JPH06505564A - OHzから10GHzの周波数領域における電磁インピーダンス測定方法 - Google Patents

OHzから10GHzの周波数領域における電磁インピーダンス測定方法

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JPH06505564A JP5509794A JP50979493A JPH06505564A JP H06505564 A JPH06505564 A JP H06505564A JP 5509794 A JP5509794 A JP 5509794A JP 50979493 A JP50979493 A JP 50979493A JP H06505564 A JPH06505564 A JP H06505564A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 OHzから10GHzの周波数領域における電磁インピーダンス測定方法 この発明は、請求の範囲第1項および第9項に定義した方法に関する。
周波数および温度の関数としての電磁インピーダンスZ ” Z ++ i Z  xの実部Z、および虚部Z2の測定は、例えばコンデンサ、コイルなどの受動 電子部品の開発および製造に不可欠である。さらに、各種材料の開発または製造 制御のためには、インピーダンス測定によって決定される誘電材料および磁気材 料の各種パラメータを知ることが重要である。
電子部品または材料の特徴を認識するためには、ケーブルを含む測定装置による 誤差を除外する高精度の広帯域インピーダンス測定技術が必要である。使用され る電磁波の波長がケーブルの長さより相当長いものである限り、測定による電気 技術的な説明は十分正確なものとなる。すなわち、各測定装置はひとかたまりの 構成要素の結合として考えられる。IMHzを超えると、付加的な影響が顕著と なる。この付加的な影響は、伝送線理論によって説明される。この伝送線理論の 枠組みの中で、より一般的に伝送線について記載した文献がある(Spring erの1984年発行のEinfiihrung in die theore tische Electrotechnik、第11版第5章において、K、 Kupfmullerにより発表された)。伝送線におけるすべての切れ目にお いて、電流または電圧は反射されることになる。故に、これらの切れ目では多重 反射が発生し、伝送線に沿う電流および電圧は、電気技術的な説明とは対照的に 変化する。しかし、同種の線に沿う電流および電圧の位相変化も顕著になる。線 の位相長さは周波数に比例するので、これらによる影響は周波数が高くなるほど 大きくなる。インピーダンスを定める実際の電圧−電流比を決定するためには、 多重反射による影響を考慮したインピーダンス測定を行う必要がある。
現在までのところ、数GHzのマイクロ波のみならずO〜10MHzの低周波領 域においても有効な高精度インピーダンス測定技術は開発されていない。故に、 広い周波数帯域にわたるインピーダンス測定のためには、それぞれ異なる技術を 使用しなければならない。これは、測定の準備をし測定を行う上で、多くの時間 および装置を必要とする。さらに、公知の技術は、1’OMHzを超える領域で は様々な問題点を有する。以下において、0〜10GHzの様々な測定方法を、 現在の技術水準として説明する。
a)例えば、自動周波数ブリッジ、変成器比率ブリッジ、自動バランスブリッジ 、LCRメータ、インピーダンスアナライザ等のブリッジをバランスさせること によるインピーダンス測定(J、Wieley & 5onsの1987年発行 のImpedance 5pectroscopy、第1版第3章において、J  、 R0Macdona Idにより発表された)。ブリッジをバランスさせ るこの技術では、位相変化および多重反射が考慮されておらず、故に、正確な測 定が行われるのは10MHzまでである。
b)3つの異なる基準器による基準化によフてフィード線の影響を考慮した、透 過係数および反射係数の測定。
すべての異なる技術の要約は、1991年4月に発行されたIEEE Tran sactions on Microwave Theory and Tec hniquesの第4巻、N024において、H,J、EulおよびB、5ch iekによって発表されたA Generalized Theory and  New Ca1ibration Procedures for Netw ork Analyzer 5elf−Calibrationに記載されてい る。
これらの技術を上記b)に応用することによって、測定すべきインピーダンスを 持つ測定セルが挿入される伝送路の反射係数および透過係数が、両信号方向につ いて、すなわち、測定周波数光たり4つの合成値が測定される。フィード線の影 響は、3工程処理を使用して除去される。基準化(キャリブレーション)時にお いては、測定セルの代りに、3つの異なる基準器がフィード線に直列に接続され 、反射係数および透過係数が測定される。必要とされる時間および装置(反射信 号を分割し、信号の流れる方向を反転するブリッジ)に加えて、これら技術には 、該技術の適用および精度を制限する2つの大きな課題がある。使用される基準 器は、未知の理由で、温度の関数としてのこれらの特性を変化させる。その結果 、フィード線の影響は、室温でのみ測定可能になる。(これは、基準化のために 異なる線の長さを使用する技術にはあてはまらない。しかし、これらの技術は、 広帯域に有効な技術ではなく、その長い波長により、ここで説明される周波数領 域では実現不可能である。)故に、正確なインピーダンス測定は、室温近辺の温 度でのみ可能である。特に、測定すべきインビーダンスを含んだ測定セルの影響 は、該測定セルが伝送線のインピーダンスと整合している場合にのみ、考慮され る(前記測定セルの位相長さは、例えば付加的な透過係数の測定によって決定さ れなければならない)。これは、実現困難であって、インピーダンス測定の精度 および測定セルの幾何学形状を制限する、理想化された前提条件である。
