JPH0660650A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JPH0660650A
JPH0660650A JP4214135A JP21413592A JPH0660650A JP H0660650 A JPH0660650 A JP H0660650A JP 4214135 A JP4214135 A JP 4214135A JP 21413592 A JP21413592 A JP 21413592A JP H0660650 A JPH0660650 A JP H0660650A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
column
line pair
data bus
read
gate
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4214135A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junji Ogawa
淳二 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0660650A publication Critical patent/JPH0660650A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To reduce the region for forming a column gate driver and to reduce area loss thus utilizing the surface of chip effectively in a semiconductor storage device where the pairs of data bus line shared by a plurality of pairs of bit lines connected with storage cells are separated into pairs of read data buse line and write data bus line being multiplexed. CONSTITUTION:Vth of nMOS transistors 61, 63, 65, 67 in read column gates 58, 59 is set at 0.1V, whereas Vth of nMOS transistors 91-94 in write column gate is set at 1.5V=1/2VCC. At the time of read operation, column selection signal is set at 1.5V whereas it is set at 3V = VCC at the time of write operation.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、メモリセルが接続され
た複数のビット線対により共用されるデータバス線対を
リード用データバス線対とライト用データバス線対とに
分離し、しかも、これらをそれぞれ多重化してなる半導
体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention separates a data bus line pair shared by a plurality of bit line pairs to which memory cells are connected into a read data bus line pair and a write data bus line pair. The present invention relates to a semiconductor memory device in which these are multiplexed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、メモリセルが接続された複数のビ
ット線対により共用されるデータバス線対をリード用デ
ータバス線対とライト用データバス線対とに分離し、し
かも、これらをそれぞれ二重化してなる半導体記憶装
置、例えば、DRAM(dynamicrandom access memor
y)として、図18にその要部を示すようなものが知ら
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a data bus line pair shared by a plurality of bit line pairs to which memory cells are connected is separated into a read data bus line pair and a write data bus line pair, and each of these is separated. A dual semiconductor memory device, such as a DRAM (dynamic random access memory)
As y), there is known one whose main part is shown in FIG.

【0003】図中、1はメモリセルアレイ部であり、1
A、1B、1C、1Dはメモリセル、WL1、WLnは
ワード線、BL1、/BL1、BL2、/BL2はビッ
ト線である。
In the figure, 1 is a memory cell array section,
A, 1B, 1C and 1D are memory cells, WL1 and WLn are word lines, and BL1, / BL1, BL2 and / BL2 are bit lines.

【0004】また、2はビット線対BL1、/BL1に
対応して設けられたセンスアンプ、3はビット線対BL
2、/BL2に対応して設けられたセンスアンプであ
り、4〜7はpMOSトランジスタ、8〜11はnMO
Sトランジスタ、PSA、NSAはセンスアンプ活性化
信号線である。
Further, 2 is a sense amplifier provided corresponding to the bit line pair BL1, / BL1 and 3 is a bit line pair BL.
2, sense amplifiers provided corresponding to / BL2, 4 to 7 are pMOS transistors, and 8 to 11 are nMO.
The S transistor, PSA, and NSA are sense amplifier activation signal lines.

【0005】また、RDB1、/RDB1及びRDB
2、/RDB2は、それぞれ、対をなすリード用データ
バス線、WDB1、/WDB1及びWDB2、/WDB
2は、それぞれ、対をなすライト用データバス線であ
る。
In addition, RDB1, / RDB1 and RDB
2 and / RDB2 are paired read data bus lines, WDB1, / WDB1 and WDB2, / WDB, respectively.
Reference numerals 2 are write data bus lines that make a pair, respectively.

【0006】また、12はビット線対BL1、/BL1
に対応して設けられたリード用コラムゲート、13はビ
ット線対BL2、/BL2に対応して設けられたリード
用コラムゲートであり、14〜21はnMOSトランジ
スタ、22は接地された配線である。
Further, 12 is a bit line pair BL1, / BL1
Corresponding to the read column gate, 13 is a read column gate provided corresponding to the bit line pair BL2, / BL2, 14 to 21 are nMOS transistors, and 22 is a grounded wiring. .

【0007】また、23はビット線対BL1、/BL1
に対応して設けられたライト用コラムゲート、24はビ
ット線対BL2、/BL2に対応して設けられたライト
用コラムゲートであり、25〜28はnMOSトランジ
スタである。
Reference numeral 23 is a bit line pair BL1, / BL1
Column gates for writing provided corresponding to the bit lines, 24 is a column gate for writing provided corresponding to the bit line pair BL2, / BL2, and 25 to 28 are nMOS transistors.

【0008】また、29はコラムアドレス信号をデコー
ドしてコラムの選択を行うコラムデコーダであり、CA
0、/CA0・・・/CA9はコラムアドレス信号、3
0はリード用コラムゲート12、13及びライト用コラ
ムゲート23、24の選択を行うNAND回路である。
A column decoder 29 decodes a column address signal to select a column.
0, /CA0.../CA9 are column address signals, 3
Reference numeral 0 is a NAND circuit for selecting the read column gates 12 and 13 and the write column gates 23 and 24.

【0009】また、31はリード用コラム選択信号RC
Lを出力してリード用コラムゲート12、13をドライ
ブするリード用コラムゲート・ドライバ、32はライト
用コラム選択信号WCLを出力してライト用コラムゲー
ト23、24をドライブするライト用コラムゲート・ド
ライバであり、33、34はpMOSトランジスタ、3
5、36はnMOSトランジスタである。
Further, 31 is a read column selection signal RC
A read column gate driver that outputs L to drive the read column gates 12 and 13, and a write column gate driver 32 that outputs a write column selection signal WCL to drive the write column gates 23 and 24. 33 and 34 are pMOS transistors and 3
Reference numerals 5 and 36 are nMOS transistors.

【0010】また、RCDはリード用コラム選択信号R
CLを生成するために、リード用コラムゲート・ドライ
バを構成するpMOSトランジスタのソースに供給され
る信号、WCDはライト用コラム選択信号WCLを生成
するために、ライト用コラムゲート・ドライバを構成す
るpMOSトランジスタのソースに供給される信号であ
る。
RCD is a read column selection signal R.
A signal supplied to the source of the pMOS transistor forming the read column gate driver to generate CL, and WCD a pMOS forming the write column gate driver to generate the write column selection signal WCL. This signal is supplied to the source of the transistor.

【0011】このように構成された従来のDRAMにお
いては、リード時、ロウアドレス信号をデコードするロ
ウデコーダ(図示せず)により選択されたワード線に接
続されたメモリセルの記憶情報がビット線に伝達され
る。
In the conventional DRAM configured as described above, the stored information of the memory cell connected to the word line selected by the row decoder (not shown) for decoding the row address signal is read to the bit line at the time of reading. Transmitted.

【0012】その後、センスアンプ活性化回路(図示せ
ず)によりセンスアンプ活性化信号線PSAが電源電圧
VCCとされると共に、センスアンプ活性化信号線NS
Aが接地電圧とされ、センスアンプ活性化回路に接続さ
れた全センスアンプが活性化され、ビット線に伝達され
た記憶情報が増幅される。
Thereafter, the sense amplifier activation signal line PSA is set to the power supply voltage VCC by the sense amplifier activation circuit (not shown), and the sense amplifier activation signal line NS is set.
A is set to the ground voltage, all sense amplifiers connected to the sense amplifier activation circuit are activated, and the stored information transmitted to the bit line is amplified.

【0013】ここに、例えば、リード用コラムゲート1
2、13が選択される場合、コラムデコーダ29にリー
ド用コラムゲート12、13を選択するためのコラムア
ドレス信号CA0、/CA0・・・/CA9が供給さ
れ、NAND回路30の出力=「L」とされる。
Here, for example, the read column gate 1
When 2 and 13 are selected, the column decoder 29 is supplied with column address signals CA0, / CA0 ... / CA9 for selecting the read column gates 12 and 13, and the output of the NAND circuit 30 is "L". It is said that

【0014】この結果、コラムゲート・ドライバ31の
pMOSトランジスタ33=ON、nMOSトランジス
タ35=OFF、コラムゲート・ドライバ32のpMO
Sトランジスタ34=ON、nMOSトランジスタ36
=OFFとされる。
As a result, the pMOS transistor 33 of the column gate driver 31 is ON, the nMOS transistor 35 is OFF, and the pMO of the column gate driver 32 is pMO.
S transistor 34 = ON, nMOS transistor 36
= OFF.

【0015】また、この場合、信号RCD=「H」、信
号WCD=「L」とされ、リード用コラム選択信号RC
L=「H」、ライト用コラム選択信号WCL=「L」と
される。
Further, in this case, the signal RCD = “H”, the signal WCD = “L”, and the read column selection signal RC.
L = “H”, write column selection signal WCL = “L”.

【0016】ここに、リード用コラムゲート12、13
のnMOSトランジスタ15、17、19、21=O
N、ライト用コラムゲート23、24のnMOSトラン
ジスタ25、26、27、28=OFFとされる。
Here, the read column gates 12 and 13 are provided.
NMOS transistors 15, 17, 19, 21 = 0
N, nMOS transistors 25, 26, 27, 28 of write column gates 23, 24 are turned off.

【0017】この結果、リード用コラムゲート12で
は、nMOSトランジスタ15、17と直列に接続され
たnMOSトランジスタ14、16と相まってビット線
対BL1、/BL1の情報がリード用データバス線対R
DB1、/RDB1に伝達され、これがリードアンプ
(図示せず)を介して読み出される。
As a result, in the read column gate 12, the information of the bit line pair BL1 and / BL1 is combined with the nMOS transistors 14 and 16 connected in series with the nMOS transistors 15 and 17 to read data bus line pair R.
It is transmitted to DB1 and / RDB1 and is read via a read amplifier (not shown).

【0018】また、リード用コラムゲート13では、n
MOSトランジスタ19、21と直列に接続されたnM
OSトランジスタ18、20と相まってビット線対BL
2、/BL2の情報がリード用データバス線対RDB
2、/RDB2に伝達され、これがリードアンプ(図示
せず)を介して読み出される。
In the read column gate 13, n
NM connected in series with MOS transistors 19 and 21
Bit line pair BL coupled with OS transistors 18 and 20
2, information of / BL2 is read data bus line pair RDB
2, / RDB2, which is read out via a read amplifier (not shown).

【0019】これに対して、ライト時においては、ライ
トアンプ(図示せず)により2個の入力データがそれぞ
れ相補信号としてライト用データバス線対WDB1、/
WDB1及びライト用データバス線対WDB2、/WD
B2に伝達される。
On the other hand, at the time of writing, two input data are written as complementary signals by the write amplifier (not shown), and the write data bus line pair WDB1, / WDB1, /
WDB1 and write data bus line pair WDB2, / WD
It is transmitted to B2.

【0020】ここに、例えば、ライト用コラムゲート2
3、24が選択される場合、コラムデコーダ29にライ
ト用コラムゲート23、24を選択するためのコラムア
ドレス信号CA0、/CA0・・・/CA9が供給さ
れ、NAND回路30の出力=「L」とされる。
Here, for example, the write column gate 2
When 3, 24 are selected, column address signals CA0, / CA0 ... / CA9 for selecting the write column gates 23, 24 are supplied to the column decoder 29, and the output of the NAND circuit 30 is "L". It is said that

【0021】この結果、コラムゲート・ドライバ31の
pMOSトランジスタ33=ON、nMOSトランジス
タ35=OFF、コラムゲート・ドライバ32のpMO
Sトランジスタ34=ON、nMOSトランジスタ36
=OFFとされる。
As a result, the pMOS transistor 33 of the column gate driver 31 is ON, the nMOS transistor 35 is OFF, and the pMO of the column gate driver 32 is pMO.
S transistor 34 = ON, nMOS transistor 36
= OFF.

【0022】また、この場合、信号RCD=「L」、信
号WCD=「H」とされ、リード用コラム選択信号RC
L=「L」、ライト用コラム選択信号WCL=「H」と
される。
In this case, the signal RCD = “L”, the signal WCD = “H”, and the read column selection signal RC.
L = “L” and the write column selection signal WCL = “H”.

【0023】ここに、リード用コラムゲート12、13
のnMOSトランジスタ15、17、19、21=OF
Fとされ、ライト用コラムゲート23、24のnMOS
トランジスタ25、26、27、28=ONとされる。
Here, the read column gates 12 and 13 are provided.
NMOS transistors 15, 17, 19, 21 = OF
F, and the nMOS of the write column gates 23 and 24
The transistors 25, 26, 27, 28 are turned on.

【0024】この結果、ビット線BL1、/BL1、B
L2、/BL2はそれぞれnMOSトランジスタ25、
26、27、28を介してライト用データバス線WDB
1、/WDB1、WDB2、/WDB2に接続され、選
択されたメモリセルに対する書込みが行われる。
As a result, bit lines BL1, / BL1, B
L2 and / BL2 are nMOS transistors 25 and
Write data bus line WDB via 26, 27 and 28
1, / WDB1, WDB2, / WDB2 are connected to write data to the selected memory cell.

【0025】ここに、このDRAMは、データバス線対
をリード用データバス線対とライト用データバス線対と
に分離しているので、ライトモード時にライト用コラム
選択信号WCLが「H」とされた場合に、リード用コラ
ム選択信号RCLが「H」となっていても、正確に書込
みを行うことが可能であり、高速化を図ることができ
る。
In this DRAM, since the data bus line pair is separated into the read data bus line pair and the write data bus line pair, the write column selection signal WCL is set to "H" in the write mode. In this case, even if the read column selection signal RCL is "H", accurate writing can be performed, and the speed can be increased.

【0026】ところで、この例のように、データバス線
対をリード用データバス線対とライト用データバス線対
とに分離しているDRAMにおいて、仮に、リード用デ
ータバス線対及びライト用データバス線対を二重化しな
い場合には、1コラムの幅内(個々のセンスアンプの形
成幅内)にリード用コラムゲート・ドライバとライト用
コラムゲート・ドライバを1個ずつ設ける必要があり、
このようにする場合には、センスアンプの配列ピッチを
大きくしなければならず、高集積化を図ることができな
い。
By the way, in the DRAM in which the data bus line pair is divided into the read data bus line pair and the write data bus line pair as in this example, it is assumed that the read data bus line pair and the write data are temporarily stored. If the bus line pair is not duplicated, it is necessary to provide one read column gate driver and one write column gate driver within the width of one column (within the formation width of each sense amplifier).
In this case, the arrangement pitch of the sense amplifiers has to be increased, and high integration cannot be achieved.

【0027】この点、この図18に示すDRAMにおい
ては、リード用データバス線対及びライト用データバス
線対をそれぞれ二重化しているので、1コラム幅内にリ
ード用コラムゲート・ドライバを1個か、ライト用コラ
ムゲート・ドライバを1個だけ設ければ足りる。
In this regard, in the DRAM shown in FIG. 18, since the read data bus line pair and the write data bus line pair are duplicated, one read column gate driver is provided within one column width. Or, it is sufficient to provide only one column gate driver for writing.

【0028】即ち、例えば、センスアンプ2の形成幅内
にはリード用コラムゲート・ドライバ31を設け、セン
スアンプ3の形成幅内にはライト用コラムゲート・ドラ
イバ32を設ければ足りる。
That is, for example, it is sufficient to provide the read column gate driver 31 within the formation width of the sense amplifier 2 and the write column gate driver 32 within the formation width of the sense amplifier 3.

【0029】したがって、図18に示すDRAMによれ
ば、リード用データバス線対及びライト用データバス線
対をそれぞれ二重化していないDRAMよりも高集積化
を図ることができる。
Therefore, the DRAM shown in FIG. 18 can be highly integrated as compared with the DRAM in which the read data bus line pair and the write data bus line pair are not duplicated.

