JPH0659539A - Electrostatic latent image forming device and its production - Google Patents

Electrostatic latent image forming device and its production

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JPH0659539A
JPH0659539A JP3216492A JP21649291A JPH0659539A JP H0659539 A JPH0659539 A JP H0659539A JP 3216492 A JP3216492 A JP 3216492A JP 21649291 A JP21649291 A JP 21649291A JP H0659539 A JPH0659539 A JP H0659539A
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JP
Japan
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electrode
electrodes
insulating layer
insulating substrate
latent image
Prior art date
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Pending
Application number
JP3216492A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Suemitsu
裕治 末光
Koji Masuda
晃二 増田
Kazuo Asano
和夫 浅野
Akimasa Komura
晃雅 小村
Koji Nagao
剛次 長尾
Tetsuo Yamada
哲夫 山田
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0659539A publication Critical patent/JPH0659539A/en
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Abstract

PURPOSE:To enable the formation of second electrodes with good dimensional accuracy by first baking the first electrodes and insulating layer formed on an insulating substrate, then forming the second electrodes. CONSTITUTION:The plural driving electrodes 3a, 3b... are formed on the insulating substrate 2 consisting of a ceramic material prior to baking and the first insulating layer 4 is laminated on the insulating substrate 2 formed with the driving electrodes 3a, 3b...; thereafter, the respective members are baked. The plural control electrodes 5a, 5b... and the second insulating layer 9 are successively formed on the baked first insulating substrate and thereafter, the respective members are baked and a screen electrode 11 mounted in the final is provided. The insulating substrate 2 which is shrunk drastically by the baking stage and the driving electrodes 3a, 3b... and first insulating layer 4 formed on such insulating substrate 2 are first baked and thereafter, the control electrodes 5a, 5b... and the second insulating layer 9 are formed. Then, the dimensional change of the insulating substrate 2 at the time of forming the control electrodes 5a, 5b... is obviated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は静電記録に用いられる
静電潜像を形成する装置及びその製造方法に関し、詳し
くはイオン流制御による静電潜像形成装置及びその製造
方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for forming an electrostatic latent image used in electrostatic recording and a method for manufacturing the same, and more particularly to an electrostatic latent image forming apparatus by controlling ion flow and a method for manufacturing the same. .

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来、この種の静電潜像形成装置として
は、次に示すようなものがある。これは、図１１に示す
ように、絶縁基板５０上に駆動電極５１、５１…を互い
に平行に設けるとともに、これらの駆動電極５１、５１
…上に絶縁層５２を介して交差するように制御電極５
４、５４…を設け、駆動電極５１、５１…及び制御電極
５４、５４…によってマトリクスを形成する。また、制
御電極５４、５４…には、２本の細い電極５５、５５を
互いに平行に配置して、両電極５５、５５間にイオン生
成用の空間領域５６を形成する。さらに、上記制御電極
５４、５４…上に、絶縁層５７を介して平板状のスクリ
−ン電極５８を設け、このスクリ−ン電極５８には、図
１２に示すように、制御電極５４の空間領域５６と対応
した位置のみにイオン導出用の円形状の開口部５９、５
９…を設ける。図中、６０は絶縁層５７に設けられた開
口部を示している。2. Description of the Related Art Heretofore, as an electrostatic latent image forming apparatus of this type, there has been the following one. This is because, as shown in FIG. 11, drive electrodes 51, 51, ... Are provided in parallel on an insulating substrate 50, and these drive electrodes 51, 51 are also provided.
... The control electrode 5 is formed so as to intersect with the insulating layer 52 above.
4 are provided, and a matrix is formed by the drive electrodes 51, 51 ... And the control electrodes 54, 54. Further, two thin electrodes 55, 55 are arranged in parallel with each other on the control electrodes 54, 54, ... To form a space region 56 for ion generation between the electrodes 55, 55. Further, a flat plate-shaped screen electrode 58 is provided on the control electrodes 54, 54 ... Through an insulating layer 57, and the screen electrode 58 has a space for the control electrode 54 as shown in FIG. Circular openings 59, 5 for ion derivation only at positions corresponding to the region 56
9 ... is provided. In the figure, 60 indicates an opening provided in the insulating layer 57.

【０００３】そして、上記静電潜像形成装置は、図１２
に示すように、駆動電極５１、５１…と制御電極５４、
５４…との間に高周波高電圧を印加するとともに、制御
電極５４、５４…にイオン制御電圧を、スクリ−ン電極
５８に直流電圧をそれぞれ印加する。こうすることによ
って、駆動電極５１と制御電極５４との間の空間領域５
６において沿面コロナ放電を生起させ、この沿面コロナ
放電によって発生したイオンを、制御電極５４とスクリ
−ン電極５８との電界によって加速もしくは吸収し、イ
オン放出の制御を行い、静電潜像を形成するようになっ
ている。The electrostatic latent image forming apparatus shown in FIG.
, And the control electrodes 54,
A high-frequency high voltage is applied to the control electrodes 54, 54, ..., An ion control voltage is applied to the control electrodes 54, 54 ,. By doing so, the space region 5 between the drive electrode 51 and the control electrode 54 is
6, a creeping corona discharge is generated, and the ions generated by this creeping corona discharge are accelerated or absorbed by the electric field between the control electrode 54 and the screen electrode 58 to control ion emission and form an electrostatic latent image. It is supposed to do.

【０００４】ところで、上記静電潜像形成装置は、図１
３に示すように、次のようにして製造される。By the way, the electrostatic latent image forming apparatus is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, it is manufactured as follows.

【０００５】まず、絶縁基板５０を形成するアルミナ等
からなるセラミックシートであるグリーンシート（焼成
前の状態）（図１３（ａ））上に、図１３（ｂ）に示す
ように、駆動電極５１、５１…をスクリーン印刷等によ
り形成し、この駆動電極５１、５１…が形成されたグリ
ーンシート上に、図１３（ｃ）に示すように、絶縁層５
２をセラミックペーストでスクリーン印刷等により形成
する。その後、この絶縁層５２を形成するグリーンシー
ト上に、図１３（ｄ）に示すように、制御電極５４、５
４…をスクリーン印刷等により形成し、この制御電極５
４、５４…が形成されたグリーンシート上に、図１３
（ｅ）に示すように、絶縁層５７をセラミックペースト
でスクリーン印刷等により形成した後、図１３（ｆ）に
示すように、これらのグリーンシートや電極を焼成す
る。そして、最後に、焼成された基板の表面にステンレ
ス等からなるスクリ−ン電極５８を取付けることによっ
て、静電潜像形成装置が製造される。First, as shown in FIG. 13B, a drive electrode 51 is formed on a green sheet (state before firing) which is a ceramic sheet made of alumina or the like for forming the insulating substrate 50 (FIG. 13A). , 51 ... Is formed by screen printing or the like, and the insulating layer 5 is formed on the green sheet on which the drive electrodes 51, 51 ... Are formed, as shown in FIG.
2 is formed of a ceramic paste by screen printing or the like. Then, as shown in FIG. 13D, the control electrodes 54, 5 are formed on the green sheet forming the insulating layer 52.
4 are formed by screen printing or the like, and the control electrodes 5
13 is formed on the green sheet on which 4, 54 ...
As shown in (e), after the insulating layer 57 is formed by a ceramic paste by screen printing or the like, these green sheets and electrodes are fired as shown in FIG. 13 (f). Then, finally, a screen electrode 58 made of stainless steel or the like is attached to the surface of the fired substrate to manufacture the electrostatic latent image forming device.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来技術
の場合には、次のような問題点を有している。すなわ
ち、上記静電潜像形成装置は、絶縁基板５０、絶縁層５
２及び絶縁層５７を形成するグリーンシートと、駆動電
極５１、５１…及び制御電極５４、５４…を積層して焼
成することによって製造されるため、焼成前後で絶縁基
板５０等を形成するグリーンシートが収縮する。そこ
で、予め絶縁基板５０等の収縮率を見込んで駆動電極５
１、５１…や制御電極５４、５４…を印刷しているが、
収縮率は約１２〜２０％とバラツキが大きいので、焼成
後に所望の寸法を得るのが非常に困難であるという問題
点がある。However, the above-mentioned prior art has the following problems. That is, the electrostatic latent image forming apparatus includes the insulating substrate 50 and the insulating layer 5.
2 and the green sheet forming the insulating layer 57 and the drive electrodes 51, 51 ... And the control electrodes 54, 54 ... Are laminated and fired. Therefore, the green sheet forming the insulating substrate 50 and the like before and after firing. Contracts. Therefore, the shrinkage rate of the insulating substrate 50 or the like is taken into consideration in advance, and the drive electrode 5 is
, 51 and control electrodes 54, 54 are printed,
Since the shrinkage ratio varies greatly from about 12 to 20%, it is very difficult to obtain a desired size after firing.

【０００７】また、上記静電潜像形成装置は、絶縁基板
５０等を形成するグリーンシートや電極５１、５１…、
５４、５４…を焼成した後に、スクリーン電極５８を取
付けて製造される。そのとき、スクリーン電極５８の開
口部５９、５９…と制御電極５４、５４間に形成される
イオン生成用の空間領域５６との位置ずれが大きいと、
スクリーン電極５８の開口部５９、５９…から放出され
るイオン量が減少して出力の低下を来たし、記録画像に
濃度低下、むらやかすれ等を生じるという問題点があ
る。Further, in the electrostatic latent image forming apparatus, the green sheet forming the insulating substrate 50 and the electrodes 51, 51, ...
After firing 54, 54 ..., A screen electrode 58 is attached to manufacture. At that time, if the positional deviation between the openings 59, 59 ... Of the screen electrode 58 and the space region 56 for ion generation formed between the control electrodes 54, 54 is large,
There is a problem that the amount of ions emitted from the openings 59, 59 ... Of the screen electrode 58 is reduced and the output is reduced, and the recorded image is reduced in density, unevenness or blurring.

