JPH0652699A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH0652699A
JPH0652699A JP4204862A JP20486292A JPH0652699A JP H0652699 A JPH0652699 A JP H0652699A JP 4204862 A JP4204862 A JP 4204862A JP 20486292 A JP20486292 A JP 20486292A JP H0652699 A JPH0652699 A JP H0652699A
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memory
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Toshiro Yamada
俊郎 山田
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Abstract

PURPOSE:To obtain a circuit system for an on-chip test having the large degree of juxtaposition and capable of specifying the position of a defective memory by arranging a test circuit dispersed in a lattice shape within a memory array. CONSTITUTION:A memory mat 13 is composed of M0,..., M48 and a test is performed simultaneously. The column of sense amplifiers 11 is provided between the respective memory mat 13 and a dispersively arranged test circuit 12 is arranged on the intersection of the column of sense amplifiers 11 and a word line lining part 15. As to the operation of the device, the same data are written on the corresponding position of the M0-M48 of the memory mat 13 first. Next, these data are read, whether the data are coincident in the column direction is outputted to coincidence lines Y0-Y2 and whether the data are coincident in the row direction is outputted to coincidence lines X0-X6. A specifying circuit for defective memory position 14 detects the memory simultaneously discorded with both Y- and X-coincidence detecting lines and specifies where the real error is present.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は並列度が大きく同時に不
良メモリ位置の特定ができるオンチップテスト回路方式
を有する半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having an on-chip test circuit system having a large degree of parallelism and capable of simultaneously specifying a defective memory position.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路、特にダイナミッ
クランダムアクセスメモリ(以下DRAMと記す)は、
集積度増大の一途をたどっている。その際、記憶容量の
増大によるテスト時間をいかに低減するかが、DRAM
のコスト低減に重要なファクターをしめるようになって
きている。そのため、オンチップテスト回路などによっ
て、テスト時間の低減を図ろうとするのが一般的になっ
てきている。
2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor integrated circuits, especially dynamic random access memories (hereinafter referred to as DRAMs), have been
The degree of integration is increasing. At that time, how to reduce the test time due to the increase of the storage capacity is the DRAM.
Is becoming an important factor in cost reduction. Therefore, it is becoming more common to try to reduce the test time by using an on-chip test circuit or the like.

【0003】図4は従来の32ビット並列テスト方式を
有する半導体集積回路の構成図を示す。この方式の動作
の概略を説明する。まず、メモリアレイ外にあるテスト
回路43から、各メモリマット0,…,31(41)の対
応する位置に全て同じデータが書き込まれる。次に、テ
スト読みだし時には、各メモリマット41から同時にデ
ータがテスト回路43に読みだされる。テスト回路43
では、これらのデータがすべて一致しているかチェック
される。不一致があった場合そのチップは不良があった
と判断される。ここで42はセンスアンプを示す。
FIG. 4 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit having a conventional 32-bit parallel test system. The outline of the operation of this system will be described. First, all the same data is written from the test circuit 43 outside the memory array to the corresponding positions of the memory mats 0, ..., 31 (41). Next, at the time of test reading, data is simultaneously read from each memory mat 41 to the test circuit 43. Test circuit 43
Then, it is checked whether all these data match. If there is a mismatch, it is determined that the chip has a defect. Here, 42 indicates a sense amplifier.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の32ビット並列テスト回路方式では、 (1)並列度が、メモリアレイ部からテスト回路43へ
の読みだし配線数やテスト回路の大きさに制限されるた
め、並列度がそれほど大きくできない、 (2)不良メモリの位置を原理的に特定できない、とい
う問題点を有していた。
However, in the conventional 32-bit parallel test circuit system described above, (1) the degree of parallelism is limited by the number of read wires from the memory array section to the test circuit 43 and the size of the test circuit. Therefore, the parallelism cannot be increased so much, and (2) the position of the defective memory cannot be specified in principle.

【0005】本発明は上記問題点に鑑み、並列度が大き
く同時に不良メモリ位置の特定ができるオンチップテス
ト回路方式を有する半導体集積回路を提供するものであ
る。
In view of the above problems, the present invention provides a semiconductor integrated circuit having an on-chip test circuit system which has a large degree of parallelism and can simultaneously specify a defective memory position.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明の半導体集積回路は、テスト結果をロウ方向
とコラム方向に独立に読みだす手段と、そのテスト結果
から、不良メモリの位置を特定する手段とを有するもの
である。
In order to solve the above problems, the semiconductor integrated circuit of the present invention has means for reading out test results independently in the row and column directions, and the position of the defective memory from the test results. And a means for specifying.