5chiekらの米国特許NO,4,982,164(1991年1月)におい ては、純粋なインピーダンス測定のためのネットワークアナライザの基準化には 、2つの基準器を使用するだけで十分である、と記載されている。しかし、この 場合にあっても、各々の反射係数および透過係数が測定されるので、データの評 価要件のみならず装置に対する要件も高いままである。
C)インピーダンスアナライザまたはネットワークアナライザを使用した反射係 数の測定(例えば、同軸線の成端としてのサンプルについて、Viewegの1 978年発行のMessung dielecktrischer Stoff eigenschaften第1版第4.3章においてA、Ho5tによって発 表された)。
これらの技術はIMHzより低い周波数においては適用不能であり、また、これ らは、理想的には10−2であるが10−Iより小さい値を持つ損失正接Z、/ Z2の分解能を提供するものではない。
(例えば、Paris IVの1986年発行のN、−E、Be1hadj−T aharにおいてUniversit6 PierreおよびMarie Cu rieのThese de doctorat)。
フィード線の影響は、3つの異なる基準器を使用するb)に記載した方法に従っ て測定される。故に、同一の制限条件が、温度によって左右される測定に有効で ある。
そこで、0〜10GHz、好ましくは、0〜2GHzの周波数領域における電磁 インピーダンスの実部および虚部を測定する有効な方法が発明された。透過係数 の実部および虚部、または、これと同等な伝送路の透過パラメータの実部および 虚部が測定される。測定路は、測定セルが挿入される伝送線と、出力側の成端イ ンピーダンスとからなる。この方法は次のように特徴づけられる。
(a)IJ定すべきインピーダンスZは、測定中において前記測定セルにおいて 固定した距離を有する2つの電極に接続されるが、該2つの電極の間に実現され 、その結果としての伝送路の透過係数S〃11が測定される。そして、 (b)測定すべきインピーダンスの代りに、予め確認された(既知の)異なる値 を有する2つのインピーダンスZa、Zbが(a)で述べたものと同じ電極に直 列に接続されるか、または、(a)と同じ距離を有する電極間に実現され、同一 の条件下において、伝送路の2つの対応する透過係数S31.Shが連続的に測 定される。
(C)測定すべきインピーダンスの値が、3つの測定された透過係数および前記 2つの予め確認されたインピーダンスの値から算未知のインピーダンスZが伝送 路の成端インピーダンスに直列接続される場合、Zは次の式から算出される。
未知のインピーダンスZが伝送路の成端インピーダンスに並列接続される場合、 Zは次の式から算出される。
それぞれ異なる幾何学的長さを持つインピーダンスが使用される場合、すなわち 、電極間の幾何学的な距離が透過係数の測定ごとに変化される場合、予め確認さ れたインピーダンスおよび未知のインピーダンスの長さの差に対応する、測定さ れた透過係数Sit。
S 2b、の位相を修正することによって、電極間距離は数学的に一定に維持可 能である。この処理は実施例4において後で説明する。
一般的に、透過係数Sゾt、S+’+、S″2F””は、周波数、温度(フィー ド線および測定セルの熱膨張によって誘導される)および電極間距離の関数であ る。最近の広帯域ネットワークアナライザを使用することにより、次のインピー ダンスが電極に接続されるか、または、前記電極間に実現される前に、各透過係 数は周波数の関数として直接的に測定可能である。上記(b)に従い、前記測定 セルは伝送路において変化せず、インピーダンス2,2.、Z、のみが変化する 、ことがこの方法の特徴である。
透過係数SA+ S、7はゼロであってはならない。すなわち、S;。
≠OおよびSA≠0でなければならない。直列接続である場合(式1)、これは 、透過係数の対応する値が測定可能であるよう、予め確認されたインピーダンス の絶対値に関してIZ、l<ωおよび IZ、l<美でなければならない、とい うことを意味する。未知のインピーダンスが伝送路の成端インピーダンスに並列 に接続されている場合(式2)、Z、≠0およびZ、≠0でなければならない。
゛予め確認されたインピーダンス′°という表現は、インピータンスの値が予め 知られているが、または、既知の技術によって測定可能である、ということを意 味する。実施例1において、Z、に対するある一定の周波数作用が前提とされて いるが、広帯域測定の各周波数ポイントでS力およびS’+がらZ、をめる方法 を説明する。インピーダンスZ、およびZ、に関して、例えば、短絡、オーム抵 抗、プレートを有するもしくは有するさないコンデンサ、または、これらインピ ーダンスの組合わせを使用してよい。