【０００８】このスクリーン電極５８の開口部５９、５
９…とイオン生成用の空間領域５６との位置ずれは、記
録解像度のピッチの１／２以下であることが望ましく、
例えば記録解像度が２４０ｓｐｉの場合には５０μｍ，
３００ｓｐｉの場合には４０μｍ以下であることが望ま
しいとされている。しかし、絶縁基板５０等を形成する
グリーンシートの収縮率が約１２〜２０％と大きいの
で、スクリーン電極５８の開口部５９、５９…とイオン
生成用の空間領域５６との位置ずれを、記録解像度のピ
ッチの１／２以下にすることが困難であるという問題点
があった。The openings 59, 5 of the screen electrode 58
It is desirable that the positional deviation between 9 ... and the spatial region 56 for ion generation is 1/2 or less of the pitch of the recording resolution,
For example, when the recording resolution is 240 spi, 50 μm,
In the case of 300 spi, it is desirable that the thickness be 40 μm or less. However, since the shrinkage rate of the green sheet forming the insulating substrate 50 and the like is as large as about 12 to 20%, the positional deviation between the openings 59, 59 ... Of the screen electrode 58 and the space region 56 for ion generation is recorded at the recording resolution. However, it is difficult to reduce the pitch to 1/2 or less.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】そこで、この発明は、上
記従来技術の問題点を解決するためになされたもので、
その目的とするところは、基本的に絶縁基板等をセラミ
ックスのグリーンシートを積層して製造した場合でも、
焼成後にスクリーン電極の開口部とイオン生成用の空間
領域との位置決めを高精度に行うことができ、高画質の
画像の記録が可能な静電潜像形成装置を提供することに
ある。Therefore, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art.
The purpose is to basically manufacture an insulating substrate by laminating ceramic green sheets,
It is an object of the present invention to provide an electrostatic latent image forming apparatus capable of accurately positioning an opening of a screen electrode and a space area for ion generation after firing and recording a high quality image.

【００１０】すなわち、この発明の請求項第１項記載の
発明は、絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数の第２
の電極と、絶縁層とを具備し、前記第１の電極と第２の
電極は、前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設けられ、
前記第２の電極は、前記第１の電極と第２の電極との間
に電圧を印加することにより、沿面コロナ放電を生起す
る空間領域を有する静電潜像形成装置において、セラミ
ックス材料からなる焼成前の絶縁基板上に複数の第１の
電極を形成し、前記第１の電極が形成された絶縁基板上
にセラミックス材料からなる焼成前の絶縁層を積層した
後にこれらの部材を焼成し、焼成された絶縁層上に形成
された複数の第２の電極を有するように構成されてい
る。That is, the invention according to claim 1 of the present invention is an insulating substrate, a plurality of first electrodes, and a plurality of second electrodes.
And an insulating layer, the first electrode and the second electrode are provided in a matrix with the insulating layer interposed therebetween.
The second electrode is made of a ceramic material in an electrostatic latent image forming apparatus having a space region where creeping corona discharge is generated by applying a voltage between the first electrode and the second electrode. A plurality of first electrodes are formed on the insulating substrate before firing, and an insulating layer before firing made of a ceramic material is laminated on the insulating substrate on which the first electrodes are formed, and then these members are fired, It is configured to have a plurality of second electrodes formed over the baked insulating layer.

【００１１】また、この発明の請求項第２項記載の発明
は、絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数の第２の電
極と、第３の電極と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層と
を具備し、前記第１の電極と第２の電極は、前記絶縁層
を挟んでマトリクス状に設けられ、前記第２の電極は、
前記第１の電極と第２の電極との間に電圧を印加するこ
とにより、沿面コロナ放電を生起する空間領域を有し、
前記第２の電極との間に前記第２の絶縁層を介在させて
設けられ、前記第３の電極は、前記沿面コロナ放電によ
り生じたイオンを導出するイオン導出領域を具備する静
電潜像形成装置において、セラミックス材料からなる焼
成前の絶縁基板上に複数の第１の電極を形成し、前記第
１の電極が形成された絶縁基板上に、セラミックス材料
からなる焼成前の第１の絶縁層を積層した後にこれらの
部材を焼成し、焼成された第１の絶縁層上に複数の第２
の電極及びセラミックス材料からなる焼成前の第２の絶
縁層を順次形成した後にこれらの部材を焼成し、最後に
取り付けられた第３の電極を有するように構成されてい
る。Further, the invention according to claim 2 of the present invention comprises an insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, a third electrode, and a first insulating layer. , A second insulating layer, the first electrode and the second electrode are provided in a matrix with the insulating layer sandwiched, and the second electrode is
By applying a voltage between the first electrode and the second electrode, there is a space region that causes a creeping corona discharge,
An electrostatic latent image provided with the second insulating layer interposed between the second electrode and the third electrode, the third electrode having an ion derivation region for deducting ions generated by the creeping corona discharge. In the forming apparatus, a plurality of first electrodes are formed on an insulating substrate made of a ceramic material before firing, and a first insulating layer made of a ceramic material before firing is formed on the insulating substrate on which the first electrodes are formed. After laminating the layers, these members are fired to form a plurality of second layers on the fired first insulating layer.
The electrode and the second insulating layer before firing made of a ceramic material are sequentially formed, and then these members are fired to finally have the third electrode attached.

【００１２】さらに、この発明の請求項第３項記載の発
明は、絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数の第２の
電極と、絶縁層とを具備し、前記第１の電極と第２の電
極は、前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設けられ、前
記第２の電極は、前記第１の電極と第２の電極との間に
電圧を印加することにより、沿面コロナ放電を生起する
空間領域を有する静電潜像形成装置において、絶縁基板
をセラミックス材料によって形成し、少なくともセラミ
ックス材料からなる絶縁基板を焼成した後に、形成され
た複数の第１の電極等を有するように構成されている。Further, the invention according to claim 3 of the present invention comprises an insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes and an insulating layer, and the first electrode And a second electrode are provided in a matrix with the insulating layer sandwiched therebetween, and the second electrode applies a voltage between the first electrode and the second electrode to generate a surface corona discharge. In an electrostatic latent image forming apparatus having a space region that causes a phenomenon, an insulating substrate is formed of a ceramic material, and after firing the insulating substrate made of at least the ceramic material, a plurality of first electrodes and the like are formed. It is configured.

【００１３】また、この発明の請求項第４項記載の発明
は、絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数の第２の電
極と、絶縁層とを具備し、前記第１の電極と第２の電極
は、前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設けられ、前記
第２の電極は、前記第１の電極と第２の電極との間に電
圧を印加することにより、沿面コロナ放電を生起する空
間領域を有する静電潜像形成装置の製造方法において、
セラミック材料からなる焼成前の絶縁基板上に複数の第
１の電極を形成し、前記第１の電極が形成された絶縁基
板上にセラミックス材料からなる焼成前の絶縁層を積層
した後にこれらの部材を焼成し、焼成された絶縁層上に
複数の第２の電極を形成するように構成されている。The invention according to claim 4 of the present invention comprises an insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, and an insulating layer, and the first electrode. And a second electrode are provided in a matrix with the insulating layer sandwiched therebetween, and the second electrode applies a voltage between the first electrode and the second electrode to generate a surface corona discharge. In a method of manufacturing an electrostatic latent image forming device having a spatial region that causes
A plurality of first electrodes are formed on an insulating substrate made of a ceramic material before firing, and an insulating layer made of a ceramic material before firing is laminated on the insulating substrate having the first electrodes formed thereon. Is fired, and a plurality of second electrodes are formed on the fired insulating layer.

【００１４】さらに、この発明の請求項第５項記載の発
明は、絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数の第２の
電極と、第３の電極と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層
とを具備し、前記第１の電極と第２の電極は、前記絶縁
層を挟んでマトリクス状に設けられ、前記第２の電極
は、前記第１の電極と第２の電極との間に電圧を印加す
ることにより、沿面コロナ放電を生起する空間領域を有
し、前記第２の電極との間に前記第２の絶縁層を介在さ
せて設けられ、前記第３の電極は、前記沿面コロナ放電
により生じたイオンを導出するイオン導出領域を具備す
る静電潜像形成装置の製造方法において、セラミックス
材料からなる焼成前の絶縁基板上に複数の第１の電極を
形成し、前記第１の電極が形成された絶縁基板上に、セ
ラミックス材料からなる焼成前の第１の絶縁層を積層し
た後にこれらの部材を焼成し、焼成された第１の絶縁層
上に複数の第２の電極及びセラミックス材料からなる焼
成前の第２の絶縁層を順次形成した後にこれらの部材を
焼成し、最後に第３の電極を取り付けるように構成され
ている。Further, the invention according to claim 5 of the present invention comprises an insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, a third electrode, and a first insulating layer. A second insulating layer, the first electrode and the second electrode are provided in a matrix with the insulating layer sandwiched therebetween, and the second electrode is provided with the first electrode and the second electrode. A space region in which a creeping corona discharge is generated by applying a voltage between the second electrode and the second electrode, and the third insulating layer is provided between the second electrode and the third electrode. In the method of manufacturing an electrostatic latent image forming apparatus, which comprises an ion derivation region that deduces ions generated by the surface corona discharge, a plurality of first electrodes are formed on an insulating substrate made of a ceramic material before firing. A ceramic material on the insulating substrate on which the first electrode is formed. After laminating the first insulating layer before firing, these members are fired, and a plurality of second electrodes and a second insulating layer before firing made of a ceramic material are provided on the fired first insulating layer. These members are fired after being sequentially formed, and finally the third electrode is attached.

【００１５】また、この発明の請求項第６項記載の発明
は、絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数の第２の電
極と、絶縁層とを具備し、前記第１の電極と第２の電極
は、前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設けられ、前記
第２の電極は、前記第１の電極と第２の電極との間に電
圧を印加することにより、沿面コロナ放電を生起する空
間領域を有する静電潜像形成装置において、絶縁基板を
セラミックス材料によって形成し、少なくともセラミッ
クス材料からなる絶縁基板を焼成した後に、複数の第１
の電極等を形成するように構成されている。The invention according to claim 6 of the present invention comprises an insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, and an insulating layer, and the first electrode. And a second electrode are provided in a matrix with the insulating layer sandwiched therebetween, and the second electrode applies a voltage between the first electrode and the second electrode to generate a surface corona discharge. In an electrostatic latent image forming apparatus having a space area that causes a plurality of first and second insulating substrates, the insulating substrate is made of a ceramic material, and after firing the insulating substrate made of at least the ceramic material, a plurality of first
The electrodes and the like are formed.