【0007】[0007]

【作用】本発明は上記した構成によって、検出線の電位
変化によってロウ方向とコラム方向の2つの方向に同時
に並列テストを実行でき、これらの結果から不良メモリ
位置を特定できるものである。
According to the present invention, with the above-described structure, the parallel test can be simultaneously executed in the two directions of the row direction and the column direction by the change in the potential of the detection line, and the defective memory position can be specified from these results.

【0008】[0008]

【実施例】以下本発明の一実施例の半導体集積回路につ
いて、図面を参照しながら説明する。図1は本発明の実
施例におけるXYパラレルテスト方式を用いた半導体集
積回路の概略図を示すものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram of a semiconductor integrated circuit using the XY parallel test system according to an embodiment of the present invention.

【0009】図1において、X0,…,X6はロウ方向一
致検出線、Y0,…,Y2はコラム方向一致検出線であ
る。M0,…,M48(13)は同時を行なうテストメモ
リマット、すなわちある大きさ、たとえば32Kビット
のメモリの集合である。各メモリマット13間にはセン
スアンプ列11が設けられ、このセンスアンプ列11と
ワード線裏打ち領域15の交点に分散配置テスト回路1
2が配置されている。14はロウ方向一致検出線、コラ
ム方向一致検出線を入力し不良メモリ位置を特定する不
良メモリ位置特定回路である。16はコラムブロックで
あり、コラム方向に2個分のメモリセット13、例えば
M0,M0’を1ブロックとしている。
In FIG. 1, X0, ..., X6 are row-direction coincidence detection lines, and Y0, ..., Y2 are column-direction coincidence detection lines. M0, ..., M48 (13) are test memory mats that perform simultaneous operation, that is, a set of memories of a certain size, for example, 32K bits. A sense amplifier row 11 is provided between each memory mat 13, and the distributed arrangement test circuit 1 is provided at the intersection of the sense amplifier row 11 and the word line lining area 15.
2 are arranged. Reference numeral 14 is a defective memory position specifying circuit for inputting the row direction coincidence detection line and the column direction coincidence detection line to specify the defective memory position. A column block 16 has two memory sets 13 in the column direction, for example, M0 and M0 'as one block.

【0010】本実施例の半導体集積回路の動作を簡単に
説明する。まず、全同時テストメモリアレイM0ーM4
8の対応する位置に同じデータが書き込まれる。
The operation of the semiconductor integrated circuit of this embodiment will be briefly described. First, all simultaneous test memory arrays M0-M4
The same data is written in the corresponding positions of 8.

【0011】次に、各同時テストメモリアレイのデータ
が同時に読み出されるわけであるが、それらのデータが
コラム方向に一致しているかがY検出線に、ロウ方向に
一致しているかがX検出線に出力される。たとえば、M
0,M3,…,M40,M43,M46の対応するメモリの
データが同じであるかが、Y0一致検出線に出力され
る。同時に、たとえば、M0,M1,M2の対応するメモ
リのデータが同じであるかが、X0一致検出線に出力さ
れる。不良メモリ位置特定回路14を用いてそれらの一
致検出線の出力から、真正エラーがどこにあるかを特定
することができる。
Next, the data in each of the simultaneous test memory arrays are read out at the same time. Whether the data match in the column direction corresponds to the Y detection line, and the data in the row direction corresponds to the X detection line. Is output to. For example, M
0, M3, ..., M40, M43, and M46 indicate whether the corresponding data in the memory are the same or not, which is output to the Y0 coincidence detection line. At the same time, for example, it is output to the X0 coincidence detection line whether the data in the corresponding memories of M0, M1 and M2 are the same. The defective memory position specifying circuit 14 can be used to specify where the true error is from the outputs of the coincidence detection lines.

【0012】その原理は、図2のテーブルに示す様に、
X2とY1の交点のメモリアレイ内に不良があったと
き、即ちM7に不良があった時、X2とY1の一致検出
線に不一致信号が検出されるからである。このような周
辺に置かれた不良メモリ位置特定回路14はANDなど
の論理回路によって容易に構成できる。
The principle is as shown in the table of FIG.
This is because when there is a defect in the memory array at the intersection of X2 and Y1, that is, when there is a defect in M7, a mismatch signal is detected on the match detection line of X2 and Y1. The defective memory location specifying circuit 14 placed in such a peripheral can be easily configured by a logic circuit such as AND.

