JPH065082A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH065082A
JPH065082A JP15832392A JP15832392A JPH065082A JP H065082 A JPH065082 A JP H065082A JP 15832392 A JP15832392 A JP 15832392A JP 15832392 A JP15832392 A JP 15832392A JP H065082 A JPH065082 A JP H065082A
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redundant
write
memory cell
defective
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Abstract

PURPOSE:To hold a protection region and a nonprotection region in completely the same manner as before a reduandant substitution even after the reduandant substitution. CONSTITUTION:In a semiconductor memory device, a memory space is provided with a protection region and a nonprotection region. The semiconductor memory device is provided with the following: a memory cell array 1 provided with a plurality of memory cells 1; reduandant memory cells 11 used to replace defective memory cells inside the memory cell array 10; and a write-protection setting means 7 which sets whether the reduandant memory cells 11 are protected or not.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に、メモリ空間の一部が書き込み保護(ライトプロテ
クト)されている半導体記憶装置の冗長手段に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, it relates to a redundancy means of a semiconductor memory device in which a part of a memory space is write-protected.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は、メモリ空間の一部がライトプロ
テクトされている半導体記憶装置のメモリブロックの一
例を示している。図4には、そのメモリブロックに属す
るメモリセルアレイ10、行デコーダ2、列デコーダ
3、書込み回路4、読み出し回路5、ワードライン30
及びビットラインペア47等が模式的に示されている。
メモリセルアレイ10は、行及び列に配されたメモリセ
ル1を有している。
2. Description of the Related Art FIG. 4 shows an example of a memory block of a semiconductor memory device in which a part of a memory space is write-protected. FIG. 4 shows a memory cell array 10 belonging to the memory block, a row decoder 2, a column decoder 3, a write circuit 4, a read circuit 5, and a word line 30.
And the bit line pair 47 and the like are schematically shown.
The memory cell array 10 has memory cells 1 arranged in rows and columns.

【0003】このメモリブロックは、行デコーダ2から
延びる256本のワードライン30を有している。行デ
コーダ2が行アドレス(RA0−RA7)をデコードす
ることにより、256本のワードライン30から1本の
ワードライン30を選択する。行アドレス(RA0−R
A7)の全てが0のときに選択されるワードライン30
を0番のワードライン30とし、行アドレス(RA0−
RA7)の全てが1のときに選択されるワードライン3
0を255番のワードライン30とする。
This memory block has 256 word lines 30 extending from the row decoder 2. The row decoder 2 decodes the row address (RA0-RA7) to select one word line 30 from the 256 word lines 30. Row address (RA0-R
Word line 30 selected when all of A7) are 0
As the 0th word line 30 and the row address (RA0-
Word line 3 selected when all of RA7) are 1
0 is the 255th word line 30.

【0004】本半導体記憶装置には、書き込み保護手段
(以下、「プロテクト手段」とする)が設けられてい
る。このプロテクト手段は、各ワードライン30毎に設
けられた書き込み保護設定手段(以下、「プロテクト設
定手段」とする)6を有している。各プロテクト設定手
段6は、ゲートがワードライン30に接続されたトラン
ジスタである。このトランジスタのソース/ドレインの
一方は、共通のノード100を介して、プルアップ素子
101に接続されている。トランジスタのソース/ドレ
インの他方は、接地されている。後述するように、この
トランジスタの閾値を調整することにより、ワードライ
ン30毎にプロテクト領域及び非プロテクト領域の設定
を行うことができる。
This semiconductor memory device is provided with write protection means (hereinafter referred to as "protection means"). This protect means has a write protection setting means (hereinafter referred to as “protection setting means”) 6 provided for each word line 30. Each protection setting means 6 is a transistor whose gate is connected to the word line 30. One of the source / drain of this transistor is connected to the pull-up element 101 via the common node 100. The other of the source / drain of the transistor is grounded. As will be described later, by adjusting the threshold value of this transistor, it is possible to set a protected area and a non-protected area for each word line 30.