【0030】[0030]

【発明が解決しようとする課題】このように、図18に
示すDRAMにおいては、リード用データバス線対及び
ライト用データバス線対をそれぞれ二重化することによ
り、高集積化を図るようにはしているが、ここに、1個
のコラムゲート・ドライバで、例えば、リード用コラム
ゲート12、13及びライト用コラムゲート23、24
をドライブすることができるようにすれば、コラムゲー
ト・ドライバを形成するために設けられている領域37
を狭くし、面積損を減らし、チップ面を有効に利用する
ことができる。
As described above, in the DRAM shown in FIG. 18, the read data bus line pair and the write data bus line pair are duplicated to achieve high integration. However, one column gate driver is used here, for example, read column gates 12 and 13 and write column gates 23 and 24.
Area 37 provided for forming a column gate driver if it can be driven.
Can be made smaller, the area loss can be reduced, and the chip surface can be effectively used.

【0031】更に、また、例えば、NAND回路30
で、2個のリード用コラムゲート12、13及びライト
用コラムゲート23、24をドライブすることができる
ようにすれば、コラムゲート・ドライバ31、32を不
要とし、コラムゲート・ドライバを形成するために設け
られている領域37をなくし、面積損を更に減らし、チ
ップ面を更に有効に利用することができる。
Furthermore, for example, the NAND circuit 30
Therefore, if the two read column gates 12 and 13 and the write column gates 23 and 24 can be driven, the column gate drivers 31 and 32 are unnecessary and the column gate driver is formed. It is possible to eliminate the area 37 provided on the chip, further reduce the area loss, and use the chip surface more effectively.

【0032】本発明は、かかる点に鑑み、コラムゲー
ト・ドライバを形成するための領域を縮小化し、面積損
を減らし、チップ面を有効に利用することができるよう
にした半導体記憶装置、及び、コラムゲート・ドライ
バを形成するための領域をなくし、面積損を更に減ら
し、チップ面を更に有効に利用することができるように
した半導体記憶装置を提供することを目的とする。
In view of the above point, the present invention reduces the area for forming the column gate driver, reduces the area loss, and enables the chip surface to be effectively utilized, and It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device in which a region for forming a column gate driver is eliminated, an area loss is further reduced, and a chip surface can be used more effectively.

【0033】[0033]

【課題を解決するための手段】図1は本発明中、第1の
発明の原理を示す回路図であり、図中、381、382
・・38mn+nはメモリセルが接続されてなるビット線
対、391、392・・・39nはリード用データバス線
対、401、402・・・40nはライト用データバス線
対である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the principle of the first invention in the present invention. In FIG. 1, 38 1 , 38 2 , ...
.. 38 mn + n are bit line pairs formed by connecting memory cells, 39 1 , 39 2 ... 39 n are read data bus line pairs, 40 1 , 40 2 ... 40 n are write data It is a pair of bus lines.

【0034】また、411、412・・・41mn+nはリー
ド用コラムゲート、421、422・・・42mn+nはライ
ト用コラムゲート、431、432・・・43m+1はコラ
ムゲート・ドライバである。
41 1 , 41 2 ... 41 mn + n are read column gates, 42 1 , 42 2 ... 42 mn + n are write column gates, 43 1 , 43 2 ... 43 m + 1 is a column gate driver.

【0035】即ち、第1の発明では、ビット線対3
1、382・・・38mn+n(n=2以上の整数、m=0
以上の整数)に対して、リード用データバス線対3
1、392・・・39n及びライト用データバス線対4
1、402・・・40nが設けられる。
That is, in the first invention, the bit line pair 3
8 1 , 38 2 ... 38 mn + n (n = integer of 2 or more, m = 0
For the above integers), read data bus line pair 3
9 1 , 39 2 ... 39 n and write data bus line pair 4
0 1 , 40 2 ... 40 n are provided.

【0036】また、ビット線対381、382・・・38
mn+nに対応させて、リード用コラムゲート411、412
・・・41mn+n及びライト用コラムゲート421、422
・・・42mn+nが設けられる。
The bit line pairs 38 1 , 38 2, ... 38
Corresponding to mn + n , read column gates 41 1 and 41 2
... 41 mn + n and write column gates 42 1 and 42 2
... 42 mn + n are provided.

【0037】また、リード用コラムゲート411、412
・・・41n及びライト用コラムゲート421、422
・・42nからなるグループ、リード用コラムゲート4
n+1、41n+2・・・41n+n及びライト用コラムゲー
ト42n+1、42n+2・・・42 n+nからなるグループ、
・・・、リード用コラムゲート41mn+1、41mn+2・・
・41mn+n及びライト用コラムゲート42mn+1、42
mn+2・・・42mn+nからなるグループをそれぞれ1単位
として、それぞれに対応させて、コラムゲート・ドライ
バ431、432・・・43m+1が設けられる。
In addition, the read column gate 411, 412
... 41nAnd column gate 42 for light1, 422
・ ・ 42nGroup consisting of 4 column gates for leads
1n + 1, 41n + 2... 41n + nAnd column games for lights
To 42n + 1, 42n + 2... 42 n + nA group of
..., read column gate 41mn + 1, 41mn + 2・ ・
・ 41mn + nAnd column gate 42 for lightmn + 1, 42
mn + 2... 42mn + n1 group each consisting of
As a column gate dry
Ba 431, 432... 43m + 1Is provided.

【0038】ここに、図2は、ビット線対38pn+i(但
し、p=0〜mの整数、i=1〜nの整数)に対応して
設けられているリード用コラムゲート41pn+i及びライ
ト用コラムゲート42pn+iを示す回路図であり、44
pn+i、45pn+i、46pn+i、47pn+i、48pn+i、49
pn+iはMOSトランジスタである。
Here, FIG. 2 shows the read column gate 41 pn provided corresponding to the bit line pair 38 pn + i (where p = 0 to an integer of m and i = 1 to an integer of n). FIG. 44 is a circuit diagram showing + i and a write column gate 42 pn + i ,
pn + i , 45 pn + i , 46 pn + i , 47 pn + i , 48 pn + i , 49
pn + i is a MOS transistor.

【0039】即ち、リード用コラムゲート41pn+iは、
MOSトランジスタ44pn+i、45 pn+i、46pn+i、4
pn+iで構成されており、MOSトランジスタ4
pn+i、45pn+iを配線50とリード用データバス線対
39iの一方のリード用データバス線/RDBiとの間に
順に直列に接続し、MOSトランジスタ44pn+iのゲー
トをビット線対38pn+iの一方のビット線BLpn+iに接
続している。
That is, the read column gate 41pn + iIs
MOS transistor 44pn + i, 45 pn + i, 46pn + iFour
7pn + iThe MOS transistor 4
Fourpn + i, 45pn + iWiring 50 and data bus line pair for read
39iOne read data bus line / RDBiBetween
MOS transistor 44 connected in series in orderpn + iThe game
Bit line pair 38pn + iOne bit line BLpn + iContact
It continues.

【0040】また、MOSトランジスタ46pn+i、47
pn+iを配線50とリード用データバス線対39iの他方
のリード用データバス線RDBiとの間に順に直列に接
続し、MOSトランジスタ46pn+iのゲートをビット線
対38pn+iの他方のビット線/BLpn+iに接続してい
る。
Further, the MOS transistors 46 pn + i , 47
pn + i is sequentially connected in series between the wiring 50 and the other read data bus line RDB i of the read data bus line pair 39 i , and the gate of the MOS transistor 46 pn + i is connected to the bit line pair 38 pn +. i of the other bit line / BL is connected to the pn + i.

【0041】なお、配線50は、電力損失を考慮しない
場合には、接地され、リード時のみならず、ライト時に
おいても、プリチャージされたリード用データバス線対
から選択されたコラムのリード用コラムゲート及び配線
50を介して接地に電流が流れる構成とされる。
When the power loss is not taken into consideration, the wiring 50 is grounded and used for reading the column selected from the precharged read data bus line pair not only at the time of reading but also at the time of writing. A current flows to the ground via the column gate and the wiring 50.

【0042】これに対して、配線50は、電力損失を考
慮する場合には、リード時は接地されるが、ライト時
は、プリチャージされたリード用データバス線対から選
択されたコラムのリード用コラムゲートを介して配線5
0に流れる電流を抑制することができる電圧に設定され
る構成とされる。
On the other hand, in consideration of power loss, the wiring 50 is grounded at the time of reading, but at the time of writing, the lead of the column selected from the precharged read data bus line pair. Wiring through the column gate for
The voltage is set so that the current flowing to 0 can be suppressed.

【0043】また、ライト用コラムゲート42pn+iは、
MOSトランジスタ45pn+i、47 pn+iよりもスレッシ
ョルド電圧の高いMOSトランジスタ48pn+i、49
pn+iで構成されている。
In addition, the write column gate 42pn + iIs
MOS transistor 45pn + i, 47 pn + iThan thresh
High-voltage MOS transistor 48pn + i, 49
pn + iIt is composed of.

【0044】ここに、MOSトランジスタ48pn+iは、
ビット線対38pn+iの一方のビット線BLpn+iとライト
用データバス線対40iの一方のデータバス線WDBi
の間に接続されている。
Here, the MOS transistor 48 pn + i is
It is connected between one bit line BL pn + i of the bit line pair 38 pn + i and one data bus line WDB i of the write data bus line pair 40 i .

【0045】また、MOSトランジスタ49pn+iは、ビ
ット線対38pn+iの他方のビット線/BLpn+iとライト
用データバス線対40iの他方のライト用データバス線
/WDBiとの間に接続されている。
Further, MOS transistors 49 pn + i is the bit line pair 38 pn + i of the other bit line / BL pn + i and the write data bus line pairs 40 i other write data bus line / WDB i Is connected between and.

【0046】そして、この第1の発明においては、コラ
ムゲート・ドライバ431、432・・・43m+1から出
力されるコラム選択信号CL1、CL2・・・CL
m+1は、それぞれ、リード用コラムゲート411、412
・・・41n及びライト用コラムゲート421、422
・・42nを構成するMOSトランジスタ45pn+i、4
pn+i、48pn+i、49pn+iのゲート(但し、p=
0)、リード用コラムゲート41n+ 1、41n+2・・・4
n+n及びライト用コラムゲート42n+1、42n+2・・
・42n+nを構成するMOSトランジスタ45pn+i、4
pn+i、48pn+i、49pn+iのゲート(但し、p=
1)、・・・、リード用コラムゲート41mn+1、41
mn+2・・・41mn+n及びライト用コラムゲート4
mn+1、42mn+2・・・42mn+nを構成するMOSトラ
ンジスタ45pn+i、47pn+i、48pn+i、49pn+iのゲ
ート(但し、p=m)に供給される。
In the first aspect of the invention, the column selection signals CL 1 , CL 2 ... CL output from the column gate drivers 43 1 , 43 2 ... 43 m + 1 are output.
m + 1 is the read column gates 41 1 and 41 2 , respectively.
... 41 n and write column gates 42 1 and 42 2
.... MOS transistors 45 pn + i forming 42 n , 4
7 pn + i , 48 pn + i , 49 pn + i gates (where p =
0), read column gates 41 n + 1 , 41 n + 2 ... 4
1 n + n and write column gates 42 n + 1 , 42 n + 2 ...
・ MOS transistors 45 pn + i , which form 42 n + n , 4
7 pn + i , 48 pn + i , 49 pn + i gates (where p =
1), ..., Read column gates 41 mn + 1 , 41
mn + 2・ ・ ・ 41 mn + n and write column gate 4
2 mn + 1 , 42 mn + 2 ... to the gates of the MOS transistors 45 pn + i , 47 pn + i , 48 pn + i , 49 pn + i (provided that p = m) that form 42 mn + n Supplied.

【0047】但し、これらコラム選択信号CL1、CL2
・・・CLm+1は、リード時は、MOSトランジスタ4
pn+i、47pn+iを導通状態、MOSトランジスタ48
pn+i、49pn+iを非導通状態とし、ライト時には、MO
Sトランジスタ45pn+i、47pn+i、48pn+i、49
pn+iを導通状態とするレベルの信号とされる。
However, these column selection signals CL 1 , CL 2
... CL m + 1 is the MOS transistor 4 when reading
5 pn + i , 47 pn + i conductive, MOS transistor 48
pn + i and 49 pn + i are non-conducting, and when writing, MO
S transistor 45 pn + i , 47 pn + i , 48 pn + i , 49
It is a signal of a level that makes pn + i conductive.

【0048】また、図3は本発明中、第2の発明の原理
を示す回路図であり、この第2の発明は、コラムデコー
ダにおいてコラムの選択を行う論理ゲート511、512
・・・51m+1から上述のコラム選択信号CL1、CL2
・・・CLm+1を出力するようにし、コラムゲート・ド
ライバ431、432・・・43m+1を不要としたもので
あり、その他については、第1の発明と同様に構成した
ものである。
FIG. 3 is a circuit diagram showing the principle of the second invention in the present invention. In the second invention, logic gates 51 1 and 51 2 for selecting a column in a column decoder are shown.
... 51 m + 1 to the above-described column selection signals CL 1 and CL 2
... CL m + 1 is output, and the column gate drivers 43 1 , 43 2 ... 43 m + 1 are not necessary, and other configurations are the same as those of the first invention. It is a thing.

【0049】[0049]

【作用】第1の発明においては、リード用コラムゲート
411、412・・・41n及びライト用コラムゲート4
1、422・・・42nからなるグループ、リード用コ
ラムゲート41n+1、41n+2・・・41n+n及びライト
用コラムゲート42n+1、42n+2・・・42n+nからな
るグループ、・・・、リード用コラムゲート41mn +1
41mn+2・・・41mn+n及びライト用コラムゲート42
mn+1、42mn+2・・・42mn+nからなるグループに対応
してコラムゲート・ドライバ431、432・・・43
m+1を設け、1コラムごとにコラムゲート・ドライバを
設ける必要がないようにしているので、コラムゲート・
ドライバを形成する領域を縮小化し、面積損を減らし、
チップ面を有効に利用することができる。
In the first aspect of the invention, the read column gates 41 1 , 41 2 ... 41 n and the write column gate 4 are provided.
Group consisting of 2 1 , 42 2 ... 42 n , read column gates 41 n + 1 , 41 n + 2 ... 41 n + n and write column gates 42 n + 1 , 42 n + 2 ...・ Group consisting of 42 n + n , ..., Read column gate 41 mn +1
41 mn + 2 ... 41 mn + n and write column gate 42
mn + 1 , 42 mn + 2 ... 42 mn + n corresponding to a group of column gate drivers 43 1 , 43 2 ... 43
Since m + 1 is provided, it is not necessary to provide a column gate driver for each column.
The area forming the driver is reduced, the area loss is reduced,
The chip surface can be effectively used.

【0050】また、第2の発明においては、コラムの選
択を行う論理ゲート511、512・・・51m+1から上
述のコラム選択信号CL1、CL2・・・CLm+1を出力
するようにして、コラムゲート・ドライバ431、432
・・・43m+1を不要としているので、コラムゲート・
ドライバを形成する領域をなくし、面積損を第1の発明
以上に減らし、チップ面を第1の発明以上に有効に利用
することができる。
In the second invention, the column selection signals CL 1 , CL 2 ... CL m + 1 are output from the logic gates 51 1 , 51 2, ... 51 m + 1 for selecting columns. Column gate drivers 43 1 , 43 2
・ ・ ・ 43 m + 1 is not required, so column gate
The area for forming the driver can be eliminated, the area loss can be reduced more than in the first invention, and the chip surface can be effectively used more than in the first invention.

【0051】[0051]

【実施例】以下、図5〜図17を参照して、本発明の第
1実施例〜第3実施例について、リード用データバス線
対及びライト用データバス線対をそれぞれ二重化してな
るDRAMに本発明を適用した場合を例にして説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIGS. 5 to 17, a DRAM in which a read data bus line pair and a write data bus line pair are respectively duplicated in the first to third embodiments of the present invention. The case where the present invention is applied to will be described as an example.