【００１６】上記絶縁基板及び絶縁層を形成するセラミ
ックス材料としては、例えばアルミナやジルコニア等が
用いられるが、これらのセラミック材料は、焼成前のい
わゆるグリーンシートの状態で電極の形成などが行われ
る。上記グリーンシート材料としては、例えばアルミナ
（Ａｌ2 Ｏ 3）粉末に焼成助剤（ＳｉＯ2 ，ＭｇＯ，Ｃ
ａＯ等）を添加して、更に成形に必要な有機バインダや
可塑剤・分散剤等を添加したものが用いられる。As the ceramic material for forming the insulating substrate and the insulating layer, for example, alumina, zirconia or the like is used. These ceramic materials are used for forming electrodes in a so-called green sheet state before firing. As the green sheet material, for example, alumina (Al 2 O 3 ) powder is added to a firing aid (SiO 2 , MgO, C).
(aO, etc.) is added, and further, an organic binder, a plasticizer, a dispersant, etc. necessary for molding are added.

【００１７】また、上記第１の電極としては、例えばタ
ングステン（Ｗ），モリブデン（Ｍｏ），タングステン
マンガン（Ｗ・Ｍｎ），モリブデンマンガン（Ｍｏ・Ｍ
ｎ）等の焼結金属導体からなるものが用いられる。As the first electrode, for example, tungsten (W), molybdenum (Mo), tungsten manganese (W.Mn), molybdenum manganese (Mo.M) is used.
n) or the like made of a sintered metal conductor is used.

【００１８】上記静電潜像形成装置は、従来は印刷積層
法またはシート積層法と呼ばれる方法によって製造され
ていた。ここで、印刷積層法とは、基板となる厚さの比
較的厚いグリーンシート上に第１の電極をスクリーン印
刷等により形成し、この第１の電極が形成された基板上
に、絶縁層をやはりスクリーン印刷等により積層形成
し、更に、この絶縁層上に第２の電極をスクリーン印刷
等により形成して製造する方法をいう。また、シート積
層法とは、基板となる厚さの比較的薄いグリーンシート
上に電極をスクリーン印刷等により形成してこれを乾燥
させたものを、複数枚積層加圧して多層化することによ
り製造する方法をいう。The above-mentioned electrostatic latent image forming device is conventionally manufactured by a method called a printing laminating method or a sheet laminating method. Here, the print lamination method is to form a first electrode on a green sheet having a relatively large thickness as a substrate by screen printing or the like, and form an insulating layer on the substrate on which the first electrode is formed. It also refers to a method in which a laminate is formed by screen printing or the like, and a second electrode is further formed on this insulating layer by screen printing or the like to manufacture. The sheet stacking method is a method in which electrodes are formed by screen printing on a relatively thin green sheet to be a substrate and dried, and a plurality of sheets are stacked and pressed to form a multilayer structure. Say how to do.

【００１９】上記印刷積層法またはシート積層法は、と
もに上記の如く形成された基板を、還元雰囲気中で高温
で焼成することによって、最終的に静電潜像形成装置を
得るものである。その際、電極が形成されて積層された
グリーンシートは、焼成することによって約１２〜２０
数％も収縮するため、焼成前の寸法は、予め収縮率を見
込んで所望の焼成後の寸法となるように設定される。In both the printing lamination method and the sheet lamination method, the substrate formed as described above is baked at a high temperature in a reducing atmosphere to finally obtain an electrostatic latent image forming device. At that time, the green sheet on which the electrodes are formed and stacked is about 12 to 20 by firing.
Since it shrinks by several percent, the dimension before firing is set so as to have a desired dimension after firing in consideration of the shrinkage rate.

【００２０】[0020]

【作用】この発明の請求項第１項記載の発明において
は、セラミックス材料からなる焼成前の絶縁基板上に複
数の第１の電極を形成し、前記第１の電極が形成された
絶縁基板上にセラミックス材料からなる焼成前の絶縁層
を積層した後にこれらの部材を焼成し、焼成された絶縁
層上に形成された複数の第２の電極を有するように構成
されているので、焼成工程によって大幅に収縮する絶縁
基板と、この絶縁基板上に形成される第１の電極及び絶
縁層とを先に焼成した後に、第２の電極を形成するた
め、第２の電極を形成する際に絶縁基板の寸法が変化す
ることはなく、第２の電極を寸法精度良く形成すること
ができ、高精度に静電潜像形成装置を製造することがで
きる。According to the first aspect of the present invention, a plurality of first electrodes are formed on an insulating substrate made of a ceramic material before firing, and the insulating substrate is provided with the first electrodes. These members are fired after laminating an insulating layer made of a ceramic material before firing, and the firing process is performed because the plurality of second electrodes are formed on the fired insulating layer. Since the second substrate is formed after first firing the insulating substrate that contracts significantly and the first electrode and the insulating layer formed on the insulating substrate, insulating the second electrode when forming the second electrode. The size of the substrate does not change, the second electrode can be formed with high dimensional accuracy, and the electrostatic latent image forming apparatus can be manufactured with high accuracy.

【００２１】また、この発明の請求項第２項記載の発明
においては、セラミックス材料からなる焼成前の絶縁基
板上に複数の第１の電極を形成し、前記第１の電極が形
成された絶縁基板上に、セラミックス材料からなる焼成
前の第１の絶縁層を積層した後にこれらの部材を焼成
し、焼成された第１の絶縁層上に複数の第２の電極及び
第２の絶縁層を順次形成した後にこれらの部材を焼成
し、最後に取り付けられた第３の電極を有するように構
成されているので、焼成工程によって大幅に収縮する絶
縁基板と、この絶縁基板上に形成される第１の電極及び
絶縁層とを先に焼成した後に、第２の電極及び第２の絶
縁層を形成するため、第２の電極を形成する際に絶縁基
板の寸法が変化することはなく、第２の電極を寸法精度
良く形成することができ、第２の電極と第２の絶縁層上
に取り付けられる第３の電極との間に位置ずれが生じる
のを防止することができる。従って、第３の電極のイオ
ン導出領域と第２の電極の放電生起空間領域の位置ずれ
が起きないので、出力の低下に伴う記録画像の濃度低下
や、むら、かすれ等が発生せず高画質の記録画像が得ら
れる。According to the second aspect of the present invention, a plurality of first electrodes are formed on an insulating substrate made of a ceramic material before firing, and the first electrode is formed on the insulating substrate. After laminating a first insulating layer made of a ceramic material on the substrate before firing, these members are fired, and a plurality of second electrodes and second insulating layers are provided on the fired first insulating layer. Since these members are fired after being sequentially formed, and the third electrode is finally attached, the insulating substrate that shrinks significantly during the firing process and the first electrode formed on the insulating substrate. Since the second electrode and the second insulating layer are formed after the first electrode and the insulating layer are first fired, the dimensions of the insulating substrate do not change when the second electrode is formed. It is possible to form the second electrode with high dimensional accuracy. , It is possible to prevent the positional deviation between the second electrode and the third electrode attached to the second insulating layer occurs. Therefore, since the ion derivation region of the third electrode and the discharge generation space region of the second electrode do not shift in position, the density of the recorded image is not reduced due to the reduction in output, and unevenness, blurring, etc. do not occur and high image quality is achieved. The recorded image of is obtained.

【００２２】さらに、この発明の請求項第１項及び第２
項記載の発明においては、絶縁層を積層形成しているの
で、放電部に充分な耐圧を有し且つ耐放電特性に優れた
セラミックス材料を用いることができるため、長寿命で
信頼性の高い静電潜像形成装置が得られる。また、電極
や絶縁層等を印刷を用いた方法等によって形成すること
ができ、大量生産に適しており、安価に静電潜像形成装
置を提供することができるとともに、静電潜像形成装置
自体が静電記録装置内で加熱された場合でも、耐熱特性
を備えた信頼性の高い静電潜像形成装置を作成すること
ができる。さらに、寸法安定性に優れているので、均一
な放電が行え、画像のムラ等が発生しない静電潜像形成
装置を作成することができる。Further, claim 1 and claim 2 of the present invention
In the invention described in the paragraph (3), since the insulating layers are laminated, a ceramic material having a sufficient withstand voltage and excellent discharge resistance characteristics can be used in the discharge part, so that a long-life and highly reliable static material can be used. An electrostatic latent image forming device is obtained. Further, the electrodes, the insulating layer, and the like can be formed by a method using printing, etc., which is suitable for mass production, and an electrostatic latent image forming apparatus can be provided at low cost, and at the same time, an electrostatic latent image forming apparatus can be provided. Even when the apparatus itself is heated in the electrostatic recording apparatus, a highly reliable electrostatic latent image forming apparatus having heat resistance characteristics can be produced. Furthermore, since the dimensional stability is excellent, it is possible to produce an electrostatic latent image forming apparatus that can perform uniform discharge and that does not cause image unevenness.

【００２３】尚、請求項第３項以降に記載の発明におい
ても、上記と同様の作用を有するものである。The inventions set forth in the third and subsequent aspects also have the same effects as described above.

【００２４】[0024]

【実施例】以下にこの発明を図示の実施例に基づいて説
明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to illustrated embodiments.

