A JP H0667594A JP 22160992 A JP22160992 A JP 22160992A JP 22160992 A JP22160992 A JP 22160992A JP H0667594 A JPH0667594 A JP H0667594A
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JP
Japan
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hologram
stamper
resin
substrate
light
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP22160992A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shin Eguchi
伸 江口
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0667594A publication Critical patent/JPH0667594A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To reproduce a good hologram by facilitating the adjustment of parallelism and preventing uneven thickness in the method for reproducing the hologram for reproduction of the good hologram from a master hologram. CONSTITUTION:This method for reproducing the hologram reproduces the hologram by forming a stamper 10 in accordance with the hologram of a surface relief type, diffusing a resin 11 to the stamper 10 and transferring the resin to a reproducing substrate 12. A part of the surface of the stamper 10 on which the hologram is formed is provided with a monitor region 10a for reflecting light and the hologram is reproduced while the thickness of the resin 11 is adjusted according to the reflected light of the light with which the monitor region 10a is irradiated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、マスタホログラムから
良好なホログラムを複製するためのホログラム複製方法
に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a hologram duplication method for duplicating a good hologram from a master hologram.

【0002】近年、光学素子としてホログラムを用いた
種々の装置が開発され、実用に供されている。例えば、
POSバーコードスキャナにおいては、ホログラムを用
いた光走査装置を搭載し、商品に付されたバーコードの
読み取りを行っている。また、レーザプリンタ等の光学
系への応用研究も活発である。
In recent years, various devices using holograms as optical elements have been developed and put into practical use. For example,
The POS barcode scanner is equipped with an optical scanning device using a hologram to read the barcode attached to the product. In addition, applied research on optical systems such as laser printers is also active.

【0003】かかるホログラムは取扱の手軽さもさるこ
とながら、複製可能という大きな利点を有することから
量産性に優れ、量産品の光学系等に適用するに好適なも
のとなっている。
Since such a hologram is easy to handle and has a great advantage that it can be duplicated, it is excellent in mass productivity and is suitable for application to a mass-produced optical system or the like.

【0004】ところで、ホログラムを作成する際は、先
ずマスタホログラムを作成し、このマスタホログラムを
原盤として複製を作成するようになっているので、良質
のホログラムを複製できる方法が望まれている。
By the way, when a hologram is created, a master hologram is first created and a copy is created using this master hologram as a master disk. Therefore, there is a demand for a method capable of reproducing a high quality hologram.

【0005】[0005]

【従来の技術】従来、ホログラムの作成は、例えば二光
束干渉露光法で行っている。かかる方法で作成したホロ
グラムは、露光時に干渉縞の揺らぎがあると所望の仕様
を満足する回折格子が得られず、入力された光が回折す
る率の高いホログラム、即ち、高効率のホログラムが得
られにくい。
2. Description of the Related Art Conventionally, holograms are produced by, for example, a two-beam interference exposure method. The hologram created by such a method cannot obtain a diffraction grating that satisfies the desired specifications when there is fluctuation of interference fringes during exposure, and a hologram with a high rate of diffracting input light, that is, a highly efficient hologram is obtained. It is hard to be caught.

【0006】かかる干渉縞の揺らぎは、周囲温度の変
化、光源の揺らぎ、風等に影響されて発生するものゆ
え、これら環境条件を一定に保つのは困難を究め、上記
二光束干渉露光法で良質の大量のホログラムを作成する
のは不可能に近い。
Since the fluctuation of the interference fringes is caused by the change of the ambient temperature, the fluctuation of the light source, the wind, etc., it is difficult to keep these environmental conditions constant, and the two-beam interference exposure method is used. It's nearly impossible to make a lot of good quality holograms.

【0007】そこで、ホログラムを安価且つ大量に作成
するためには、厳密な管理の下に二光束干渉露光法を用
いて干渉縞の揺らぎのないマスタホログラムを作成し、
このマスタホログラムから複製する技術が必須となって
いる。この複製技術については、屈折率変調型及び表面
レリーフ型の各ホログラムについて盛んに研究が行われ
ている。
Therefore, in order to inexpensively produce a large amount of holograms, a master hologram having no fluctuation of interference fringes is produced by using a two-beam interference exposure method under strict control.
A technique for replicating from this master hologram is essential. This duplication technique is being actively researched for each of the holograms of the refractive index modulation type and the surface relief type.

