JPH0653276A - Semiconductor device and its manufacture - Google Patents

Semiconductor device and its manufacture

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JPH0653276A
JPH0653276A JP4206789A JP20678992A JPH0653276A JP H0653276 A JPH0653276 A JP H0653276A JP 4206789 A JP4206789 A JP 4206789A JP 20678992 A JP20678992 A JP 20678992A JP H0653276 A JPH0653276 A JP H0653276A
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JP
Japan
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semiconductor device
semiconductor
semiconductor chip
lead
tape carrier
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4206789A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsushi Wakabayashi
哲史 若林
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0653276A publication Critical patent/JPH0653276A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/79Apparatus for Tape Automated Bonding [TAB]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Abstract

PURPOSE:To mount semiconductor chips at higher density and improve heat conductivity and perform property test easily, concerning a semiconductor device where a plurality of semiconductor chips are arranged in three dimensions. CONSTITUTION:A semiconductor chip 32 is positioned in the opening of a tape carrier 34, and the electrode pads 33a of the semiconductor chips 32 and the connection leads 38 made intensively at one side of the tape carrier 34 are electrically connected. And, test pads 39 are made respectively at the ends of the connection leads 38.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、複数の半導体チップを
立体的に配置する半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device in which a plurality of semiconductor chips are three-dimensionally arranged.

【0002】近年、半導体装置の大容量化、高密度化か
ら、半導体チップを3次元に配置して高密度化を図るも
のが開発されつつある。そして、より高密度化を図るこ
とが望まれ、また絶縁性等の諸条件の向上が望まれてい
る。
In recent years, in order to increase the capacity and increase the density of semiconductor devices, a semiconductor device in which semiconductor chips are three-dimensionally arranged to increase the density is being developed. Further, it is desired to increase the density and to improve various conditions such as insulation.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、複数の半導体チップを立体的に配
置したものとして、米国特許5025306(以下、第
1従来例という)、4706166(以下、第2従来例
という)に記載されているものが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a semiconductor chip having a plurality of semiconductor chips arranged three-dimensionally, one described in US Pat. No. 5,025,306 (hereinafter, referred to as a first conventional example), 4706166 (hereinafter, referred to as a second conventional example) is known. Are known.

【0004】そこで、図5に、従来の立体構造の半導体
装置を説明するための図を示す。図5の半導体装置11
は、第1従来例に示されるもので、表面に電極12aが
形成された半導体チップ12上に、絶縁粘着性のポリイ
ミド等のフィルム13が設けられ、該フィルム13上に
所定の配線14aがパターン形成されたポリイミド等の
テープリード14が設けられる。
Therefore, FIG. 5 shows a diagram for explaining a conventional semiconductor device having a three-dimensional structure. The semiconductor device 11 of FIG.
In the first conventional example, a film 13 of insulating adhesive polyimide or the like is provided on a semiconductor chip 12 having an electrode 12a formed on the surface thereof, and a predetermined wiring 14a is patterned on the film 13. The formed tape lead 14 of polyimide or the like is provided.

【0005】そして、半導体チップ12の電極12a
と、対応するテープリード14上の配線14aの一端と
が、バンプ16(図6参照)により電気的接続が行わ
れ、1個の素子が構成される。この場合、配線14aの
他端が外部接続用のリードとなる。
The electrode 12a of the semiconductor chip 12
And one end of the wiring 14a on the corresponding tape lead 14 are electrically connected by the bump 16 (see FIG. 6) to form one element. In this case, the other end of the wiring 14a becomes a lead for external connection.

【0006】ここで、図6に、図5の一つのチップの構
成を説明するための図を示す。図6(A)に示すよう
に、半導体チップ12上にフィルム13を介してテープ
リード14が固着される。このとき、テープリード14
上の配線14aの一端部14bが半導体チップ12の一
辺に集まり、他端部14cが半導体チップ12上の電極
12aとバンプ16を介して電気的接続される。
FIG. 6 shows a diagram for explaining the structure of one chip shown in FIG. As shown in FIG. 6A, the tape lead 14 is fixed on the semiconductor chip 12 via the film 13. At this time, the tape lead 14
One end 14b of the upper wiring 14a is gathered on one side of the semiconductor chip 12, and the other end 14c is electrically connected to the electrode 12a on the semiconductor chip 12 via the bump 16.