【0005】書き込み回路4には、書き込みデータを受
け取る書き込みデータのための端子と、外部からの書き
込み命令を示すライトイネーブル(WE)信号を受け取
るWE端子と、ライトプロテクト手段からのプロテクト
信号を受け取るプロテクト用端子9と、プログラム端子
とが設けられている。通常のメモリ使用状態では、WE
信号及びプロテクト信号の両方がHレベルの場合にの
み、選択されたメモリセル1へのデータ書き込みが書き
込み回路4により行われる。すなわち、プロテクト信号
がLレベルにあれば、WE信号がHレベルにあっても、
書込み回路4によるデータの書き込みは実行されない。
また、プロテクト領域への書き込み、すなわち、プログ
ラムを行う場合には、プログラム端子をHレベルにする
ことで、プロテクト領域への書き込みが可能となる。
The write circuit 4 has a terminal for write data which receives write data, a WE terminal which receives a write enable (WE) signal indicating a write command from the outside, and a protect signal which receives a protect signal from the write protect means. A terminal 9 for programming and a program terminal are provided. In normal memory usage, WE
The write circuit 4 writes data in the selected memory cell 1 only when both the signal and the protect signal are at the H level. That is, if the protect signal is at L level, even if the WE signal is at H level,
The writing of data by the writing circuit 4 is not executed.
Further, when writing to the protect area, that is, when performing programming, by setting the program terminal to the H level, it becomes possible to write to the protect area.

【0006】この半導体記憶措置のメモリブロックは、
図示されるように、プロテクト領域と非プロテクト領域
に分けられている。例えば、メモリセルアレイ10のう
ち、0番から127番迄のワードラインに対応する領域
について、プロテクトを行う場合、0番から127番迄
のワードラインについての全てのプロテクト設定手段6
の閾値が低く設定され、128番から255番までのワ
ードラインについての全てのプロテクト設定手段6のト
ランジスタの閾値が高く設定される。より具体的には、
0番から127番迄のワードラインについては、ワード
ラインが非選択状態(Lレベル)時にプロテクト設定手
段6のトランジスタはオフし、ワードラインが選択状態
(Hレベル)の時にプロテクト設定手段6のトランジス
タはオンする。また、128番から255番までのワー
ドラインについては、ワードラインが非選択状態時にも
選択状態時にも、プロテクト設定手段6のトランジスタ
はオフである。どのプロテクト設定手段6のトランジス
タの閾値を高くするか低くするかの設定は、ROMにデ
ータを書き込む方法と同様にし、マスクを用いて行われ
る。
The memory block of this semiconductor memory device is
As shown, it is divided into a protected area and a non-protected area. For example, in the memory cell array 10, when protecting the areas corresponding to the word lines 0 to 127, all the protect setting means 6 for the word lines 0 to 127 are protected.
Is set low and the thresholds of the transistors of all the protection setting means 6 for the 128th to 255th word lines are set high. More specifically,
Regarding the word lines from 0 to 127, the transistors of the protect setting means 6 are turned off when the word lines are in the non-selected state (L level), and the transistors of the protect setting means 6 when the word lines are in the selected state (H level). Turns on. Regarding the 128th to 255th word lines, the transistors of the protect setting means 6 are off both when the word lines are in the non-selected state and in the selected state. The setting of which of the protection setting means 6 the threshold value of the transistor is made higher or lower is made by using a mask in the same manner as the method of writing data in the ROM.

【0007】次に、プロテクト手段により、プロテクト
がどのように達成されるかをより具体的に説明する。図
示されているメモリブロックでは、0番から127番迄
のワードライン30の何れかが選択されたとき、それら
のワードライン30についてのプロテクト設定手段6の
トランジスタがオンするため、ノード100はトランジ
スタを介して接地され、ノード100の電位はLレベル
にプルダウンされる。ノード100の電位は2段インバ
ータを介してプロテクト用端子9に伝達される。このた
め、ノード100の電位がLレベルになると、プロテク
ト用端子9もLレベルになり、そのワードライン30に
ついての書き込みが阻止される。一方、128番から2
55番迄のワードライン30の何れかが選択されたとき
は、プロテクト設定手段6がオフしているため、ノード
100はプルアップ素子101を介してHレベルに維持
される。このため、プロテクト用端子9もHレベルにな
り、WE信号がHレベルになれば、そのワードライン3
0についてデータの書き込みが行われる。
Next, how the protection means achieves the protection will be described more specifically. In the illustrated memory block, when any of the word lines 30 from number 0 to 127 is selected, the transistors of the protect setting means 6 for those word lines 30 are turned on, so that the node 100 switches the transistors. It is grounded through and the potential of the node 100 is pulled down to the L level. The potential of the node 100 is transmitted to the protection terminal 9 via the two-stage inverter. Therefore, when the potential of the node 100 becomes L level, the protection terminal 9 also becomes L level, and writing to the word line 30 is blocked. On the other hand, from 128 to 2
When any of the word lines 30 up to the number 55 is selected, the protection setting means 6 is off, so the node 100 is maintained at the H level via the pull-up element 101. Therefore, the protect terminal 9 also becomes H level, and if the WE signal becomes H level, the word line 3
Data is written to 0.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】一般に半導体記憶装置
には、不良ビットを救済するための冗長手段が設けられ
る。図4に示されている半導体記憶装置のメモリブロッ
クについて、不良ビットを救済するための1本の冗長ワ
ードライン4と冗長行デコーダ8が設けられた場合の問
題点を以下に説明する。
Generally, a semiconductor memory device is provided with redundant means for relieving a defective bit. In the memory block of the semiconductor memory device shown in FIG. 4, a problem in the case where one redundant word line 4 and redundant row decoder 8 for relieving a defective bit are provided will be described below.