【0052】第1実施例・・図5〜図13 図5は本発明の一実施例の要部を示す回路図であり、メ
モリセルが配列されてなるメモリセルアレイ部1、ビッ
ト線BL1、/BL1、BL2、/BL2、センスアン
プ2、3、リード用データバス線RDB1、/RDB
1、RDB2、/RDB2、ライト用データバス線WD
B1、/WDB1、WDB2、/WDB2については、
回路図上、図18に示す従来のDRAMと同様に構成さ
れている。
First Embodiment ... FIG. 5 to FIG. 13 FIG. 5 is a circuit diagram showing a main part of an embodiment of the present invention. A memory cell array part 1 in which memory cells are arranged, bit lines BL1, / BL1, BL2, / BL2, sense amplifiers 2, 3, read data bus lines RDB1, / RDB
1, RDB2, / RDB2, write data bus line WD
For B1, / WDB1, WDB2, / WDB2,
The circuit diagram is similar to that of the conventional DRAM shown in FIG.

【0053】ここに、51はセンスアンプ2、3を含
め、一群のセンスアンプを活性化するためのセンスアン
プ活性化回路であり、このセンスアンプ活性化回路51
は、例えば、図6に示すように構成される。
Here, 51 is a sense amplifier activation circuit for activating a group of sense amplifiers including the sense amplifiers 2 and 3. This sense amplifier activation circuit 51
Is configured as shown in FIG. 6, for example.

【0054】図中、52、53はpMOSトランジス
タ、54、55はnMOSトランジスタ、56、57は
インバータ、VCCは電源電圧、例えば、3[V]、V
PRはプリチャージ電圧、例えば、1/2VCC=1.
5[V]、/RSはリセット信号、LEはラッチイネー
ブル信号、PSA、NSAはセンスアンプ活性化信号線
である。
In the figure, 52 and 53 are pMOS transistors, 54 and 55 are nMOS transistors, 56 and 57 are inverters, and VCC is a power supply voltage, for example, 3 [V], V.
PR is a precharge voltage, for example, 1/2 VCC = 1.
5 [V] and / RS are reset signals, LE is a latch enable signal, and PSA and NSA are sense amplifier activation signal lines.

【0055】このセンスアンプ活性化回路51において
は、リセット信号/RS=「L」、ラッチイネーブル信
号LE=「L」とされる場合、pMOSトランジスタ5
3=ON、nMOSトランジスタ54=ON、pMOS
トランジスタ52=OFF、nMOSトランジスタ55
=OFFとなり、センスアンプ活性化信号線PSA、N
SAはプリチャージ電圧VPRにプリチャージされる。
In the sense amplifier activation circuit 51, when the reset signal / RS = "L" and the latch enable signal LE = "L", the pMOS transistor 5 is used.
3 = ON, nMOS transistor 54 = ON, pMOS
Transistor 52 = OFF, nMOS transistor 55
= OFF, the sense amplifier activation signal lines PSA, N
SA is precharged to the precharge voltage VPR.

【0056】このリセット状態から、リセット信号/R
S=「H」、ラッチイネーブル信号LE=「H」にされ
ると、pMOSトランジスタ53=OFF、nMOSト
ランジスタ54=OFF、pMOSトランジスタ52=
ON、nMOSトランジスタ55=ONとなり、センス
アンプ活性化信号線PSAは電源電圧VCCとされると
共に、センスアンプ活性化信号線NSAは接地電圧とさ
れ、このセンスアンプ活性化回路51に接続された全セ
ンスアンプ、例えば、1024個のセンスアンプが活性
化される。
From this reset state, reset signal / R
When S = “H” and latch enable signal LE = “H”, pMOS transistor 53 = OFF, nMOS transistor 54 = OFF, pMOS transistor 52 =
ON, the nMOS transistor 55 = ON, the sense amplifier activating signal line PSA is set to the power supply voltage VCC, the sense amplifier activating signal line NSA is set to the ground voltage, and all the sense amplifier activating circuits 51 are connected. Sense amplifiers, eg, 1024 sense amplifiers, are activated.

【0057】また、図5において、58はビット線対B
L1、/BL1に対応して設けられたリード用コラムゲ
ート、59はビット線対BL2、/BL2に対応して設
けられたリード用コラムゲートであり、60〜67はn
MOSトランジスタである。なお、nMOSトランジス
タ61、63、65、67のスレッショルド電圧は、例
えば、0.1[V]とされている。
Further, in FIG. 5, 58 is a bit line pair B.
Read column gates provided corresponding to L1 and / BL1, 59 are read column gates provided corresponding to the bit line pair BL2 and / BL2, and 60 to 67 are n.
It is a MOS transistor. The threshold voltage of the nMOS transistors 61, 63, 65, 67 is, for example, 0.1 [V].

【0058】また、68は配線、69は電圧VSS*を
発生するVSS*ジェネレータ(VSS*Gen.)であ
り、このVSS*ジェネレータ69は、例えば、図7に
示すように構成される。
Further, 68 is a wiring, and 69 is a VSS * generator (VSS * Gen.) For generating the voltage VSS *. The VSS * generator 69 is constructed as shown in FIG. 7, for example.

【0059】図中、WEはライトイネーブル信号、7
0、71、72はインバータであり、73はpMOSト
ランジスタ、74はnMOSトランジスタである。ま
た、75、76はnMOSトランジスタである。
In the figure, WE is a write enable signal, 7
Reference numerals 0, 71, and 72 are inverters, 73 is a pMOS transistor, and 74 is an nMOS transistor. Also, 75 and 76 are nMOS transistors.

【0060】このVSS*ジェネレータ69では、ライ
トイネーブル信号WE=「L」の場合、インバータ70
の出力=「H」、インバータ72の出力=「L」で、n
MOSトランジスタ75=OFFとされると共に、イン
バータ71の出力=「H」で、nMOSトランジスタ7
6=ONとされ、配線68は、nMOSトランジスタ7
6を介して接地され、VSS*=0[V]とされる。
In the VSS * generator 69, when the write enable signal WE = “L”, the inverter 70
Output = “H”, output of inverter 72 = “L”, n
When the MOS transistor 75 is turned off and the output of the inverter 71 is “H”, the nMOS transistor 7
6 = ON, the wiring 68 is connected to the nMOS transistor 7
It is grounded via 6 and VSS * = 0 [V].

【0061】これに対して、ライトイネーブル信号WE
=「H」の場合、インバータ70の出力=「L」、イン
バータ72の出力=VPRにされると共に、インバータ
71の出力=「L」で、nMOSトランジスタ76=O
FFとされ、配線68の電圧Vss*は、VPR=VPR
−VTH(nMOSトランジスタのスレッショルド電
圧)=1/2VCC−VTHとされる。
On the other hand, the write enable signal WE
= “H”, the output of the inverter 70 = “L”, the output of the inverter 72 = VPR, the output of the inverter 71 = “L”, and the nMOS transistor 76 = O.
FF, and the voltage Vss * of the wiring 68 is VPR = VPR
-VTH (threshold voltage of nMOS transistor) = 1/2 VCC-VTH.

【0062】また、図5において、77はリード用デー
タバス線対RDB1、/RDB1に対応して設けられた
リードアンプ、78はリード用データバス線対RDB
2、/RDB2に対応して設けられたリードアンプであ
る。
In FIG. 5, reference numeral 77 is a read amplifier provided corresponding to the read data bus line pair RDB1, / RDB1, and 78 is a read data bus line pair RDB.
2, a read amplifier provided corresponding to / RDB2.

【0063】ここに、リードアンプ77は、例えば、図
8に示すように構成される。リードアンプ78も同様で
ある。図中、79はプリチャージ回路部であり、80〜
82はnMOSトランジスタ、VRRはプリチャージ電
圧、例えば、1.0[V]、RRはリセット信号であ
る。
Here, the read amplifier 77 is constructed, for example, as shown in FIG. The same applies to the read amplifier 78. In the figure, 79 is a precharge circuit unit,
Reference numeral 82 is an nMOS transistor, VRR is a precharge voltage, for example, 1.0 [V], and RR is a reset signal.

【0064】また、83は差動アンプ部であり、84、
85はpMOSトランジスタ、86〜88はnMOSト
ランジスタ、SBEはリードアンプ・イネーブル信号、
OUT、/OUTは出力である。
Reference numeral 83 is a differential amplifier section, and 84,
85 is a pMOS transistor, 86 to 88 are nMOS transistors, SBE is a read amplifier enable signal,
OUT and / OUT are outputs.

【0065】このリードアンプ77においては、リセッ
ト信号RR=「H」、リードアンプ・イネーブル信号S
BE=「L」とされる場合、nMOSトランジスタ80
〜82=ON、nMOSトランジスタ88=OFFとな
り、リード用データバスRDB1、/RDB1はプリチ
ャージ電圧VRRにプリチャージされる。
In this read amplifier 77, the reset signal RR = “H”, the read amplifier enable signal S
When BE = “L”, the nMOS transistor 80
.About.82 = ON, the nMOS transistor 88 = OFF, and the read data buses RDB1 and / RDB1 are precharged to the precharge voltage VRR.

【0066】このリセット状態から、リセット信号RR
=「L」、リードアンプ・イネーブル信号SBE=
「H」にされると、nMOSトランジスタ80〜82=
OFF、nMOSトランジスタ88=ONとなり、差動
アンプ部83が活性化され、リードが可能となる。
From this reset state, the reset signal RR
= “L”, read amplifier enable signal SBE =
When set to “H”, the nMOS transistors 80 to 82 =
When the nMOS transistor 88 is turned off, the nMOS transistor 88 is turned on, the differential amplifier 83 is activated, and reading is enabled.

【0067】また、図5において、89はビット線対B
L1、/BL1に対応して設けられたライト用コラムゲ
ート、90はビット線対BL2、/BL2に対応して設
けられたライト用コラムゲートであり、91〜94はn
MOSトランジスタである。なお、これらnMOSトラ
ンジスタ91〜94のスレッショルド電圧は、例えば、
1/2VCC=1.5[V]とされている。
Further, in FIG. 5, 89 is a bit line pair B.
Write column gates provided corresponding to L1 and / BL1, 90 are write column gates provided corresponding to bit line pair BL2 and / BL2, and 91 to 94 are n.
It is a MOS transistor. The threshold voltages of the nMOS transistors 91 to 94 are, for example,
1/2 VCC = 1.5 [V].

【0068】また、95はライト用データバス線対WD
B1、/WDB1に対応して設けられたライトアンプ、
96はライト用データバス線対WDB2、/WDB2に
対応して設けられたライトアンプである。
Further, 95 is a write data bus line pair WD
A write amplifier provided corresponding to B1 and / WDB1,
A write amplifier 96 is provided corresponding to the write data bus line pair WDB2, / WDB2.

【0069】ここに、ライトアンプ95は、例えば、図
9に示すように構成される。ライトアンプ96も同様で
ある。図中、97はプリチャージ回路部であり、98〜
100はnMOSトランジスタ、VWWはプリチャージ
電圧、例えば、3.0[V]、WWはリセット信号であ
る。
Here, the write amplifier 95 is constructed, for example, as shown in FIG. The same applies to the write amplifier 96. In the figure, 97 is a precharge circuit unit,
100 is an nMOS transistor, VWW is a precharge voltage, for example, 3.0 [V], and WW is a reset signal.

【0070】また、101、102はpMOSトランジ
スタ、103、104はnMOSトランジスタ、105
〜109はインバータ、110、111はNAND回
路、DIN1は書き込むべき入力データである。
Further, 101 and 102 are pMOS transistors, 103 and 104 are nMOS transistors, and 105.
˜109 are inverters, 110 and 111 are NAND circuits, and DIN1 is input data to be written.

【0071】このライトアンプ95においては、リセッ
ト信号WW=「H」、ライトイネーブル信号WE=
「L」とされる場合、nMOSトランジスタ98〜10
0=ONとされると共に、NAND回路110、111
の出力=「H」、インバータ107、108の出力=
「L」、インバータ105、106の出力=「H」とさ
れ、pMOSトランジスタ101、102=OFF、n
MOSトランジスタ103、104=OFFとされ、ラ
イト用データバス線対WDB1、/WDB1はプリチャ
ージ電圧VWWにプリチャージされる。
In the write amplifier 95, the reset signal WW = “H” and the write enable signal WE =
When set to “L”, nMOS transistors 98 to 10
0 = ON and the NAND circuits 110 and 111
Output = “H”, output of inverters 107 and 108 =
“L”, the outputs of the inverters 105 and 106 = “H”, and the pMOS transistors 101 and 102 = OFF, n
The MOS transistors 103 and 104 are turned off, and the write data bus line pair WDB1 and / WDB1 is precharged to the precharge voltage VWW.

【0072】このリセット状態から、リセット信号WW
=「L」、ライトイネーブル信号WE=「H」にされる
と、nMOSトランジスタ98〜100=OFFとされ
ると共に、NAND回路110、111の出力は、入力
データDIN1に依存することになり、ライトが可能と
なる。
From this reset state, the reset signal WW
= “L” and the write enable signal WE = “H”, the nMOS transistors 98 to 100 are turned off, and the outputs of the NAND circuits 110 and 111 depend on the input data DIN1. Is possible.

【0073】また、図5において、112はコラムデコ
ーダであり、113はリード用コラムゲート58、59
及びライト用コラムゲート89、90の選択を行うNA
ND回路である。
In FIG. 5, 112 is a column decoder, and 113 is read column gates 58 and 59.
And NA for selecting the write column gates 89 and 90
It is an ND circuit.

【0074】また、114は後述する2種のレベルのコ
ラム選択信号CLを出力してリード用コラムゲート5
8、59及びライト用コラムゲート89、90をドライ
ブするコラムゲート・ドライバであり、115はpMO
Sトランジスタ、116はnMOSトランジスタであ
る。
Further, 114 outputs a column selection signal CL of two kinds of levels, which will be described later, to read column gate 5
8, a column gate driver for driving the write column gates 89, 90;
The S transistor and 116 are nMOS transistors.

【0075】また、117はコラムゲート・ドライバ1
14を含め、一群のコラムゲート・ドライバのpMOS
トランジスタに供給すべき信号VQQを生成するVQQ
ジェネレータ(VQQ・Gen.)、118はVQQ線で
ある。
Further, 117 is a column gate driver 1
A group of column gate driver pMOSs including 14
VQQ for generating signal VQQ to be supplied to transistor
A generator (VQQ · Gen.), 118 is a VQQ line.

【0076】このVQQジェネレータ117は、例え
ば、図10に示すように構成される。図中、119は電
源電圧VCCを分圧してなる1/2VCCを得るための
分圧回路であり、120、121は抵抗値を同一とする
抵抗、122はMOSキャパシタである。即ち、ノード
123に1/2VCCを得るようにされている。
The VQQ generator 117 is constructed, for example, as shown in FIG. In the figure, reference numeral 119 is a voltage dividing circuit for dividing the power supply voltage VCC to obtain 1/2 VCC, 120 and 121 are resistors having the same resistance value, and 122 is a MOS capacitor. That is, the node 123 is made to obtain 1/2 VCC.

【0077】また、124はVQQ線118をVCCか
ら1/2VCCにリセットする場合に、これを高速に行
うための高速1/2VCCリセット回路であり、125
はpMOSトランジスタ、126はnMOSトランジス
タ、127、128は抵抗120、121よりも抵抗値
を小とする抵抗値を同一とする抵抗である。
Reference numeral 124 is a high speed 1 / 2VCC reset circuit for performing the high speed operation when the VQQ line 118 is reset from VCC to 1 / 2VCC.
Is a pMOS transistor, 126 is an nMOS transistor, 127 and 128 are resistors having a resistance value smaller than that of the resistors 120 and 121 and having the same resistance value.

【0078】また、129は高速1/2VCCリセット
回路124をドライブするためのワンショットパルスを
発生するワンショットパルス発生回路であり、13
1、1302・・・1302n+1は遅延回路を構成するイ
ンバータ、131はNOR回路、132はNOR回路1
31の出力を反転するインバータである。
Reference numeral 129 is a one-shot pulse generating circuit for generating a one-shot pulse for driving the high speed 1 / 2VCC reset circuit 124, and 13
0 1 , 130 2 ... 130 2n + 1 is an inverter forming a delay circuit, 131 is a NOR circuit, and 132 is a NOR circuit 1
It is an inverter that inverts the output of 31.