【００２５】図１乃至図４はこの発明に係る静電潜像形
成装置の一実施例を示すものである。図において、１は
静電潜像形成装置としての記録ヘッドであり、この記録
ヘッド１は、アルミナ等のセラミックス基板からなる平
面長方形状の絶縁基板２を備えている。この絶縁基板２
の表面には、複数の駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…がその
長手方向に沿って互いに平行に設けられており、駆動電
極３ａ、３ｂ、３ｃ…の端部は、絶縁基板２の幅方向両
端側に折曲されている。上記駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ
…は、絶縁基板２上にタングステン等の金属を、スクリ
−ン印刷法などによりパタ−ン印刷することによって形
成される。駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…の厚みは、５〜
４０μｍに設定され、更に好ましくは１０〜２０μｍに
設定される。また、駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…相互間
の距離は、１００〜５００μｍに設定され、好ましくは
２００〜４００μｍに設定される。図中、３ａ’、３
ｂ’、３ｃ’…は、駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…の端部
に設けられた給電部を示している。1 to 4 show an embodiment of the electrostatic latent image forming apparatus according to the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a recording head as an electrostatic latent image forming apparatus, and this recording head 1 is provided with an insulating substrate 2 having a planar rectangular shape made of a ceramic substrate such as alumina. This insulating substrate 2
A plurality of drive electrodes 3a, 3b, 3c ... Are provided in parallel with each other along the lengthwise direction, and the ends of the drive electrodes 3a, 3b, 3c. It has been bent to the side. The drive electrodes 3a, 3b, 3c
Are formed by pattern printing a metal such as tungsten on the insulating substrate 2 by a screen printing method or the like. The thickness of the drive electrodes 3a, 3b, 3c ...
The thickness is set to 40 μm, more preferably 10 to 20 μm. Further, the distance between the drive electrodes 3a, 3b, 3c ... Is set to 100 to 500 μm, and preferably set to 200 to 400 μm. 3a ', 3 in the figure
Reference numerals b ', 3c' ... Show the power supply portions provided at the ends of the drive electrodes 3a, 3b, 3c.

【００２６】上記駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…上には、
アルミナ等のセラミックシ−トであるグリ−ンシ−トか
らなる絶縁層４が積層され、絶縁層４の厚みは、１０〜
５０μｍ、好ましくは２０〜３０μｍに設定される。こ
の絶縁層４は、図４に示すように、幅が絶縁基板２と等
しく、長さが絶縁基板２よりも短く形成されていると共
に、この絶縁層４の長手方向両端部４ａ，４ｂは、駆動
電極３ａ、３ｂ、３ｃ…の給電部３ａ’、３ｂ’、３
ｃ’…を残して駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…の表面全部
を覆うように凸形状に形成されている。On the drive electrodes 3a, 3b, 3c ...
An insulating layer 4 made of a green sheet which is a ceramic sheet such as alumina is laminated, and the thickness of the insulating layer 4 is 10 to 10.
It is set to 50 μm, preferably 20 to 30 μm. As shown in FIG. 4, the insulating layer 4 has a width equal to that of the insulating substrate 2 and a length shorter than that of the insulating substrate 2, and both ends 4a and 4b in the longitudinal direction of the insulating layer 4 are The power supply portions 3a ', 3b', 3 of the drive electrodes 3a, 3b, 3c ...
are formed in a convex shape so as to cover the entire surfaces of the drive electrodes 3a, 3b, 3c, ...

【００２７】上記絶縁層４上には、駆動電極３ａ、３
ｂ、３ｃ…と所定の角度をなして交差しマトリクスを構
成するように、制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…が設けられ
ている。このように、駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…と制
御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…とがマトリクスを構成するよ
うに設けられているため、駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…
と制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…との交点である放電生成
位置が、記録ヘッド１の長手方向に沿って所定の密度例
えば１インチあたり２４０ｄｏｔの密度で配列するよう
に設定されている。On the insulating layer 4, drive electrodes 3a, 3
Control electrodes 5a, 5b, 5c ... Are provided so as to intersect with b, 3c ... At a predetermined angle to form a matrix. Thus, the drive electrodes 3a, 3b, 3c ... And the control electrodes 5a, 5b, 5c ... Are provided so as to form a matrix, so that the drive electrodes 3a, 3b, 3c.
, Which are intersections of the control electrodes 5a, 5b, 5c, ... Are arranged so as to be arranged along the longitudinal direction of the recording head 1 at a predetermined density, for example, a density of 240 dots per inch.

【００２８】これらの制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…は、
タングステン等の金属を、スクリ−ン印刷法などにより
パタ−ン印刷することによって形成される。制御電極５
ａ、５ｂ、５ｃ…の厚みは、駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ
…と同様、５〜４０μｍに設定され、更に好ましくは１
０〜２０μｍに設定される。上記制御電極５ａ、５ｂ、
５ｃ…は、２本の細い電極６、６を互いに平行に配置
し、両電極６、６間にイオン生成用の空間領域７を形成
して構成されているとともに、両電極６、６の一端部８
をＵ字形状に互いに接続して、平面略音叉型に形成され
ている。また、制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…は、そのＵ
字形状に形成された接続部８、８…が、絶縁基板２の幅
方向反対側に交互に位置するように形成されている。図
中、５ａ’、５ｂ’、５ｃ’…は、駆動電極５ａ、５
ｂ、５ｃ…の端部に設けられた給電部を示している。These control electrodes 5a, 5b, 5c ...
It is formed by pattern printing a metal such as tungsten by a screen printing method or the like. Control electrode 5
The thicknesses of a, 5b, 5c ... Are the drive electrodes 3a, 3b, 3c.
Similarly to the above, it is set to 5 to 40 μm, more preferably 1
It is set to 0 to 20 μm. The control electrodes 5a, 5b,
5c ... is configured by arranging two thin electrodes 6 and 6 in parallel with each other and forming a space region 7 for ion generation between the electrodes 6 and 6, and one end of both electrodes 6 and 6 is formed. Part 8
Are connected to each other in a U shape, and are formed into a substantially flat tuning fork type. Further, the control electrodes 5a, 5b, 5c ...
The connecting portions 8, 8 ... Formed in a V shape are formed so as to be alternately located on the opposite sides of the insulating substrate 2 in the width direction. In the figure, 5a ', 5b', 5c '... are drive electrodes 5a, 5
It shows a power feeding portion provided at the ends of b, 5c ....

【００２９】上記制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…上には、
図２にも示すように、アルミナ等のセラミックスシ−ト
であるグリ−ンシ−トからなる絶縁層９が積層されてお
り、この絶縁層９は、スクリ−ン印刷法などにより絶縁
基板２より幅及び長さが短く形成されている。また、こ
の絶縁層９には、制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…の空間領
域７、７…に対応した部分に、空間領域７、７…に沿っ
た細長い長円形状の開口部１０、１０…が形成されてい
る。上記絶縁層９、９…の厚みは、１０〜５０μｍに設
定される。On the control electrodes 5a, 5b, 5c ...
As shown in FIG. 2, an insulating layer 9 made of a green sheet which is a ceramic sheet of alumina or the like is laminated, and the insulating layer 9 is formed on the insulating substrate 2 by a screen printing method or the like. The width and the length are short. Further, in the insulating layer 9, in the portions corresponding to the spatial regions 7, 7 of the control electrodes 5a, 5b, 5c ..., The elongated oval openings 10, 10, ... Along the spatial regions 7, 7 ... Are formed. The thickness of the insulating layers 9, 9 ... Is set to 10 to 50 μm.

【００３０】さらに、上記絶縁層９、９…の表面には、
図２に示すように、スペーサ部材３０を介して第３の電
極としてのスクリ−ン電極１１が設けられている。この
スクリ−ン電極１１は、図１及び図２に示すように、駆
動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…と制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ
…との交差位置に対応した位置のみに、イオン導出用の
円形状の開口部１２、１２…が設けられている。Further, on the surface of the insulating layers 9, 9 ...
As shown in FIG. 2, a screen electrode 11 as a third electrode is provided via a spacer member 30. As shown in FIGS. 1 and 2, the screen electrode 11 includes drive electrodes 3a, 3b, 3c ... And control electrodes 5a, 5b, 5c.
The circular openings 12, 12 for ion derivation are provided only at the positions corresponding to the intersecting positions with.

【００３１】ところで、上記の如く構成される記録ヘッ
ド１は、次のようにして製造される。すなわち、絶縁基
板２を構成するベースグリーンシートとしては、図５
（ａ）に示すように、例えば幅４０ｍｍ、長さ２００ｍ
ｍ、厚さ１ｍｍの純度９６％のアルミナ、ジルコニア等
からなるグリーンシートが用いられる。このグリーンシ
ートは、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ 3）粉末に焼成助剤（Ｓｉ
Ｏ2 ，ＭｇＯ，ＣａＯ等）を添加して、更に成形に必要
な有機バインダや可塑剤・分散剤等を添加したものが用
いられる。そして、上記絶縁基板２を構成するグリーン
シートは、グリーンシート材料をプレス機によってプレ
ス成形するプレス法、グリーンシート材料を一対のロー
ル間を通過させることにより成形するロール法、グリー
ンシート材料をブレードを用いて所定の形状に成形する
ブレード法等により、上記の如く所定のシート状に成形
される。The recording head 1 constructed as described above is manufactured as follows. That is, as the base green sheet that constitutes the insulating substrate 2, as shown in FIG.
As shown in (a), for example, width 40 mm, length 200 m
A green sheet made of alumina, zirconia, etc. having a purity of 96% and a thickness of 1 mm is used. This green sheet is made by adding alumina (Al 2 O 3 ) powder to a firing aid (Si
(O 2 , MgO, CaO, etc.) is added, and further, an organic binder, a plasticizer, a dispersant, etc. necessary for molding are added. The green sheet forming the insulating substrate 2 is formed by a pressing method in which the green sheet material is press-molded by a pressing machine, a roll method in which the green sheet material is formed by passing between a pair of rolls, and a green sheet material by a blade. The sheet is formed into a predetermined sheet as described above by a blade method or the like for forming the sheet into a predetermined shape.

【００３２】その後、上記の如く成形される比較的厚さ
の厚い絶縁基板２を構成するグリーンシート上に、図５
（ｂ）に示すように、タングステン、モリブデン、タン
グステンマンガン、モリブデンマンガン等の焼結金属導
体等からなる導体ペーストをスクリ−ン印刷法によって
所定の形状に印刷することにより、駆動電極３ａ、３
ｂ、３ｃ…を形成する。この駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ
…は、例えば幅が２００μｍ，厚さが２０μｍに形成さ
れる。Thereafter, the green sheet forming the relatively thick insulating substrate 2 formed as described above is formed on the green sheet shown in FIG.
As shown in (b), a conductive paste made of a sintered metal conductor such as tungsten, molybdenum, tungsten-manganese, or molybdenum-manganese is printed in a predetermined shape by a screen printing method to form the drive electrodes 3a, 3a.
b, 3c ... The drive electrodes 3a, 3b, 3c
Are formed to have a width of 200 μm and a thickness of 20 μm, for example.