インピーダンスZ1およびZ、は、例えば、電極に接続される電子部品であって よい。また、インピーダンスZ、およびZ、は、エリアル電極であって例えばプ レートコンデンサのように作用する電極を利用して実現されてもよい。
測定すべきインピーダンスが伝送路の成端インピーダンスに直列接続される場合 、この方法は効果的に適用されることができる。
この場合、例えばZlである一方のインピーダンスについて金属短絡を選択する と、効果的である。Z、およびZ、についての適当な選択は、金属短絡とコイル との使用、または、金属短絡とコンデンサとの使用である。さらに、エリアル電 極が使用される場合、Z、およびZ、について次のような選択が極めて効果的で ある。
i)金属短絡Zl二〇の使用、および、空気ギャップを介在させた電極によって 形成されるコンデンサのインピーダンスによるZ、の実現。
ii)金属短絡Z、=0の使用、および、測定領域において周波数とは独立した 損失の少ない誘電関数を有する材料を挟んだ電極のインピーダンスによる2、の 実現。これは、テフロン製またはシリカ製のリング状スペーサであってよい。ま た、測定領域内の、予め確認された任意の誘電関数を持つ材料を使用してもよい 。
一般的に、実施例1に述べるように、透過係数は、伝送路の成端インピーダンス Z0における電圧、および、いわゆる基準路の成端インピーダンスにおける電圧 を測定することによって、決定される。上記式(1)、(2)は、未知であって よい伝送線インピーダンスまたは成端インピーダンスZ。とは独立したものであ る。未知のインピーダンスが伝送路の成端インピーダンスZ0に直列に接続され る場合、例えばl Z l >20にΩの絶対値を有する大きなインピーダンス については、次のような処理が効果的である。0.1〜IMHzより低い周波数 領域における測定精度を高めるため、基準路の成端インピーダンスを例えば50 Ωにする一方、伝送線のインピーダンスに整合しない例えばZ、=IMΩのよう な大きな成端インピーダンスを使用してもよい。IMHzより高い周波数領域に おいて、両前記成端インピーダンスは、伝送線のインピーダンスに等しくなけれ ばならない。この処理は、例えば、成端インピーダンスを変更可能な最近のネッ トワークアナライザを使用することにより可能である。これらの装置を使用する ことにより、広い周波数領域における測定を、極めて速い速度で行うことができ る。
完全に整合し、従って、反射が無く、高い周波数において負荷とは独立した出力 を発生する信号源の場合、測定装置における基準路は省略してもよく、伝送路の 成端インピーダンスZ0における電圧のみを測定してよい。この場合、これらの 電圧は、同等の特徴を示す透過パラメータである。また、上記式1または式2に おいて、透過係数は、電圧に置き換えなければならない。現在までのところ、こ のような広帯域信号源は未だ開発されておらず、従って、この処理は制限された 周波数領域でのみ適用可能である。
この発明の方法は、さらに、誘電材料および磁気材料のパラメータの決定を可能 にする。材料の誘電関数は、測定セルにおいて該材料を挟んだエリアル金属電極 からなるコンデンサのインピーダンスを測定することによって、効果的にめるこ とができる。
このように測定されたインピーダンスから、周知の方法によって、前記誘電関数 を算出することができる。材料の合成透磁率は、例えば、該材料を含んだコイル のインピーダンスを測定することによってめることができる(例えば、後述の実 施例3を参照)。
この発明に係る方法の利点は次のようである。
1)この方法は、極めて広い周波数領域(OHz〜10GHz)をカバーする。
上限の周波数は、測定すべきインピーダンスが接続される電極のサイズおよび幾 何学的形状、ならびに、測定セルの構成に応じて決まる。
2)透過係数の測定のみが必要であり、すなわち、反射信号を記録するめだの信 号検出器およびブリッジまたは方向性カブラは不要である。故に、技術的要件は 低いままに維持され、高速での測定を行うことができる。
3)2つの透過係数の測定によって、伝送路および測定セルの影響が分析学的に 考慮される。すなわち、数学的な近似法により、インピーダンス測定におけるシ ステム的なエラーが発生しない。
4)測定すべきインピーダンスを含んだ測定セルは、伝送線インピーダンスに整 合しなくてもよい。故に、多くの異なる測定セルを使用することができる。例え ば、測定セルおよび電極について適当な幾何学的形状を選択することにより、適 当なサンプルを用意するための努力が相当程度軽減される。
5)温度に応じた測定が可能である。
6)測定領域は極めて広く、この方法の精度は極めて高い。ZI〈1Ωの極めて 小さいインピーダンス、および、小さい損失正接(最近のネットワークアナライ ザによる測定では、Z、/Z2<1O−3)を、広い周波数領域にわたり測定可 能である。
7)2つの予め確認されたインピーダンスが、極めて容易に実現され得る。例え ば、材料の誘電関数を測定するために、電極間距離を、利用可能なサンプル材料 の長さに調節でき、従って、サンプル材料の用意に必要な作業を軽減できる。
8)材料の誘電関数を測定するためにコンデンサが使用される場合、この方法は 、周辺電磁界を暗黙のうちに修正する。故に、保護リングを持つコンデンサを使 用する必要がなく、または、大体の有効性しか持たない数学的修正を行う必要が ない。