【0009】メモリブロック内に不良メモリセルがある
場合、その不良メモリセルの属する不良ワードラインが
冗長ワードライン4と置換されることになる。この置換
は、冗長行デコーダ8に対して不良行アドレスを設定
し、かつ、行デコーダ2に於て不良ワードラインを非活
性化することにより達成される。置換は、具体的には、
レーザトリミング技術によって行われることになる。
When there is a defective memory cell in the memory block, the defective word line to which the defective memory cell belongs is replaced with the redundant word line 4. This replacement is achieved by setting the defective row address in the redundant row decoder 8 and deactivating the defective word line in the row decoder 2. The substitution is specifically
It will be performed by laser trimming technology.

【0010】図4は、プロテクトがなされていない冗長
ワードライン4を有している場合を示している。この場
合、プロテクトされている領域に不良ビットが発生した
とき、その不良ビットの属する不良行アドレスについ
て、冗長ワードラインとの置換を行うと、そのアドレス
については、プロテクトが行われていない状態になって
しまうという問題がある。図5(a)及び(b)に示す
簡略化したメモリマップを参照しながらこの問題を説明
する。図5(a)に示されるように、不良アドレスがプ
ロテクト領域内に発生すれば、図5(b)に示されるよ
うに、その不良メモリと置換される冗長メモリはライト
プロテクトされないていないため、冗長置換後、ライト
プロテクト領域が変化してしまう。
FIG. 4 shows the case of having a redundant word line 4 which is not protected. In this case, when a defective bit occurs in the protected area, if the defective row address to which the defective bit belongs is replaced with the redundant word line, the address is not protected. There is a problem that it ends up. This problem will be described with reference to the simplified memory maps shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b). If a defective address occurs in the protected area as shown in FIG. 5A, the redundant memory that replaces the defective memory is not write-protected as shown in FIG. 5B. After redundant replacement, the write protect area changes.

【0011】また、プロテクトが行われた冗長ワードラ
イン4を備えたメモリブロックでは、プロテクトされて
いない領域に不良ビットが発生した場合、その不良ビッ
トの属する不良行アドレスについて冗長ワードライン4
との置換を行えば、そのアドレスについては、プロテク
トが行われた状態になってしまうという問題がある。こ
のように、ライトプロテクト領域を備えた半導体記憶装
置に於いて、冗長手段を設けると、冗長手段により冗長
救済後にライトプロテクト領域が変化するという問題か
生じる。
In addition, in a memory block having a protected redundant word line 4, when a defective bit occurs in an unprotected area, the redundant word line 4 for the defective row address to which the defective bit belongs.
However, there is a problem in that the address is protected when it is replaced with. As described above, in the semiconductor memory device having the write protect area, when the redundant means is provided, there arises a problem that the write protect area changes after the redundancy repair by the redundant means.

【0012】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、その目的とするところは、不良ビット
を冗長手段により冗長救済した後も、ライトプロテクト
領域が変化することのない半導体記憶装置を提供するこ
とにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a semiconductor memory in which the write protect area does not change even after redundant repair of a defective bit by redundant means. To provide a device.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、書き込み保護されている領域及び書き込み保護され
ていない領域をメモリ空間が有している半導体記憶装置
であって、複数のメモリセルを有するメモリセルアレイ
と、該メモリセルアレイ内の不良メモリセルを置換する
ための冗長メモリと、該冗長メモリを書き込み保護する
か否かを設定する書き込み保護設定手段とを備えて、そ
のことにより上記目的が達成される。
A semiconductor memory device according to the present invention is a semiconductor memory device in which a memory space has a write-protected area and a non-write-protected area. The memory cell array has, a redundant memory for replacing a defective memory cell in the memory cell array, and a write protection setting means for setting whether or not the redundant memory is write-protected. To be achieved.

【0014】前記書き込み保護設定手段は、前記不良メ
モリセルが前記書き込み保護されている領域のメモリセ
ルである場合には、前記冗長メモリを書き込み保護する
ように設定され、該不良メモリセルが前記書き込み保護
されていない領域のメモリセルである場合には、該冗長
メモリを書き込み保護しないように設定されることが好
ましい。
When the defective memory cell is a memory cell in the write protected area, the write protection setting means is set to write protect the redundant memory, and the defective memory cell is written to the defective memory cell. In the case of a memory cell in an unprotected area, it is preferable that the redundant memory is set so as not to be write-protected.