【００３３】そして、上記駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…
が形成されたグリーンシート上に、絶縁基板２を構成す
るグリーンシートと同じ材質で粘度をコントロールした
絶縁体であるアルミナペーストを、図５（ｃ）に示すよ
うに、スクリ−ン印刷法によって所定の形状に印刷する
ことにより、絶縁層４を例えば厚さ３０μｍに積層形成
する。The drive electrodes 3a, 3b, 3c ...
On the green sheet on which is formed an alumina paste, which is an insulator of the same material as the green sheet forming the insulating substrate 2 and whose viscosity is controlled, is predetermined by a screen printing method as shown in FIG. 5C. The insulating layer 4 is laminated to have a thickness of 30 μm, for example, by printing in the shape of.

【００３４】この状態で、積層された多層のグリーンシ
ートを、所定の圧力で押圧することによって圧着した
後、還元雰囲気炉で１５００〜１６００℃の温度で数十
時間焼成することによって、図５（ｄ）に示すように、
絶縁基板２、駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…、絶縁層４が
所定の形状に一体的に形成される。In this state, the laminated multi-layered green sheets are pressure-bonded by pressing at a predetermined pressure, and then fired at a temperature of 1500 to 1600 ° C. for several tens of hours in a reducing atmosphere furnace. As shown in d)
The insulating substrate 2, the drive electrodes 3a, 3b, 3c, ..., The insulating layer 4 are integrally formed in a predetermined shape.

【００３５】その際、焼成工程によって絶縁基板２等に
収縮が発生するが、寸法精度が要求される制御電極５
ａ、５ｂ、５ｃ…はまだ形成されていないので、制御電
極５ａ、５ｂ、５ｃ…は焼成工程による収縮によって寸
法精度に影響を受けることはない。At that time, although the insulating substrate 2 or the like contracts due to the firing process, the control electrode 5 requiring dimensional accuracy.
Since a, 5b, 5c ... Are not formed yet, the dimensional accuracy of the control electrodes 5a, 5b, 5c ... Is not affected by shrinkage due to the firing process.

【００３６】次に、上記の如く焼成された絶縁層４上
に、図５（ｅ）に示すように、低スパッタリング率の金
属、酸化等に強い金属、導電性無機化合物が望ましく、
ニッケル、クロム、アルミ、金、白金、ルテニウム等の
金属、又はそれらの化合物等からなる導体ペーストをス
クリ−ン印刷法によって所定の形状に印刷することによ
り、制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…を形成する。これらの
制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…は、例えば空間領域７、７
…の間隔が２００μｍ、厚さが２０μｍに形成され、各
制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…は、例えば焼成後の隣接間
隔が約０．５ｍｍとなるように設定される。Next, as shown in FIG. 5 (e), a metal having a low sputtering rate, a metal resistant to oxidation or the like, and a conductive inorganic compound are desirable on the insulating layer 4 fired as described above.
Control electrodes 5a, 5b, 5c ... Are formed by printing a conductor paste made of a metal such as nickel, chromium, aluminum, gold, platinum, ruthenium, or a compound thereof into a predetermined shape by a screen printing method. To do. These control electrodes 5a, 5b, 5c ...
Are formed with a thickness of 200 μm and a thickness of 20 μm, and the control electrodes 5a, 5b, 5c, ... Are set so that the adjacent spacing after firing is, for example, about 0.5 mm.

【００３７】このように、絶縁層４上に形成された導体
ペーストからなる制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…は、数百
℃の温度で数時間焼成することによって、図５（ｆ）に
示すように、絶縁層４上に制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…
が形成される。このとき、焼成を行っても絶縁層４を含
む基板は既に焼成されており、絶縁基板２や絶縁層４は
収縮を起こさないため、寸法精度が要求される制御電極
５ａ、５ｂ、５ｃ…は、位置ずれを起こすことがなく高
精度に形成することができる。As shown in FIG. 5 (f), the control electrodes 5a, 5b, 5c ... Formed on the insulating layer 4 and made of the conductor paste are fired at a temperature of several hundreds of degrees Celsius for several hours. On the insulating layer 4, the control electrodes 5a, 5b, 5c ...
Is formed. At this time, since the substrate including the insulating layer 4 has already been fired even if firing is performed, and the insulating substrate 2 and the insulating layer 4 do not shrink, the control electrodes 5a, 5b, 5c ... It can be formed with high accuracy without causing positional displacement.

【００３８】その後、上記制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…
が形成された絶縁層４上に、図５（ｇ）に示すように、
結晶化ガラス又はガラス・セラミックス複合材料からな
るペーストを印刷することにより、絶縁層９を例えば厚
さ２０μｍに積層形成する。形成後、数百℃の温度で数
時間焼成することによって、絶縁基板２、駆動電極３
ａ、３ｂ、３ｃ…、絶縁層４、制御電極５ａ、５ｂ、５
ｃ…が形成された基板上に，図５（ｈ）に示すように、
絶縁層９が所定の形状に一体的に形成される。After that, the control electrodes 5a, 5b, 5c ...
As shown in FIG. 5G, on the insulating layer 4 on which the
By printing a paste made of crystallized glass or a glass-ceramic composite material, the insulating layer 9 is laminated to have a thickness of 20 μm, for example. After the formation, the insulating substrate 2 and the drive electrode 3 are baked by baking at a temperature of several hundreds of degrees Celsius for several hours.
a, 3b, 3c ..., Insulating layer 4, control electrodes 5a, 5b, 5
As shown in FIG. 5 (h) on the substrate on which c ... Is formed,
The insulating layer 9 is integrally formed in a predetermined shape.

【００３９】その際、焼成を行っても絶縁層４や制御電
極５ａ、５ｂ、５ｃ…を含む基板は既に焼成されてお
り、絶縁基板２、絶縁層４や制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ
…は収縮を起こさないため、寸法精度が要求される絶縁
層９も、位置ずれを起こすことがなく高精度に形成する
ことができる。At this time, the substrate including the insulating layer 4 and the control electrodes 5a, 5b, 5c ... Has already been baked even after the firing, and the insulating substrate 2, the insulating layer 4 and the control electrodes 5a, 5b, 5c.
Since .. does not shrink, the insulating layer 9, which requires dimensional accuracy, can be formed with high accuracy without causing positional displacement.

【００４０】なお、上記の如く焼成されたアルミナセラ
ミックス多層板は、タングステンからなる駆動電極３
ａ、３ｂ、３ｃ…及び制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…の酸
化を防止するため、駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…及び制
御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…の露出部にニッケルメッキ等
を施すようにしてもよい。The alumina ceramic multi-layer plate fired as described above is the drive electrode 3 made of tungsten.
In order to prevent the a, 3b, 3c ... And the control electrodes 5a, 5b, 5c ... From being oxidized, the exposed portions of the drive electrodes 3a, 3b, 3c ... And the control electrodes 5a, 5b, 5c. May be.

【００４１】最後に、上記の如く焼成されたアルミナセ
ラミックスの多層板の絶縁層９上に、スクリーン電極１
１を所定の位置に重ねて記録ヘッド１が製造される。こ
のスクリーン電極１１は、例えば厚さ３０μｍのステン
レス鋼板にフォトエッチングにて直径１５０μｍの複数
の開口部１２、１２…を開けて形成される。上記スクリ
ーン電極１１は、図２に示すように、制御電極５ａ、５
ｂ、５ｃ…からの距離が一定となるように、適当なスペ
ーサ部材を介してアルミナセラミックスの多層板上に貼
着等の手段によって取り付けられる。Finally, the screen electrode 1 is formed on the insulating layer 9 of the alumina ceramic multilayer plate fired as described above.
The recording head 1 is manufactured by stacking 1 on a predetermined position. The screen electrode 11 is formed, for example, by opening a plurality of openings 12, 12, ... With a diameter of 150 μm by photoetching on a stainless steel plate having a thickness of 30 μm. As shown in FIG. 2, the screen electrode 11 has control electrodes 5a, 5
It is attached by a means such as sticking on a multilayer plate of alumina ceramics via an appropriate spacer member so that the distance from b, 5c ... Is constant.

【００４２】そして、上記記録ヘッド１は、図２に示す
ように、駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…に交流電源２０に
より高周波高電圧を印加するとともに、制御電極５ａ、
５ｂ、５ｃ…に電源２１によりイオン制御電圧を、スク
リ−ン電極１１に直流電源２２により直流電圧をそれぞ
れ印加する。こうすることによって、選択的に電圧が印
加される駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…と制御電極５ａ、
５ｂ、５ｃ…との間の空間領域７において沿面コロナ放
電を生起させ、この沿面コロナ放電によって発生したイ
オンを、制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…とスクリ−ン電極
１１との電界によって加速もしくは吸収し、イオン放出
の制御を行い、静電潜像を形成するようになっている。As shown in FIG. 2, the recording head 1 applies a high frequency high voltage to the drive electrodes 3a, 3b, 3c, ...
An ion control voltage is applied to 5b, 5c ... By a power supply 21, and a DC voltage is applied to the screen electrode 11 by a DC power supply 22. By doing so, the drive electrodes 3a, 3b, 3c ... And the control electrode 5a, to which the voltage is selectively applied,
The creeping corona discharge is generated in the space region 7 between the control electrodes 5a, 5b, 5c, ... And the screen electrode 11, and the ions generated by the creeping corona discharge are accelerated or absorbed. Then, the emission of ions is controlled to form an electrostatic latent image.

【００４３】図２中、２３は静電潜像が形成される誘電
体ドラムを示している。なお、スクリーン電極１１と誘
電体ドラム２３との距離は、１００〜４００μｍに、好
ましくは２００〜３００μｍに設定される。In FIG. 2, reference numeral 23 denotes a dielectric drum on which an electrostatic latent image is formed. The distance between the screen electrode 11 and the dielectric drum 23 is set to 100 to 400 μm, preferably 200 to 300 μm.