【0007】この場合、図6(B)に示すように、フィ
ルム13上にテープリード14が接着される場合と、図
6(C)に示すようにフィルム13上に配線14a部分
が接着される場合とがある。
In this case, as shown in FIG. 6B, the tape lead 14 is adhered onto the film 13, and as shown in FIG. 6C, the wiring 14a is adhered onto the film 13. There are cases.

【0008】そして、図5に戻って説明するに、図6の
ように形成された素子が複数個形成され、それぞれがポ
リイミド等の絶縁粘着性フィルムのスペーサ15を介し
て立体的(3次元)に積み重ねられて3次元に実装され
た半導体装置11が形成されるものである。
Returning to FIG. 5, a plurality of elements formed as shown in FIG. 6 are formed, each of which is three-dimensional (three-dimensional) via a spacer 15 of an insulating adhesive film such as polyimide. The three-dimensionally mounted semiconductor device 11 is formed.

【0009】そこで、図7に、図5の組立て実装を説明
するための図を示す。図7(A)に示すように、図5の
3次元に実装された半導体装置11は、一面17に配線
14aの端部14cが配列されて導出された状態とな
る。この一面17の端面を研磨すると、図7(B)に示
すように、表面に配線14aの端部14cの端面がアレ
イ状に表出した直方体の半導体装置(モジュール)11
が形成される。すなわち、この3次元モジュールの半導
体装置11は、テープリード14を用いて半導体チップ
12上の電極12aから電気的接続リードを一辺端部に
導出したものである。
Therefore, FIG. 7 is a diagram for explaining the assembly and mounting of FIG. As shown in FIG. 7A, the semiconductor device 11 mounted three-dimensionally in FIG. 5 is in a state in which the end portions 14c of the wiring 14a are arranged on the one surface 17 and led out. When the end face of this one face 17 is polished, as shown in FIG. 7B, a rectangular parallelepiped semiconductor device (module) 11 in which the end faces of the end portions 14c of the wiring 14a are exposed in an array on the surface.
Is formed. That is, in the semiconductor device 11 of the three-dimensional module, the tape leads 14 are used to lead out the electrical connection leads from the electrodes 12 a on the semiconductor chip 12 to one end portion.

【0010】そして、図7(C)に示すように、半導体
装置11が複数個マザーボード18上に実装される。マ
ザーボード18は、図7(D)に示すように、基板18
aに積層された配線層18b上にパッド18cが形成さ
れており、該パッド18cと半導体装置11の配線14
の端部14cとが溶接接合されて実装されるものであ
る。
Then, as shown in FIG. 7C, a plurality of semiconductor devices 11 are mounted on the mother board 18. As shown in FIG. 7D, the mother board 18 has a substrate 18
The pad 18c is formed on the wiring layer 18b laminated on the a, and the pad 18c and the wiring 14 of the semiconductor device 11 are formed.
The end portion 14c is mounted by welding.

【0011】次に、図8に、従来の他の立体構造の半導
体装置を説明するための図を示す。図8(A)の半導体
装置21は、上述の第2従来例に示されるもので、半導
体チップ22には予め一端部に電気的な配線22aが集
められて形成される。この半導体チップ22を複数個接
着剤等により積み重ねられて半導体装置21が構成さ
れ、配線22a面がアクセス面として配線22aの断面
がアレイ状に露出する。
Next, FIG. 8 shows a diagram for explaining another conventional semiconductor device having a three-dimensional structure. The semiconductor device 21 of FIG. 8A is shown in the above-described second conventional example, and the semiconductor chip 22 is formed by collecting electrical wirings 22a at one end in advance. A plurality of the semiconductor chips 22 are stacked with an adhesive or the like to form the semiconductor device 21, and the surface of the wiring 22a serves as an access surface, and the cross section of the wiring 22a is exposed in an array.

【0012】この状態が図8(B),(C)に示され、
同一の半導体チップ22を積み重ねた場合には配線22
aの配列構成は同一であり、同一の信号線(例えば電源
ラインや接地ライン等)が積層方向に直線状に配置され
ることになる。
This state is shown in FIGS. 8B and 8C,
If the same semiconductor chips 22 are stacked, the wiring 22
The arrangement configuration of a is the same, and the same signal line (for example, a power supply line or a ground line) is arranged linearly in the stacking direction.