【0079】また、133はVQQ線118をVCCに
チャージアップするためのpMOSトランジスタ、13
4は分圧回路119をVQQ線118と切り離すための
nMOSトランジスタ、135はインバータである。
Further, 133 is a pMOS transistor for charging up the VQQ line 118 to VCC, and 13
Reference numeral 4 is an nMOS transistor for disconnecting the voltage dividing circuit 119 from the VQQ line 118, and 135 is an inverter.

【0080】図11は、図10に示すVQQジェネレー
タ117の動作を示す波形図であり、図11Aはライト
イネーブル信号WE、図11Bはインバータ135の出
力、図11Cはインバータ1302n+1の出力、図11D
はNOR回路131の出力、図11Eはインバータ13
2の出力、図11Fは信号VQQを示している。
FIG. 11 is a waveform diagram showing the operation of the VQQ generator 117 shown in FIG. 10. FIG. 11A is a write enable signal WE, FIG. 11B is the output of the inverter 135, and FIG. 11C is the output of the inverter 130 2n + 1 . FIG. 11D
Is the output of the NOR circuit 131, and FIG. 11E is the inverter 13
2 outputs, FIG. 11F shows the signal VQQ.

【0081】即ち、図10に示すVQQジェネレータ1
17においては、リード時及びリセット時は、ライトイ
ネーブル信号WE=「L」とされ、インバータ135の
出力=「H」で、nMOSトランジスタ134=ON、
pMOSトランジスタ133=OFFとされる。
That is, the VQQ generator 1 shown in FIG.
In FIG. 17, at the time of reading and at the time of reset, the write enable signal WE = “L”, the output of the inverter 135 = “H”, the nMOS transistor 134 = ON,
The pMOS transistor 133 is turned off.

【0082】また、この場合、インバータ1302n+1
出力=「H」、NOR回路131の出力=「L」、イン
バータ132の出力=「H」で、nMOSトランジスタ
126=OFF、pMOSトランジスタ125=OFF
とされる。この結果、VQQ=1/2VCCとされる。
In this case, the output of the inverter 130 2n + 1 = “H”, the output of the NOR circuit 131 = “L”, the output of the inverter 132 = “H”, the nMOS transistor 126 = OFF, the pMOS transistor 125 = OFF
It is said that As a result, VQQ = 1 / 2VCC.

【0083】この状態から、ライトイネーブル信号WE
=「H」とされ、ライト期間にされると、インバータ1
35の出力=「L」、nMOSトランジスタ134=O
FF、pMOSトランジスタ133=ONとされ、分圧
回路119がVQQ線118と切り離される。
From this state, the write enable signal WE
= “H”, and during the write period, the inverter 1
35 output = “L”, nMOS transistor 134 = 0
The FF and pMOS transistor 133 are turned on, and the voltage dividing circuit 119 is disconnected from the VQQ line 118.

【0084】なお、この場合、インバータ1302n+1
出力=「H」で、NOR回路131の出力=「L」、イ
ンバータ132=「H」となり、nMOSトランジスタ
126=OFF、pMOSトランジスタ125=OFF
を維持する。この結果、VQQはpMOSトランジスタ
133によりVCCにチャージアップされる。
In this case, the output of the inverter 130 2n + 1 = “H”, the output of the NOR circuit 131 = “L”, the inverter 132 = “H”, and the nMOS transistor 126 = OFF and the pMOS transistor 125 = OFF.
To maintain. As a result, VQQ is charged up to VCC by the pMOS transistor 133.

【0085】その後、ライト期間が終了すると、ライト
イネーブル信号WE=「L」とされ、インバータ135
の出力=「H」となり、nMOSトランジスタ134=
ON、pMOSトランジスタ133=OFFとされ、分
圧回路119とVQQ線118とが接続される。
After that, when the write period ends, the write enable signal WE is set to "L", and the inverter 135
Output = “H”, and nMOS transistor 134 =
It is turned on and the pMOS transistor 133 is turned off, and the voltage dividing circuit 119 and the VQQ line 118 are connected.

【0086】また、この場合、インバータ1302n+1
出力=「L」、NOR回路131の出力=「H」、イン
バータ132の出力=「L」で、nMOSトランジスタ
126=ON、pMOSトランジスタ125=ONとな
り、抵抗127、128を介して信号VQQは高速に1
/2VCCにリセットされる。
In this case, the output of the inverter 130 2n + 1 = “L”, the output of the NOR circuit 131 = “H”, the output of the inverter 132 = “L”, the nMOS transistor 126 = ON, the pMOS transistor 125 = The signal VQQ is turned ON at high speed through the resistors 127 and 128.
Reset to / 2VCC.

【0087】図12は、このように構成された第1実施
例のリード時の動作を示す波形図である。即ち、この第
1実施例においては、まず、リセット信号RS=
「H」、即ち、図6において、リセット信号/RS=
「L」、ラッチイネーブル信号LE=「L」とされる。
FIG. 12 is a waveform diagram showing the read operation of the first embodiment thus constructed. That is, in the first embodiment, first, the reset signal RS =
“H”, that is, in FIG. 6, reset signal / RS =
“L” and the latch enable signal LE = “L”.

【0088】この結果、図6に示すセンスアンプ活性化
回路51においては、pMOSトランジスタ53=O
N、nMOSトランジスタ54=ON、pMOSトラン
ジスタ52=OFF、nMOSトランジスタ55=OF
Fとなり、センスアンプ活性化信号線PSA、NSAは
プリチャージ電圧VPRにプリチャージされる。
As a result, in the sense amplifier activation circuit 51 shown in FIG. 6, the pMOS transistor 53 = 0.
N, nMOS transistor 54 = ON, pMOS transistor 52 = OFF, nMOS transistor 55 = OF
F, the sense amplifier activation signal lines PSA and NSA are precharged to the precharge voltage VPR.

【0089】その後、リセット信号RS=「L」、即
ち、リセット信号/RS=「H」にされ、pMOSトラ
ンジスタ53=OFF、nMOSトランジスタ54=O
FFとされる。なお、この段階では、ラッチイネーブル
信号LE=「L」で、pMOSトランジスタ=OFF、
nMOSトランジスタ55=OFFを維持する。
After that, the reset signal RS = “L”, that is, the reset signal / RS = “H” is set, the pMOS transistor 53 = OFF, the nMOS transistor 54 = O.
FF. At this stage, the latch enable signal LE = “L”, the pMOS transistor = OFF,
The nMOS transistor 55 is kept OFF.

【0090】その後、ロウデコーダ(図示せず)により
選択されたワード線WL=「H」とされ、このワード線
WLに接続されているメモリセルの記憶情報がビット線
に伝達され、ビット線対をなす一方のビット線BLと他
方のビット線/BLとの間に僅かな電圧差が生じる。
Thereafter, the word line WL selected by the row decoder (not shown) is set to "H", the storage information of the memory cell connected to this word line WL is transmitted to the bit line, and the bit line pair is transmitted. There is a slight voltage difference between the one bit line BL and the other bit line / BL.

【0091】その後、ラッチイネーブル信号LE=
「H」にされ、この結果、センスアンプ活性化回路51
においては、pMOSトランジスタ52=ON、nMO
Sトランジスタ55=ONとされる。
After that, the latch enable signal LE =
It is set to "H", and as a result, the sense amplifier activation circuit 51
, PMOS transistor 52 = ON, nMO
The S transistor 55 is turned on.

【0092】この結果、センスアンプ活性化信号線PS
Aは電源電圧VCCとされると共に、センスアンプ活性
化信号線NSAは接地電圧とされ、このセンスアンプ活
性化回路51に接続された全センスアンプ、例えば、1
024個のセンスアンプが活性化され、ビット線BL、
/BL間の電圧差が増幅される。
As a result, the sense amplifier activation signal line PS
A is set to the power supply voltage VCC, the sense amplifier activation signal line NSA is set to the ground voltage, and all sense amplifiers connected to the sense amplifier activation circuit 51, for example, 1
024 sense amplifiers are activated and bit lines BL,
The voltage difference between / BL is amplified.

【0093】この段階においては、図8において、リセ
ット信号RR=「H」、リードアンプ・イネーブル信号
SBE=「L」で、nMOSトランジスタ80〜82=
ON、nMOSトランジスタ88=OFFとなり、リー
ド用データバス線RDB1、/RDB1はプリチャージ
電圧VRRにプリチャージされる。リード用データバス
線RDB2、/RDB2も同様にしてプリチャージ電圧
VRRにプリチャージされる。
At this stage, in FIG. 8, the reset signal RR = “H”, the read amplifier enable signal SBE = “L”, and the nMOS transistors 80 to 82 =
ON, the nMOS transistor 88 = OFF, and the read data bus lines RDB1 and / RDB1 are precharged to the precharge voltage VRR. The read data bus lines RDB2, / RDB2 are similarly precharged to the precharge voltage VRR.

【0094】このリセット状態から、まず、リセット信
号RR=「L」とされ、リードアンプ77においては、
nMOSトランジスタ80〜82=OFFとされ、リー
ド用データバス線RDB1、/RDB1はプリチャージ
電圧VRRに維持される。リード用データバス線RDB
2、/RDB2も同様である。
From this reset state, first, the reset signal RR = “L” is set, and in the read amplifier 77,
The nMOS transistors 80 to 82 are turned off, and the read data bus lines RDB1 and / RDB1 are maintained at the precharge voltage VRR. Read data bus line RDB
The same applies to 2 and / RDB2.

【0095】また、この場合、コラムゲートの選択が行
われるが、コラムゲートが選択される前においては、図
5において、例えば、NAND回路113の出力=
「H」で、コラムゲート・ドライバ114のpMOSト
ランジスタ115=OFF、nMOSトランジスタ11
6=ONで、コラム選択信号CL=「L」とされてい
る。
In this case, the column gate is selected, but before the column gate is selected, in FIG. 5, for example, the output of the NAND circuit 113 =
At “H”, the pMOS transistor 115 of the column gate driver 114 = OFF, the nMOS transistor 11
6 = ON and the column selection signal CL = “L”.

【0096】この結果、リード用コラムゲート58、5
9のnMOSトランジスタ61、63、65、67=O
FF、ライト用コラムゲート89、90のnMOSトラ
ンジスタ91、92、93、94=OFFとされてい
る。他のリード用コラムゲート及びライト用コラムゲー
トにおいても、同様である。
As a result, the read column gates 58, 5
9 nMOS transistors 61, 63, 65, 67 = O
The nMOS transistors 91, 92, 93 and 94 of the FF and the write column gates 89 and 90 are turned off. The same applies to the other read column gates and write column gates.

【0097】ここに、例えば、リード用コラムゲート5
8、59及びライト用コラムゲート89、90が選択さ
れる場合、コラムデコーダ112にリード用コラムゲー
ト58、59及びライト用コラムゲート89、90を選
択するためのコラムアドレス信号CA0、/CA0・・
・/CA9が供給され、NAND回路113の出力=
「L」とされ、コラムゲート・ドライバ114のpMO
Sトランジスタ115=ON、nMOSトランジスタ1
16=OFFとされる。
Here, for example, the read column gate 5
8 and 59 and write column gates 89 and 90 are selected, column address signals CA0 and / CA0 for selecting the read column gates 58 and 59 and the write column gates 89 and 90 to the column decoder 112.
./CA9 is supplied and the output of the NAND circuit 113 =
“L”, pMO of column gate driver 114
S transistor 115 = ON, nMOS transistor 1
16 = OFF.

【0098】ここに、リード時には、図10において、
ライトイネーブル信号WE=「L」で、VQQ=1/2
VCCとされているので、図5において、コラム選択信
号CL=1/2VCCとなる。
At the time of reading, as shown in FIG.
Write enable signal WE = “L”, VQQ = 1/2
Since it is set to VCC, the column selection signal CL = 1/2 VCC in FIG.

【0099】この結果、スレッショルド電圧を0.1
[V]<1/2VCCとするリード用コラムゲート5
8、59のnMOSトランジスタ61、63、65、6
7=ONとなり、スレッショルド電圧を1.5[V]=
1/2VCCとするライト用コラムゲート89、90の
nMOSトランジスタ91、92、93、94=略OF
Fとなる。
As a result, the threshold voltage is reduced to 0.1
Read column gate 5 with [V] <1/2 VCC
8, 59 nMOS transistors 61, 63, 65, 6
7 = ON, threshold voltage is 1.5 [V] =
NMOS transistors 91, 92, 93, 94 of write column gates 89, 90 for 1/2 VCC = substantially OF
It becomes F.

【0100】ここに、nMOSトランジスタ61、63
と直列に接続されたnMOSトランジスタ60、62と
相まってビット線対BL1、/BL1の情報がリード用
データバス線対RDB1、/RDB1に伝達され、リー
ド用データバス線RDB1、/RDB1間に電圧差が生
じる。
Here, nMOS transistors 61 and 63
Information of the bit line pair BL1, / BL1 is transmitted to the read data bus line pair RDB1, / RDB1 together with the nMOS transistors 60, 62 connected in series with the read data bus line RDB1, / RDB1. Occurs.

【0101】また、nMOSトランジスタ65、67と
直列に接続されたnMOSトランジスタ64、66と相
まってビット線対BL2、/BL2の情報がリード用デ
ータバス線対RDB2、/RDB2に伝達され、リード
用データバス線RDB2、/RDB2に電圧差が生じ
る。
Information of the bit line pair BL2, / BL2 is transmitted to the read data bus line pair RDB2, / RDB2 together with the nMOS transistors 64, 66 connected in series with the nMOS transistors 65, 67, and read data is read. A voltage difference occurs between the bus lines RDB2 and / RDB2.

【0102】その後、図8において、リードアンプ・イ
ネーブル信号SBE=「H」にされ、リードアンプ77
の差動アンプ部83において、増幅が行われ、出力OU
T、/OUTが出力される。
Then, in FIG. 8, the read amplifier enable signal SBE is set to "H", and the read amplifier 77 is turned on.
In the differential amplifier section 83 of the
T and / OUT are output.

【0103】続いて、リセット信号RR=「L」、コラ
ム選択信号CL=「L」、ワード線WL=「L」、ラッ
チイネーブル信号LE=「L」、リセット信号RS=
「H」とされ、リード動作が終了する。
Then, reset signal RR = “L”, column selection signal CL = “L”, word line WL = “L”, latch enable signal LE = “L”, reset signal RS =
It is set to "H", and the read operation is completed.

【0104】また、図13は、この第1実施例のライト
時の動作を示す波形図である。即ち、この第1実施例に
おいては、まず、リセット信号RS=「L」、即ち、図
6において、リセット信号/RS=「H」、選択すべき
ワード線WL=「H」、ラッチイネーブル信号LE=
「H」とされる。
FIG. 13 is a waveform diagram showing the write operation of the first embodiment. That is, in the first embodiment, first, the reset signal RS = “L”, that is, the reset signal / RS = “H” in FIG. 6, the word line WL to be selected = “H”, and the latch enable signal LE. =
It is set to "H".

【0105】この結果、リード時の場合と同様に、選択
されたワード線WLに接続されたメモリセルの記憶情報
がビット線に伝達され、一方のビット線BLと他方のビ
ット線/BLとの間に僅かな電圧差が生じ、これが増幅
される。
As a result, as in the case of reading, the storage information of the memory cell connected to the selected word line WL is transmitted to the bit line, and the bit line BL on one side and the bit line / BL on the other side are transmitted. There is a slight voltage difference between them, which is amplified.

【0106】この段階では、図9において、リセット信
号WW=「H」、ライトイネーブル信号WE=「L」
で、ライトアンプ95においては、nMOSトランジス
タ98〜100=ON、pMOSトランジスタ101、
102=OFF、nMOSトランジスタ103、104
=OFFとされ、ライト用データバスWDB1、/WD
B1はプリチャージ電圧VWWにプリチャージされる。
ライト用データバスWDB2、/WDB2についても、
同様である。
At this stage, in FIG. 9, the reset signal WW = “H” and the write enable signal WE = “L”.
In the write amplifier 95, nMOS transistors 98 to 100 = ON, pMOS transistor 101,
102 = OFF, nMOS transistors 103 and 104
= OFF, and write data buses WDB1 and / WD
B1 is precharged to the precharge voltage VWW.
Regarding the write data buses WDB2 and / WDB2,
It is the same.