【0008】ホログラムの複製では、表面レリーフ型ホ
ログラムの複製の場合、先ず二光束干渉露光法で作成し
た揺らぎのないホログラムを作成し、次いで、このホロ
グラムの凹凸を逆にした例えば金属の金型を作成し、こ
れをスタンパとする。
In the duplication of holograms, in the case of duplication of surface relief holograms, first, a fluctuation-free hologram created by the two-beam interference exposure method is created, and then a metal mold, for example, in which the irregularities of this hologram are reversed is used. Create and use this as a stamper.

【0009】そして、上記方法で作成したスタンパに樹
脂(ホトポリマー)を滴下し、その上に複製基板を被せ
て樹脂を拡散せしめ、この拡散された樹脂を固めてスタ
ンパから剥離することにより、複製基板の上に樹脂によ
って干渉縞が形成されたホログラムが複製されるように
なっている。
Then, a resin (photopolymer) is dropped on the stamper prepared by the above method, a replica substrate is placed on the stamper to diffuse the resin, and the diffused resin is solidified and peeled off from the stamper. The hologram on which the interference fringes are formed by resin is duplicated.

【0010】しかしながら、例えば図4に示すように、
樹脂51が滴下されたスタンパに複製基板52を被せた
際に、スタンパと複製基板52とが平行に保たれない
と、厚みむらのある樹脂51でホログラム53が形成さ
れる。
However, for example, as shown in FIG.
When the stamper and the duplicate substrate 52 are not kept parallel to each other when the stamper on which the resin 51 is dropped is covered with the duplicate substrate 52, the hologram 53 is formed by the resin 51 having uneven thickness.

【0011】かかる厚みむらのある樹脂51で形成され
たホログラム53に、光源54から光を照射すると、本
来図示破線で示すように回折すべきところ、実線で示す
ように回折方向がずれてしまうという欠点があった。
When the light source 54 irradiates the hologram 53 formed of the resin 51 having such uneven thickness, it should be diffracted as shown by the broken line in the figure, but the diffraction direction is shifted as shown by the solid line. There was a flaw.

【0012】そこで、かかる欠点を除去するため、図5
に示すような厚み補正方法が考えられている。
Therefore, in order to eliminate such a defect, FIG.
A thickness correction method as shown in FIG.

【0013】即ち、複製基板52の両面に樹脂51をつ
け、面精度の良好な別の基板(以下、「補正基板」とい
う)55で挟み、この補正基板55の傾きを補正機構5
6で調整して、補正基板55とスタンパ50の表面の平
行度を所定の範囲に保つ。かかる状態で樹脂51を硬化
せしめ、その後スタンパ50から剥離することにより厚
みむらを除去するというものである。
That is, the resin 51 is attached to both surfaces of the duplicated substrate 52, and the duplicated substrate 52 is sandwiched by another substrate 55 having a good surface precision (hereinafter referred to as “correction substrate”) 55, and the inclination of the correction substrate 55 is corrected by the correction mechanism 5.
6 to maintain the parallelism between the correction substrate 55 and the surface of the stamper 50 within a predetermined range. In this state, the resin 51 is hardened and then peeled from the stamper 50 to remove the uneven thickness.

【0014】この際、平行度の調整は、例えば図6に示
すような構成にて行われる。図において、57は光源で
あり、58はハーフミラーであり、59はスクリーンで
ある。
At this time, the adjustment of the parallelism is performed by the structure as shown in FIG. 6, for example. In the figure, 57 is a light source, 58 is a half mirror, and 59 is a screen.

【0015】平行度の確認にあたっては、先ず、樹脂5
1が滴下される前のスタンパ50からの反射光の位置を
求める。即ち、光源57から出力された光は、ハーフミ
ラー58で反射され、スタンパ50に達する。そして、
このスタンパ50で反射された光はハーフミラー58を
透過してスクリーン59上に結像するので、この結像位
置を記録しておく。
In checking the parallelism, first, the resin 5
The position of the reflected light from the stamper 50 before 1 is dropped is obtained. That is, the light output from the light source 57 is reflected by the half mirror 58 and reaches the stamper 50. And
Since the light reflected by the stamper 50 passes through the half mirror 58 and forms an image on the screen 59, this image forming position is recorded.

【0016】次いで、スタンパ50に樹脂51を滴下し
て複製基板52を被せ、さらに複製基板52上に樹脂5
1を滴下して補正基板55を被せる。この状態で光源5
7から光を出力する。光源57から出力された光は、ハ
ーフミラー58で反射され、補正基板55に達する。そ
して、この補正基板55で反射された光はハーフミラー
58を透過してスクリーン59上に結像する。
Next, the resin 51 is dropped on the stamper 50 to cover the duplicate substrate 52, and the resin 5 is further placed on the duplicate substrate 52.
1 is dropped to cover the correction substrate 55. Light source 5 in this state
Light is output from 7. The light output from the light source 57 is reflected by the half mirror 58 and reaches the correction substrate 55. Then, the light reflected by the correction substrate 55 passes through the half mirror 58 and forms an image on the screen 59.