【0015】好ましい実施例では、前記冗長メモリは単
位容量を有しており、前記不良メモリセルを単位容量毎
に置換する。
In a preferred embodiment, the redundant memory has a unit capacity, and the defective memory cell is replaced for each unit capacity.

【0016】[0016]

【実施例】以下に、本発明を実施例について説明する。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.

【0017】図1は、本発明の第1の実施例である半導
体記憶装置が有しているメモリブロックの構成例を示し
ている。このメモリブロックは、図4に示された半導体
記憶装置のメモリブロックと同様に、行及び列に配され
た複数のメモリセル1を有するメモリセルアレイ10
と、メモリセルアレイ10から所望のメモリセル1を選
択するための行デコーダ2及び列デコーダ3と、複数の
ワードライン30及び複数のビットラインペア47と、
選択されたメモリセル1にデータを書き込むための書き
込み回路4と、選択されたメモリセル1からデータを読
み出すための読み出し回路5と、メモリセルアレイ10
内の不良メモリセルを置換するための複数の冗長メモリ
セル11と、冗長メモリセル11のための冗長ワードラ
イン4と、冗長ワードライン4を選択するための冗長行
デコーダ8とを備えている。
FIG. 1 shows a configuration example of a memory block included in the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention. This memory block is similar to the memory block of the semiconductor memory device shown in FIG. 4, and has a memory cell array 10 having a plurality of memory cells 1 arranged in rows and columns.
A row decoder 2 and a column decoder 3 for selecting a desired memory cell 1 from the memory cell array 10, a plurality of word lines 30 and a plurality of bit line pairs 47,
A write circuit 4 for writing data to the selected memory cell 1, a read circuit 5 for reading data from the selected memory cell 1, and a memory cell array 10.
A plurality of redundant memory cells 11 for replacing the defective memory cell therein, a redundant word line 4 for the redundant memory cell 11, and a redundant row decoder 8 for selecting the redundant word line 4 are provided.

【0018】各メモリセル1は、ビットラインペア47
及びワードライン30に接続されている。ビットライン
ペア47は、トランジスタを介してデータ線15に接続
されている。そのトランジスタは、行デコーダ3の出力
する列選択信号46に応じて開閉する。データ線15
は、書き込み回路4及び読み出し回路5に接続されてい
る。
Each memory cell 1 has a bit line pair 47.
And word line 30. The bit line pair 47 is connected to the data line 15 via a transistor. The transistor opens and closes according to the column selection signal 46 output from the row decoder 3. Data line 15
Are connected to the write circuit 4 and the read circuit 5.

【0019】本半導体記憶装置は、プロテクト手段を有
しており、メモリ空間がプロテクトされている領域(プ
ロテクト領域)及びプロテクトされていない領域(非プ
ロテクト領域)を有している。このプロテクト手段は、
各ワードライン30毎に設けられた複数のプロテクト設
定手段6を有している。本実施例のプロテクト設定手段
6は、ゲートがワードライン30に接続されたトランジ
スタ(記憶手段)である。このトランジスタのソース/
ドレインの一方は、プロテクト手段の共通のノード10
0を介して、プルアップ素子101に接続されている。
トランジスタのソース/ドレインの他方は、接地されて
いる。なお、プロテクトを行う方法は、図4に示した半
導体記憶装置について説明した方法と同様である。
This semiconductor memory device has a protection means, and has a protected area (protected area) and an unprotected area (non-protected area) in the memory space. This protection means
It has a plurality of protect setting means 6 provided for each word line 30. The protection setting means 6 of this embodiment is a transistor (storage means) whose gate is connected to the word line 30. Source of this transistor /
One of the drains has a common node 10 of the protection means.
It is connected to the pull-up element 101 via 0.
The other of the source / drain of the transistor is grounded. The method of protection is the same as the method described for the semiconductor memory device shown in FIG.

【0020】本実施例の半導体記憶装置は、更に、冗長
メモリセル11をプロテクトするか否かを設定するため
の冗長メモリプロテクト設定手段7を備えている。本実
施例の冗長メモリプロテクト設定手段7は、図1に示さ
れるように、トランジスタ7aとヒューズ7bとからな
る簡略な構成を有している。このトランジスタ7aは、
ゲート電極とソース/ドレインとを有するMOSFET
であり、そのゲート電極は冗長ワードライン4に接続さ
れ、ソース/ドレインの一方はノード100に接続さ
れ、他方はヒューズ7bを介して接地されている。この
ように、本実施例に於ける冗長メモリプロテクト設定手
段7は、他のワードライン30についてのプロテクト設
定手段6に並列に配置されている。
The semiconductor memory device of this embodiment further comprises a redundant memory protect setting means 7 for setting whether or not to protect the redundant memory cell 11. As shown in FIG. 1, the redundant memory protection setting means 7 of the present embodiment has a simple structure including a transistor 7a and a fuse 7b. This transistor 7a is
MOSFET having gate electrode and source / drain
The gate electrode is connected to the redundant word line 4, one of the source / drain is connected to the node 100, and the other is grounded via the fuse 7b. Thus, the redundant memory protect setting means 7 in this embodiment is arranged in parallel with the protect setting means 6 for the other word lines 30.