【００４４】このように、セラミックス材料からなる焼
成前の絶縁基板２上に複数の駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ
…を形成し、前記駆動電極３ａ、３ｂ、３ｃ…が形成さ
れた絶縁基板２上に、第１の絶縁層４を積層した後にこ
れらの部材を焼成し、焼成された第１の絶縁層４上に複
数の制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…及び第２の絶縁層９を
順次形成した後にこれらの部材を焼成し、最後に取り付
けられたスクリーン電極１１を有するように構成されて
いるので、焼成工程によって大幅に収縮する絶縁基板２
と、この絶縁基板２上に形成される駆動電極３ａ、３
ｂ、３ｃ…及び第１の絶縁層４とを先に焼成した後に、
制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…及び第２の絶縁層９を形成
するため、制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…を形成する際に
絶縁基板２の寸法が変化することはなく、制御電極５
ａ、５ｂ、５ｃ…を寸法精度良く形成することができ、
制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…及び第２の絶縁層９上に取
り付けられるスクリーン電極１１との間に位置ずれが生
じるのを防止することができる。従って、スクリーン電
極１１のイオン導出用開口部１２、１２…と制御電極５
ａ、５ｂ、５ｃ…のイオン生成用の空間領域７、７…の
位置ずれが起きないので、出力の低下に伴う記録画像の
濃度低下や、むら、かすれ等が発生せず高画質の記録画
像が得られる。As described above, the plurality of drive electrodes 3a, 3b, 3c are formed on the insulating substrate 2 made of a ceramic material before firing.
Are formed and the first insulating layer 4 is laminated on the insulating substrate 2 on which the drive electrodes 3a, 3b, 3c are formed, and then these members are baked, and the baked first insulating layer 4 is formed. After the plurality of control electrodes 5a, 5b, 5c ... And the second insulating layer 9 are sequentially formed thereon, these members are fired, and the screen electrode 11 finally attached is configured to be fired. Insulating substrate 2 that shrinks significantly depending on the process
And the drive electrodes 3a, 3 formed on the insulating substrate 2.
b, 3c ... and the first insulating layer 4 are first fired,
Since the control electrodes 5a, 5b, 5c ... And the second insulating layer 9 are formed, the dimensions of the insulating substrate 2 do not change when forming the control electrodes 5a, 5b, 5c.
a, 5b, 5c ... Can be formed with high dimensional accuracy,
It is possible to prevent misalignment between the control electrodes 5a, 5b, 5c ... And the screen electrode 11 mounted on the second insulating layer 9. Therefore, the ion derivation openings 12, 12, ... Of the screen electrode 11 and the control electrode 5
Since there is no displacement of the spatial regions 7, 7 ... for ion generation of a, 5b, 5c ..., High-quality recorded images do not occur, such as a decrease in density of recorded images due to a decrease in output, and unevenness or blurring. Is obtained.

【００４５】さらに、絶縁層４をセラミックス材料によ
って積層形成しているので、放電部に充分な耐圧を有し
且つ耐放電特性に優れたセラミック材料を用いることが
できるため、長寿命で信頼性の高い静電潜像形成装置が
得られる。また、本方法によれば、電極や絶縁層等を印
刷を用いた方法等によって形成することが出来るため、
大量生産に適しており、安価に静電潜像形成装置を提供
することができるとともに、静電潜像形成装置自体が加
熱される場合でも、耐熱特性を備えた信頼性の高い静電
潜像形成装置を作成することができる。さらに、寸法安
定性に優れているので、均一な放電が行え、画像のムラ
等が発生しない静電潜像形成装置を作成することができ
る。Furthermore, since the insulating layer 4 is formed by laminating the ceramic material, a ceramic material having a sufficient withstand voltage and excellent discharge resistance characteristics can be used in the discharge part, so that it has a long life and high reliability. A high electrostatic latent image forming device can be obtained. Further, according to this method, the electrodes and the insulating layer can be formed by a method using printing,
Suitable for mass production, it is possible to provide an electrostatic latent image forming device at low cost, and even if the electrostatic latent image forming device itself is heated, a highly reliable electrostatic latent image having heat resistance characteristics. A forming device can be created. Furthermore, since the dimensional stability is excellent, it is possible to produce an electrostatic latent image forming apparatus that can perform uniform discharge and that does not cause image unevenness.

【００４６】第二実施例 図６はこの発明の第二実施例を示すものであり、前記第
一実施例と同一の部分には同一の符号を付して説明する
と、この実施例では、制御電極をいわゆるリフトオフ法
によって形成するように構成されている。Second Embodiment FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention. The same parts as those of the first embodiment will be designated by the same reference numerals and will be described. The electrodes are formed by a so-called lift-off method.

【００４７】すなわち、この実施例では、絶縁層４を形
成して焼成した後、図６（ｅ）に示すように、レジスト
層２０を一様に塗布し、このレジスト層２０上に図６
（ｆ）に示すように制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…の形状
を反転させたネガ状に、すなわち制御電極５ａ、５ｂ、
５ｃ…以外の形状にパターニングを行なう。このパター
ニングは、通常知られている露光、エッチングの工程に
よって行われる。That is, in this embodiment, after the insulating layer 4 is formed and fired, the resist layer 20 is uniformly applied as shown in FIG.
As shown in (f), the control electrodes 5a, 5b, 5c ...
Patterning is performed in a shape other than 5c ... This patterning is performed by commonly known exposure and etching processes.

【００４８】次に、上記の如く制御電極５ａ、５ｂ、５
ｃ…の形状を反転させたネガ状にパターニングされたレ
ジスト層２０上に、図６（ｇ）に示すように、制御電極
５ａ、５ｂ、５ｃ…を形成する材料２１を厚肉状に印刷
した後、図６（ｈ）に示すように、これらのレジスト層
２０及び制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…を形成する材料２
１を研磨し、所望のパターン状にのみ、レジスト層２０
及び電極層２１が残るようにする。さらに、通常の電極
焼成工程を行って、図６（ｉ）に示すように、レジスト
層２０を除去するとともに、制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ
…を形成する。Next, as described above, the control electrodes 5a, 5b, 5
As shown in FIG. 6 (g), a material 21 for forming the control electrodes 5a, 5b, 5c ... Is thickly printed on the resist layer 20 patterned in the negative shape with the shape of c ... After that, as shown in FIG. 6H, a material 2 for forming the resist layer 20 and the control electrodes 5a, 5b, 5c ...
1 is polished to form a resist layer 20 only in a desired pattern.
And the electrode layer 21 is left. Further, a normal electrode firing process is performed to remove the resist layer 20 as shown in FIG. 6 (i), and at the same time to control electrodes 5a, 5b, 5c.
... to form.

【００４９】その後、前記第１実施例と同様に、図６
（ｉ）（ｊ）に示すように、第２の絶縁層９を形成す
る。Then, as in the first embodiment, as shown in FIG.
(I) As shown in (j), the second insulating layer 9 is formed.

【００５０】このように、制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…
をいわゆるリフトオフ法によって形成するように構成し
たので、放電の発生及びイオン生成と同時に、発生した
イオンを導出するための電界を形成する役目を持つ制御
電極５ａ、５ｂ、５ｃ…を、図７に示すように、ある程
度の厚みとシャープなエッジ形状を持つように形成する
ことができる。これに対して、通常の印刷方法で厚み
（１０〜２０μｍ）を有する制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ
…を形成しようとすると、図８に示すように、エッジ部
分がダレてシャープなエッジ形状を形成し難いが、リフ
トオフ法を用いると、レジスト層２０によって制御電極
５ａ、５ｂ、５ｃ…層のエッジ部分が規制されるので、
シャープなエッジ形状を持つ電極を形成することができ
る。In this way, the control electrodes 5a, 5b, 5c ...
7 is formed by the so-called lift-off method, the control electrodes 5a, 5b, 5c ... Having a role of forming an electric field for leading out the generated ions at the same time as generation of discharge and generation of ions are shown in FIG. As shown, it can be formed to have a certain thickness and a sharp edge shape. On the other hand, the control electrodes 5a, 5b, 5c having a thickness (10 to 20 μm) formed by a normal printing method.
.., it is difficult to form a sharp edge shape as shown in FIG. 8. However, when the lift-off method is used, the resist layer 20 causes the edges of the control electrodes 5a, 5b, 5c. Because the part is regulated,
An electrode having a sharp edge shape can be formed.

【００５１】尚、この実施例では、制御電極５ａ、５
ｂ、５ｃ…のみをリフトオフ法で作成する場合について
説明したが、第２の絶縁層９もリフトオフ法によって作
成すれば、第２の絶縁層９にもシャープなエッジ形状を
持たせることができる。In this embodiment, the control electrodes 5a, 5
Although only b, 5c, ... Are made by the lift-off method, the second insulating layer 9 can be made to have a sharp edge shape if the second insulating layer 9 is also made by the lift-off method.

【００５２】その他の構成及び作用は前記第１実施例と
同様であるので、その説明を省略する。The other structure and operation are the same as those of the first embodiment, and the description thereof will be omitted.

【００５３】第三実施例 図９はこの発明の第三実施例を示すものであり、前記第
一実施例と同一の部分には同一の符号を付して説明する
と、この実施例では、制御電極をいわゆるプラズマ溶射
法によって形成するように構成されている。すなわち、
この実施例では、制御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…をプラズ
マ溶射法によって形成するようになっている。こうする
ことによって、通常印刷法によって形成する事が困難な
耐スパッタ性等に優れた導体材料であるＴｉＯ2 等を制
御電極５ａ、５ｂ、５ｃ…として用いる事が出来る。Third Embodiment FIG. 9 shows a third embodiment of the present invention. The same parts as those of the first embodiment will be designated by the same reference numerals and will be described. The electrodes are formed by a so-called plasma spraying method. That is,
In this embodiment, the control electrodes 5a, 5b, 5c ... Are formed by plasma spraying. By doing so, it is possible to use, as the control electrodes 5a, 5b, 5c ..., TiO2 or the like, which is a conductive material having excellent spatter resistance, which is difficult to form by a usual printing method.

【００５４】その他の構成及び作用は前記第１実施例と
同様であるので、その説明を省略する。The rest of the structure and operation are the same as in the first embodiment, so a description thereof will be omitted.