【0013】従って、同一の配線22a間に直線状のバ
スライン22b(図8(B))を形成することが容易と
なる。すなわち、配線22aを半導体チップ22の一辺
より突出させるようにエッチングを行い、その上に絶縁
被覆を施し、所望の配線材のみをリソグラフィ的に露出
させて積み重ねバスライン22bを蒸着等により形成し
て相互接続を行うものである。
Therefore, it becomes easy to form the linear bus line 22b (FIG. 8B) between the same wirings 22a. That is, the wiring 22a is etched so as to project from one side of the semiconductor chip 22, an insulating coating is applied on the wiring 22a, and only the desired wiring material is lithographically exposed to form a stacked bus line 22b by vapor deposition or the like. It is for mutual connection.

【0014】そこで、図9に、図8の実装を説明するた
めの図を示す。
Therefore, FIG. 9 shows a diagram for explaining the mounting of FIG.

【0015】上述のように半導体チップ22が積み重ね
られてモジュール化された半導体装置21が図9(A)
に示され、その配線22a面のアサインされた信号ライ
ンの状態が図9(B)に示される。
A semiconductor device 21 in which the semiconductor chips 22 are stacked and modularized as described above is shown in FIG.
9B, the state of the assigned signal line on the surface of the wiring 22a is shown in FIG.

【0016】そして、このモジュール化された半導体装
置21の配線22a面を、所定のパターンが形成された
マザーボード(図9(C))23上に搭載してバンプ等
により該パターンと接続を行い、実装するものである
(図9(D))。
Then, the surface of the wiring 22a of the modularized semiconductor device 21 is mounted on a mother board (FIG. 9 (C)) 23 having a predetermined pattern formed thereon, and is connected to the pattern by bumps or the like. It is mounted (FIG. 9 (D)).

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】しかし、第1従来例
(図5)は、半導体チップ22上にテープリード14に
より配線22aを導出することから、3次元モジュール
化する場合、積層された半導体チップ22間に絶縁性の
スペーサ15のために集積度を向上させることが困難で
ある。
However, in the first conventional example (FIG. 5), the wiring 22a is led out on the semiconductor chip 22 by the tape lead 14, so that when the three-dimensional module is formed, the stacked semiconductor chips are stacked. It is difficult to improve the degree of integration due to the insulating spacer 15 between 22.

【0018】また、上述のテープリード14は一般にポ
リイミドで形成されることから、各半導体チップ22の
熱伝導性が低下することとなると共に、モジュール化に
より放熱性に劣るという問題がある。
Further, since the above-mentioned tape lead 14 is generally made of polyimide, there is a problem that the thermal conductivity of each semiconductor chip 22 is lowered and the heat dissipation is poor due to the modularization.

【0019】さらに、上述の半導体装置11では各半導
体チップ22の特性を予め測定して良品のみを選定する
ことができないという問題がある。
Further, in the above-mentioned semiconductor device 11, there is a problem that it is not possible to measure the characteristics of each semiconductor chip 22 in advance and select only good products.

【0020】一方、第2従来例(図8,図9)の半導体
装置21は、ベアチップ状態で積層されることから、個
々の十分な電気的試験を行うことができない。そのた
め、多数の半導体チップ22による高密度モジュールに
なると、予め良品チップの選定ができず、歩留りの低下
を招くという事態を生じる。このため、予め冗長素子を
組み込んでおき、モジュール全体の試験において不良素
子を無効とすることも考えられるが、工数が多く複雑と
なり、量産に適しないという問題がある。
On the other hand, since the semiconductor device 21 of the second conventional example (FIGS. 8 and 9) is stacked in a bare chip state, it is not possible to perform a sufficient individual electrical test. Therefore, in the case of a high-density module including a large number of semiconductor chips 22, non-defective chips cannot be selected in advance, leading to a reduction in yield. For this reason, it is possible to incorporate a redundant element in advance and invalidate the defective element in the test of the entire module, but there is a problem that the number of steps becomes complicated and it is not suitable for mass production.