【0017】ここで、先に記録しておいたスタンパ50
からの反射光の結像位置と、補正基板55からの結像位
置が異なる場合は、補正機構56(図5参照)を駆動し
て結像位置が一致するように調整する。そして、上記両
結像位置が一致した時点でスタンパ50と補正基板55
が平行になったと判断する。
Here, the stamper 50 previously recorded
When the image forming position of the reflected light from the image forming device differs from the image forming position of the correction substrate 55, the correction mechanism 56 (see FIG. 5) is driven to adjust the image forming positions so that they coincide with each other. The stamper 50 and the correction substrate 55 at the time when the two image formation positions match.
It is determined that are parallel.

【0018】しかし、この平行度の測定方法では、スタ
ンパ全域の平行度の確認が困難であるという欠点があっ
た。また、この方法では、例えば補正基板55が10秒
傾いても、反射光の結像位置ずれは、10メートル先で
約1ミリメートル程度であり、精度が低いという欠点も
あった。
However, this parallelism measuring method has a drawback that it is difficult to confirm the parallelism over the entire stamper. Further, in this method, even if the correction substrate 55 is tilted for 10 seconds, for example, the deviation of the image formation position of the reflected light is about 1 millimeter at 10 meters, and the accuracy is low.

【0019】また、別の平行度の確認方法として、図7
に示すように、スタンパ50、樹脂51、複製基板5
2、樹脂51及び補正基板55と順次積層された状態
で、コリメートしたレーザ光を照射し、スタンパ50の
上面からの反射光と補正基板55の上面からの反射光と
の干渉縞を観察しながら補正機構56を作動せしめ、該
干渉縞を所定の仕様値に追い込む方法がある。
As another method for confirming parallelism, FIG.
As shown in, stamper 50, resin 51, and duplicate substrate 5
2. In the state where the resin 51 and the correction substrate 55 are sequentially laminated, collimated laser light is irradiated to observe the interference fringes of the reflected light from the upper surface of the stamper 50 and the reflected light from the upper surface of the correction substrate 55. There is a method in which the correction mechanism 56 is operated to bring the interference fringes into a predetermined specification value.

【0020】この方法によれば、スタンパ50の全域が
一度に観察できるので、スタンパ全域の平行度を一度に
確認できるという大きな利点がある。
According to this method, since the entire area of the stamper 50 can be observed at one time, there is a great advantage that the parallelism of the entire stamper can be confirmed at one time.

【0021】しかしながら、表面レリーフ型ホログラム
のスタンパ50の表面にはホログラムパターンが設けら
れているので、入射光の散乱が激しく干渉縞の観察が容
易でないという欠点があった。
However, since the hologram pattern is provided on the surface of the stamper 50 of the surface relief type hologram, there is a drawback that the incident light is heavily scattered and it is not easy to observe the interference fringes.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みてなされたもので、平行度の調整を容易にして厚み
むらを防止することにより良好なホログラムを複製でき
るホログラム複製方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a hologram duplication method capable of duplicating a good hologram by facilitating adjustment of parallelism and preventing unevenness in thickness. The purpose is to

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
上記目的を達成するために、図1に原理的に示すよう
に、表面レリーフ型のホログラムに基づきスタンパ10
を作成し、該スタンパ10に樹脂11を拡散させて複製
基板12に転写することによりホログラムを複製するホ
ログラム複製方法において、前記スタンパ10のホログ
ラムが形成される面の一部に光を反射するモニタ領域1
0aを設け、該モニタ領域10aへ照射された光の反射
光に応じて前記樹脂11の厚みを調整しながらホログラ
ムを複製するように構成される。
The invention according to claim 1 is
In order to achieve the above object, as shown in principle in FIG. 1, a stamper 10 based on a surface relief type hologram is used.
In the hologram duplication method in which the hologram is duplicated by making the resin 11 on the stamper 10 and transferring the resin 11 to the duplication substrate 12, a monitor for reflecting light on a part of the surface of the stamper 10 on which the hologram is formed. Area 1
0a is provided, and the hologram is duplicated while adjusting the thickness of the resin 11 according to the reflected light of the light emitted to the monitor area 10a.

