JPH0640729A - 光学素子成形用金型の再生方法 - Google Patents

光学素子成形用金型の再生方法

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JPH0640729A
JPH0640729A JP4216465A JP21646592A JPH0640729A JP H0640729 A JPH0640729 A JP H0640729A JP 4216465 A JP4216465 A JP 4216465A JP 21646592 A JP21646592 A JP 21646592A JP H0640729 A JPH0640729 A JP H0640729A
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JP
Japan
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mold
molding
water
die
pure water
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JP4216465A
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English (en)
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Hiroyuki Endo
弘之 遠藤
Hiroshi Ueno
洋 上野
Akito Minato
明人 湊
Tomoaki Sugawara
智明 菅原
Katsuyuki Okubo
克之 大窪
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/10Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
    • B08B1/14Wipes; Absorbent members, e.g. swabs or sponges
    • B08B1/143Wipes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 光学素子のプレス成形用金型を、簡便な作業
で効果的に再生する。 【構成】 金型を10vol%のフッ酸に30分間浸
漬、純水によるオーバーフローリンスの順に処理したの
ち、綿製の布に酸化セリウムと純水を含浸させたもので
成形面を研磨し、さらに純水中で超音波洗浄を30分間
行い、最後に3×10-3Paの真空中で500℃×30
分間、熱処理を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズやプリズムなど
の光学素子をプレス成形するための金型を洗浄再生する
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、光学素子のプレス成形用金型とし
てシリコンナイトライド等のセラミックス、タングステ
ンカーバイドを主とする超硬合金、さらには貴金属合金
コーティングをしたもの等が提案されている。しかしな
がら、500℃から700℃という高温において連続し
てガラスを成形することによって、金型とガラスが反応
を起こし所望性能の光学素子が得られなくなる。このよ
うな状態になった金型を容易に再生することができれ
ば、金型の寿命が延びることになる。
【0003】前記金型の再生方法の一例として、特開平
1−234336号公報に、硬度の差を利用して金型を
再生することが提案されている。この再生方法は、成形
型のプレス面に付着した付着物を型プレス面の硬度より
も軟らかく、付着物の硬度よりも硬い粉体を用いて研磨
することにより成形型のプレス面を洗浄するものであ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記公報に
記載の方法では、効果的に金型を再生するには使用する
粉体と付着物との化学的な作用も考慮しなければらない
し、適切な粉体の選定作業も面倒であるという問題点が
あった。
【0005】本発明は、上記の点に鑑みなされたもの
で、その目的は、光学素子を成形する金型が劣化したと
き、簡便な作業で効果的に金型を再生することによって
金型の寿命を延ばし、光学素子のコストダウンを達成す
ることができる再生方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の光学素子成形用
金型の再生方法は、金型の成形面に付着した付着物を酸
化セリウムを用いて除去すること、特に、酸化セリウム
と水、好ましくは純水を混合して用いることを特徴とす
る。
【0007】次に、本発明の実施態様を、図1を参照し
て説明する。再生するべき金型をまずフッ酸、硝酸の少
なくとも一方に浸漬(工程1)したのち、金型を純水で
リンス(工程2)する。次に、酸化セリウムと水、好ま
しくは純水との混合物により金型成形面を洗浄(工程
3)する。洗浄方法としては綿、スエード、紙、ポリウ
レタン等の弾性体に酸化セリウムと水、好ましくは純水
を含浸させたもので金型の成形面を研磨するか、酸化セ
リウムと水、好ましくは純水との混合物中で金型に超音
波処理を施すか、または酸化セリウムと水、好ましくは
純水との混合物をノズルから金型の成形面に向かって噴
射する。次に、金型を純水で超音波洗浄(工程4)し、
最後に真空中で熱処理(工程5)する。前記工程1で
は、金型をフッ酸に浸漬するか、硝酸に浸漬するか、ま
たはフッ酸、硝酸に交互に浸漬する。
【0008】本発明においては、上記のように、酸化セ
リウム、または酸化セリウムと水による処理が終了した
後、金型を純水中で超音波洗浄するのが好ましい。これ
により、効率よく金型表面に残留した酸化セリウムおよ
び付着物その他のゴミを除去することができる。
【0009】また、本発明においては、上記のように、
超音波洗浄が終了した後、金型を真空中で熱処理するの
が好ましい。これにより、金型に浸透した水分、さらに
表面に吸着している水、有機物等の汚れを蒸発させるこ
とが可能となる。
【0010】また、本発明においては、上記のように、
酸化セリウムまたは酸化セリウムと水による処理をする
前に金型をフッ酸中に浸漬するのが好ましい。これによ
り、金型表面に付着しているシリコン酸化物をあらかじ
め溶解除去する効果がもたらされ、その後に続く酸化セ
リウムによる処理の時間短縮をはかることが可能とな
る。
【0011】また、本発明においては、上記のように、