【0107】このリセット状態から、まず、リセット信
号WW=「L」とされ、ライトアンプ95においては、
nMOSトランジスタ98〜100=OFFとされ、ラ
イト用データバスWDB1、/WDB1はプリチャージ
電圧VWWに維持される。ライト用データバスWDB
2、/WDB2についても、同様である。
From this reset state, first, the reset signal WW is set to "L", and in the write amplifier 95,
The nMOS transistors 98 to 100 are turned off, and the write data buses WDB1 and / WDB1 are maintained at the precharge voltage VWW. Write data bus WDB
The same applies to 2 and / WDB2.

【0108】その後、入力データDIN1が入力され、
続いて、ライトイネーブル信号WE=「H」にされ、N
AND回路110、111の出力は、入力データDIN
1に依存することになり、ライト用データバスWDB
1、/WDB1に電位差が生じる。ライト用データバス
WDB2、/WDB2についても、同様である。
After that, the input data DIN1 is input,
Then, the write enable signal WE is set to "H", and N
The outputs of the AND circuits 110 and 111 are the input data DIN
1 depends on the write data bus WDB
1, a potential difference occurs between / WDB1. The same applies to the write data buses WDB2 and / WDB2.

【0109】ここに、また、ライトイネーブル信号WE
=「H」にされると、図7に示すVSS*ジェネレータ
69は、配線68の電圧VSS*=VPR−VTH=1
/2VCC−VTHとする。
Here, again, the write enable signal WE
= “H”, the VSS * generator 69 shown in FIG. 7 causes the voltage VSS * = VPR−VTH = 1 of the wiring 68.
/ 2VCC-VTH.

【0110】その後、コラムゲートの選択が行われる
が、コラムゲートが選択される前には、図5において、
例えば、NAND回路113の出力=「H」で、コラム
ゲート・ドライバ114のpMOSトランジスタ115
=OFF、nMOSトランジスタ116=ONで、コラ
ム選択信号CL=「L」とされている。
After that, the column gate is selected. Before the column gate is selected, in FIG.
For example, when the output of the NAND circuit 113 is “H”, the pMOS transistor 115 of the column gate driver 114 is
= OFF, the nMOS transistor 116 = ON, and the column selection signal CL = “L”.

【0111】この結果、リード用コラムゲート58、5
9のnMOSトランジスタ61、63、65、67=O
FF、ライト用コラムゲート89、90のnMOSトラ
ンジスタ91、92、93、94=OFFとされてい
る。他のリード用コラムゲート及びライト用コラムゲー
トにおいても、同様である。
As a result, the read column gates 58, 5
9 nMOS transistors 61, 63, 65, 67 = O
The nMOS transistors 91, 92, 93 and 94 of the FF and the write column gates 89 and 90 are turned off. The same applies to the other read column gates and write column gates.

【0112】ここに、例えば、リード用コラムゲート5
8、59及びライト用コラムゲート89、90が選択さ
れる場合、コラムデコーダ112にリード用コラムゲー
ト58、59及びライト用コラムゲート89、90を選
択するためのコラムアドレス信号CA0、/CA0・・
・/CA9が供給され、NAND回路113の出力=
「L」とされ、コラムゲート・ドライバ114のpMO
Sトランジスタ115=ON、nMOSトランジスタ1
16=OFFとされる。
Here, for example, the read column gate 5
8 and 59 and the write column gates 89 and 90 are selected, the column address signals CA0 and / CA0 for selecting the read column gates 58 and 59 and the write column gates 89 and 90 to the column decoder 112.
./CA9 is supplied and the output of the NAND circuit 113 =
“L”, pMO of column gate driver 114
S transistor 115 = ON, nMOS transistor 1
16 = OFF.

【0113】ここに、ライト時においては、図10にお
いて、ライトイネーブル信号WEは「H」で、図10に
示すVQQジェネレータ117はVQQ=VCCとする
ので、コラム選択信号CL=VCCとなる。
At the time of writing, the write enable signal WE is "H" in FIG. 10 and the VQQ generator 117 shown in FIG. 10 sets VQQ = VCC, so the column selection signal CL = VCC.

【0114】この結果、図5において、スレッショルド
電圧を0.1[V]<1/2VCCとするリード用コラ
ムゲート58、59のnMOSトランジスタ61、6
3、65、67=ON、スレッショルド電圧を1.5
[V]=1/2VCCとするライト用コラムゲート8
9、90のnMOSトランジスタ91、92、93、9
4=ONとなる。
As a result, in FIG. 5, the nMOS transistors 61 and 6 of the read column gates 58 and 59 having the threshold voltage of 0.1 [V] <1/2 VCC.
3,65,67 = ON, threshold voltage 1.5
Write column gate 8 with [V] = 1/2 VCC
9, 90 nMOS transistors 91, 92, 93, 9
4 = ON.

【0115】ここに、ライト用コラムゲート89におい
ては、nMOSトランジスタ91、92を介してビット
線BL1、/BL1とライト用データバス線RDB1、
/RDB1が接続され、ビット線BL1、/BL1間に
電圧差が生じる。
In the write column gate 89, the bit lines BL1 and / BL1 and the write data bus line RDB1 are connected via the nMOS transistors 91 and 92.
/ RDB1 is connected to generate a voltage difference between the bit lines BL1 and / BL1.

【0116】また、ライト用コラムゲート90において
は、nMOSトランジスタ93、94を介してビット線
BL2、/BL2とライト用データバス線RDB2、/
RDB2が接続され、ビット線BL2、/BL2間に電
圧差が生じ、書込みが行われる。
In the write column gate 90, the bit lines BL2 and / BL2 and the write data bus lines RDB2 and / via the nMOS transistors 93 and 94.
RDB2 is connected, a voltage difference is generated between the bit lines BL2 and / BL2, and writing is performed.

【0117】この場合、配線68は、VSS*ジェネレ
ータ69により1/2VCC−VTHとされているの
で、リード用データバス線対RDB1、/RDB1から
リード用コラムゲート58を介して配線68に流れる電
流及びリード用データバス線対RDB2、/RDB2か
らリード用コラムゲート59を介して配線68に流れる
電流を十分に抑制することができ、電力消費の低減化を
図ることができる。
In this case, since the wiring 68 is set to 1 / 2VCC-VTH by the VSS * generator 69, the current flowing from the read data bus line pair RDB1, / RDB1 to the wiring 68 via the read column gate 58. Also, the current flowing from the read data bus line pair RDB2, / RDB2 to the wiring 68 via the read column gate 59 can be sufficiently suppressed, and the power consumption can be reduced.

【0118】その後、コラム選択信号CL=「L」、ラ
イトイネーブル信号WE=「L」、リセット信号WW=
「H」、VQQ=1/2VCC、ワード線WL=
「L」、ラッチイネーブル信号LE=「L」、リセット
信号RS=「H」とされ、ライト動作が終了する。
After that, the column selection signal CL = “L”, the write enable signal WE = “L”, the reset signal WW =
"H", VQQ = 1/2 VCC, word line WL =
The write operation is completed by setting “L”, the latch enable signal LE = “L”, and the reset signal RS = “H”.

【0119】このように、この第1実施例においては、
コラムゲート・ドライバ114で、リード用コラムゲー
ト58、59及びライト用コラムゲート89、90をド
ライブするように、1個のコラムゲート・ドライバで、
2個のリード用コラムゲートと2個のライト用コラムゲ
ートをドライバすることができるようにしている。
Thus, in this first embodiment,
The column gate driver 114 drives the read column gates 58 and 59 and the write column gates 89 and 90 by one column gate driver,
Two read column gates and two write column gates can be driven.

【0120】したがって、この第1実施例によれば、2
コラムの幅内(2個のセンスアンプの形成幅内)に1個
のコラムゲート・ドライバを形成すれば足りるので、コ
ラムゲート・ドライバを形成するために設けられている
領域136を狭くし、面積損を減らし、チップ面を有効
に利用することができる。
Therefore, according to the first embodiment, 2
Since it suffices to form one column gate driver within the width of the column (within the formation width of two sense amplifiers), the region 136 provided for forming the column gate driver is narrowed to reduce the area. The loss can be reduced and the chip surface can be effectively used.

【0121】なお、この第1実施例においては、VQQ
は、1/2VCCとVCCとの2種の電圧値を取るよう
にした場合について説明したが、このVQQは、この2
種の電圧を取ることを一意的に決定されるものではな
い。
In the first embodiment, VQQ
Has described the case where two types of voltage values of 1/2 VCC and VCC are set, this VQQ is
It is not uniquely determined to take a seed voltage.

【0122】ここに、例えば、リード時に取るべき電圧
値をVQQR、ライト時に取るべき電圧値をVQQWと
すると、まず、例えば、nMOSトランジスタ91がO
Nとなるためには、ビット線のプリチャージ電圧をVB
P、ライト用データバス線のプリチャージ電圧をVW
DBP、リード用データバス線のプリチャージ電圧をR
WDBP、nMOSトランジスタ91のスレッショルド
電圧をVTH(H)と表わせば、ワーストケースでビッ
ト線対が全くアンプされず、ビット線対の一方及び他方
のビット線がプリチャージ電圧にあるとすると、VQQ
Wは、数1のようにする必要がある。
If the voltage value to be taken at the time of reading is VQQR and the voltage value to be taken at the time of writing is VQQW, first, for example, the nMOS transistor 91 is turned on.
In order to become N, the precharge voltage of the bit line must be VB
L P , write data bus line precharge voltage to VW
DB P , read data bus line precharge voltage to R
If the threshold voltage of WDB P and the nMOS transistor 91 is expressed as VTH (H), if the bit line pair is not amplified at all in the worst case and one and the other bit line of the bit line pair are at the precharge voltage, VQQ
It is necessary to set W as shown in Equation 1.

【0123】[0123]

【数1】 [Equation 1]

【0124】ここに、ライトの効率を考慮すると、VB
P<VWDBP=約VCCというケースがあり、また、
近年のDRAMのVBLPは約1/2VCCにする手法
が多く使用されており、これを採用すると、数1は、数
2のようになる。
Considering the write efficiency, VB
In some cases, L P <VWDB P = about VCC, and
In recent years, a method of setting VBL P of a DRAM to about 1/2 VCC is often used, and when this is adopted, equation 1 becomes equation 2.

【0125】[0125]

【数2】 [Equation 2]

【0126】これら数1、数2から分かるように、VQ
QWはでるだけ高い電圧が良く、VQQW=VCC、又
は、VQQW=VCC+α・VTH(H)とするのが妥
当である。但し、α>1である。このとき、ライト時の
nMOSトランジスタ91のゲートオーバドライブは、
数3のようになり、nMOSトランジスタ91のONに
十分である。
As can be seen from these equations 1 and 2, VQ
It is appropriate that QW has a voltage as high as possible, and it is appropriate to set VQQW = VCC or VQQW = VCC + α · VTH (H). However, α> 1. At this time, the gate overdrive of the nMOS transistor 91 at the time of writing is
Equation 3 is obtained, which is sufficient for turning on the nMOS transistor 91.

【0127】[0127]

【数3】 [Equation 3]

【0128】また、同様に、リード時のVQQRについ
て考えると、nMOSトランジスタ60、61の直列経
路の十分なONのためには、ワーストケースを考慮する
と、VQQRは、数4のようにする必要がある。但し、
VTH(L)はnMOSトランジスタ61のスレッショ
ルド電圧である。
Similarly, considering VQQR at the time of reading, in order to sufficiently turn on the series path of the nMOS transistors 60 and 61, in consideration of the worst case, it is necessary to set VQQR as shown in Formula 4. is there. However,
VTH (L) is the threshold voltage of the nMOS transistor 61.

【0129】[0129]

【数4】 [Equation 4]

【0130】一方、VQQRのレベルでnMOSトラン
ジスタ91がOFFするのが理想であるが、あるいは、
ONでもVTH(H)近辺の非常にオーバドライブの小
さい状態でなければならないから、ワーストケースを考
えると、VQQRは、数5又は数6のようにするのが望
ましい。但し、kは、1/10>k>0で十分小さい値
である。
On the other hand, it is ideal that the nMOS transistor 91 is turned off at the level of VQQR.
Even if it is ON, it must be in a state where the overdrive is very small in the vicinity of VTH (H). Therefore, considering the worst case, it is desirable to set VQQR as in equation 5 or equation 6. However, k is a sufficiently small value of 1/10>k> 0.

【0131】[0131]

【数5】 [Equation 5]

【0132】[0132]

【数6】 [Equation 6]

【0133】ここに、数4から分かるように、VQQR
のレベルをVCC−VSSの間の中間レベルにするため
には、VTH(L)とVRDBpは低いことが望まし
い。また、数5、数6から分かるように、VQQRはV
TH(H)と略同等ぐらいが望ましい。
Here, as can be seen from Equation 4, VQQR
It is desirable that VTH (L) and VRDB p are low in order to bring the level of V to the intermediate level between VCC and VSS. Also, as can be seen from Equations 5 and 6, VQQR is V
It is desirable that it is approximately equal to TH (H).

【0134】いま、VQQW≧VCCにした場合には、
VQQRは、VQQR=約VTH(H)=1/2VCC
程度にし、VTH(L)は、VTH(L)=0.1〜0.
2[V]と小さく、VRDBPは、VRDBP=1/2V
CC−0.5[V]程度にする。
Now, when VQQW ≧ VCC,
VQQR is VQQR = about VTH (H) = 1/2 VCC
VTH (L) = 0.1-0.1.
As small as 2 [V], VRDB P is VRDB P = 1 / 2V
Set to about CC-0.5 [V].

【0135】このようにすることで、リード時でも、ラ
イト時でも、コラム選択線を共有することができる。そ
こで例えば、第1実施例の場合のように、VQQW=
3.0[V]、VQQR=1.5[V]、VTH(H)=
1.5[V]、VTH(L)=0.1[V]、VRDBP
=1.5[V]、VWDBP=3.0[V]というレベル
で制御すれば、所望の動作を達成することができる。
By doing so, the column selection line can be shared during both reading and writing. Therefore, for example, as in the case of the first embodiment, VQQW =
3.0 [V], VQQR = 1.5 [V], VTH (H) =
1.5 [V], VTH (L) = 0.1 [V], VRDB P
= 1.5 [V] and VWDB P = 3.0 [V], the desired operation can be achieved.

【0136】第2実施例・・図14、図15 本発明の第2実施例は、VQQジェネレータとして、図
10に示すVQQジェネレータの代わりに、図14に示
すVQQジェネレータを内蔵し、その他については、図
5に示すDRAMと同様に構成されるものである。
Second Embodiment ... FIG. 14, FIG. 15 In the second embodiment of the present invention, as the VQQ generator, the VQQ generator shown in FIG. 14 is incorporated instead of the VQQ generator shown in FIG. The configuration is similar to that of the DRAM shown in FIG.

【0137】この図14に示すVQQジェネレータは、
図10に示すVQQジェネレータからpMOSトランジ
スタ133を除去し、インバータ137、138、nM
OSトランジスタ139、140、MOSキャパシタ1
41、142を付加したものである。なお、VPPは、
電源電圧VCCよりも高い電圧であり、例えば、VCC
+VTHあるいはVCC+2VTHなる電圧である。
The VQQ generator shown in FIG.
By removing the pMOS transistor 133 from the VQQ generator shown in FIG. 10, the inverters 137, 138, nM are removed.
OS transistors 139 and 140, MOS capacitor 1
41 and 142 are added. Note that VPP is
A voltage higher than the power supply voltage VCC, for example, VCC
The voltage is + VTH or VCC + 2VTH.

【0138】このVQQジェネレータでは、リード時及
びリセット時は、ライトイネーブル信号WE=「L」
で、インバータ135の出力=「H」、nMOSトラン
ジスタ134=ONとなり、分圧回路119はVQQ線
118に接続される。
In this VQQ generator, the write enable signal WE = "L" at the time of reading and at the time of resetting.
Then, the output of the inverter 135 = “H”, the nMOS transistor 134 = ON, and the voltage dividing circuit 119 is connected to the VQQ line 118.