【0024】また、請求項2記載の発明は、表面レリー
フ型のホログラムに基づきスタンパ10を作成し、該ス
タンパ10に樹脂11を拡散させて複製基板12に転写
することによりホログラムを複製するホログラム複製方
法において、前記スタンパ10のホログラムが形成され
る面の一部にモニタ領域10aを設け、前記スタンパ1
0に樹脂11を介在させて複製基板12を被せ、該複製
基板12に更に樹脂11を介在させて補正基板13を被
せ、該補正基板13側から光を照射して前記スタンパ1
0のモニタ領域10aからの反射光と前記補正基板13
からの反射光との干渉縞を観察することにより前記樹脂
11の厚みを調整しながらホログラムを複製するように
構成される。
Further, the invention according to claim 2 is a hologram duplication in which the stamper 10 is formed based on the surface relief type hologram, and the resin 11 is diffused in the stamper 10 and transferred to the duplication substrate 12 to duplicate the hologram. In the method, a monitor area 10a is provided on a part of a surface of the stamper 10 on which a hologram is formed,
0 is covered with a duplicate substrate 12 with a resin 11 interposed therebetween, the duplicate substrate 12 is further covered with a correction substrate 13 with a resin 11 interposed therebetween, and the stamper 1 is irradiated with light from the correction substrate 13 side.
0 from the monitor area 10a and the correction substrate 13
The hologram is reproduced while adjusting the thickness of the resin 11 by observing the interference fringes with the reflected light from the hologram.

【0025】[0025]

【作用】請求項1記載の発明は、スタンパ10の一部に
光を反射するモニタ領域10aを設け、該モニタ領域1
0aからの反射光を利用して樹脂11の平行度を調整し
ながらホログラムの複製を行うようにしたものである。
According to the first aspect of the present invention, a monitor area 10a for reflecting light is provided on a part of the stamper 10, and the monitor area 1a is provided.
The hologram is duplicated while adjusting the parallelism of the resin 11 by using the reflected light from 0a.

【0026】これにより、従来のホログラムパターン領
域に光照射して平行度を調整する場合のように、照射光
が散乱されるのを抑止するように構成することができ、
従って樹脂11の厚み調整が容易となり、良好なホログ
ラムの複製が可能となっている。
As a result, it is possible to prevent the irradiation light from being scattered, as in the case of adjusting the parallelism by irradiating the conventional hologram pattern area with light.
Therefore, the thickness of the resin 11 can be easily adjusted, and a good hologram can be reproduced.

【0027】また、請求項2記載の発明は、スタンパ1
0、樹脂11、複製基板12、樹脂11及び補正基板1
3と順次重ね合わせ、補正基板13の方から光を照射し
てスタンパ10のモニタ領域10a及び補正基板13か
らの各反射光を干渉させ、干渉縞を観察しながらスタン
パ10と補正基板13の平行度、つまり樹脂11の厚み
を調整しながらホログラムの複製を行うようにしたもの
である。
The invention according to claim 2 is the stamper 1
0, resin 11, duplicate substrate 12, resin 11 and correction substrate 1
3 is sequentially superposed, and light is irradiated from the correction substrate 13 to cause the reflected light from the monitor region 10a of the stamper 10 and the correction substrate 13 to interfere with each other, and the stamper 10 and the correction substrate 13 are parallel while observing interference fringes. The hologram is reproduced while adjusting the degree, that is, the thickness of the resin 11.

【0028】干渉縞を観察しながら平行度を調整する方
法は、従来の技術でも説明したように、複製基板の全体
を観察でき、しかも非常に高精度で平行度を確認するこ
とができるという利点を有する。かかる利点に加え、上
記のようにモニタ領域10aを設けることにより干渉縞
のコントラストを向上せしめることができるので、平行
度の調整を一層容易に行うことができ、従って、良好な
ホログラムの複製が可能となっている。
The method of adjusting the parallelism while observing the interference fringes has the advantage that the entire replica substrate can be observed and the parallelism can be confirmed with extremely high accuracy, as described in the prior art. Have. In addition to this advantage, the contrast of the interference fringes can be improved by providing the monitor region 10a as described above, so that the parallelism can be adjusted more easily, and thus a good hologram can be reproduced. Has become.

【0029】[0029]

【実施例】以下、本発明のホログラム複製方法の実施例
につき図面を参照しながら説明する。なお、図1と同一
又は相当部分には同一符号を付して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the hologram duplication method of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the same or corresponding parts as in FIG.