【0021】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、より高密度で熱伝導が良好であり、かつ容易に
特性試験が行える半導体装置を提供することを目的とす
る。
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device having a higher density, good heat conduction, and an easy characteristic test.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】上記課題は、所定数の電
極パッドが形成された半導体チップが、3次元に所定数
配置されてパッケージングされ、該パッケージの一側面
に、該電極パッドより導出される接続リードの端面が表
出される半導体装置において、所定部分が開口されて前
記半導体チップを位置させると共に、前記電極パッドに
接続される前記接続リードの端部が一辺に集約されて形
成されるテープキャリアをそれぞれ具備することにより
解決され、適宜前記テープキャリアの前記接続リードの
端部に、前記半導体チップの試験を行うためのテストパ
ッドを形成することにより解決される。
SUMMARY OF THE INVENTION The above-mentioned problems are solved by packaging semiconductor chips having a predetermined number of electrode pads arranged in a predetermined number in a three-dimensional manner, and arranging them on one side surface of the package from the electrode pads. In the semiconductor device in which the end surface of the connection lead is exposed, a predetermined portion is opened to position the semiconductor chip, and the end portion of the connection lead connected to the electrode pad is formed on one side. This can be solved by providing each tape carrier, and can be solved by appropriately forming a test pad for testing the semiconductor chip at the end of the connection lead of the tape carrier.

【0023】[0023]

【作用】上述のように、テープキャリアの開口部分に半
導体チップが位置され、半導体チップの電極パッドとテ
ープキャリアの一辺に集約されて形成された接続リード
とが電気的に接続される。そして、これらが複数個積み
重ねられてパッケージングされ、パッケージの一側面に
接続リードの端面が表出される。
As described above, the semiconductor chip is located in the opening portion of the tape carrier, and the electrode pads of the semiconductor chip and the connection leads collectively formed on one side of the tape carrier are electrically connected. Then, a plurality of these are stacked and packaged, and the end faces of the connection leads are exposed on one side surface of the package.

【0024】すなわち、半導体チップを積み重ねるに際
し、チップ間にスペーサ等を介在させる必要がなく、熱
伝導を良好にすることが可能となり、これにより個数を
増大してより高密度を図ることが可能となる。
That is, when stacking the semiconductor chips, it is not necessary to interpose a spacer or the like between the chips, so that it is possible to improve the heat conduction, thereby increasing the number and increasing the density. Become.

【0025】また、テープキャリアの接続リードの端部
にテストパッドが形成されることにより、積み重ねた後
であっても半導体チップ個々の特性試験を容易に行うこ
とが可能となる。
Further, since the test pads are formed at the ends of the connection leads of the tape carrier, it is possible to easily perform the characteristic test of each semiconductor chip even after stacking.

【0026】[0026]

【実施例】図1に、本発明の第1実施例の構成図を示
す。図1(A)において、高集積メモリのような半導体
チップ32上であって、一辺に集約された電極パッド3
3aが所定数形成されると共に、対向辺両端に保持用パ
ッド33bが例えば2個形成される。
FIG. 1 is a block diagram of the first embodiment of the present invention. In FIG. 1A, on the semiconductor chip 32 such as a highly integrated memory, the electrode pads 3 gathered on one side.
A predetermined number of 3a are formed, and, for example, two holding pads 33b are formed at both ends of the opposite side.

【0027】一方、図1(B)において、例えばポリイ
ミド等で形成されるテープキャリア34の両端辺には、
スプロケットホール35aが形成されると共に、ガイド
孔35bが四隅に形成される。また、テープキャリア3
4の中央部分には開口部36が形成されており、開口部
36の一辺の両端(好ましくは2本)で延出する保持リ
ード37が形成されると共に、対向する辺で所定数(半
導体チップ32の電極パッド33a数及び位置に対応)
の接続リード38が延出するように形成されて、該テー
プキャリア34の一辺に集約される。そして、テープキ
ャリア34上の接続リード38の端部にテストパッド3
9がそれぞれ形成される。なお、接続リード38は、C
u(銅)箔上にSn(錫)めっきが施されている。
On the other hand, in FIG. 1B, the both ends of the tape carrier 34 made of, for example, polyimide are
The sprocket holes 35a are formed, and the guide holes 35b are formed at the four corners. Also, tape carrier 3
4, an opening 36 is formed in the central portion, and holding leads 37 extending at both ends (preferably two) of one side of the opening 36 are formed, and a predetermined number (semiconductor chip) is formed on the opposite side. Corresponding to the number and position of 32 electrode pads 33a)
Connection leads 38 are formed so as to extend and are gathered on one side of the tape carrier 34. Then, the test pad 3 is attached to the end portion of the connection lead 38 on the tape carrier 34.
9 are formed respectively. The connecting lead 38 is C
Sn (tin) plating is applied on the u (copper) foil.