【0139】また、インバータ137の出力=「L」、
ノード143=「L」で、nMOSトランジスタ140
=OFFとなり、電圧VPPはVQQ線118には伝わ
らない。
The output of the inverter 137 = “L”,
When the node 143 = “L”, the nMOS transistor 140
= OFF, the voltage VPP is not transmitted to the VQQ line 118.

【0140】また、この場合、インバータ1302n+1
出力=「H」、NOR回路131の出力=「L」、イン
バータ132の出力=「H」で、nMOSトランジスタ
126=OFF、pMOSトランジスタ125=OFF
とされる。また、インバータ138の出力=「L」とさ
れる。
In this case, the output of the inverter 130 2n + 1 = “H”, the output of the NOR circuit 131 = “L”, the output of the inverter 132 = “H”, the nMOS transistor 126 = OFF, the pMOS transistor 125 = OFF
It is said that Further, the output of the inverter 138 = “L”.

【0141】したがって、リード時及びリセット時に
は、VQQ=1/2VCCとされ、これがVQQ線11
8を介して、コラムゲート・ドライバ114のpMOS
トランジスタ115等、コラムゲート・ドライバのpM
OSトランジスタに供給される。
Therefore, at the time of reading and at the time of resetting, VQQ = 1 / 2VCC, which is VQQ line 11
PMOS of the column gate driver 114 via
PM of column gate driver such as transistor 115
It is supplied to the OS transistor.

【0142】この状態から、ライトイネーブル信号WE
=「H」とされ、ライト期間にされると、インバータ1
35の出力=「L」、nMOSトランジスタ134=O
FFとされ、分圧回路119がVQQ線118と切り離
されると共に、インバータ137の出力=「H」、ノー
ド143=「H」とされる。
From this state, the write enable signal WE
= “H”, and during the write period, the inverter 1
35 output = “L”, nMOS transistor 134 = 0
FF, the voltage dividing circuit 119 is disconnected from the VQQ line 118, and the output of the inverter 137 = “H” and the node 143 = “H”.

【0143】他方、この場合、インバータ1302n+1
出力=「H」で、NOR回路131の出力=「L」、イ
ンバータ132の出力=「H」となり、nMOSトラン
ジスタ126=OFF、pMOSトランジスタ125=
OFFを維持する。
On the other hand, in this case, the output of the inverter 130 2n + 1 = “H”, the output of the NOR circuit 131 = “L”, the output of the inverter 132 = “H”, and the nMOS transistor 126 = OFF and the pMOS transistor 125. =
Keep OFF.

【0144】その後、インバータ1302n+1の出力=
「L」となるが、この場合、インバータ138=「H」
となり、ノード143はMOSキャパシタ141を介し
てチャージアップされて上昇し、nMOSトランジスタ
140=ONとなり、nMOSトランジスタ140のソ
ース電圧が上昇する。
Thereafter, the output of the inverter 130 2n + 1 =
It becomes “L”, but in this case, the inverter 138 = “H”
Then, the node 143 is charged up via the MOS capacitor 141 and rises, the nMOS transistor 140 turns ON, and the source voltage of the nMOS transistor 140 rises.

【0145】すると、MOSキャパシタ142を介して
ノード143の電圧が更に上昇してVPPを越えるよう
になり,電圧VPPがVQQ線118に伝達され、VQ
Q=VPPとなり、これがVQQ線118を介して、コ
ラムゲート・ドライバ114のpMOSトランジスタ1
15等、コラムゲート・ドライバのpMOSトランジス
タに供給される。なお、この場合、nMOSトランジス
タ126=OFF、pMOSトランジスタ125=OF
Fを維持している。
Then, the voltage of node 143 further rises to exceed VPP via MOS capacitor 142, and voltage VPP is transmitted to VQQ line 118 and VQQ line 118 is transmitted.
Q = VPP, which is transmitted via the VQQ line 118 to the pMOS transistor 1 of the column gate driver 114.
15, etc., to the pMOS transistor of the column gate driver. In this case, nMOS transistor 126 = OFF, pMOS transistor 125 = OF
We are maintaining F.

【0146】その後、ライト期間が終了すると、ライト
イネーブル信号WE=「L」で、インバータ135の出
力=「H」となり、nMOSトランジスタ134=ON
とされ、分圧回路119とVQQ線118が接続される
と共に、インバータ137の出力=「L」、ノード14
3=「L」とされ、nMOSトランジスタ140=OF
Fとされる。
Thereafter, when the write period ends, the write enable signal WE = “L”, the output of the inverter 135 = “H”, and the nMOS transistor 134 = ON.
The voltage dividing circuit 119 and the VQQ line 118 are connected, and the output of the inverter 137 = “L”, node 14
3 = “L”, and nMOS transistor 140 = OF
It is assumed to be F.

【0147】他方、この場合、インバータ1302n+1
出力=「L」、NOR回路131の出力=「H」、イン
バータ132の出力=「L」で、nMOSトランジスタ
126=ON、pMOSトランジスタ125=ONとな
り、抵抗127、128を介してVQQは高速に1/2
VCCにリセットされる。
On the other hand, in this case, the output of the inverter 130 2n + 1 = “L”, the output of the NOR circuit 131 = “H”, the output of the inverter 132 = “L”, the nMOS transistor 126 = ON, the pMOS transistor 125 = It turns ON, and VQQ becomes 1/2 at high speed through the resistors 127 and 128.
Reset to VCC.

【0148】なお、図15は、このVQQジェネレータ
を搭載してなる第2実施例のライト時の動作を示す波形
図であり、VQQが低電圧側を1/2VCC、高電圧側
をVPPとしている点を除き、図13に示す第1実施例
におけるライト時の動作と同一である。
FIG. 15 is a waveform diagram showing the operation at the time of writing of the second embodiment equipped with this VQQ generator. VQQ has a low voltage side of 1/2 VCC and a high voltage side of VPP. Except for the points, the operation is the same as the write operation in the first embodiment shown in FIG.

【0149】この第2実施例によれば、第1実施例と同
様の作用効果を得ることができると共に、ライト用コラ
ムゲートをドライブする場合のコラム選択線CLの電圧
をVPP>VCCとすることができるので、ライト用コ
ラムゲートを構成するnMOSトランジスタのスイッチ
ング動作の高速化を図ることができ、また、ライト用デ
ータバスのデータをビット線に安定的に伝達することが
できる。
According to the second embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and the voltage of the column selection line CL for driving the write column gate is set to VPP> VCC. Therefore, the switching operation of the nMOS transistor forming the write column gate can be speeded up, and the data of the write data bus can be stably transmitted to the bit line.

【0150】第3実施例・・図16、17 図16は本発明の第3実施例の要部を示す回路図であ
り、この第3実施例は、第1実施例のコラムデコーダ1
12と構成の異なるコラムデコーダ144を搭載してい
る点を除き、図5に示す第1実施例と同様に構成されて
いる。
Third Embodiment ... FIGS. 16 and 17 FIG. 16 is a circuit diagram showing an essential part of a third embodiment of the present invention. This third embodiment is a column decoder 1 of the first embodiment.
The configuration is the same as that of the first embodiment shown in FIG. 5 except that a column decoder 144 having a configuration different from that of No. 12 is mounted.

【0151】ここに、コラムデコーダ144は、コラム
の選択を行うNAND回路として、電圧VQQを電源電
圧とするNAND回路を使用し、コラムゲート・ドライ
バを削除したものである。
Here, the column decoder 144 uses a NAND circuit using the voltage VQQ as a power supply voltage as a NAND circuit for selecting a column and eliminates the column gate driver.

【0152】即ち、図16を使用して説明すれば、リー
ド用コラムゲート58、59及びライト用コラムゲート
89、90を選択するNAND回路として、電圧VQQ
を電源電圧とするNAND回路145を使用し、図5に
示すコラムゲート・ドライバ114を削除している。
That is, referring to FIG. 16, a NAND circuit for selecting the read column gates 58 and 59 and the write column gates 89 and 90 is used as the voltage VQQ.
The NAND gate 145 having the power supply voltage of 5 is used, and the column gate driver 114 shown in FIG. 5 is deleted.

【0153】このNAND回路145は、例えば、図1
7に示すように構成される。図中、1460、1461
・・1469はpMOSトランジスタ、1470、147
1・・・1479はnMOSトランジスタである。
This NAND circuit 145 is, for example, as shown in FIG.
It is configured as shown in FIG. In the figure, 146 0 , 146 1
.... 146 9 are pMOS transistors 147 0 , 147
1 ... 147 9 are nMOS transistors.

【0154】このように、この第3実施例によれば、コ
ラムの選択を行うNAND回路から第1の場合と同様の
コラム選択信号CL1、CL2・・・CLm+1を出力する
ようにし、コラムゲート・ドライバを不要としているの
で、コラムゲート・ドライバを形成する領域をなくし、
面積損を第1実施例以上に減らし、チップ面を第1実施
例以上に有効に利用することができる。
As described above, according to the third embodiment, the NAND circuit for selecting columns outputs the column selection signals CL 1 , CL 2, ... CL m + 1 similar to those in the first case. Since the column gate driver is unnecessary, the area for forming the column gate driver is eliminated,
The area loss can be reduced more than that of the first embodiment, and the chip surface can be effectively used more than that of the first embodiment.

【0155】[0155]

【発明の効果】本発明中、第1の発明によれば、2以上
のコラム毎に1個のコラムゲート・ドライバを設ければ
足り、1コラムごとに1個のコラムゲート・ドライバを
設ける必要がないので、コラムゲート・ドライバを形成
する領域を縮小化し、面積損を減らし、チップ面を有効
に利用することができる。
According to the first aspect of the present invention, it suffices to provide one column gate driver for every two or more columns, and one column gate driver for each column. Therefore, the area for forming the column gate driver can be reduced, the area loss can be reduced, and the chip surface can be effectively used.

【0156】また、第2の発明によれば、コラムゲート
・ドライバを不要としているので、コラムゲート・ドラ
イバを形成する領域をなくし、面積損を第1の発明以上
に減らし、チップ面を第1の発明以上に有効に利用する
ことができる。
Further, according to the second invention, since the column gate driver is unnecessary, the region for forming the column gate driver is eliminated, the area loss is reduced more than in the first invention, and the chip surface is reduced to the first surface. The invention can be used more effectively than the above invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明中、第1の発明の原理を示す回路図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a principle of a first invention in the present invention.

【図2】リード用コラムゲート及びライト用コラムゲー
トの構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing configurations of a read column gate and a write column gate.

【図3】本発明中、第2の発明の原理を示す回路図であ
る。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a principle of a second invention in the present invention.

【図4】リード用コラムゲートの他の構成例を示す回路
図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing another configuration example of a read column gate.

【図5】本発明の第1実施例の要部を示す回路図であ
る。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a main part of the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1実施例を構成するセンスアンプ活
性化回路を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a sense amplifier activating circuit which constitutes a first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第1実施例を構成するVSS*ジェネ
レータを示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a VSS * generator that constitutes the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第1実施例を構成するリードアンプを
示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a read amplifier which constitutes a first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第1実施例を構成するライトアンプを
示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a write amplifier which constitutes a first embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第1実施例を構成するVQQジェネ
レータを示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a VQQ generator that constitutes the first embodiment of the present invention.

【図11】図10に示すVQQジェネレータの動作を示
す波形図である。
11 is a waveform diagram showing an operation of the VQQ generator shown in FIG.

【図12】本発明の第1実施例のリード時の動作を示す
波形図である。
FIG. 12 is a waveform chart showing an operation during reading according to the first embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第1実施例のライト時の動作を示す
波形図である。
FIG. 13 is a waveform diagram showing an operation at the time of writing according to the first embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第2実施例が内蔵するVQQジェネ
レータを示す回路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram showing a VQQ generator incorporated in a second embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第2実施例のライト時の動作を示す
波形図である。
FIG. 15 is a waveform chart showing an operation at the time of writing according to the second embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第3実施例の要部を示す回路図であ
る。
FIG. 16 is a circuit diagram showing a main part of a third embodiment of the present invention.

【図17】本発明の第3実施例を構成するコラムデコー
ダのNAND回路を示す回路図である。
FIG. 17 is a circuit diagram showing a NAND circuit of a column decoder which constitutes a third embodiment of the present invention.

【図18】従来のDRAMの一例の要部を示す回路図で
ある。
FIG. 18 is a circuit diagram showing a main part of an example of a conventional DRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

381、382・・・38mn+n ビット線対 391、392・・・39n リード用データバス線対 401、402・・・40n ライト用データバス線対 411、412・・・41mn+n リード用コラムゲート 421、422・・・42mn+n ライト用コラムゲート 431、432・・・43m+1 コラムゲート・ドライバ CL1、CL2・・・CLm+1 コラム選択信号38 1 , 38 2 ... 38 mn + n bit line pair 39 1 , 39 2 ... 39 n read data bus line pair 40 1 , 40 2 ... 40 n write data bus line pair 41 1 , 41 2 ... 41 mn + n read column gates 42 1 , 42 2 ... 42 mn + n write column gates 43 1 , 43 2 ... 43 m + 1 column gate driver CL 1 , CL 2 ... CL m + 1 column selection signal