【0030】図2は、本発明に係るホログラム複製方法
を、ディスクスタンパに適用した例を説明するための図
である。同図(A)は、ディスクスタンパ10を示して
いる。このスタンパの作成方法は周知であるので、ここ
での説明は省略する。
FIG. 2 is a diagram for explaining an example in which the hologram duplication method according to the present invention is applied to a disk stamper. FIG. 1A shows the disc stamper 10. Since the method of creating this stamper is well known, its description is omitted here.

【0031】図において、ディスクスタンパ10aは、
通常のホログラム領域10bとモニタ領域10aとを有
して構成される。図では、ディスク1回転で6回のスキ
ャンを行うために、6つのファセットで構成されている
ディスクを示している。
In the figure, the disk stamper 10a is
It is configured to have a normal hologram area 10b and a monitor area 10a. In the figure, a disk having six facets is shown in order to perform six scans with one rotation of the disk.

【0032】通常のホログラム領域10bは、干渉縞に
よる凹凸の溝が形成された領域であり、光の回折により
種々の光学的機能を実現する部分である。
The normal hologram area 10b is an area in which concave and convex grooves are formed by interference fringes, and is a portion which realizes various optical functions by diffraction of light.

【0033】モニタ領域10aは、ディスクの外周又は
内周、及び各ファセット間に設けられるホログラムパタ
ーンの形成されない領域である。このモニタ領域10a
は、ホログラムパターンが皆無で平坦であることが望ま
しいが、浅い溝によるホログラムパターンが形成されて
いても構わない。
The monitor area 10a is an area in which a hologram pattern is not formed, which is provided on the outer or inner circumference of the disk and between the facets. This monitor area 10a
It is desirable that the hologram pattern is flat without any hologram pattern, but a hologram pattern with shallow grooves may be formed.

【0034】かかる構成のスタンパ10に、図1に示す
ように、樹脂11が滴下され、この樹脂11の上に複製
基板12が載置され、さらに樹脂11が滴下されて補正
基板13が載置され、ホログラムの複製が行われること
になる。
As shown in FIG. 1, a resin 11 is dropped onto the stamper 10 having the above-described structure, a duplicate substrate 12 is placed on the resin 11, and then the resin 11 is dropped onto the correction substrate 13. Then, the hologram is duplicated.

【0035】上記複製基板12としては、ディスク状に
形成された、例えばガラスやアクリルの板等が用いられ
る。
As the duplicate substrate 12, for example, a glass or acrylic plate formed in a disk shape is used.

【0036】また、干渉縞が形成される樹脂は、例えば
紫外線を照射することにより硬化するホトポリマーを用
いる。このホトポリマーは、それが硬化された際の屈折
率が上記複製基板12の屈折率と略同等となる材質を使
用する。これにより、補正基板12と樹脂11との接合
面が光の回折に与える影響を除去するようになってい
る。
As the resin on which the interference fringes are formed, for example, a photopolymer which is cured by irradiation with ultraviolet rays is used. This photopolymer is made of a material whose refractive index when cured is approximately the same as that of the replica substrate 12. As a result, the influence of the joint surface between the correction substrate 12 and the resin 11 on the diffraction of light is eliminated.

【0037】また、補正基板13は、平面度が高く且つ
高反射率を有する、例えばガラス板等が用いられる。こ
の補正基板13の図中上側には、従来例で説明したと同
様の補正機構(図示しない)が設けられ、補正基板13
を押圧できるようになっている。
The correction substrate 13 is made of, for example, a glass plate having high flatness and high reflectance. A correction mechanism (not shown) similar to that described in the conventional example is provided on the upper side of the correction substrate 13 in the drawing.
You can press.

【0038】以上のような構成において、ホログラムの
複製は、次のように行われる。
In the above structure, the hologram is duplicated as follows.

【0039】先ず、用意されたディスクスタンパ10の
通常のホログラム領域10b上に、樹脂(ホトポリマ
ー)11を滴下する。次いで、その上に複製基板12を
被せる。さらに、複製基板12上に樹脂11を滴下し、
補正基板13を載置する。
First, a resin (photopolymer) 11 is dropped on the ordinary hologram area 10b of the prepared disk stamper 10. Then, the duplicate substrate 12 is put on the same. Furthermore, the resin 11 is dropped on the duplicate substrate 12,
The correction substrate 13 is placed.