【００５５】第四実施例 図１０はこの発明の第四実施例を示すものであり、前記
第一実施例と同一の部分には同一の符号を付して説明す
ると、この実施例では、第２の絶縁層を感光性樹脂によ
って形成するように構成されている。Fourth Embodiment FIG. 10 shows a fourth embodiment of the present invention. The same parts as those of the first embodiment will be designated by the same reference numerals and will be described below. The second insulating layer is formed of a photosensitive resin.

【００５６】すなわち、この実施例では、図１０（ａ）
に示すように、第１の絶縁層４上に制御電極５ａ、５
ｂ、５ｃ…を形成した後、この制御電極５ａ、５ｂ、５
ｃ…が形成された第１の絶縁層４上に、図１０（ｂ）に
示すように、ソルダレジスト又はソルダフィルム等の感
光性樹脂３０を接着又は塗布する。その後、この感光性
樹脂３０上に図１０（ｃ）に示すように第２の絶縁層９
の形状にパターニングを行ない、第２の絶縁層９を形成
する。このパターニングは、通常知られている露光、エ
ッチングの工程によって行われる。That is, in this embodiment, FIG.
, The control electrodes 5a, 5 are formed on the first insulating layer 4 as shown in FIG.
After forming b, 5c ..., the control electrodes 5a, 5b, 5
As shown in FIG. 10B, a photosensitive resin 30 such as a solder resist or a solder film is adhered or applied onto the first insulating layer 4 on which c ... Is formed. After that, as shown in FIG. 10C, the second insulating layer 9 is formed on the photosensitive resin 30.
The second insulating layer 9 is formed by performing patterning in the above shape. This patterning is performed by commonly known exposure and etching processes.

【００５７】このように、第２の絶縁層を感光性樹脂３
０によって形成することにより、第２の電極層９を１０
０μｍ以上の厚さでダレの無い状態で形成することがで
きるので、スペーサ部材等を必要としないメリットを有
する。As described above, the second insulating layer is formed of the photosensitive resin 3
And the second electrode layer 9 is formed of 10
Since it can be formed in a thickness of 0 μm or more without sagging, it has an advantage of not requiring a spacer member or the like.

【００５８】その他の構成及び作用は前記第１実施例と
同様であるので、その説明を省略する。The rest of the structure and operation are the same as in the first embodiment, so a description thereof will be omitted.

【００５９】[0059]

【発明の効果】この発明は以上の構成及び作用よりなる
もので、請求項第１項記載の発明においては、セラミッ
クス材料からなる焼成前の絶縁基板上に複数の第１の電
極を形成し、前記第１の電極が形成された絶縁基板上に
セラミックス材料からなる焼成前の絶縁層を積層した後
にこれらの部材を焼成し、焼成された絶縁層上に形成さ
れた複数の第２の電極を有するように構成されているの
で、焼成工程によって大幅に収縮する絶縁基板と、この
絶縁基板上に形成される第１の電極及び絶縁層とを先に
焼成した後に、第２の電極を形成するため、第２の電極
を形成する際に絶縁基板の寸法が変化することはなく、
第２の電極を寸法精度良く形成することができ、高精度
に静電潜像形成装置を製造することができる。According to the invention of the first aspect, a plurality of first electrodes are formed on a non-fired insulating substrate made of a ceramic material, After laminating an insulating layer made of a ceramic material before firing on the insulating substrate on which the first electrode is formed, these members are fired to form a plurality of second electrodes formed on the fired insulating layer. Since it is configured to have, the insulating substrate that significantly shrinks in the firing process, and the first electrode and the insulating layer formed on the insulating substrate are first fired, and then the second electrode is formed. Therefore, the dimensions of the insulating substrate do not change when the second electrode is formed,
The second electrode can be formed with high dimensional accuracy, and the electrostatic latent image forming device can be manufactured with high accuracy.

【００６０】また、この発明の請求項第２項記載の発明
においては、セラミックス材料からなる焼成前の絶縁基
板上に複数の第１の電極を形成し、前記第１の電極が形
成された絶縁基板上に、セラミックス材料からなる焼成
前の第１の絶縁層を積層した後にこれらの部材を焼成
し、焼成された第１の絶縁層上に複数の第２の電極及び
第２の絶縁層を順次形成した後にこれらの部材を焼成
し、最後に取り付けられた第３の電極を有するように構
成されているので、焼成工程によって大幅に収縮する絶
縁基板と、この絶縁基板上に形成される第１の電極及び
絶縁層とを先に焼成した後に、第２の電極及び第２の絶
縁層を形成するため、第２の電極を形成する際に絶縁基
板の寸法が変化することはなく、第２の電極を寸法精度
良く形成することができ、第２の電極と第２の絶縁層上
に取り付けられる第３の電極との間に位置ずれが生じる
のを防止することができる。従って、第３の電極のイオ
ン導出領域と第２の電極の放電生起空間領域の位置ずれ
が起きないので、出力の低下に伴う記録画像の濃度低下
や、むら、かすれ等が発生せず高画質の記録画像が得ら
れる。Further, in the invention according to claim 2 of the present invention, a plurality of first electrodes are formed on an insulating substrate made of a ceramic material before firing, and an insulating film on which the first electrodes are formed is formed. After laminating a first insulating layer made of a ceramic material on the substrate before firing, these members are fired, and a plurality of second electrodes and second insulating layers are provided on the fired first insulating layer. Since these members are fired after being sequentially formed, and the third electrode is finally attached, the insulating substrate that shrinks significantly during the firing process and the first electrode formed on the insulating substrate. Since the second electrode and the second insulating layer are formed after the first electrode and the insulating layer are first fired, the dimensions of the insulating substrate do not change when the second electrode is formed. It is possible to form the second electrode with high dimensional accuracy. , It is possible to prevent the positional deviation between the second electrode and the third electrode attached to the second insulating layer occurs. Therefore, since the ion derivation region of the third electrode and the discharge generation space region of the second electrode do not shift in position, the density of the recorded image is not reduced due to the reduction in output, and unevenness, blurring, etc. do not occur, and high image quality The recorded image of is obtained.

【００６１】さらに、この発明の請求項第１項及び第２
項記載の発明においては、絶縁層をセラミックス材料に
よって形成積層しているので、放電部に充分な耐圧を有
し且つ耐放電特性に優れたセラミックス材料を用いるこ
とができるため、長寿命で信頼性の高い静電潜像形成装
置が得られる。また、電極や絶縁層等を印刷を用いた方
法等によって形成することができ、大量生産に適してお
り、安価に静電潜像形成装置を提供することができると
ともに、静電潜像形成装置自体が加熱される場合でも、
耐熱特性を備えた信頼性の高い静電潜像形成装置を作成
することができる。さらに、寸法安定性に優れているの
で、均一な放電が行え、画像のムラ等が発生しない静電
潜像形成装置を作成することができる。Further, claim 1 and claim 2 of the present invention
In the invention described in the paragraph (1), since the insulating layer is formed and laminated by the ceramic material, the ceramic material having sufficient withstand voltage and excellent discharge resistance characteristics can be used in the discharge part, so that the life is long and the reliability is high. An electrostatic latent image forming device having a high efficiency can be obtained. Further, the electrodes, the insulating layer, and the like can be formed by a method using printing, etc., which is suitable for mass production, and an electrostatic latent image forming apparatus can be provided at low cost, and at the same time, an electrostatic latent image forming apparatus can be provided. Even when it heats itself
It is possible to manufacture a highly reliable electrostatic latent image forming device having heat resistance characteristics. Furthermore, since the dimensional stability is excellent, it is possible to produce an electrostatic latent image forming apparatus that can perform uniform discharge and that does not cause image unevenness.

【００６２】また、請求項第３項以降に記載の発明にお
いても、上記と同様の効果を奏する静電潜像形成装置を
提供することができる。Also, in the inventions described in the third and subsequent aspects, it is possible to provide an electrostatic latent image forming apparatus that exhibits the same effects as the above.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】 図１はこの発明に係る静電潜像形成装置の一
実施例を示す一部切除の平面図である。FIG. 1 is a partially cutaway plan view showing an embodiment of an electrostatic latent image forming apparatus according to the present invention.

【図２】 図２は同装置の使用状態を示す要部断面図で
ある。FIG. 2 is a cross-sectional view of essential parts showing a usage state of the device.

【図３】 図３は静電潜像形成装置のスクリーン電極を
除去した状態を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which a screen electrode of the electrostatic latent image forming device is removed.

【図４】 図４は図３の一部切除の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a part of FIG. 3 cut away.

【図５】 図５（ａ）〜（ｈ）はこの発明に係る静電潜
像形成装置の製造方法の一実施例をそれぞれ示す断面図
である。5 (a) to 5 (h) are cross-sectional views showing an embodiment of a method of manufacturing an electrostatic latent image forming device according to the present invention.

【図６】 図６（ａ）〜（ｋ）はこの発明に係る静電潜
像形成装置の製造方法の他の実施例をそれぞれ示す断面
図である。6 (a) to 6 (k) are cross-sectional views showing another embodiment of the method of manufacturing the electrostatic latent image forming device according to the present invention.

【図７】 図７はリフトオフ法によって形成した制御電
極を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a control electrode formed by a lift-off method.

【図８】 図８は印刷法によって形成した制御電極を示
す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a control electrode formed by a printing method.

【図９】 図９はこの発明の第三実施例を示す断面図で
ある。FIG. 9 is a sectional view showing a third embodiment of the present invention.

【図１０】 図１０（ａ）〜（ｃ）はこの発明に係る静
電潜像形成装置の製造方法のさらに他の実施例をそれぞ
れ示す断面図である。10 (a) to 10 (c) are cross-sectional views showing still another embodiment of the method of manufacturing the electrostatic latent image forming device according to the present invention.

【図１１】 図１１は従来の装置の一部切除の平面図で
ある。FIG. 11 is a plan view of a conventional device with a part cut away.

【図１２】 図１２は同装置の要部断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view of the main parts of the same device.