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1、第2・・・第mn+n(但し、n=
2以上の整数、m=0以上の整数)のビット線対(38
1、382・・・38mn+n)に対して第1、第2・・・第
nのリード用データバス線対(391、392・・・39
n)及びライト用データバス線対(401、402・・・
40n)を設けると共に、前記第1、第2・・・第mn
+nのビット線対(381、382・・・38mn+n)に対
応させて第1、第2・・・第mn+nのリード用コラム
ゲート(411、412・・・41mn+n)及びライト用コ
ラムゲート(421、422・・・42mn+n)を設け、第
pn+i(但し、p=0〜mの整数、i=1〜nの整
数)のリード用コラムゲートは、第1、第2、第3、第
4のMOSトランジスタ(44pn+i、45pn+i、46
pn+i、47pn +i)を有してなり、前記第1、第2のMO
Sトランジスタ(44pn+i、45pn+i)を所定の配線
(50)と第iのリード用データバス線対(39i)の
一方のリード用データバス線(/RDBi)との間に順
に直列に接続し、前記第1のMOSトランジスタ(44
pn+i)のゲートを第pn+iのビット線対(38pn+i
の一方のビット線(BLpn+i)に接続すると共に、前記
第3、第4のMOSトランジスタ(46pn+i、4
pn+i)を前記所定の配線(50)と前記第iのリード
用データバス線対(39i)の他方のリード用データバ
ス線(RDBi)との間に順に直列に接続し、前記第3
のMOSトランジスタ(46pn+i)のゲートを前記第p
n+iのビット線対(38pn+i)の他方のビット線(/
BLpn+i)に接続し、第pn+iのライト用コラムゲー
ト(42pn+i)は、前記第2、第4のMOSトランジス
タ(45pn+i、47pn+i)よりもスレッショルド電圧の
高い第5、第6のMOSトランジスタ(48pn+i、49
pn+i)を有してなり、前記第5のMOSトランジスタ
(48pn+i)を前記第pn+iのビット線対(3
pn+i)の一方のビット線(BLpn+i)と第iのライト
用データバス線対(40i)の一方のライト用データバ
ス線(WDBi)との間に接続すると共に、前記第6の
MOSトランジスタ(49pn+i)を前記第pn+iのビ
ット線対(38pn+i)の他方のビット線(/BLpn+i
と前記第iのライト用データバス線対(40i)の他方
のライト用データバス線(/WDBi)との間に接続
し、前記第1、第2・・・第mn+nのリード用コラム
ゲート(411、412・・・41mn+n)及びライト用コ
ラムゲート(421、422・・・42mn+n)は、第1、
第2・・・第nのリード用コラムゲート(411、412
・・・41n)及びライト用コラムゲート(421、42
2・・・42n)からなるグループ、第n+1、第n+2
・・・第n+nのリード用コラムゲート(41n+1、4
n+2・・・41nn)及びライト用コラムゲート(4
n+1、42n+2・・・42n+n)からなるグループ、・
・・、第mn+1、第mn+2・・・第mn+nのリー
ド用コラムゲート(41mn+1、41mn +2・・・4
mn+n)及びライト用コラムゲート(42mn+1、42
mn+2・・・42 mn+n)からなるグループをそれぞれ1単
位として、それぞれ、第1、第2・・・第m+1のコラ
ムゲート・ドライバ(431、432・・・43m+1)に
より、前記第2、第4、第5、第6のMOSトランジス
タ(45pn+i、47pn+i、48pn +i、49pn+i)のゲー
トに対して、リード時は、前記第2、第4のMOSトラ
ンジスタ(45pn+i、47pn+i)を導通状態、前記第
5、第6のMOSトランジスタ(48pn+i、49pn+i
を非導通状態とし、ライト時は、前記第2、第4、第
5、第6のMOSトランジスタ(45pn+i、47pn+i
48pn+i、49pn+i)を導通状態とするレベルのコラム
選択信号(CL1、CL2・・・CLm+1)が供給される
ように構成されていることを特徴とする半導体記憶装
置。
1. First, second ... mn + n (where n =
Bit line pair (38, integer of 2 or more, m = 0 or more)
1, 382... 38mn + n) To the first, second ...
n read data bus line pair (391, 392... 39
n) And a write data bus line pair (401, 402...
40n) Is provided and the first, second ... mnth
+ N bit line pair (381, 382... 38mn + n) To
The first, second ... mn + n lead columns.
Gate (411, 412... 41mn + n) And light
Ramgate (421, 422... 42mn + n), The first
pn + i (provided that p = 0 to m is an integer, i = 1 to n is an integer
The number of read column gates is 1st, 2nd, 3rd, 3rd,
4 MOS transistor (44pn + i, 45pn + i, 46
pn + i, 47pn + i), And the first and second MO
S transistor (44pn + i, 45pn + i) The predetermined wiring
(50) and the i-th read data bus line pair (39i)of
One read data bus line (/ RDBi) And order
Connected in series with the first MOS transistor (44
pn + i) With the gate of pn + i bit line pair (38pn + i)
One bit line (BLpn + i) And the above
Third and fourth MOS transistors (46pn + iFour
7pn + i) Is the predetermined wiring (50) and the i-th lead
Data bus line pair (39i) The other read data
Line (RDBi) And in series in order,
MOS transistor (46pn + i) Gate to the p-th
n + i bit line pair (38pn + i) Other bit line (/
BLpn + i), And the pn + i write column game for writing
To (42pn + i) Is the second and fourth MOS transistors
(45pn + i, 47pn + i) Than the threshold voltage
High fifth and sixth MOS transistors (48pn + i, 49
pn + i), And the fifth MOS transistor
(48pn + i) Is the pn + i-th bit line pair (3
8pn + i) One bit line (BLpn + i) And the i-th light
Data bus line pair (40i) One write data buffer
Line (WDBi) And the sixth
MOS transistor (49pn + i) Is the pn + i-th
Line pair (38pn + i) Other bit line (/ BLpn + i)
And the i-th write data bus line pair (40i) The other
Write data bus line (/ WDBi) And connect
, The first, second ... mn + n lead columns
Gate (411, 412... 41mn + n) And light
Ramgate (421, 422... 42mn + n) Is the first,
Second ... nth read column gate (411, 412
... 41n) And a column gate for light (421, 42
2... 42n) Group consisting of n + 1 and n + 2
... The (n + n) th read column gate (41n + 1Four
1n + 2... 41n+n) And column gate for light (4
Twon + 1, 42n + 2... 42n + nGroup consisting of
.., mn + 1, mn + 2 ... mn + n Lee
Column gate (41mn + 1, 41mn +2... 4
1mn + n) And a column gate for light (42mn + 1, 42
mn + 2... 42 mn + n) Each group
The first, second ... m + 1th colla respectively
Mugate driver (431, 432... 43m + 1) To
From the second, fourth, fifth and sixth MOS transistors
(45pn + i, 47pn + i, 48pn + i, 49pn + i) Game
On the other hand, when reading, the second and fourth MOS transistors
Register (45pn + i, 47pn + i) The conducting state, the first
5, 6th MOS transistor (48pn + i, 49pn + i)
Is non-conducting, and at the time of writing, the second, fourth, and
5, 6th MOS transistor (45pn + i, 47pn + i,
48pn + i, 49pn + i) Level column that makes the
Selection signal (CL1, CL2... CLm + 1) Is supplied
Semiconductor memory device characterized by being configured as follows.
Place
【請求項2】第1、第2・・・第mn+n(但し、n=
2以上の整数、m=0以上の整数)のビット線対(38
1、382・・・38mn+n)に対して第1、第2・・・第
nのリード用データバス線対(391、392・・・39
n)及びライト用データバス線対(401、402・・・
40n)を設けると共に、前記第1、第2・・・第mn
+nのビット線対(381、382・・・38mn+n)に対
応させて第1、第2・・・第mn+nのリード用コラム
ゲート(411、412・・・41mn+n)及びライト用コ
ラムゲート(421、422・・・42mn+n)を設け、第
pn+i(但し、p=0〜mの整数、i=1〜nの整
数)のリード用コラムゲートは、第1、第2、第3、第
4のMOSトランジスタ(44pn+i、45pn+i、46
pn+i、47pn +i)を有してなり、前記第1、第2のMO
Sトランジスタ(44pn+i、45pn+i)を第iのリード
用データバス線対(39i)の一方のリード用データバ
ス線(/RDBi)と所定の配線(50)との間に順に
直列に接続し、前記第1のMOSトランジスタ(44
pn+i)のゲートを第pn+iのビット線対(38pn+i
の一方のビット線(BLpn+i)に接続すると共に、前記
第3、第4のMOSトランジスタ(46pn+i、4
pn+i)を前記第iのリード用データバス線対(3
i)の他方のリード用データバス線(RDBi)と前記
所定の配線(50)との間に順に直列に接続し、前記第
3のMOSトランジスタ(46pn+i)のゲートを前記第
pn+iのビット線対(38pn+i)の他方のビット線
(/BLpn+i)に接続し、第pn+iのライト用コラム
ゲート(42pn+i)は、前記第2、第4のMOSトラン
ジスタ(45pn+i、47pn+i)よりもスレッショルド電
圧の高い第5、第6のトランジスタ(48pn+i、49
pn+i)を有してなり、前記第5のMOSトランジスタ
(48pn+i)を前記第pn+iのビット線対(3
pn+i)の一方のビット線(BLpn+i)と第iのライト
用データバス線対(40i)の一方のライト用データバ
ス線(WDBi)との間に接続すると共に、前記第6の
MOSトランジスタ(49pn+i)を前記第pn+iのビ
ット線対(38pn+i)の他方のビット線(/BLpn+i
と前記第iのライト用データバス線対(40i)の他方
のライト用データバス線(WDBi)との間に接続し、
前記第1、第2・・・第mn+nのリード用コラムゲー
ト(411、412・・・41mn+n)及びライト用コラム
ゲート(421、422・・・42mn+n)は、第1、第2
・・・第nのリード用コラムゲート(411、412・・
・41n)及びライト用コラムゲート(421、42 2
・・42n)からなるグループ、第n+1、第n+2・
・・第n+nのリード用コラムゲート(41n+1、41
n+2・・・41nn)及びライト用コラムゲート(42
n+1、42n+2・・・42n+n)からなるグループ、・・
・、第mn+1、第mn+2・・・第mn+nのリード
用コラムゲート(41mn+1、41mn+2・・・41mn+n
及びライト用コラムゲート(42mn+1、42mn+2・・・
42mn+n)からなるグループをそれぞれ1単位として、
それぞれ、第1、第2・・・第m+1のコラムゲート・
ドライバ(431、432・・・43m+1)により、前記
第2、第4、第5、第6のMOSトランジスタ(45
pn+i、47pn+i、48pn+i、49pn+i)のゲートに対し
て、リード時は、前記第2、第4のMOSトランジスタ
(45pn+i、47pn+i)を導通状態、前記第5、第6の
MOSトランジスタ(48pn+i、49pn+i)を非導通状
態とし、ライト時は、前記第2、第4、第5、第6のM
OSトランジスタ(45pn+i、47pn+i、48pn+i、4
pn+i)を導通状態とするレベルのコラム選択信号(C
1、CL2・・・CLm+1)が供給されるように構成さ
れていることを特徴とする半導体記憶装置。
2. The first, second ... mn + n (where n =
Bit line pair (38, integer of 2 or more, m = 0 or more)
1, 382... 38mn + n) To the first, second ...
n read data bus line pair (391, 392... 39
n) And a write data bus line pair (401, 402...
40n) Is provided and the first, second ... mnth
+ N bit line pair (381, 382... 38mn + n) To
The first, second ... mn + n lead columns.
Gate (411, 412... 41mn + n) And light
Ramgate (421, 422... 42mn + n), The first
pn + i (provided that p = 0 to m is an integer, i = 1 to n is an integer
The number of read column gates is 1st, 2nd, 3rd, 3rd,
4 MOS transistor (44pn + i, 45pn + i, 46
pn + i, 47pn + i), And the first and second MO
S transistor (44pn + i, 45pn + i) Lead to i
Data bus line pair (39i) One read data
Line (/ RDBi) And the predetermined wiring (50) in order
Connected in series, the first MOS transistor (44
pn + i) With the gate of pn + i bit line pair (38pn + i)
One bit line (BLpn + i) And the above
Third and fourth MOS transistors (46pn + iFour
7pn + i) Is the i-th read data bus line pair (3
9i) Other read data bus line (RDB)i) And the above
Connect in series with a predetermined wiring (50) in order,
3 MOS transistor (46pn + i) Gate to the above
pn + i bit line pair (38pn + i) The other bit line
(/ BLpn + i), And the pn + i write column
Gate (42pn + i) Is the second and fourth MOS transistors
Dista (45pn + i, 47pn + i) Than threshold electric
The fifth and sixth transistors (48pn + i, 49
pn + i), And the fifth MOS transistor
(48pn + i) Is the pn + i-th bit line pair (3
8pn + i) One bit line (BLpn + i) And the i-th light
Data bus line pair (40i) One write data buffer
Line (WDBi) And the sixth
MOS transistor (49pn + i) Is the pn + i-th
Line pair (38pn + i) Other bit line (/ BLpn + i)
And the i-th write data bus line pair (40i) The other
Write data bus line (WDBi) And
The first, second ... mn + n read column games
To (411, 412... 41mn + n) And light column
Gate (421, 422... 42mn + n) Is the first and second
... Nth read column gate (411, 412・ ・
・ 41n) And a column gate for light (421, 42 2
・ ・ 42n), A group consisting of n + 1, n + 2.
..Column gates for the (n + n) th read (41n + 1, 41
n + 2... 41n+n) And a column gate for light (42
n + 1, 42n + 2... 42n + nGroup consisting of ...
.., mn + 1, mn + 2 ... mn + n lead
Column gate (41mn + 1, 41mn + 2... 41mn + n)
And column gate for light (42mn + 1, 42mn + 2...
42mn + n), Each as a unit,
1st, 2nd ... m + 1th column gate
Driver (431, 432... 43m + 1)
The second, fourth, fifth and sixth MOS transistors (45
pn + i, 47pn + i, 48pn + i, 49pn + i) For the gate
When reading, the second and fourth MOS transistors are used.
(45pn + i, 47pn + i) Is in a conductive state, and the fifth and sixth
MOS transistor (48pn + i, 49pn + i) Is non-conducting
The second, the fourth, the fifth, and the sixth M are in the write state.
OS transistor (45pn + i, 47pn + i, 48pn + iFour
9pn + iColumn selection signal (C
L1, CL2... CLm + 1) Is configured to be supplied
A semiconductor memory device characterized by being provided.
【請求項3】第1、第2・・・第mn+n(但し、n=
2以上の整数、m=0以上の整数)のビット線対(38
1、382・・・38mn+n)に対して第1、第2・・・第
nのリード用データバス線対(391、392・・・39
n)及びライト用データバス線対(401、402・・・
40n)を設けると共に、前記第1、第2・・・第mn
+nのビット線対(381、382・・・38mn+n)に対
応させて第1、第2・・・第mn+nのリード用コラム
ゲート(411、412・・・41mn+n)及びライト用コ
ラムゲート(421、422・・・42mn+n)を設け、第
pn+i(但し、p=0〜mの整数、i=1〜nの整
数)のリード用コラムゲートは、第1、第2、第3、第
4のMOSトランジスタ(44pn+i、45pn+i、46
pn+i、47pn +i)を有してなり、前記第1、第2のMO
Sトランジスタ(44pn+i、45pn+i)を所定の配線
(50)と第iのリード用データバス線対(39i)の
一方のリード用データバス線(/RDBi)との間に順
に直列に接続し、前記第1のMOSトランジスタ(44
pn+i)のゲートを第pn+iのビット線対(38pn+i
の一方のビット線(BLpn+i)に接続すると共に、前記
第3、第4のMOSトランジスタ(46pn+i、4
pn+i)を前記所定の配線(50)と前記第iのリード
用データバス線対(39i)の他方のリード用データバ
ス線(RDBi)との間に順に直列に接続し、前記第3
のMOSトランジスタ(46pn+i)のゲートを前記第p
n+iのビット線対(38pn+i)の他方のビット線(/
BLpn+i)に接続し、第pn+iのライト用コラムゲー
ト(42pn+i)は、前記第2、第4のMOSトランジス
タ(45pn+i、47pn+i)よりもスレッショルド電圧の
高い第5、第6のMOSトランジスタ(48pn+i、49
pn+i)を有してなり、前記第5のMOSトランジスタ
(48pn+i)を前記第pn+iのビット線対(3
pn+i)の一方のビット線(BLpn+i)と第iのライト
用データバス線対(40i)の一方のライト用データバ
ス線(WDBi)との間に接続すると共に、前記第6の
MOSトランジスタ(49pn+i)を前記第pn+iのビ
ット線対(38pn+i)の他方のビット線(/BLpn+i
と前記第iのライト用データバス線対(40i)の他方
のライト用データバス線(WDBi)との間に接続し、
前記第1、第2・・・第mn+nのリード用コラムゲー
ト(411、412・・・41mn+n)及びライト用コラム
ゲート(421、422・・・42mn+n)は、第1、第2
・・・第nのリード用コラムゲート(411、412・・
・41n)及びライト用コラムゲート(421、422
・・42n)かるなるグループ、第n+1、第n+2・
・・第n+nのリード用コラムゲート(41n+1、41
n+2・・・41nn)及びライト用コラムゲート(42
n+1、42n+2・・・42n+n)からなるグループ、・・
・、第mn+1、第mn+2・・・第mn+nのリード
用コラムゲート(41mn+1、41mn+2・・・41mn+n
及びライト用コラムゲート(42mn+1、42mn+2・・・
42mn +n)からなるグループをそれぞれ1単位として、
それぞれ、コラムゲートを構成する第1、第2・・・第
m+1の論理ゲート(431、432・・・43m+1)に
より、前記第2、第4、第5、第6のMOSトランジス
タ(45pn+i、47pn+i、48pn+i、49pn+i)のゲー
トに対して、リード時は、前記第2、第4のMOSトラ
ンジスタ(45pn+i、47pn+i)を導通状態、前記第
5、第6のMOSトランジスタ(48pn+i、49pn+i
を非導通状態とし、ライト時は、前記第2、第4、第
5、第6のMOSトランジスタ(45pn+i、47pn+i
48pn+i、49 pn+i)を導通状態とするレベルのコラム
選択信号(CL1、CL2・・・CLm+1)が供給される
ように構成されていることを特徴とする半導体記憶装
置。
3. The first, second ... mn + n (where n =
Bit line pair (38, integer of 2 or more, m = 0 or more)
1, 382... 38mn + n) To the first, second ...
n read data bus line pair (391, 392... 39
n) And a write data bus line pair (401, 402...
40n) Is provided and the first, second ... mnth
+ N bit line pair (381, 382... 38mn + n) To
The first, second ... mn + n lead columns.
Gate (411, 412... 41mn + n) And light
Ramgate (421, 422... 42mn + n), The first
pn + i (provided that p = 0 to m is an integer, i = 1 to n is an integer