【0021】冗長メモリプロテクト設定手段7は、不良
メモリセルがプロテクトされている領域のメモリセル1
である場合には、冗長メモリセルをプロテクトするよう
に設定され、不良メモリセルがプロテクトされていない
領域のメモリセル1である場合には、冗長メモリセル1
1をプロテクトしないように設定される。この設定は、
冗長メモリ書き込み設定手段7のヒューズ7bをショー
ト状態又はオープン状態にすることで実行される。
The redundant memory protect setting means 7 is provided for the memory cell 1 in the area where the defective memory cell is protected.
Is set to protect the redundant memory cell, and if the defective memory cell is the memory cell 1 in the unprotected area, the redundant memory cell 1
It is set so that 1 is not protected. This setting is
This is executed by setting the fuse 7b of the redundant memory write setting means 7 to the short state or the open state.

【0022】以下に、本実施例にて行われる冗長救済
を、より具体的に説明する。まず、レーザトリミングに
よって、不良メモリセルを含む行アドレスを冗長行デコ
ーダ8内に設定し、行デコーダ2内で不良メモリセルを
含むワードライン30を非活性化する。このような設定
は、冗長行デコーダ8及び行デコーダ2内に設けられて
いる所定のヒューズをレーザトリミングにより溶断する
ことにより実行される。不良メモリセルがプロテクトさ
れている領域のメモリセル1である場合には、上記レー
ザトリミングの際に、冗長メモリプロテクト設定手段7
のヒューズ7bをレーザトリミングにより切断する。一
方、不良メモリセルがプロテクトされていない領域のメ
モリセル1である場合には、冗長メモリプロテクト設定
手段7のヒューズ7bを切断することなくそのままの状
態に維持する。
The redundancy repair carried out in this embodiment will be described in more detail below. First, the row address including the defective memory cell is set in the redundant row decoder 8 by laser trimming, and the word line 30 including the defective memory cell is deactivated in the row decoder 2. Such setting is performed by melting a predetermined fuse provided in the redundant row decoder 8 and the row decoder 2 by laser trimming. When the defective memory cell is the memory cell 1 in the protected area, the redundant memory protect setting means 7 is used during the laser trimming.
Fuse 7b is cut by laser trimming. On the other hand, when the defective memory cell is the memory cell 1 in the unprotected area, the fuse 7b of the redundant memory protect setting means 7 is maintained as it is without being cut.

【0023】本実施例の冗長メモリ(冗長行)は、所定
の単位容量を有しており、不良メモリセルをその単位容
量毎に置換する。なお、冗長メモリラインの本数は複数
本であってもよい。その場合、各冗長メモリライン毎に
冗長メモリプロテクト設定手段7が設けられることにな
る。
The redundant memory (redundant row) of this embodiment has a predetermined unit capacity, and defective memory cells are replaced for each unit capacity. The number of redundant memory lines may be plural. In that case, the redundant memory protect setting means 7 is provided for each redundant memory line.

【0024】図2は、本発明の第2の実施例である半導
体記憶装置の構成例を示している。この半導体記憶装置
は、複数のメモリセル1を有するメモリセルアレイ10
と、メモリセルアレイ10から所望のメモリセル1を選
択するための行デコーダ2及び列デコーダ3と、選択さ
れたメモリセル1にデータを書き込むための書き込み回
路4と、選択されたメモリセル1からデータを読み出す
ための読み出し回路5と、メモリセルアレイ10内の不
良メモリセルを置換するための冗長メモリセル11と、
冗長メモリセル11の冗長ビットラインペア147と、
冗長ビットラインペア147を選択するための冗長列デ
コーダ13と、を備えている。
FIG. 2 shows a configuration example of a semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. This semiconductor memory device includes a memory cell array 10 having a plurality of memory cells 1.
A row decoder 2 and a column decoder 3 for selecting a desired memory cell 1 from the memory cell array 10, a write circuit 4 for writing data to the selected memory cell 1, and data from the selected memory cell 1. A read circuit 5 for reading data, a redundant memory cell 11 for replacing a defective memory cell in the memory cell array 10,
Redundant bit line pair 147 of redundant memory cell 11,
A redundant column decoder 13 for selecting the redundant bit line pair 147.