図面の説明 図1はプレートコンデンサのインピーダンスを測定するための測定装置を示す図 、 図2は図1に対応する等価回路図、 図3はこの発明に従うインピーダンス測定方法によって測定されたセラミックサ ンプルの誘電関数を示す図、図4は磁気材料を含むコイルのインピーダンスを測 定するための測定装置を示す図。
図5は対応する等価回路を示す図。
実施例1 以下、プレートコンデンサのインピーダンス測定を一例として、この発明を説明 する。円形コンデンサプレートPの間に、半径a、および長さdの円筒形状を有 する材料サンプルMが設けられている。前記材料の合成誘電関数は、インピーダ ンスを測定することによってめられなければならない。測定セルは、シールドカ バーと、同軸伝送線に直列接続されたプレートコンデンサとで構成されている( 図1)。コンデンサブレー)Pはエリアル電極である。電圧源Qは周波数Vの正 弦波信号を供給し、該正弦波信号は、パワースプリッタLTによって、基準路と 、前記測定セルが挿入される測定路に分割される。基準路および測定路の成端イ ンピーダンスにおける電圧比の大きさおよび位相(またはこれらと同等の実部お よび虚部)が測定される。つまり、成端インピーダンスは検出器DT自体によっ て実現されるが、基準路の検出器DTにおいて測定された電圧に対する、前記パ ワースプリッタLTと前記測定路の検出器DTとの間の伝送路の合成透過係数が 測定される。
図2には、前記構成の等価回路が示されている。図面および明細書において、次 のような符号が使用されている。
P: 円形断面を有するコンデンサプレート、AS: 円筒形状を有する測定セ ルのシールドカバーd: コンデンサプレート間の距離、すなわち、材料サンプ ルの長さ、 M: 材料サンプル、 Z: 測定すべきインピーダンス、すなわち、コンデンサプレート間に材料サン プルMを挟んだプレートコンデンサのインピーダンス、 E、、E2 : コンデンサプレー1−Pの面が位置する基準面、Q: 電圧源 、 DT: 検出器、 LT: パワースプリッタ、 Zo: 測定路の合成成端インピーダンス、A、B: 前記基準面E、、E、に 対する同軸伝送線および測定装置の影響を示すエラー2ボートの合成カスケード マトリクス、L、、L2: E、とE2との間の領域における合成インダクタン ス、Z、1.Z、□:E1とE2との間の領域における中心導体とシールドカバ ーとの間の合成インピーダンス、 C,D : Zq、、Z、□、L、およびL2の影響をも含む延長エラー2ボー トの合成カスケードマトリクス、 X、: インピーダンスZのみを含むエラー2ボートの合成カスケードマトリク ス、 T: 伝送路の合成カスケードマトリクス、T=C−X、・Dが成立する、 V: 測定周波数、 ω: 角周波数、ω−2πV、 2、.2.: インピーダンス、 Sm@ssH材料Mがコンデンサプレートの間にセットされているときに測定さ れる合成透過係数、 S2’ll S’;t’ インピーダンス2..2.がコンデンサプレートの間 にセットされまたはコンデンサプレートの間に実現されているときに測定される 合成透過係数、 ε: 前記材料の合成相対誘電関数、 ε。コ 真空の誘電率、t 。=8.854−10−I2F/ma、、: コン デンサプレートの半径 A6: コンデンサプレートの断面積、A、=πaミa、: 前記材料の半径、 a、≦a6 A、: 前記材料の断面積、A、=πaζ≦A。
b: 前記測定セルの円筒状シールドカバーの内方半径C*jr@u: プレー トPを有するコンデンサの境界効果による端容量、 C0: コンデンサプレートP間に材料がセットされていない場合における、境 界効果を無視したコンデンサのキャパシタンス、C0=ε。A、/d C1: コンデンサプレートP間に材料がセットされていない場合におけるコン デンサのキャパシタンス、cb=co+clrμ: 前記材料の合成相対透磁率 に: 合成波動ベクトル、k=ω/c 、’εμC: 光の速度、c = 2. 9979−108m/ sJo: 0次の合成ベッセル関数 J1: 1次の合成ベッセル関数 カスケードマトリクスA、B、C,D、X、およびTは2×2の合成マトリクス であり、これらの構成要素はダブルインデックスによって特徴付けられる。マト リクスTの4つのエレメントは、例えば、T、、、T、□l T2.、 T2□ である。インピーダンスZ91゜Z 、2は、主に、高周波数における放射損失 、ならびに、前記測定セルのシールドカバーと、それぞれの基準面E、、E2に 位置する電極面の端面との間のキャパシタンスとによって与えられる。使用され る周波数領域において、インピーダンスZ Ill l Z ++2は、インピ ーダンスZから独立したものとなる。LlおよびL2は、ElとE2との間の構 造物の自己インダクタンスであり、測定セルの幾何学的配列によって与えられる 。故に、カスケードマトリクスAおよびBは、新たな簡略化等価回路を提供する よう拡張可能である。インピーダンスZは、カスケードマトリクスC,Dによっ て表される2つのエラー2ボートの間に直列に接続されている。
Z ql r Z a□、L l、 L 2が前記コンデンサプレート間の距離 に依存するため、カスケードマトリクスCSDは前記コンデンサプレート間の距 離に依存する。