【0013】なお本実施例の説明ではY検出線の本数を
3本、X検出線の本数を6本、同時テストマット数すな
わち同時テストビット数を48としたが、これらはメモ
リアレイ上を走っているため、容易にその本数を増大さ
せることができる。すなわち、従来例とは異なり、容易
に並列テスト度を増大させることができるという特徴が
ある。さらに、本実施例でも示したように、不良位置の
特定も容易であるという特徴がある。
In the description of this embodiment, the number of Y detection lines is 3, the number of X detection lines is 6, and the number of simultaneous test mats, that is, the number of simultaneous test bits is 48. However, these run on the memory array. Therefore, the number can be easily increased. That is, unlike the conventional example, there is a feature that the parallel test degree can be easily increased. Further, as shown in this embodiment, there is a feature that the defective position can be easily identified.

【0014】次に、メモリアレイ内に分散配置されたテ
スト回路の例について、図3をもちいて説明する。同図
は同実施例における分散配置テスト回路の構成図であ
る。本図において動作を簡単に説明する。なお、この図
中のMOSトランジスタはすべてN型とする。またX,Y一
致検出線をX,Yデータ読みだし線兼用としている。
Next, an example of the test circuits distributed in the memory array will be described with reference to FIG. This drawing is a block diagram of the distributed arrangement test circuit in the embodiment. The operation will be briefly described with reference to FIG. All MOS transistors in this figure are N-type. The X, Y coincidence detection line is also used as an X, Y data read line.

【0015】まず、書き込み動作について説明する。書
き込み動作は以下の手順に従ってなされる。
First, the write operation will be described. The write operation is performed according to the following procedure.

【0016】(W1)書き込み制御線31及びアドレス
に対応するコラム選択線32が1レベルに遷移する。
(W1) The write control line 31 and the column selection line 32 corresponding to the address transit to 1 level.

【0017】(W2)X一致検出線/X読みだし線
(X,X’)に書き込みデータが設定されると、書き込
み制御トランジスタ33、コラム選択線32によって活
性化されるコラムスイッチ39を経由してセンスアンプ
38にデータが書き込まれる。これが、さらにメモリセ
ルに書き込まれることになる。
(W2) When write data is set to the X coincidence detection line / X read line (X, X '), the write control transistor 33 and the column switch 39 activated by the column selection line 32 are used. Then, the data is written in the sense amplifier 38. This will be further written to the memory cell.

【0018】次に、通常読みだし動作について説明す
る。通常読みだし動作は、以下の手順に従ってなされ
る。
Next, the normal reading operation will be described. The normal read operation is performed according to the following procedure.

【0019】(R1)X一致検出線/X読みだし線
(X,X’)が、1レベルにプリチャージされる。
(R1) The X coincidence detection line / X read line (X, X ') is precharged to one level.

【0020】(R2)アドレスに対応するコラム選択線
32が活性化され、コラムスイッチ39を介してメモリ
セルからの信号の増幅結果がローカルデータ線34に出
力される。このとき、1のデータが読みだされたとき、
ローカルデータ線Dが1のレベルに、ローカルデータ線
D’が0のレベルになる。
The column selection line 32 corresponding to the (R2) address is activated, and the amplification result of the signal from the memory cell is output to the local data line 34 via the column switch 39. At this time, when the data of 1 is read,
The local data line D becomes 1 level and the local data line D ′ becomes 0 level.

【0021】(R3)次に、コラムブロック選択線35
が1レベルになるとX読みだしトランジスタ36が活性
化される。これによって、1のデータが読みだされた場
合、Xが0レベルに放電されることになる。これを周辺
回路でさらに増幅して読みだしデータとする訳である。
(R3) Next, the column block selection line 35
Becomes 1 level, the X read transistor 36 is activated. As a result, when 1 data is read, X is discharged to 0 level. This is further amplified by peripheral circuits and read out as data.

【0022】次にテスト時の動作について説明する。テ
スト時の動作は、以下の手順によってなされる。
Next, the operation during the test will be described. The test operation is performed by the following procedure.

【0023】(T1)メモリセルのデータの期待値が
1、即ちメモリセルが正常であれば1が出てくる場合、
X’が1のレベルに、Xが0のレベルにプリチャージさ
れる。期待値が0の時は、逆にX’が0のレベルにXが
1のレベルにプリチャージされる。
(T1) If the expected value of the data in the memory cell is 1, that is, 1 if the memory cell is normal,
X ′ is precharged to the level 1 and X is precharged to the level 0. On the contrary, when the expected value is 0, X'is precharged to 0 level and X is precharged to 1 level.