【0040】かかる状態で、補正基板13の平行度を調
整する作業を行う。即ち、補正基板13の図中上側か
ら、コリメートされた光、例えばレーザ光を照射する
(図1参照)。この際、補正基板13、樹脂11、複製
基板12及び樹脂11を透過したコリメート光は、スタ
ンパ10のモニタ領域10aに照射されるように、光路
が調整される。
In this state, the work of adjusting the parallelism of the correction substrate 13 is performed. That is, collimated light, for example, laser light is emitted from the upper side of the correction substrate 13 in the figure (see FIG. 1). At this time, the optical path is adjusted so that the collimated light that has passed through the correction substrate 13, the resin 11, the duplicate substrate 12, and the resin 11 is applied to the monitor region 10 a of the stamper 10.

【0041】上記コリメート光の一部は、補正基板13
上面で反射され、他の一部は補正基板13、樹脂11、
複製基板12及び樹脂11を透過してスタンパ10のモ
ニタ領域10aで反射される。このモニタ領域10aで
の反射は、モニタ領域10aにホログラムパターンが形
成されていないか、又はホログラムパターンの溝が浅い
ので光の散乱が抑止され、効率良い反射が行われる。
A part of the collimated light is corrected by the correction substrate 13.
It is reflected on the upper surface, and the other part is corrected substrate 13, resin 11,
It passes through the duplicate substrate 12 and the resin 11 and is reflected by the monitor region 10 a of the stamper 10. In the reflection in the monitor area 10a, the hologram pattern is not formed in the monitor area 10a or the groove of the hologram pattern is shallow, so that the scattering of light is suppressed and the reflection is efficiently performed.

【0042】モニタ領域10aで反射された光は、樹脂
11、複製基板12、樹脂11及び補正基板13を透過
して、該補正基板13の外部へ出射される。
The light reflected by the monitor area 10a passes through the resin 11, the duplicate substrate 12, the resin 11 and the correction substrate 13 and is emitted to the outside of the correction substrate 13.

【0043】この際、補正基板13とスタンパ10とが
完全に平行であれば、補正基板13で反射された光とス
タンパ10のモニタ領域10aで反射された光とも平行
光となり、光の干渉は生じない。従って、反射光側から
見ても、干渉縞は観察できない。
At this time, if the correction substrate 13 and the stamper 10 are completely parallel, the light reflected by the correction substrate 13 and the light reflected by the monitor area 10a of the stamper 10 are also parallel light, and the light interference occurs. Does not happen. Therefore, interference fringes cannot be observed even when viewed from the reflected light side.

【0044】ところが、補正基板13とスタンパ10と
の間に傾きがあると干渉縞が観察され、この干渉縞の本
数は傾きの程度に応じて異なる。そこで、干渉縞の本数
を観察しながら補正機構を作動せしめ、干渉縞の本数を
適正に調整することにより補正基板13の傾きを調整す
る。
However, if there is an inclination between the correction substrate 13 and the stamper 10, interference fringes are observed, and the number of the interference fringes differs depending on the degree of inclination. Therefore, the inclination of the correction substrate 13 is adjusted by operating the correction mechanism while observing the number of interference fringes and appropriately adjusting the number of interference fringes.

【0045】ところで、光の干渉による干渉縞の本数
は、光の波長のオーダーで変化する。従って、補正機構
を用いて補正基板13とスタンパ10とを完全に平行に
調整することは困難を究める。
By the way, the number of interference fringes due to light interference changes in the order of the wavelength of light. Therefore, it is difficult to adjust the correction substrate 13 and the stamper 10 in parallel with each other by using the correction mechanism.

【0046】そこで、該ホログラムの使用目的に応じ
て、所定の範囲内での平行度が得られるように調整す
る。
Therefore, the hologram is adjusted so as to obtain parallelism within a predetermined range according to the purpose of use of the hologram.

【0047】例えば、該ホログラムをレーザプリンタの
光走査装置として用いる場合は、光ビームが結像される
ドラムの上で、横線が直線に引けるためには、図2
(B)に示すように、ファセット間の干渉縞が所定本数
以下であるように調整する。
For example, when the hologram is used as an optical scanning device of a laser printer, a horizontal line can be drawn in a straight line on the drum on which the light beam is imaged.
As shown in (B), the interference fringes between the facets are adjusted to be a predetermined number or less.

【0048】また、光ビームが結像されるドラムの上
で、縦線が直線に引けるためには、図2(C)に示すよ
うに、ホログラムディスクの外周の干渉縞が所定本数以
下であるように調整する。
Further, in order for the vertical lines to be drawn straight on the drum on which the light beam is imaged, as shown in FIG. 2 (C), the interference fringes on the outer circumference of the hologram disc are less than a predetermined number. To adjust.