【0028】そこで、図1(C)において、テープキャ
リア34の開口部36内に半導体チップ32が位置さ
れ、保持リード37の末端と保持用パッド33bとが半
田バンプ等で熱圧着により接続固定されると共に、それ
ぞれの接続リード38の末端と電極パッド33aとがA
u(金)バンプ等で熱圧着により電気的に接続され、固
定される。これにより、一つの半導体素子40が構成さ
れる。
Therefore, in FIG. 1C, the semiconductor chip 32 is positioned in the opening 36 of the tape carrier 34, and the ends of the holding leads 37 and the holding pads 33b are connected and fixed by thermocompression bonding with solder bumps or the like. And the end of each connection lead 38 and the electrode pad 33a are
It is electrically connected and fixed by thermocompression bonding with a u (gold) bump or the like. As a result, one semiconductor element 40 is formed.

【0029】なお、上記実施例では、電極パッド33a
を半導体チップ32上の一辺のみに形成した場合を示し
たが、対向する辺や隣接する辺に形成してもよい。この
場合、テープキャリア34上の接続リード38は引き廻
して一辺に集約される。また、このようにすれば、保持
用パッド33bや保持リード37を省略することができ
るものである。
In the above embodiment, the electrode pad 33a is used.
Although the case where the above is formed on only one side of the semiconductor chip 32 is shown, it may be formed on the opposite side or the adjacent side. In this case, the connection leads 38 on the tape carrier 34 are laid and gathered on one side. Further, in this way, the holding pad 33b and the holding lead 37 can be omitted.

【0030】このように形成された半導体素子40は、
テープキャリア34上のテストパッド39を利用して完
全な電気的特性試験を行うことができる。これに伴い、
バーンインや高温試験、低温試験をも行うことができ
る。すなわち、単体の半導体チップ32を、積み重ねる
前にテープキャリア34上で特性試験することができる
ものである。
The semiconductor element 40 thus formed is
The test pads 39 on the tape carrier 34 can be utilized to perform a complete electrical characterization test. With this,
Burn-in, high temperature test, and low temperature test can also be performed. That is, it is possible to perform a characteristic test on the tape carrier 34 before the individual semiconductor chips 32 are stacked.

【0031】次に、図2に、図1の積層した場合を説明
するための図を示す。図2(A)において、図1におけ
る半導体素子40は、半導体チップ32の表面(電極パ
ッド33aが形成された面)上に、エポキシ樹脂等によ
り絶縁層41が形成される。そして、これら半導体素子
40を、テープキャリア34に形成されたガイド孔35
bにより整合して複数個積み重ねて積層する。すなわ
ち、絶縁層41により半導体チップ32間の絶縁を図っ
たものである。
Next, FIG. 2 shows a view for explaining the case of stacking in FIG. 2A, the semiconductor element 40 in FIG. 1 has an insulating layer 41 made of epoxy resin or the like on the surface of the semiconductor chip 32 (the surface on which the electrode pads 33a are formed). Then, these semiconductor elements 40 are attached to the guide holes 35 formed in the tape carrier 34.
A plurality of layers are aligned and stacked by b. That is, the insulating layer 41 is intended to insulate the semiconductor chips 32 from each other.

【0032】この場合、半導体素子40における接続リ
ード38の縦方向のピッチが正確になるように、テープ
キャリア34間にスペーサ42がそれぞれ位置される。
In this case, the spacers 42 are arranged between the tape carriers 34 so that the vertical pitches of the connection leads 38 in the semiconductor element 40 are accurate.