【0024】(T2)アドレスに対応するコラム選択線
32が活性化され、メモリセルからの信号の増幅結果
が、コラムスイッチ39を介してローカルデータ線34
に出力される。このとき、1のデータが読みだされたと
き、ローカルデータ線Dが1のレベルに、D’が0のレ
ベルになる。
The column selection line 32 corresponding to the (T2) address is activated, and the amplification result of the signal from the memory cell is passed through the column switch 39 to the local data line 34.
Is output to. At this time, when 1 data is read out, the local data line D becomes 1 level and D ′ becomes 0 level.

【0025】(T3)次に、コラムブロック選択線35
が1レベルになるとX読みだしトランジスタ36が活性
化される。これによって、正しく1のデータが読みださ
れて来たとき、Xは0のレベルにプリチャージされてい
たため、Xの電位変動はない。また、X’は1のレベル
にプリチャージされていた訳であるが、D’は0レベル
であるため、X’、D’に接続された読みだしトランジ
スタは導通していないため、X’もまた放電しない。
(T3) Next, the column block selection line 35
Becomes 1 level, the X read transistor 36 is activated. As a result, when the data of 1 is read out correctly, X has been precharged to the level of 0, so that the potential of X does not change. Also, X'is precharged to the level of 1, but since D'is at the 0 level, the read transistor connected to X'and D'is not conducting, so X'also Also, it does not discharge.

【0026】ところが、セルの不良などで誤って0のデ
ータが読みだされてくると、X’は0のレベルに放電さ
れることになる。X一致検出線はX方向に全て共通であ
る。即ち、同じX一致検出線につながっているメモリア
レーからの読みだしデータが全て正しい場合のみ、一致
検出線X、X’の電位は保たれるが、一つでも誤りデー
タがあった場合、0レベルに放電されることになる。Y
一致検出線の動作についてもほぼ同様である。このよう
にして、X、Y両方向複数に渡って同時に一致検出が実
現できる。
However, when the data of 0 is erroneously read out due to a defective cell, X'is discharged to the level of 0. The X coincidence detection lines are all common in the X direction. That is, the potentials of the coincidence detection lines X and X'are maintained only when all the read data from the memory array connected to the same X coincidence detection line are correct. Will be discharged to a level. Y
The operation of the coincidence detection line is almost the same. In this way, coincidence detection can be realized simultaneously in a plurality of X and Y directions.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上のように本発明は、第1の方向の期
待値1の検出線と、第1の方向の期待値0の検出線と、
前記第1の方向の検出線の電位を読みだし信号値によっ
て、変化させる第1の手段と、メモリセルの信号を増幅
するセンスアンプ手段と、前記センスアンプ手段からの
出力の内、特定の出力を転送する手段と、前記転送する
手段からの信号を、前記検出線の電位を変化させる手段
の入力に接続する手段と、第2の方向の期待値1の検出
線と、第2の方向の期待値0の検出線と、前記第2の方
向の検出線の電位を、読みだし信号値によって変化させ
る第2の手段と、前記転送する手段からの信号を、前記
第2検出線の電位を変化させる手段の入力に接続する手
段とを有し、前記第1及び第2の検出線の電位を変化さ
せる手段が、センスアンプ列とワード線裏打ち部の交点
領域に配置されるという構成を設けることにより、ロウ
方向とコラム方向の2つの方向に同時に並列テストを実
行でき、これらの結果から、不良メモリ位置を特定でき
る。
As described above, according to the present invention, the detection line having the expected value 1 in the first direction and the detection line having the expected value 0 in the first direction are provided.
A first means for changing the potential of the detection line in the first direction according to the signal value read out, a sense amplifier means for amplifying the signal of the memory cell, and a specific output among the outputs from the sense amplifier means. For transferring the signal from the transfer means to the input of the means for changing the potential of the detection line, the detection line of the expected value 1 in the second direction, and the detection line of the second direction. The potential of the detection line having the expected value 0 and the potential of the detection line in the second direction are changed according to the read signal value, and the signal from the transfer unit is set to the potential of the second detection line. And a means for connecting to the input of the means for changing, wherein the means for changing the potentials of the first and second detection lines are arranged in the intersection area of the sense amplifier row and the word line lining portion. By this, row direction and column direction In two directions can be executed in parallel simultaneously tested, these results can identify the defective memory location.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例における半導体記憶装置の構成
FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施例における真正エラー箇所を特定する原
理を示す図
FIG. 2 is a diagram showing a principle for identifying a true error portion in the embodiment.