2ボートの反射係数および透過係数(いわゆるSパラメータ)とこれに対応する カスケードマトリクスXの構成要素との間には、(19β4年のTeubner  5tudienskripten、 第3版、第12章、149ページにおい て、H,FreitagによるEinfjhrung in die Zwei tortheorie)。
ここで、S 、、 、S、□は前記2ボートの透過係数、S l+ 、 S 2 □は、それぞれ、信号が伝わる2つの方向における前記2ボートの反射係数であ る。
前記カスケードマトリクスC,Dを持つ2ボ一ト間のサンプルのインピーダンス Zのみからなる2ボートに関して、Sパラメータは、 X、は対応するカスケードマトリクスである。システム全体のカスケードマトリ クスは、直列接続された前記2ボートのカスケードマトリクスを乗算することに よってめられる。
T=C−X、・D 1/T 22はシステム全体について測定された透過係数sフI■であり、Nお よびKは、周波数、(フィード線および測定セルの熱膨張により誘導された)温 度およびプレート間距離dの関数である。これらは、2つの付加的な透過測定値 、いわゆる、基準化によって決定されなければならない。この目的のためには、 前記関数N、Kが変更されない場合、前記電極間のインピーダンスZに代る2つ の異なるインピーダンス2.2.0測定値で十分である。これらのインピーダン スは有限でなければならない。すなわち、対応する透過係数がゼロになることな く測定可能な値であり続けるよう、これらのインピーダンスの絶対値は、l Z 、l 、l Zl<(1)でなければならない。
S h+ S ?+は、インピーダンスZの代りにインピーダンスZ、またはZ 、を持つ構造体について測定された透過係数である。上記式3から、Zを決定す る式は、 このためには、透過係数が測定される条件が変更されず、インピーダンスZ、Z □Z、のみが変更される、ことが必要である。
測定のためのその他の構成、特に、電極間距離は変更されない。
Zlとして、前記長さdおよび半径a≦a、の円筒状金属短絡手段が選択され、 故に、Z1=0となる。前記短絡の位相長さはすでにカスケードマトリクスC, Dに考慮されており、前記シールドカバーと前記基準面E、、E2に位置した電 極面の端面との間のキャパシタンスは、前記プレート間距離が小さい(例えばd =1mm)場合、前記短絡手段とシールドカバーとの間の容量に等しい。こうし て、カスケードマトリクスC,Dは、要求されている通りに、変化しないままと なる。dの値が大きい場合、これは、前記コンデンサプレートとシールドカバー との間の大きな距離によってほぼ達成可能である。この場合、インピーダンスZ q、Z9□は、極めて大きく、前記測定路の信号に影響しない。上記式4は次の ように簡略化される。
Z、は、同一のプレート開路ladを持つ、ロードされていないプレートコンデ ンサのインピーダンスによって実現される。C5をロードされていないコンデン サのキャパシタンスとすると、C5の値は、実数であり、最大周波数(すなわち 、a、=6.5mmのプレート半径では約2GHz)において約1%の最大偏差 に対応するωa、/c<0.3である場合、周波数とは独立したものとなる(V iewegの1978年発行のMessung dielwcktrische r Stoffeigenschaften、第1版、第4,3章、133ペー ジにおいてA 、 Hos tによって発表された〕。インピーダンスZの実部 ZIおよび虚部Z2は共にZ、の純粋な虚数値に比例したものであるので、損失 正接Z、/Z2は、Z、から独立したものになり、Z、を知る必要無しに正確に 測定される。これは、Z、が純粋な実数である場合に当てはまる。
例えば、透過係数の測定がIMHzより低い周波数をも含む広い周波数領域にわ たって行われる場合、C1は、S2”t + S ’F+の測定値から直接算出 可能である。I M Hzより低い周波数において、フィード線における反射は ほとんど感知されず、このため、周波数から独立したC1の値に関して、K=1 / (2Z、)である上記式3から次の関係が得られる(いわゆる正規化)。
この式によフて、すべての周波数に関するZ、が算出され、インピーダンスZが 上記式5によって算出される。0.1〜IMH2の制限された周波数領域におい て、Zは次の式を使用して算出可能である。
ただし、例えばl Z l <20にΩである場合、Zの値は小さいものとなる 。より高いインピーダンスに関しては、上記5の式は0゜1〜I M Hzより 低い周波数にも有効である。
Z、がロードされていないプレートコンデンサのインピーダンスによフて実現さ れる場合、対応する透過係数は、ゼロになり、測定不能になる。故に、下限の周 波数は10−8であり、Xの値は使用される機器の分解能に応じて決まる。
原則的に、82°、≠Sめである場合、いかなるインピーダンスも上記式5のZ 、としてとらえることができる。この場合、その値はすべての測定周波数につい て予め確認されたものであることが必要である。例えば、直流導電性を持つ材料 (例えば、低周波数において、Imag(ε)CCI/ω)が、コンデンサプレ ートの間にセットされる。この場合、対応する透過係数は、OHzにおいて測定 可能なままである。これは、例えば、コンデンサプレートの間にセット可能な、 オーム抵抗または分流器を有する電解コンデンサとして電子部品を使用する場合 も同様である。
もちろん、インピーダンス2..2.の簡略さ故、温度に応じたS11およびS り、の測定が可能である。このため、Zは、周波数および温度の関数として測定 可能である。