【0033】そして、積み重ねられた半導体素子40の
半導体チップ32周辺をモールド樹脂43によりモール
ドしてパッケージングを行う。続いて、パッケージの側
面より延出する保持リード37及び接続リード38が切
断されて除去されると共に、接続リード38面をA−A
部分まで研磨を行う。
Then, the periphery of the semiconductor chips 32 of the stacked semiconductor elements 40 is molded with a molding resin 43 to perform packaging. Subsequently, the holding lead 37 and the connecting lead 38 extending from the side surface of the package are cut and removed, and the surface of the connecting lead 38 is AA.
Polish to the part.

【0034】これにより、図2(B)に示すように、研
磨面、すなわちパッケージの一側面に接続リード38の
端面がアレイ状に配列された状態で表出された半導体装
置31が構成される。例えば、接続リード38の端面の
寸法は、横0.2 〜0.3 mm,縦0.03mmとなる。
As a result, as shown in FIG. 2B, a semiconductor device 31 is formed in which the end faces of the connection leads 38 are arranged in an array on the polished surface, that is, one side surface of the package. . For example, the dimensions of the end face of the connecting lead 38 are 0.2 to 0.3 mm in the horizontal direction and 0.03 mm in the vertical direction.

【0035】次に、図3に、図2の他の実施例の断面構
成図を示す。図3(A)は、積み重ねられた半導体素子
40の半導体チップ32の裏面にSiO2 等の絶縁酸化
膜の絶縁層41aを形成して、積み重ねられた場合の半
導体チップ32間における接続リード38と半導体チッ
プ32との絶縁を図るものである。また、これにより、
図2(A)と比較して半導体素子40間の間隔を狭くす
ることができ、薄型を図ることができる。
Next, FIG. 3 shows a sectional view of another embodiment of FIG. In FIG. 3A, an insulating layer 41a of an insulating oxide film such as SiO 2 is formed on the back surface of the semiconductor chips 32 of the stacked semiconductor elements 40, and connecting leads 38 between the semiconductor chips 32 when stacked are formed. It is intended to insulate the semiconductor chip 32. This also allows
As compared with FIG. 2A, the distance between the semiconductor elements 40 can be narrowed, and the thickness can be reduced.

【0036】また、図3(B)は、半導体チップ32の
表面の電極パッド32a及び保持用パッド33b以外の
部分に、ポリイミド等のコーティングを施して絶縁層4
1bを形成したものである。これにより、積み重ねたと
きの接続リード38と半導体チップ32のエッジ部分で
の短絡を防止するものである。
Further, in FIG. 3B, the insulating layer 4 is formed by applying a coating of polyimide or the like on portions other than the electrode pads 32a and the holding pads 33b on the surface of the semiconductor chip 32.
1b is formed. This prevents a short circuit between the connection lead 38 and the edge portion of the semiconductor chip 32 when stacked.

【0037】このように、上記実施例に示すように、半
導体チップ32を積み重ねる場合に、チップ間にスペー
サ等を介在させる必要がなく、熱伝導を良好にすること
ができ、これにより個数を増大してより高密度を図るこ
とができるもので、高歩留り、低コスト化を図ることが
できるものである。
As described above, when the semiconductor chips 32 are stacked as shown in the above embodiment, it is not necessary to interpose a spacer or the like between the chips, and heat conduction can be improved, thereby increasing the number of chips. Therefore, higher density can be achieved, and high yield and low cost can be achieved.

【0038】また、図4に、本発明の第2実施例の構成
図を示す。図4(A),(B)は、図1における接続リ
ード38の中間部分に幅広部38aを形成し、この幅広
部38a上に該接続リード38と導通状態で端子材44
を設けたものである。
FIG. 4 is a block diagram of the second embodiment of the present invention. 4A and 4B, a wide portion 38a is formed in an intermediate portion of the connection lead 38 in FIG. 1, and the terminal material 44 is formed on the wide portion 38a in a conductive state with the connection lead 38.
Is provided.

【0039】この場合、接続リード38はSnめっきが
施されており、端子材44は、例えば銅系合金、鉄−N
i合金、錫−鉛系合金(半田)等があり、適宜これらに
金めっき、錫メッキを施すことにより、融着させること
ができる。
In this case, the connection lead 38 is Sn-plated, and the terminal material 44 is, for example, a copper alloy, iron-N.
There are i alloys, tin-lead alloys (solder) and the like, which can be fused by appropriately plating them with gold or tin.