【図3】同実施例における分散配置テスト回路の構成図FIG. 3 is a configuration diagram of a distributed arrangement test circuit in the same embodiment.

【図4】従来の32ビット並列テスト回路方式を用いた
半導体記憶装置の構成図
FIG. 4 is a block diagram of a semiconductor memory device using a conventional 32-bit parallel test circuit system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 センスアンプ列 12 分散配置テスト回路 13 メモリマット 14 不良メモリ位置特定回路 15 ワード線裏打ち部 16 コラムブロック 11 sense amplifier row 12 distributed arrangement test circuit 13 memory mat 14 defective memory position specifying circuit 15 word line lining section 16 column block

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】メモリアレイ内に格子状に分散させてテス
ト回路を配置したことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device in which test circuits are arranged in a memory array in a grid pattern.
【請求項2】請求項1記載のテスト回路をセンスアンプ
列とワード線裏打ち部の交点領域に配置したことを特徴
とする半導体記憶装置。
2. A semiconductor memory device, wherein the test circuit according to claim 1 is arranged in an intersection region of a sense amplifier row and a word line lining portion.
【請求項3】テスト結果をロウ方向とコラム方向に独立
に読みだす手段と、そのテスト結果から、不良メモリの
位置を特定する手段とを有することを特徴とする半導体
記憶装置。
3. A semiconductor memory device comprising: means for reading out test results independently in a row direction and a column direction; and means for specifying a defective memory location from the test results.
【請求項4】請求項3においてテスト結果を得る手段
が、メモリアレイ内に分散配置されていることを特徴と
する半導体記憶装置。
4. A semiconductor memory device according to claim 3, wherein the means for obtaining a test result is distributed in a memory array.
【請求項5】請求項3においてテスト結果を得る手段
が、センスアンプ列とワード線裏打ち部の交点領域に配
置されたことを特徴とする半導体記憶装置。
5. A semiconductor memory device according to claim 3, wherein the means for obtaining a test result is arranged at an intersection region between the sense amplifier row and the word line backing portion.
【請求項6】第1の方向の期待値1の検出線と、第1の
方向の期待値0の検出線と、前記第1の方向の検出線の
電位を、読みだし信号値によって変化させる第1の手段
と、メモリセルの信号を増幅するセンスアンプ手段と、
前記センスアンプ手段からの出力の内、特定の出力を転
送する手段と、前記転送する手段からの信号を、前記検
出線の電位を変化させる手段の入力に接続する手段と、
第2の方向の期待値1の検出線と、第2の方向の期待値
0の検出線と、前記第2の方向の検出線の電位を読みだ
し信号値によって変化させる第2の手段と、前記転送す
る手段からの信号を前記第2検出線の電位を変化させる
手段の入力に接続する手段とを有することを特徴とする
半導体記憶装置。
6. The potentials of the detection line having the expected value 1 in the first direction, the detection lines having the expected value 0 in the first direction, and the potentials of the detection lines in the first direction are changed according to the read signal value. First means and sense amplifier means for amplifying the signal of the memory cell;
Of the outputs from the sense amplifier means, means for transferring a specific output, means for connecting the signal from the means for transferring to the input of means for changing the potential of the detection line,
A detection line having an expected value of 1 in the second direction, a detection line having an expected value of 0 in the second direction, and a second means for changing the potential of the detection line in the second direction according to the read signal value. And a means for connecting a signal from the transferring means to an input of a means for changing the potential of the second detection line.
【請求項7】請求項6記載の検出線をデータ読みだし兼
用としたことを特徴とする半導体集積回路。
7. A semiconductor integrated circuit in which the detection line according to claim 6 is also used for reading data.
【請求項8】請求項6記載の第1及び第2の検出線の電
位を変化させる手段が、センスアンプ列とワード線裏打
ち部の交点領域に配置されことを特徴とする半導体記憶
装置。
8. A semiconductor memory device, wherein the means for changing the potentials of the first and second detection lines according to claim 6 is arranged at an intersection region of a sense amplifier row and a word line lining portion.
【請求項9】請求項6、7、8のいずれかに記載の半導
体記憶装置において、第1の方向の検出線および第2の
方向の検出からの出力によって不良メモリの位置を特定
できる手段を有することを特徴とする半導体記憶装置。
9. The semiconductor memory device according to claim 6, further comprising means for specifying the position of the defective memory by outputs from the detection line in the first direction and the detection in the second direction. A semiconductor memory device having.
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