【0025】本実施例の半導体記憶装置は、ビットライ
ンペア47毎に、言い替えれば、列アドレス毎にプロテ
クト設定手段14を有している。各プロテクト設定手段
14は、トランジスタ14a、プルアップ素子14b、
ANDゲート14c、及びORゲートを有している。ト
ランジスタ14aのゲートはWE信号を受け取り、ソー
ス/ドレインの一方は接地され、ソース/ドレインの他
方はプルアップ素子14b及びORゲートの第2入力端
子に接続されている。ORゲートの第1入力端子はプロ
グラム端子に接続されている。ORゲートの出力端子は
ANDゲート14cの第1入力端子に接続されている。
ANDゲート14cの第2入力端子は列デコーダ3に接
続されている。本半導体記憶装置のメモリ空間は、列ア
ドレスで区分されるプロテクト領域及び非プロテクト領
域を有している。
The semiconductor memory device of this embodiment has the protect setting means 14 for each bit line pair 47, in other words, for each column address. Each protection setting means 14 includes a transistor 14a, a pull-up element 14b,
It has an AND gate 14c and an OR gate. The gate of the transistor 14a receives the WE signal, one of the source / drain is grounded, and the other of the source / drain is connected to the pull-up element 14b and the second input terminal of the OR gate. The first input terminal of the OR gate is connected to the program terminal. The output terminal of the OR gate is connected to the first input terminal of the AND gate 14c.
The second input terminal of the AND gate 14c is connected to the column decoder 3. The memory space of this semiconductor memory device has a protected area and a non-protected area that are divided by column addresses.

【0026】列アドレス単位でのプロテクトを、以下に
説明する。本実施例の書き込み回路4は、WE信号を受
け取ると、データ線15に書き込みデータを伝達する
が、選択された列(ビットラインペイ47)がプロテク
ト領域にある場合、プロテクト設定手段14の出力50
に応じて、データ線15とビットラインペア47とを切
り放すことによりライトプロテクトが実現される。
The protection for each column address will be described below. When receiving the WE signal, the write circuit 4 of the present embodiment transfers the write data to the data line 15, but when the selected column (bit line pay 47) is in the protect area, the output 50 of the protect setting means 14 is output.
Accordingly, write protection is realized by disconnecting the data line 15 and the bit line pair 47.

【0027】より具体的に説明する。以下において、ま
ず、通常の使用状態であるプログラム端子がLレベルの
ときの動作について説明する。非プロテクト領域に対し
ては、プロテクト設定手段14のトランジスタ14a
は、閾値が高く設定されている。より具体的には、トラ
ンジスタ14aのゲートがHレベルであってもLレベル
であっても、トランジスタ14aはオフしている。この
ため、ORゲートの2つの入力端子(第1及び第2の入
力端子)のうちのプルアップ素子14bに接続された第
2入力端子は、プルアップ素子14bによって、常にH
レベルに保持される。このため、ANDゲート14cの
第2の入力端子の電位が、選択された列デコード信号線
46の電位によりHレベルになれば、ビットラインペア
47とデータ線15とは必ず接続されることになる。
A more specific description will be given. In the following, first, the operation when the program terminal in the normal use state is at the L level will be described. For the non-protected area, the transistor 14a of the protect setting means 14
Has a high threshold value. More specifically, the transistor 14a is off regardless of whether the gate of the transistor 14a is at the H level or the L level. Therefore, the second input terminal of the two input terminals (first and second input terminals) of the OR gate, which is connected to the pull-up element 14b, is always H level by the pull-up element 14b.
Hold on to the level. Therefore, if the potential of the second input terminal of the AND gate 14c becomes H level due to the potential of the selected column decode signal line 46, the bit line pair 47 and the data line 15 are surely connected. .