【0040】そして、図2又は図3のように積み重ねて
モールドし、端子材44まで研磨すると、図4(C)に
示すように、端子材44と接続リード38の端面がパッ
ケージの一側面で表出される。
Then, as shown in FIG. 2 or 3, the layers are stacked and molded, and the terminal material 44 is polished. Then, as shown in FIG. 4C, the end surfaces of the terminal material 44 and the connection lead 38 are on one side of the package. Be expressed.

【0041】従って、例えば、0.5 mmピッチで0.25m □
の端面が表出されることとなり、半導体装置31の実装
が容易になるものである。
Therefore, for example, at a pitch of 0.5 mm, 0.25 m □
Since the end face of the semiconductor device 31 is exposed, the semiconductor device 31 can be easily mounted.

【0042】なお、端子材44を設ける場合、融着以外
に、図4(D)に示すように、幅広部38aに孔38b
を形成し、端子材44を機械的にかしめて設けてもよ
く、また、図4(E)に示すようにワイヤボンダによる
ボールボンディングにより設けてもよい。
When the terminal material 44 is provided, in addition to fusion bonding, as shown in FIG. 4 (D), a hole 38b is formed in the wide portion 38a.
May be formed, and the terminal material 44 may be mechanically caulked, or may be provided by ball bonding with a wire bonder as shown in FIG.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、テープキ
ャリアの開口部分に半導体チップが位置され、半導体チ
ップの電極パッドとテープキャリアの一辺に集約されて
適宜テストパッドが形成された接続リードとが電気的に
接続され、そしてこれらが複数個積み重ねられてパッケ
ージングされてパッケージの一側面に接続リードの端面
を表出させることにより、より高密度で熱伝導を良好に
することができ、容易に特性試験を行うことができるも
のである。
As described above, according to the present invention, the semiconductor chip is positioned in the opening portion of the tape carrier, and the connection lead is formed by appropriately combining the electrode pad of the semiconductor chip and one side of the tape carrier to form the test pad. And are electrically connected, and a plurality of these are stacked and packaged to expose the end faces of the connection leads on one side surface of the package, thereby making it possible to improve heat conduction with higher density. The characteristic test can be easily performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の積層した場合を説明するための図であ
る。
FIG. 2 is a diagram for explaining a case of stacking in FIG.

【図3】図2の他の実施例の断面構成図である。FIG. 3 is a sectional configuration diagram of another embodiment of FIG.

【図4】本発明の第2実施例の構成図を示す。FIG. 4 shows a block diagram of a second embodiment of the present invention.

【図5】従来の立体構造の半導体装置を説明するための
図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a conventional semiconductor device having a three-dimensional structure.

【図6】図1の一つのチップの構成を説明するための図
である。
FIG. 6 is a diagram for explaining a configuration of one chip of FIG.

【図7】図5の組み立て実装を説明するための図であ
る。
FIG. 7 is a diagram for explaining assembly and mounting of FIG. 5;

【図8】従来の他の立体構造の半導体装置を説明するた
めの図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating another conventional semiconductor device having a three-dimensional structure.

【図9】図8の実装を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining the implementation of FIG. 8;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

31 半導体装置 32 半導体チップ 33a 電極パッド 33b 保持用パッド 34 テープキャリア 35b ガイド孔 37 保持リード 38 接続リード 39 テストパッド 40 半導体素子 41,41a,41b 絶縁層 42 スペーサ 43 モールド樹脂 44 端子材 31 semiconductor device 32 semiconductor chip 33a electrode pad 33b holding pad 34 tape carrier 35b guide hole 37 holding lead 38 connection lead 39 test pad 40 semiconductor element 41, 41a, 41b insulating layer 42 spacer 43 mold resin 44 terminal material