【0049】このようにして、補正基板13とスタンパ
10との平行度、ひいては複製基板12上に形成された
樹脂11によるホログラムの平行度が所定範囲内である
ように調整した後、例えば紫外線を照射して樹脂を固化
させる。次いで、硬化された樹脂11が接着された複製
基板12をディスクスタンパ10から剥離し、ホログラ
ムの複製を完了する。
In this way, after adjusting the parallelism between the correction substrate 13 and the stamper 10 and thus the parallelism of the hologram formed by the resin 11 formed on the duplicated substrate 12 within a predetermined range, for example, ultraviolet rays are applied. Irradiate to solidify the resin. Next, the duplicate substrate 12 to which the cured resin 11 is adhered is peeled off from the disc stamper 10, and the hologram duplication is completed.

【0050】このように、スタンパ10の一部にホログ
ラムパターンの無い、又は溝の浅いホログラムパターン
でなるモニタ領域10aを形成し、該モニタ領域10a
からの反射光と補正基板13からの反射光との干渉によ
り干渉縞を生じさせるようにしたので、コントラストの
高い干渉縞が得られるものとなっている。
In this way, a monitor area 10a having no hologram pattern or a shallow groove hologram pattern is formed on a part of the stamper 10, and the monitor area 10a is formed.
Since interference fringes are generated by the interference between the reflected light from the and the reflected light from the correction substrate 13, the interference fringes with high contrast can be obtained.

【0051】従って、干渉縞本数を数えるのが容易とな
り、補正基板13とスタンパ10との平行度、ひいては
複製基板12上に形成された樹脂11によるホログラム
の平行度が所定範囲内であるように調整容易となるの
で、全域について厚みむらのない良好なホログラムの複
製が容易に行えるものとなっている。
Therefore, it becomes easy to count the number of interference fringes, so that the parallelism between the correction substrate 13 and the stamper 10, and thus the parallelism of the hologram formed by the resin 11 formed on the replica substrate 12 is within a predetermined range. Since the adjustment is easy, a good hologram can be easily duplicated without unevenness in thickness over the entire area.

【0052】図3は、本発明に係るホログラム複製方法
を、プレートスタンパに適用した例を説明するための図
である。図において、プレートスタンパ10も、通常の
ホログラム領域10bとモニタ領域10aとを有して構
成される。
FIG. 3 is a diagram for explaining an example in which the hologram duplication method according to the present invention is applied to a plate stamper. In the figure, the plate stamper 10 is also configured to have a normal hologram area 10b and a monitor area 10a.

【0053】通常のホログラム領域10bは、上述した
ように、干渉縞による凹凸の溝が形成された領域であ
り、光の回折により種々の光学的機能を実現する部分で
ある。この通常のホログラム領域10bは、プレートの
内側に設ける。
As described above, the normal hologram area 10b is an area in which concave and convex grooves due to interference fringes are formed, and is a portion that realizes various optical functions by diffracting light. This normal hologram area 10b is provided inside the plate.

【0054】モニタ領域10aも、上述したように、ホ
ログラムパターンの形成されない領域であり、プレート
の外周に設けられる。このモニタ領域10aは、ホログ
ラムパターンが皆無で平坦であることが望ましいが、浅
い溝によるホログラムパターンが形成されていても構わ
ない。
As described above, the monitor area 10a is also an area where the hologram pattern is not formed and is provided on the outer periphery of the plate. It is desirable that the monitor area 10a has no hologram pattern and is flat, but a hologram pattern having shallow grooves may be formed.

【0055】上記のように構成されるプレートスタンパ
10を用いたホログラムの複製においては、図中左右及
び上下のモニタ領域10aの干渉縞を観察することによ
り、上記ディスクスタンパと同様に、補正基板13とス
タンパ10との平行度、ひいては複製基板12上に形成
された樹脂11によるホログラムの平行度が所定範囲内
であるように調整容易となるので、全域について厚みむ
らのない良好なホログラムの複製が容易に行えるものと
なっている。
In the hologram duplication using the plate stamper 10 having the above-described structure, the correction substrate 13 can be obtained by observing the interference fringes of the monitor regions 10a on the left and right sides and the upper and lower sides in the figure, like the disc stamper. Since it is easy to adjust the parallelism between the stamper 10 and the stamper 10, and thus the parallelism of the hologram formed by the resin 11 formed on the replica substrate 12 to be within a predetermined range, it is possible to reproduce a good hologram without uneven thickness over the entire area. It is easy to do.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば平
行度の調整を容易にして厚みむらを防止することにより
良好なホログラムを複製できるホログラム複製方法を提
供することができる。
As described in detail above, according to the present invention, it is possible to provide a hologram duplication method capable of duplicating a good hologram by facilitating the adjustment of the parallelism and preventing the uneven thickness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理説明図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.