【0028】一方、プロテクト領域についてはプロテク
ト設定手段14のトランジスタ14aは、閾値が低く設
定されている。より具体的には、トランジスタ14aの
ゲートHレベル時はトランジスタ14aはオンし、トラ
ンジスタ14aのゲートがLレベルの時はトランジスタ
14aはオフする。このため、WE信号がLレベルであ
れば、ORゲートの第2の入力端子はプルアップ素子1
46によってHレベルに保持される。しかし、WE信号
がHレベルになると、トランジスタ14aがオンするた
め、ORゲートの第2入力端子はLレベルにプルダウン
され、ANDゲート14cの出力50はLレベルにな
る。従って、プロテクト領域内の列(ビットラインペア
47)が選択され、列選択信号46がHレベルとなって
も、WE信号がHレベルになれば、データ線15とビッ
トラインペア47とを切り放させることになる。トラン
ジスタ14aの閾値の設定は、ROMにデータを書き込
む方法と同様にしてマスクを用いて行われる。
On the other hand, in the protected area, the threshold value of the transistor 14a of the protect setting means 14 is set low. More specifically, when the gate of the transistor 14a is at H level, the transistor 14a is turned on, and when the gate of the transistor 14a is at L level, the transistor 14a is turned off. Therefore, if the WE signal is at L level, the second input terminal of the OR gate is the pull-up element 1
It is held at H level by 46. However, when the WE signal becomes H level, the transistor 14a is turned on, so that the second input terminal of the OR gate is pulled down to L level, and the output 50 of the AND gate 14c becomes L level. Therefore, even if the column (bit line pair 47) in the protected area is selected and the column selection signal 46 becomes H level, if the WE signal becomes H level, the data line 15 and the bit line pair 47 are disconnected. I will let you. The threshold value of the transistor 14a is set by using a mask as in the method of writing data in the ROM.

【0029】本実施例は、更に、冗長列(冗長ビットラ
インペア147)のためのメモリプロテクト設定手段1
2を有している、この冗長ビットラインペア147のた
めのメモリプロテクト設定手段12は、トランジスタ1
2a、プルアップ素子12b、ANDゲート12c、O
Rゲート、及びヒューズ12dを有している。トランジ
スタ12aのゲートはWE信号を受け取り、ソース/ド
レインの一方は接地され、他方はヒューズ12dを介し
てプルアップ素子12b及びORゲートの第2の入力端
子に接続されている。ORゲートの第1入力端子はプロ
グラム端子に接続されている。ORゲートの出力端子は
ANDゲート12cの第1入力端子に接続されている。
ANDゲート12cの第2入力端子は冗長列デコーダ1
3に接続されている。プルアップ素子12bとトランジ
スタ12aとの間のヒューズ12dは、レーザトリミン
グにより溶断される。
The present embodiment further includes a memory protection setting means 1 for a redundant column (redundant bit line pair 147).
The memory protect setting means 12 for this redundant bit line pair 147, which has 2
2a, pull-up element 12b, AND gate 12c, O
It has an R gate and a fuse 12d. The gate of the transistor 12a receives the WE signal, one of the source / drain is grounded, and the other is connected to the pull-up element 12b and the second input terminal of the OR gate via the fuse 12d. The first input terminal of the OR gate is connected to the program terminal. The output terminal of the OR gate is connected to the first input terminal of the AND gate 12c.
The second input terminal of the AND gate 12c is the redundant column decoder 1
Connected to 3. The fuse 12d between the pull-up element 12b and the transistor 12a is blown by laser trimming.

【0030】冗長救済時には、レーザトリミングによっ
て不良ビットを含む列アドレスを冗長列デコーダ13内
に設定し、列デコーダ3内で不良ビットを含む列デコー
ド信号を非活性にする。このとき、同時に、不良ビット
を含む列アドレスがプロテクト領域にあるか否かに応じ
て、ヒューズ12dを切断するかそのままにしておく。
より詳細に説明すれば、不良アドレスがプロテクト領域
にあれば、ヒューズ12dをそのままにし、不良アドレ
スが非プロテクト領域にあれば、ヒューズ12dを切断
する。このようにして、列アドレス(ビットラインペア
47)単位でライトプロテクトを実現する方法と同様の
方法で、冗長列アドレス(冗長ビットラインペア14
7)についてもライトプロテクトを実現することができ
る。
At the time of redundancy repair, the column address including the defective bit is set in the redundant column decoder 13 by laser trimming, and the column decode signal including the defective bit is deactivated in the column decoder 3. At this time, at the same time, the fuse 12d is cut or left as it is, depending on whether or not the column address including the defective bit is in the protected area.
More specifically, if the defective address is in the protected area, the fuse 12d is left as it is, and if the defective address is in the non-protected area, the fuse 12d is cut. In this manner, the redundant column address (redundant bit line pair 14
Regarding 7), write protection can also be realized.

【0031】また、プロテクト領域にプログラムすると
きには、プログラム端子をHレベルにするとともに、W
EをHレベルにする。この場合、プロテクト設定手段の
設定にもかかわらず、ANDゲート12cの第1入力端
子がHレベルになるので、WEがHレベルであっても、
プロテクト領域に対して出力50がHレベルとなり、プ
ロテクト領域への書き込みを実行することができる。
When programming the protect area, the program terminal is set to H level and W
Set E to H level. In this case, the first input terminal of the AND gate 12c goes to the H level regardless of the setting of the protect setting means, so that even if WE is at the H level,
The output 50 becomes H level to the protect area, and writing to the protect area can be executed.