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定数の電極パッド(33a)が形成さ
れた半導体チップ(32)が、3次元に所定数配置され
てパッケージングされ、該パッケージ(43)の一側面
に、該電極パッド(33a)より導出される接続リード
(38)の端面が表出される半導体装置において、 所定部分が開口されて前記半導体チップ(32)を位置
させると共に、前記電極パッド(33a)に接続される
前記接続リード(38)の端部が一辺に集約されて形成
されるテープキャリア(34)をそれぞれ具備すること
を特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor chip (32) on which a predetermined number of electrode pads (33a) are formed is three-dimensionally arranged and packaged, and the electrode pads (32) are packaged on one side surface of the package (43). 33a) is a semiconductor device in which end faces of connection leads (38) are exposed, the semiconductor chip (32) is located by opening a predetermined portion, and the connection is connected to the electrode pad (33a). A semiconductor device, comprising: tape carriers (34) each having an end portion of a lead (38) integrated on one side.
【請求項2】 前記半導体チップ(32)に保持用パッ
ド(33b)を形成すると共に、前記テープキャリア
(34)に、該保持用パッド(33b)に接続して該半
導体チップ(32)を保持する保持リード(37)を形
成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
2. A holding pad (33b) is formed on the semiconductor chip (32), and the tape carrier (34) is connected to the holding pad (33b) to hold the semiconductor chip (32). The semiconductor device according to claim 1, wherein the holding lead (37) is formed.
【請求項3】 前記テープキャリア(34)の前記接続
リード(38)の端部に、前記半導体チップ(32)の
試験を行い、試験後には除去されるテストパッド(3
9)を形成することを特徴とする請求項1又は2記載の
半導体装置。
3. A test pad (3) which is tested at the end of the connection lead (38) of the tape carrier (34) and which is removed after the test.
9. The semiconductor device according to claim 1 or 2, characterized in that the semiconductor device (9) is formed.
【請求項4】 前記テープキャリア(34)に、前記半
導体チップ(32)を積み重ねる際の位置整合用のガイ
ド孔(35b)を所定数形成することを特徴とする請求
項1乃至3記載の半導体装置。
4. The semiconductor according to claim 1, wherein the tape carrier (34) is provided with a predetermined number of guide holes (35b) for position alignment when the semiconductor chips (32) are stacked. apparatus.
【請求項5】 前記パッケージ(43)の一側面に表出
される前記接続リード(38)の端面部分に、該接続リ
ード(38)と導通状態の端子材(44)を設けること
を特徴とする請求項1乃至4記載の半導体装置。
5. A terminal material (44) electrically connected to the connection lead (38) is provided at an end surface portion of the connection lead (38) exposed on one side surface of the package (43). The semiconductor device according to claim 1.
【請求項6】 前記半導体チップ(32)の前記電極パ
ッド(33a)が形成される表面及び裏面の少なくとも
何れか一方に、絶縁層(41,41a,41b)を形成
することを特徴とする請求項1乃至5記載の半導体装
置。
6. An insulating layer (41, 41a, 41b) is formed on at least one of a front surface and a back surface of the semiconductor chip (32) on which the electrode pad (33a) is formed. Item 6. The semiconductor device according to items 1 to 5.
【請求項7】 所定数の電極パッド(33a)が形成さ
れた半導体チップ(32)が、3次元に所定数配置され
てパッケージングされ、該パッケージ(43)の一側面
に、該電極パッド(33a)より導出される接続リード
(38)の端面が表出される半導体装置の製造方法にお
いて、 前記接続リード(38)が一辺に集約されて形成された
テープキャリア(34)の開口部分(36)に前記半導
体チップ(32)を位置させ、該半導体チップ(32)
の前記電極パッド(33a)と該接続リード(38)を
接続する工程と、 該テープキャリア(34)に接続された該半導体チップ
(32)を所定数積み重ねてパッケージングを行う工程
と、 前記パッケージ(43)の一側面を研磨し、該接続リー
ド(38)の端面を表出させる工程と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
7. A semiconductor chip (32) on which a predetermined number of electrode pads (33a) are formed is three-dimensionally arranged and packaged, and the electrode pads (32) are provided on one side surface of the package (43). 33a) is a method for manufacturing a semiconductor device in which end faces of connection leads (38) are exposed, and an opening portion (36) of a tape carrier (34) formed by consolidating the connection leads (38) on one side. The semiconductor chip (32) is positioned on the semiconductor chip (32)
Connecting the electrode pad (33a) and the connection lead (38), and stacking a predetermined number of the semiconductor chips (32) connected to the tape carrier (34) for packaging. (43) a step of polishing one side surface to expose an end face of the connection lead (38), and a method of manufacturing a semiconductor device, comprising:
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