前記材料の合成誘電関数εは、次の式を解くことによって、インピーダンスZが ら算出される。
k=、/’εμ・ω/Cであるので、波動ベクトルにはεの関数でもある(Vi ewegの1978年発行のMessung dielecktrischer  Stoffeigenschaften、第1版、第4.3章、133ページ においてA、Ho5tによって発表された)。このため、εは、例えばゼロの数 値サーチを行うことによって測定可能である。Cm t r s uはC1がら 測定可能である。
であるからであり、ここで、C,は周辺電磁界を無視した場合の、ロードされて いないコンデンサの理論上の容量であり、すなわち、C0=ε、A、/dである 。
’ k a 、l (1の場合、上記6は単に、となり、これはプレートコンデ ンサに関する周知の低周波数公式である。この場合、非円形断面を有するサンプ ルの測定を行ってもよい。
強力な磁気材料に関して(1μ+)1)、不等式1ka、1 (1は高周波領域 においては満足されない。前記材料の透磁率μが未知の場合、高周波領域におけ る独立した数量εおよびμを測定するため、長さが同じで半径が異なる2つのサ ンプルを使用して測定が行われる。こうして、上記式6と同じ形態であるが、異 なる半径a、のための2つの等式が提供され、これらの等式は、2つの未知数ε およびμの算出を可能にする。
実施例2 測定装置および処理手順は上記実施例1と同様である、と仮定する。しかし、Z 、として、プレートコンデンサのインピーダンスが使用される。該コンデンサの プレート間に、損失が少なく(すなわち、実数であって)周波数がら独立した誘 電関数ε、および断面積A、を有する材料がセットされる。これは、例えば、テ フロン製またはシリカ製である長さdのリング状スペーサであってよい。端寄量 は、 によって与えられるが、実施例1におけるすべてのその他の式は゛有効である。
図3には、セラミックサンプルについての測定結果が示されている。周波数の関 数としてのεの実部および虚部は、前記サンプルがロードされたプレートコンデ ンサについて測定されたインピーダンスから、上記式〇に従って算出されたダブ ル対数として図示されている。図から、極めて広い周波数領域、および、この方 法が持つ高い分解能を観察することができる。
透過係数の測定は、2つのネットワークアナライザを使用して行われた(HP3 775B:5Hz 〜200MHz/HP8510B:80MHz 〜2GHz ) 、 :Iンデンサブレートおよびサンプルの半径はa、=a、=6゜5闘で あり、プレート間の距離はd=1であった。円筒状シールドカバーの内方半径は b = 15mmであった。金属短絡手段がインピーダンスZ。
とじて考慮され、テフロン製のリング状スペーサをロー ドしたコンデンサのイ ンピーダンスがZ、として考慮された。最大測定周波数は、材料パラメータεお よびμ、ならびに、幾何学的形状に関する値a6、b、dによって決定される。
次の不等式が成立しなければならない。
第1番目の不等式は、より高いモード、すなわち、変更された電磁界分布がサン プル領域に影響する周波数を示す。これらのより高いモードは、正確なインピー ダンス測定を可能にするものではない(Prentice−Hall Inc、 、1969月発行のMicrowave Theory andAppl 1c ation、第1版第2.2章42ページにおいてS、F、Adamよって発表 された)。上記誘電関数測定のための式6はコンデンサプレート間の電界が該プ レートに直角な成分のみを有するという前提に立っているので、第2番目の不等 式は成立しなければならない。
電磁界の歪みはプレート間距離が大きくなるほど増加するので、+kdllが成 立しなければならない。故に、半径a、、bを小さくし、より薄いサンプルを使 用すると、εの測定リミットを示す最大測定周波数が高くなる。
実施例3 次に、合成透磁率を持つ材料Mを含んだコイルSPの合成インダクタンス測定に 関する実施例を使用して、この発明を説明する。
これは、例えば、材料サンプルまたはフェライトコアとすることができる。前記 コイルは、測定セル内部の2つの電極Elに接続される(図4参照)。測定装置 のその他の部分は、実施例1に説明されているものとする。前記装置の等何回路 は図5に示されている。前記コイルのインピーダンスは、前記材料Mによって誘 導される合成インダクタンスし、に直列に接続されたオーム抵抗Rからなる(ロ ードされていないコイルのインダクタンスL0が実際の値である)。コイルの固 有振動を考慮して、キャパシタンスC0はRおよびLoに並列に接続されている 。C0は、主に、前記コイルの巻線間のキャパシタンスによって誘導される。前 記サンプルが前記コイルの中心に置かれ、その断面積が前記コイルの断面積より 小さい場合、C0の値は、ロードされたコイルとロードされていないコイルとに 関して同一である。上記実施例1で定義された数値に加えて、次の符号が使用さ れる。
SP: コイル El: 測定セルにおいてコイルを接続するための電極R: コイルのオーム抵 抗 C0: コイルのキャパシタンス Lo: ロードされていないコイルのインダクタンスL、: 材料Mでロードさ れたコイルの合成インダクタンスf: 材料の量とコイルの量との比率 N: 消磁率 χ: 合成磁化率 前記コイルが同一長さの金属短絡手段に交換される場合、Z。