【図2】本発明のホログラム複製方法の実施例を説明す
るための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining an embodiment of the hologram duplication method of the present invention.

【図3】本発明のホログラム複製方法の他の実施例を説
明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining another embodiment of the hologram duplication method of the present invention.

【図4】従来のホログラムの厚みむらの影響を説明する
ための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining an influence of uneven thickness of a conventional hologram.

【図5】従来のホログラムの厚みむらの補正方法を説明
をするための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a conventional method for correcting unevenness in hologram thickness.

【図6】従来のホログラムの厚みむらの確認方法の一例
を説明をするための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining an example of a conventional method for confirming unevenness in thickness of a hologram.

【図7】従来のホログラムの厚みむらの確認方法の他の
例を説明をするための図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining another example of the conventional method for confirming the uneven thickness of a hologram.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 スタンパ 10a モニタ領域 11 樹脂 12 複製基板 13 補正基板 10 Stamper 10a Monitor Area 11 Resin 12 Duplicate Substrate 13 Correction Substrate

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面レリーフ型のホログラムに基づきス
タンパ(10)を作成し、該スタンパ(10)に樹脂(11)を拡散
させて複製基板(12)に転写することによりホログラムを
複製するホログラム複製方法において、 前記スタンパ(10)のホログラムが形成される面の一部に
光を反射するモニタ領域(10a) を設け、 該モニタ領域(10a) へ照射された光の反射光に応じて前
記樹脂(11)の厚みを調整しながらホログラムを複製する
ことを特徴とするホログラム複製方法。
1. A hologram duplication in which a hologram is duplicated by forming a stamper (10) based on a surface relief type hologram, diffusing a resin (11) in the stamper (10) and transferring the resin (11) to a duplication substrate (12). In the method, a monitor area (10a) for reflecting light is provided on a part of the surface of the stamper (10) on which the hologram is formed, and the resin is applied according to the reflected light of the light irradiated to the monitor area (10a). A hologram duplication method, characterized in that the hologram is duplicated while adjusting the thickness of (11).
【請求項2】 表面レリーフ型のホログラムに基づきス
タンパ(10)を作成し、該スタンパ(10)に樹脂(11)を拡散
させて複製基板(12)に転写することによりホログラムを
複製するホログラム複製方法において、 前記スタンパ(10)のホログラムが形成される面の一部に
モニタ領域(10a) を設け、 前記スタンパ(10)に樹脂(11)を介在させて複製基板(12)
を被せ、 該複製基板(12)に更に樹脂(11)を介在させて補正基板(1
3)を被せ、 該補正基板(13)側から光を照射して前記スタンパ(10)の
モニタ領域(10a) からの反射光と前記補正基板(13)から
の反射光との干渉縞を観察することにより前記樹脂(11)
の厚みを調整しながらホログラムを複製することを特徴
とするホログラム複製方法。
2. A hologram duplication in which a hologram is duplicated by forming a stamper (10) based on a surface relief type hologram, diffusing a resin (11) in the stamper (10) and transferring the resin to a duplication substrate (12). In the method, a monitor region (10a) is provided on a part of the surface of the stamper (10) on which the hologram is formed, and a resin (11) is interposed in the stamper (10) to form a duplicate substrate (12).
And the resin (11) is further interposed on the duplicate substrate (12) to correct the correction substrate (1
3) and irradiate light from the correction substrate (13) side to observe interference fringes between the reflected light from the monitor area (10a) of the stamper (10) and the reflected light from the correction substrate (13). By doing the resin (11)
A hologram duplication method characterized by duplicating a hologram while adjusting the thickness of the hologram.
【請求項3】 請求項1又は2において、前記スタンパ
(10)に設けられるモニタ領域(10a) は、ホログラムパタ
ーンのない平坦な領域又は浅い溝形状のホログラムパタ
ーン領域であることを特徴とするホログラム複製方法。
3. The stamper according to claim 1,
The hologram duplication method, wherein the monitor area (10a) provided in (10) is a flat area without a hologram pattern or a shallow groove-shaped hologram pattern area.
JP22160992A 1992-08-20 1992-08-20 Method for reproducing hologram Withdrawn JPH0667594A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021021843A (en) * 2019-07-29 2021-02-18 株式会社日立エルジーデータストレージ Hologram light guide plate and head mount display

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