【0032】図3(a)、(b)及び(c)に示す簡略
化したメモリマップを参照しながら本発明の実施例の効
果を説明する。図3(a)に示されるように、不良アド
レスがプロテクト領域内に発生すれば、図3(b)に示
されるように、その不良メモリと置換される冗長メモリ
もライトプロテクトされる。一方、不良アドレスが非プ
ロテクト領域内に発生すれば、図3(c)に示されるよ
うに、その不良メモリと置換される冗長メモリはライト
プロテクトされない。
The effects of the embodiment of the present invention will be described with reference to the simplified memory maps shown in FIGS. 3 (a), 3 (b) and 3 (c). If a defective address occurs in the protected area as shown in FIG. 3A, the redundant memory that replaces the defective memory is also write-protected as shown in FIG. 3B. On the other hand, if the defective address occurs in the non-protected area, the redundant memory that replaces the defective memory is not write-protected as shown in FIG. 3C.

【0033】[0033]

【発明の効果】このように、本発明によれば、冗長メモ
リに対してもライトプロテクトするかしないかを設定で
きるので、冗長置換後に於いても、冗長置換前と全く同
じプロテクト領域及び非プロテクト領域を保持すること
ができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to set whether or not write protection is applied to the redundant memory. Therefore, even after the redundant replacement, the protected area and the non-protected area are exactly the same as those before the redundant replacement. The area can be retained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a first exemplary embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a second exemplary embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例の効果を模式的に示すための簡
略化されたメモリマップであって、(a)は冗長置換前
のメモリマップ、(b)はプロテクトされた冗長メモリ
により冗長置換された後のメモリマップ、(c)はプロ
テクトされていない冗長メモリにより冗長置換された後
のメモリマップである。
FIG. 3 is a simplified memory map for schematically showing the effect of the embodiment of the present invention, in which (a) is a memory map before redundant replacement and (b) is redundant by a protected redundant memory. The memory map after the replacement, and (c) is the memory map after the redundant replacement by the unprotected redundant memory.

【図4】従来例の構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a conventional example.

【図5】従来例の問題点を模式的に示すための簡略化さ
れたメモリマップであって、(a)は冗長置換前のメモ
リマップ、(b)はプロテクトされていない冗長メモリ
により冗長置換された後のメモリマップである。
FIG. 5 is a simplified memory map for schematically showing the problems of the conventional example, in which (a) is a memory map before redundant replacement and (b) is redundant replacement by an unprotected redundant memory. It is a memory map after being processed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセル 2 行デコーダ 3 列デコーダ 4 書き込み回路 5 読み出し回路 6 プロテクト設定手段 7 冗長メモリプロテクト設定手段 8 冗長行デコーダ 10 メモリセルアレイ 11 冗長メモリセル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 memory cell 2 row decoder 3 column decoder 4 write circuit 5 read circuit 6 protect setting means 7 redundant memory protect setting means 8 redundant row decoder 10 memory cell array 11 redundant memory cell

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/10 491 8728−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 27/10 491 8728-4M

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 書き込み保護されている領域及び書き込
み保護されていない領域をメモリ空間が有している半導
体記憶装置であって、 複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、 該メモリセルアレイ内の不良メモリセルを置換するため
の冗長メモリと、 該冗長メモリを書き込み保護するか否かを設定する書き
込み保護設定手段と、 を備えている半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device having a memory space having a write protected area and a non-write protected area, the memory cell array having a plurality of memory cells, and a defective memory in the memory cell array. A semiconductor memory device comprising: a redundant memory for replacing a cell; and write protection setting means for setting whether or not the redundant memory is write-protected.
【請求項2】 前記書き込み保護設定手段は、前記不良
メモリセルが前記書き込み保護されている領域のメモリ
セルである場合には、前記冗長メモリを書き込み保護す
るように設定され、該不良メモリセルが前記書き込み保
護されていない領域のメモリセルである場合には、該冗
長メモリを書き込み保護しないように設定される請求項
1に記載の半導体記憶装置。
2. The write protection setting means is set to write-protect the redundant memory when the defective memory cell is a memory cell in the write-protected region, and the defective memory cell is 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein when the memory cell is in a region that is not write-protected, the redundant memory is set so as not to be write-protected.
【請求項3】 前記冗長メモリは単位容量を有してお
り、前記不良メモリセルを単位容量毎に置換する請求項
1に記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the redundant memory has a unit capacity, and the defective memory cell is replaced for each unit capacity.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100309463B1 (en) * 1999-03-20 2001-09-26 김영환 Specific address memory block protection circuit

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