−〇が成立し、上記式5が使用可能になる。上記実施例1と同様に内部導体とシ ールドカバーとを一定に維持するために、例えば前記コイルと同一の内方半径お よび外方半径の金属シリンダを、短絡手段として使用してもよい。
ロードされていないコイルはインピーダンスzbとして使用さLo、C0および Rは次のようにめられる。
v<IMHzにおいて、一般的に、Z、=R+ i ωLoが成立する。この周 波数領域において、多重反射は無視可能であり、故に、共振周波数において、 ω、、、=1/ (L、C,) 比率82″1/ S7’lは最小(多重反射から独立したR−0)となり、上記 の関係式によって00がめられる。ω2L、C,(1である場合、すべての上記 等式はC0=0を使用することによって簡略化される。前記コイルの抵抗Rは、 I M Hzより高い周波数では、表面効果によって、周波数に応じたものとな る。一般的に、この領域では、ωL、>Rが成立し、Rは簡単なオームメータを 使用して測定される。
こうして、Z、をR,LoおよびC8から算出することができる。
前記材料によってロードされたコイルのインピーダンスZは、上記式5を使用す ることにより、測定された透過係数87.7ms、等力、S 、;、から算出可 能である。多重反射が無視可能でωL。<1が成立する低周波数領域において、 5ir=S31であり、等式が使用される。ロードされたコイルの合成インダク タンスは、によってめられる。
もちろん、OHzでは、コイルのオーム抵抗のみが測定可能であり、合成インダ クタンスを測定するための下方周波数リミ・ソトは、使用される測定装置の分解 能によって決まる。
前記コイル内部の磁界を算出することにより、前記材料の合成相対透磁率μはり 、からめられる。aMが前記サンプルの最大サイズ(例えば、球の場合半径)と すると、lkaMl<1で、μ−1+χである場合、次の等式が得られる。
この計算において、磁化されたサンプルの外部電磁界(よ無視されている。不等 式lkaMl(1がもはや成立しない場合、前記材料内部のうず電流の影響を考 慮しなければならな(1(異なる形状の一例は、Pergamon Press の1960年、Electrodynamics of Continuous  Media、第1版、第7章、193ページにおいて、LandauおよびL ifschitzによって発表されている)。
実施例4 測定装置および測定手順は、上記実施例2と同様である。し力・し、金属短絡手 段の長さd、と絶縁スペーサの長さdcと(ま、互(1に異なっていて、前記予 め確認されたインピーダンスの長さとも異なっていてもよい。電極が前記短絡手 段またはスペーサ(二対して押圧されると、伝送線の長さの変化によって、測定 透過係数の単純な位相変化Δφが発生する。同軸空気線の位相についてdφ/d cp<0が成立することを利用して、金属短絡手段の測定についてであり、さら に、スペーサの測定についてである。故に、測定透過係数s介、 Sz’lの対 応する位相変化によって、電極間距離は数学的に一定に維持されることができる 。測定すべきインピーダンス値算出のため、SAはS21. e lAl11  mによって置き換えられ、Sり、はS 、b、 、 e IA(Z’・によって 置き換えられる。S;+を測定するため、d s=oを選択すること、つまり、 電極同士を押し付けることも可能である。
EI Ee 図1 図2 ■ P 図5

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.伝送路の透過係数の実部および虚部、または、これと同等の透過パラメータ を測定することによって、0〜10GHz、好ましくは、0〜2GHzの周波数 領域における電磁インピーダンスを測定する方法であって、前記伝送路が、測定 セルを含んだ伝送線と、その出力側の成端インピーダンスとを備えたものであり 、(a)測定すべきインピーダンスを、前記測定セルの2つの電極に接続するか 、または、測定中において固定した距離を有するこれらの電極間に実現し、そし て、前記伝送路の透過係数を測定する工程と、 (b)予め確認された異なる値を持つ2つのインピーダンスを、測定すべきイン ピーダンスの代りに、上記(a)に記載したものと同じ電極に直列に接続するか 、または、上記(a)に記載したものと同じ距離を有するこれらの電極間に実現 し、それ以外の点では上記(a)と同様な条件下で前記伝送路の2つの対応する 透過係数を連続的に測定する工程であって、前記2つのインピーダンスは、前記 伝送路の対応する透過係数の絶対値がゼロにならないようが選択されるものであ る工程と、(c)前記3つの測定された透過係数、および、前記2つの予め確認 されたインピーダンスの値から、前記測定すべきインピーダンスの値を算出する 工程と からなる方法。
  2. 2.(a)前記測定すべきインピーダンスを前記測定セルの2つのエリアル金属 電極の間にセットし、前記インピーダンスを前記伝送路の前記成端インピーダン スに直列に接続する工程と、(b)前記電極間の金属短絡、および、その間に空 気ギャップを持つ前記電極自体によって、請求の範囲第1項の(b)に記載した 前記予め確認されたインピーダンスを実現する工程とをさらに含む請求の範囲第 1項に記載の方法。