【図１３】 図１３（ａ）〜（ｆ）は従来の静電潜像形
成装置の製造方法をそれぞれ示す断面図である。13A to 13F are cross-sectional views showing a method of manufacturing a conventional electrostatic latent image forming device, respectively.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 記録ヘッド、２ 絶縁基板、３ 駆動電極、４ 第
一の絶縁層、５ 制御電極、７ イオン生成用空間領
域、９ 第２の絶縁層、１１ スクリーン電極、１２
開口部DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 recording head, 2 insulating substrate, 3 driving electrode, 4 first insulating layer, 5 control electrode, 7 ion generating space region, 9 second insulating layer, 11 screen electrode, 12
Aperture

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ４１Ｊ 2/335 8906−2Ｃ Ｂ４１Ｊ 3/20 １１１ Ｈ (72)発明者 小村 晃雅 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼロ ックス株式会社海老名事業所内 (72)発明者 長尾 剛次 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼロ ックス株式会社海老名事業所内 (72)発明者 山田 哲夫 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼロ ックス株式会社海老名事業所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Internal reference number FI Technical display location B41J 2/335 8906-2C B41J 3/20 111 H (72) Inventor Akimasa Komura Hongo, Ebina, Kanagawa Prefecture 2274 Fuji Xerox Co., Ltd.Ebina Works (72) Inventor Gouji Nagao Hongo, Ebina City, Kanagawa Prefecture 2274 Fuji Xerox Co., Ltd. Ebina Works (72) Inventor Tetsuo Yamada 2274 Hongo, Ebina City, Kanagawa Prefecture Fuji Xerox Ebina Office Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数
の第２の電極と、絶縁層とを具備し、前記第１の電極と
第２の電極は、前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設け
られ、前記第２の電極は、前記第１の電極と第２の電極
との間に電圧を印加することにより、沿面コロナ放電を
生起する空間領域を有する静電潜像形成装置において、
セラミックス材料からなる焼成前の絶縁基板上に複数の
第１の電極を形成し、前記第１の電極が形成された絶縁
基板上にセラミックス材料からなる絶縁層を積層した後
にこれらの部材を焼成し、焼成された絶縁層上に形成さ
れた複数の第２の電極を有することを特徴とする静電潜
像形成装置。1. An insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, and an insulating layer, wherein the first electrode and the second electrode sandwich the insulating layer. An electrostatic latent image forming device provided in a matrix and having a space region in which the second electrode generates a creeping corona discharge by applying a voltage between the first electrode and the second electrode. At
A plurality of first electrodes are formed on an insulating substrate made of a ceramic material before firing, and an insulating layer made of a ceramic material is laminated on the insulating substrate having the first electrodes formed thereon, and then these members are fired. An electrostatic latent image forming device having a plurality of second electrodes formed on a baked insulating layer. 【請求項２】 絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数
の第２の電極と、第３の電極と、第１の絶縁層と、第２
の絶縁層とを具備し、前記第１の電極と第２の電極は、
前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設けられ、前記第２
の電極は、前記第１の電極と第２の電極との間に電圧を
印加することにより、沿面コロナ放電を生起する空間領
域を有し、前記第２の電極との間に前記第２の絶縁層を
介在させて設けられ、前記第３の電極は、前記沿面コロ
ナ放電により生じたイオンを導出するイオン導出領域を
具備する静電潜像形成装置において、セラミックス材料
からなる焼成前の絶縁基板上に複数の第１の電極を形成
し、前記第１の電極が形成された絶縁基板上に、セラミ
ックス材料からなる第１の絶縁層を積層した後にこれら
の部材を焼成し、焼成された第１の絶縁層上に複数の第
２の電極及び第２の絶縁層を順次形成した後にこれらの
部材を焼成し、最後に取り付けられた第３の電極を有す
ることを特徴とする静電潜像形成装置。2. An insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, a third electrode, a first insulating layer, and a second electrode.
An insulating layer of, wherein the first electrode and the second electrode are
The second insulating layer is provided in a matrix with the insulating layer interposed therebetween,
The electrode has a space region in which a creeping corona discharge is generated by applying a voltage between the first electrode and the second electrode, and the second electrode is provided between the electrode and the second electrode. In the electrostatic latent image forming device, wherein the third electrode is provided with an insulating layer interposed, and the third electrode has an ion derivation region that deduces ions generated by the creeping corona discharge, an insulating substrate made of a ceramic material before firing. A plurality of first electrodes are formed thereon, and a first insulating layer made of a ceramic material is laminated on the insulating substrate on which the first electrodes are formed, and then these members are fired, and then fired. A plurality of second electrodes and a second insulating layer are sequentially formed on one insulating layer, these members are fired, and finally a third electrode is attached to the electrostatic latent image. Forming equipment. 【請求項３】 絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数
の第２の電極と、絶縁層とを具備し、前記第１の電極と
第２の電極は、前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設け
られ、前記第２の電極は、前記第１の電極と第２の電極
との間に電圧を印加することにより、沿面コロナ放電を
生起する空間領域を有する静電潜像形成装置において、
絶縁基板をセラミックス材料によって形成し、少なくと
もセラミックス材料からなる絶縁基板を焼成した後に、
形成された複数の第１の電極等を有することを特徴とす
る静電潜像形成装置。3. An insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, and an insulating layer, wherein the first electrode and the second electrode sandwich the insulating layer. An electrostatic latent image forming device provided in a matrix and having a space region in which the second electrode generates a creeping corona discharge by applying a voltage between the first electrode and the second electrode. At
After forming an insulating substrate with a ceramic material and baking the insulating substrate made of at least a ceramic material,
An electrostatic latent image forming apparatus having a plurality of formed first electrodes and the like. 【請求項４】 絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数
の第２の電極と、絶縁層とを具備し、前記第１の電極と
第２の電極は、前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設け
られ、前記第２の電極は、前記第１の電極と第２の電極
との間に電圧を印加することにより、沿面コロナ放電を
生起する空間領域を有する静電潜像形成装置の製造方法
において、セラミックス材料からなる焼成前の絶縁基板
上に複数の第１の電極を形成し、前記第１の電極が形成
された絶縁基板上にセラミックス材料からなる絶縁層を
積層した後にこれらの部材を焼成し、焼成された絶縁層
上に複数の第２の電極を形成することを特徴とする静電
潜像形成装置の製造方法。4. An insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, and an insulating layer are provided, and the first electrode and the second electrode sandwich the insulating layer. An electrostatic latent image forming device provided in a matrix and having a space region in which the second electrode generates a creeping corona discharge by applying a voltage between the first electrode and the second electrode. In the manufacturing method of 1., a plurality of first electrodes are formed on an insulating substrate made of a ceramic material before firing, and an insulating layer made of a ceramic material is laminated on the insulating substrate on which the first electrodes are formed. Is fired, and a plurality of second electrodes are formed on the fired insulating layer. 【請求項５】 絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数
の第２の電極と、第３の電極と、第１の絶縁層と、第２
の絶縁層とを具備し、前記第１の電極と第２の電極は、
前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設けられ、前記第２
の電極は、前記第１の電極と第２の電極との間に電圧を
印加することにより、沿面コロナ放電を生起する空間領
域を有し、前記第２の電極との間に前記第２の絶縁層を
介在させて設けられ、前記第３の電極は、前記沿面コロ
ナ放電により生じたイオンを導出するイオン導出領域を
具備する静電潜像形成装置の製造方法において、セラミ
ックス材料からなる焼成前の絶縁基板上に複数の第１の
電極を形成し、前記第１の電極が形成された絶縁基板上
に、セラミックス材料からなる第１の絶縁層を積層した
後にこれらの部材を焼成し、焼成された第１の絶縁層上
に複数の第２の電極及び第２の絶縁層を順次形成した後
にこれらの部材を焼成し、最後に第３の電極を取り付け
ることを特徴とする静電潜像形成装置の製造方法。5. An insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, a third electrode, a first insulating layer, and a second electrode.
An insulating layer of, wherein the first electrode and the second electrode are
The second insulating layer is provided in a matrix with the insulating layer interposed therebetween,
The electrode has a space region in which a creeping corona discharge is generated by applying a voltage between the first electrode and the second electrode, and the second electrode is provided between the electrode and the second electrode. In the method of manufacturing an electrostatic latent image forming apparatus, wherein the third electrode is provided with an insulating layer interposed, and the third electrode has an ion derivation region that deduces ions generated by the creeping corona discharge. A plurality of first electrodes are formed on the insulating substrate, and a first insulating layer made of a ceramic material is laminated on the insulating substrate on which the first electrodes are formed, and then these members are baked and baked. A plurality of second electrodes and a second insulating layer are sequentially formed on the formed first insulating layer, these members are fired, and finally a third electrode is attached to the electrostatic latent image. Manufacturing method of forming apparatus. 【請求項６】 絶縁基板と、複数の第１の電極と、複数
の第２の電極と、絶縁層とを具備し、前記第１の電極と
第２の電極は、前記絶縁層を挟んでマトリクス状に設け
られ、前記第２の電極は、前記第１の電極と第２の電極
との間に電圧を印加することにより、沿面コロナ放電を
生起する空間領域を有する静電潜像形成装置において、
絶縁基板をセラミックス材料によって形成し、少なくと
もセラミックス材料からなる絶縁基板を焼成した後に、
複数の第１の電極等を形成することを特徴とする静電潜
像形成装置の製造方法。6. An insulating substrate, a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes, and an insulating layer are provided, and the first electrode and the second electrode sandwich the insulating layer. An electrostatic latent image forming device provided in a matrix and having a space region in which the second electrode generates a creeping corona discharge by applying a voltage between the first electrode and the second electrode. At
After forming an insulating substrate with a ceramic material and baking the insulating substrate made of at least a ceramic material,
A method of manufacturing an electrostatic latent image forming device, which comprises forming a plurality of first electrodes and the like.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US4879703A (en) * 1986-07-09 1989-11-07 Hitachi, Ltd. Magneto-optic memory apparatus with defect detection of recording medium during erasing operation

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US4879703A (en) * 1986-07-09 1989-11-07 Hitachi, Ltd. Magneto-optic memory apparatus with defect detection of recording medium during erasing operation

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