The number of read column gates is 1st, 2nd, 3rd, 3rd,
4 MOS transistor (44pn + i, 45pn + i, 46
pn + i, 47pn + i), And the first and second MO
S transistor (44pn + i, 45pn + i) The predetermined wiring
(50) and the i-th read data bus line pair (39i)of
One read data bus line (/ RDBi) And order
Connected in series with the first MOS transistor (44
pn + i) With the gate of pn + i bit line pair (38pn + i)
One bit line (BLpn + i) And the above
Third and fourth MOS transistors (46pn + iFour
7pn + i) Is the predetermined wiring (50) and the i-th lead
Data bus line pair (39i) The other read data
Line (RDBi) And in series in order,
MOS transistor (46pn + i) Gate to the p-th
n + i bit line pair (38pn + i) Other bit line (/
BLpn + i), And the pn + i write column game for writing
To (42pn + i) Is the second and fourth MOS transistors
(45pn + i, 47pn + i) Than the threshold voltage
High fifth and sixth MOS transistors (48pn + i, 49
pn + i), And the fifth MOS transistor
(48pn + i) Is the pn + i-th bit line pair (3
8pn + i) One bit line (BLpn + i) And the i-th light
Data bus line pair (40i) One write data buffer
Line (WDBi) And the sixth
MOS transistor (49pn + i) Is the pn + i-th
Line pair (38pn + i) Other bit line (/ BLpn + i)
And the i-th write data bus line pair (40i) The other
Write data bus line (WDBi) And
The first, second ... mn + n read column games
To (411, 412... 41mn + n) And light column
Gate (421, 422... 42mn + n) Is the first and second
... Nth read column gate (411, 412・ ・
・ 41n) And a column gate for light (421, 422
・ ・ 42n) Karunaru group, n + 1, n + 2.
..Column gates for the (n + n) th read (41n + 1, 41
n + 2... 41n+n) And a column gate for light (42
n + 1, 42n + 2... 42n + nGroup consisting of ...
.., mn + 1, mn + 2 ... mn + n lead
Column gate (41mn + 1, 41mn + 2... 41mn + n)
And column gate for light (42mn + 1, 42mn + 2...
42mn + n), Each as a unit,
The first, second, ...
m + 1 logic gate (431, 432... 43m + 1) To
From the second, fourth, fifth and sixth MOS transistors
(45pn + i, 47pn + i, 48pn + i, 49pn + i) Game
On the other hand, when reading, the second and fourth MOS transistors
Register (45pn + i, 47pn + i) The conducting state, the first
5, 6th MOS transistor (48pn + i, 49pn + i)
Is non-conducting, and at the time of writing, the second, fourth, and
5, 6th MOS transistor (45pn + i, 47pn + i,
48pn + i, 49 pn + i) Level column that makes the
Selection signal (CL1, CL2... CLm + 1) Is supplied
Semiconductor memory device characterized by being configured as follows.
Place
【請求項4】第1、第2・・・第mn+n(但し、n=
2以上の整数、m=0以上の整数)のビット線対(38
1、382・・・38mn+n)に対して第1、第2・・・第
nのリード用データバス線対(391、392・・・39
n)及びライト用データバス線対(401、402・・・
40n)を設けると共に、前記第1、第2・・・第mn
+nのビット線対(381、382・・・38mn+n)に対
応させて第1、第2・・・第mn+nのリード用コラム
ゲート(411、412・・・41mn+n)及びライト用コ
ラムゲート(421、422・・・42mn+n)を設け、第
pn+i(但し、p=0〜mの整数、i=1〜nの整
数)のリード用コラムゲートは、第1、第2、第3、第
4のMOSトランジスタ(44pn+i、45pn+i、46
pn+i、47pn +i)を有してなり、前記第1、第2のMO
Sトランジスタ(44pn+i、45pn+i)を第iのリード
用データバス線対(39i)の一方のリード用データバ
ス線(/RDBi)と所定の配線(50)との間に順に
直列に接続し、前記第1のMOSトランジスタ(44
pn+i)のゲートを第pn+iのビット線対(38pn+i
の一方のビット線(BLpn+i)に接続すると共に、前記
第3、第4のMOSトランジスタ(46pn+i、4
pn+i)を前記第iのリード用データバス線対(3
i)の他方のリード用データバス線(RDBi)と前記
所定の配線(50)との間に順に直列に接続し、前記第
3のMOSトランジスタ(46pn+i)のゲートを前記第
pn+iのビット線対(38pn+i)の他方のビット線
(/BLpn+i)に接続し、第pn+iのライト用コラム
ゲート(42pn+i)は、前記第2、第4のMOSトラン
ジスタ(45pn+i、47pn+i)よりもスレッショルド電
圧の高い第5、第6のトランジスタ(48pn+i、49
pn+i)を有してなり、前記第5のMOSトランジスタ
(48pn+i)を前記第pn+iのビット線対(3
pn+i)の一方のビット線(BLpn+i)と第iのライト
用データバス線対(40i)の一方のライト用データバ
ス線(WDBi)との間に接続すると共に、前記第6の
MOSトランジスタ(49pn+i)を前記第pn+iのビ
ット線対(38pn+i)の他方のビット線(/BLpn+i
と前記第iのライト用データバス線対(40i)の他方
のライト用データバス線(WDBi)との間に接続し、
前記第1、第2・・・第mn+nのリード用コラムゲー
ト(411、412・・・41mn+n)及びライト用コラム
ゲート(421、422・・・42mn+n)は、第1、第2
・・・第nのリード用コラムゲート(411、412・・
・41n)及びライト用コラムゲート(421、42 2
・・42n)からなるグループ、第n+1、第n+2・
・・第n+nのリード用コラムゲート(41n+1、41
n+2・・・41nn)及びライト用コラムゲート(42
n+1、42n+2・・・42n+n)からなるグループ、・・
・、第mn+1、第mn+2・・・第mn+nのリード
用コラムゲート(41mn+1、41mn+2・・・41mn+n
及びライト用コラムゲート(42mn+1、42mn+2・・・
42mn+n)からなるグループをそれぞれ1単位として、
それぞれ、コラムデコーダを構成する第1、第2・・・
第m+1の論理ゲート(431、432・・・43m+1
により、前記第2、第4、第5、第6のMOSトランジ
スタ(45pn+i、47pn+i、48pn+i、49pn+i)のゲ
ートに対して、リード時は、前記第2、第4のMOSト
ランジスタ(45pn+i、47pn+i)を導通状態、前記第
5、第6のMOSトランジスタ(48pn+i、49pn+i
を非導通状態とし、ライト時は、前記第2、第4、第
5、第6のMOSトランジスタ(45pn+i、47pn+i
48pn+i、49pn +i)を導通状態とするレベルのコラム
選択信号(CL1、CL2・・・CLm+1)が供給される
ように構成されていることを特徴とする半導体記憶装
置。
4. First, second ... mn + n (where n =
Bit line pair (38, integer of 2 or more, m = 0 or more)
1, 382... 38mn + n) To the first, second ...
n read data bus line pair (391, 392... 39
n) And a write data bus line pair (401, 402...
40n) Is provided and the first, second ... mnth
+ N bit line pair (381, 382... 38mn + n) To
The first, second ... mn + n lead columns.
Gate (411, 412... 41mn + n) And light
Ramgate (421, 422... 42mn + n), The first
pn + i (provided that p = 0 to m is an integer, i = 1 to n is an integer
The number of read column gates is 1st, 2nd, 3rd, 3rd,
4 MOS transistor (44pn + i, 45pn + i, 46
pn + i, 47pn + i), And the first and second MO
S transistor (44pn + i, 45pn + i) Lead to i
Data bus line pair (39i) One read data
Line (/ RDBi) And the predetermined wiring (50) in order
Connected in series, the first MOS transistor (44
pn + i) With the gate of pn + i bit line pair (38pn + i)
One bit line (BLpn + i) And the above
Third and fourth MOS transistors (46pn + iFour
7pn + i) Is the i-th read data bus line pair (3
9i) Other read data bus line (RDB)i) And the above
Connect in series with a predetermined wiring (50) in order,
3 MOS transistor (46pn + i) Gate to the above
pn + i bit line pair (38pn + i) The other bit line
(/ BLpn + i), And the pn + i write column
Gate (42pn + i) Is the second and fourth MOS transistors
Dista (45pn + i, 47pn + i) Than threshold electric
The fifth and sixth transistors (48pn + i, 49
pn + i), And the fifth MOS transistor
(48pn + i) Is the pn + i-th bit line pair (3
8pn + i) One bit line (BLpn + i) And the i-th light
Data bus line pair (40i) One write data buffer
Line (WDBi) And the sixth
MOS transistor (49pn + i) Is the pn + i-th
Line pair (38pn + i) Other bit line (/ BLpn + i)
And the i-th write data bus line pair (40i) The other
Write data bus line (WDBi) And
The first, second ... mn + n read column games
To (411, 412... 41mn + n) And light column
Gate (421, 422... 42mn + n) Is the first and second
... Nth read column gate (411, 412・ ・
・ 41n) And a column gate for light (421, 42 2
・ ・ 42n), A group consisting of n + 1, n + 2.
..Column gates for the (n + n) th read (41n + 1, 41
n + 2... 41n+n) And a column gate for light (42
n + 1, 42n + 2... 42n + nGroup consisting of ...
.., mn + 1, mn + 2 ... mn + n lead
Column gate (41mn + 1, 41mn + 2... 41mn + n)
And column gate for light (42mn + 1, 42mn + 2...
42mn + n), Each as a unit,
The first, second, ...
M + 1th logic gate (431, 432... 43m + 1)
The second, fourth, fifth and sixth MOS transistors
Star (45pn + i, 47pn + i, 48pn + i, 49pn + i)
When reading, the second and fourth MOS transistors
Langista (45pn + i, 47pn + i) The conducting state, the first
5, 6th MOS transistor (48pn + i, 49pn + i)
Is non-conducting, and at the time of writing, the second, fourth, and
5, 6th MOS transistor (45pn + i, 47pn + i,
48pn + i, 49pn + i) Level column that makes the
Selection signal (CL1, CL2... CLm + 1) Is supplied
Semiconductor memory device characterized by being configured as follows.
Place
【請求項5】前記所定の配線(50)は、リード時は接
地され、ライト時は、プリチャージされたリード用デー
タバス線対から選択されたコラムのリード用コラムゲー
トを介して前記所定の配線(50)に流れる電流を抑制
することができる電圧に設定されることを特徴とする請
求項1、2、3又は4記載の半導体記憶装置。
5. The predetermined wiring (50) is grounded at the time of reading, and at the time of writing, the predetermined wiring is connected via a read column gate of a column selected from a precharged read data bus line pair. 5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the voltage is set to a value that can suppress the current flowing through the wiring (50).
【請求項6】前記コラム選択信号(CL1、CL2・・・
CLm+1)のリード時のレベルは、前記ビット線対(3
1、382・・・38mn+n)のプリチャージ電圧に近い
ことを特徴とする請求項1、2、3、4又は5記載の半
導体記憶装置。
6. The column selection signals (CL 1 , CL 2 ...
The level at the time of reading CL m + 1 ) is the bit line pair (3
8. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the precharge voltage is close to 8 1 , 38 2 ... 38 mn + n ).
【請求項7】前記コラム選択信号(CL1、CL2・・・
CLm+1)のリード時のレベルは、電源電圧よりも高電
圧であることを特徴とする請求項1、2、3、4、5又
は6記載の半導体記憶装置。
7. The column selection signals (CL 1 , CL 2 ...
7. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the level when CL m + 1 ) is read is higher than the power supply voltage.
【請求項8】リード時には、前記コラム選択信号(CL
1、CL2・・・CLm+1)のリード時のレベルと同一レ
ベルの電圧を出力し、ライト時には、前記コラム選択信
号(CL1、CL2・・・CLm+1)のライト時のレベル
と同一レベルの電圧を出力する電圧発生回路を設け、該
電圧発生回路から出力される電圧に基づいて前記コラム
選択信号(CL1、CL2・・・CLm+1)を生成するこ
とを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6又は7記
載の半導体記憶装置。
8. A column selection signal (CL
1 , CL 2 ... CL m + 1 ) outputs a voltage at the same level as the level at the time of reading, and at the time of writing, at the time of writing the column selection signals (CL 1 , CL 2 ... CL m + 1 ). A voltage generation circuit that outputs a voltage of the same level as the above-mentioned level, and generates the column selection signals (CL 1 , CL 2, ... CL m + 1 ) based on the voltage output from the voltage generation circuit. 8. The semiconductor memory device according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6 or 7.
【請求項9】前記電圧発生回路は、前記コラム選択信号
(CL1、CL2・・・CLm+1)のリード時のレベルと
同一レベルの電圧を出力する第1の電圧発生回路と、前
記コラム選択信号(CL1、CL2・・・CLm+1)のラ
イト時のレベルと同一レベルの電圧を出力する第2の電
圧発生回路と、リード時には、前記第1の電圧発生回路
を出力端に接続すると共に、前記第2の電圧発生回路を
不活性にし、ライト時には、前記第1の電圧発生回路と
前記出力端との接続を切り離すと共に、前記第2の電圧
発生回路を活性化する電圧発生制御回路と、ライト期間
が終了した場合は、前記出力端の電圧を前記コラム選択
信号(CL1、CL2・・・CLm+1)のライト時のレベ
ルと同一レベルの電圧から前記コラム選択信号(C
1、CL2・・・CLm+1)のリード時のレベルと同一
レベルの電圧に強制的にリセットするリセット回路とを
設けて構成されていることを特徴とする請求項1、2、
3、4、5、6、7又は8記載の半導体記憶装置。
9. A first voltage generating circuit which outputs a voltage of the same level as the level at the time of reading the column selection signals (CL 1 , CL 2 ... CL m + 1 ), A second voltage generating circuit that outputs a voltage at the same level as the column selection signals (CL 1 , CL 2, ... CL m + 1 ) at the time of writing, and the first voltage generating circuit at the time of reading The second voltage generation circuit is inactivated while being connected to the output end, and the connection between the first voltage generation circuit and the output end is disconnected and the second voltage generation circuit is activated at the time of writing. And a voltage generation control circuit for controlling the voltage at the output terminal from the voltage at the same level as the column selection signal (CL 1 , CL 2 ... CL m + 1 ) at the time of writing when the write period ends. The column selection signal (C
L 1 , CL 2 ... CL m + 1 ) and a reset circuit for forcibly resetting to a voltage at the same level as the read level.
The semiconductor memory device described in 3, 4, 5, 6, 7 or 8.
【請求項10】第1の電圧を出力する第1の電圧発生回
路と、前記第2の電圧よりも高電圧の第2の電圧を出力
する第2の電圧発生回路と、第1のモード時には、前記
第1の電圧発生回路を出力端に接続すると共に、前記第
2の電圧発生回路を不活性にし、第2のモード時には、
前記第1の電圧発生回路と前記出力端との接続を切り離
すと共に、前記第2の電圧発生回路を活性化する電圧発
生制御回路と、前記第2のモード期間が終了した場合
は、前記出力端の電圧を前記第2の電圧から前記第1の
電圧に強制的にリセットするリセット回路とを設けて構
成されていることを特徴とする電圧発生回路。
10. A first voltage generating circuit which outputs a first voltage, a second voltage generating circuit which outputs a second voltage higher than the second voltage, and in a first mode. , The first voltage generating circuit is connected to the output terminal, the second voltage generating circuit is inactivated, and in the second mode,
A voltage generation control circuit that disconnects the connection between the first voltage generating circuit and the output terminal and activates the second voltage generating circuit, and the output terminal when the second mode period ends. And a reset circuit for forcibly resetting the voltage of 2 from the second voltage to the first voltage.
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