  3. 3.(a)前記測定すべきインピーダンスを前記測定セルの2つのエリアル金属 電極の間にセットし、前記インピーダンスを前記伝送路の前記成端インピーダン スに直列に接続する工程と、(b)前記電極間の金属短絡、および、測定範囲内 の、損失が少なく周波数とは独立した誘電関数を有する材料をその間に設けた前 記電極自体によって、請求の範囲第1項の(b)に記載した前記予め確認された インピーダンスを実現する工程とをさらに含む請求の範囲第1項に記載の方法。
  4. 4.(a)前記測定すべきインピーダンスを前記測定セルの2つのエリアル金属 電極の間にセットし、前記インピーダンスを前記伝送路の前記成端インピーダン スに直列に接続する工程と、(b)前記電極間の金属短絡、および、測定範囲内 の予め確認された誘電関数を有する材料をその間に設けた前記電極自体によって 、請求の範囲第1項の(b)に記載した前記予め確認されたインピーダンスを実 現する工程と をさらに含む請求の範囲第1項に記載の方法。
  5. 5.(a)前記測定すべきインピーダンスを前記伝送路の前記成端インピーダン スに直列に接続する工程と、(b)前記電極間の金属短絡、および、前記電極間 のコイルによって、請求の範囲第1項の(b)に記載した前記予め確認されたイ ンピーダンスを実現する工程と をさらに含む請求の範囲第1項に記載の方法。
  6. 6.材料の誘電関数の実部および虚部を測定するため、前記測定セルのエリアル 電極と、これら電極の間に設けられた前記材料とで構成されるコンデンサのイン ピーダンスを測定する工程を含む請求の範囲第1項に記載の方法。
  7. 7.材料の透磁率の実部および虚部を測定するため、前記材料を含んだコイルの インピーダンスを測定する工程を含む請求の範囲第1項に記載の方法。
  8. 8.前記測定すべきインピーダンスを算出するコンピュータ手段を含む請求の範 囲第1項に記載の方法。
  9. 9.伝送路の透過係数の実部および虚部、または、これと同等の透過パラメータ を測定することによって、0〜10GHz、好ましくは、0〜2GHzの周波数 領域における電磁インピーダンスを測定する方法であって、前記伝送路が、測定 セルを含んだ伝送線と、その出力側の成端インピーダンスとを備えたものであり 、(a)測定すべきインピーダンスを、前記測定セルの2つの電極間に接続する か、または、これらの電極間に実現し、そして、前記伝送路の透過係数を測定す る工程と、(b)予め確認された異なる値および異なる幾何学的長さを持つ2つ のインピーダンスを、前記測定すべきインピーダンスの代りに、上記(a)に記 載したものと同じ電極間に直列に接続するか、または、これらの電極間に実現し 、それ以外の点では上記(a)と同様な条件下で前記伝送路の2つの対応する透 過係数を連続的に測定する工程であって、前記予め確認された2つのインピーダ ンスは、前記伝送路の対応する透過係数の絶対値がゼロにならないよう選択され るものであり、さらに、前記予め確認されたインピーダンスの幾何学的長さと前 記未知のインピーダンスの幾何学的長さとの差に対応する前記測定された伝送路 の透過係数の位相を修正する工程と、 (c)前記3つの測定された透過係数、および、前記2つの予め確認されたイン ピーダンスの値から、前記測定すべきインピーダンスの値を算出する工程と からなる方法。
  10. 10.(a)前記測定すべきインピーダンスを前記測定セルの2つのエリアル金 属電極の間にセットし、前記インピーダンスを前記伝送路の前記成端インピーダ ンスに直列に接続する工程と、(b)前記電極間の金属短絡、および、その間に 空気ギャップを持つ前記電極自体によって、請求の範囲第9項の(b)に記載し た前記予め確認されたインピーダンスを実現する工程とをさらに含む請求の範囲 第9項に記載の方法。
  11. 11.(a)前記測定すべきインピーダンスを前記測定セルの2つのエリアル金 属電極の間にセットし、前記インピーダンスを前記伝送路の前記成端インピーダ ンスに直列に接続する工程と、(b)前記電極間の金属短絡、および、測定範囲 内の、損失が少なく周波数とは独立した誘電関数を有する材料をその間に設けた 前記電極自体によって、請求の範囲第9項の(b)に記載した前記予め確認され たインピーダンスを実現する工程とをさらに含む請求の範囲第9項に記載の方法 。
  12. 12.(a)前記測定すべきインピーダンスを前記測定セルの2つのエリアル金 属電極の間にセットし、前記インピーダンスを前記伝送路の前記成端インピーダ ンスに直列に接続する工程と、(b)前記電極間の金属短絡、および、測定範囲 内の、予め確認された誘電関数を有する材料をその間に設けた前記電極自体によ って、請求の範囲第9項の(b)に記載した前記予め確認されたインピーダンス を実現する工程と をさらに含む請求の範囲第9項に記載の方法。
  13. 13.材料の誘電関数の実部および虚部を測定するため、前記測定セルのエリア ル電極と、これら電極の間に設けられた前記材料とで構成されるコンデンサのイ ンピーダンスを測定する工程を含む請求の範囲第9項に記載の方法。
  14. 14.前記測定すべきインピーダンスを算出するためコンピュータ手段を使用す る工程を含む請求の範囲第9項に記載の方法。
  15. 15.前記位相を修正することによって前記一定の電極間距離を数学的に実現す るためコンピュータ手段を使用する工程を含む請求の範囲第9項に記載の方法。
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