酸化セリウムまたは酸化セリウムと水による処理をする
前に金型を硝酸中に浸漬するのが好ましい。これによ
り、金型表面に付着している鉛、カリウム等の金属成分
をあらかじめ溶解除去する効果をもたらし、その後に続
く酸化セリウムによる処理の時間短縮をはかることが可
能となる。
【0012】更に、本発明においては、上記のように、
酸化セリウムまたは酸化セリウムと水による処理をする
前に金型をフッ酸、硝酸に交互に浸漬するのが好まし
い。これにより、上記フッ酸液中に浸漬する場合の効果
と硝酸に浸漬する場合の効果が同時に得られ、交互に繰
り返すことによって、確実に金型の付着物を除去する効
果が現れる。
【0013】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明する。 実施例1 金型としてタングステンカーバイドを主成分とする超硬
合金を用い、硝材として酸化鉛を約50wt%含有する
鉛系ガラスを用いた。金型の成形面を表面粗さ30nm
Rmaxに鏡面加工して、窒素雰囲気中で成形温度50
0℃,加圧力50kg/cm2 ,加圧時間3分という条
件で非球面レンズの成形を行った。5000回繰り返し
成形を行った後、金型の成形面を顕微鏡で観察したとこ
ろ、付着物が確認された。そこで、金型を10vol%
のフッ酸に30分間浸漬し、次に純水でオーバーフロー
リンスを行う。その後、綿製の布に酸化セリウムと純水
をつけて金型の成形面を研磨した。その後、純水中で超
音波洗浄を30分間行い、次に3×10-3Paの真空中
で500℃,30分の熱処理を行った。顕微鏡で金型の
成形面を観察すると、使用前と同じ状態に戻っていた。
その後、再生された金型を用いて成形を続けたところ、
金型が劣化する前と同等性能のレンズが成形された。
【0014】実施例2 金型としてSiCを用い、硝材として酸化鉛を約40w
t%含有する鉛系ガラスを用いた。実施例1と同様に金
型の成形面を鏡面加工して、窒素雰囲気中で成形温度5
50℃,加圧力70kg/cm2 ,加圧時間3分という
条件で非球面レンズの成形を行った。5000回繰り返
し成形を行った後、金型の成形面を顕微鏡で観察したと
ころ、付着物が観察された。そこで、金型を10vol
%のフッ酸に30分間浸漬し、次に純水でオーバーフロ
ーリンスを行う。その後、ビーカーの中に金型と酸化セ
リウムと純水を入れ超音波を60分与えた。その後、実
施例1と同様に純水中で超音波洗浄を行い、次に真空中
で熱処理を行った。顕微鏡で金型の成形面を観察する
と、使用前と同じ状態に戻っていた。その後、再生され
た金型を用いて成形を続けたところ、金型が劣化する前
と同等性能のレンズが成形された。
【0015】実施例3 金型としてAl2 3 を主成分とするセラミックスを用
い、硝材として酸化鉛を約40wt%含有する鉛系ガラ
スを用いた。実施例1と同様に金型の成形面を鏡面加工
して、窒素雰囲気中で成形温度550℃,加圧力70k
g/cm2 ,加圧時間3分という条件で非球面レンズの
成形を行った。5000回繰り返し成形を行った後、金
型の成形面を顕微鏡で観察したところ、付着物が観察さ
れた。そこで、金型の成形面に向けて酸化セリウムと純
水の混合物をノズルを通して30分間噴射し続けた。そ
の後、実施例1と同様に純水中で超音波洗浄を行い、次
に真空中で熱処理を行った。顕微鏡で金型の成形面を観
察すると、使用前と同じ状態に戻っていた。その後、再
生された金型を用いて成形を続けたところ、金型が劣化
する前と同等性能のレンズが成形された。
【0016】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、請求項
1,2に記載の再生方法によって金型自身を研磨せず
に、金型に付着した付着物だけを効果的に取り除くこと
ができる。請求項3,4,5に記載の再生方法によって
金型の成形面の形状に関わらず、成形面の付着物を除去
できる。また、金型形状を崩すこともない。以上によっ
て、成形を重ねた末に付着物が付着して劣化した金型
を、簡便な操作で容易に、なおかつ効果的に再生するこ
とが可能となり、金型の総合的な寿命を飛躍的に延ばす
ことができ、レンズ1個あたりのコストも下がることに
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施態様を示すフローチャートであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅原 智明 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 大窪 克之 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光学素子を成形する金型の成形面に付着
    した付着物を酸化セリウムを用いて除去することを特徴
    とする光学素子成形用金型の再生方法。
  2. 【請求項2】 酸化セリウムと水、好ましくは純水を混
    合して用いることを特徴とする請求項1に記載の光学素
    子成形用金型の再生方法。
  3. 【請求項3】 綿、スエード、紙、ポリウレタン等の弾
    性体に酸化セリウムと水、好ましくは純水を含浸させた
    もので金型の成形面を研磨することを特徴とする請求項
    2に記載の光学素子成形用金型の再生方法。
  4. 【請求項4】 酸化セリウムと水、好ましくは純水との
    混合物中で金型に超音波処理を施すことを特徴とする請
    求項2に記載の光学素子成形用金型の再生方法。
  5. 【請求項5】 酸化セリウムと水、好ましくは純水との
    混合物をノズルから金型の成形面に向かって噴射するこ
    とを特徴とする請求項2に記載の光学素子成形用金型の
    再生方法。
JP4216465A 1992-07-22 1992-07-22 光学素子成形用金型の再生方法 Pending JPH0640729A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5536331A (en) * 1993-07-31 1996-07-16 Korsch Pressen Gmbh Process for cleaning tabletting, pan-coating and granulating machines, especially rotary tabletting presses
EP1666237A3 (de) * 2004-10-20 2006-10-18 Fette GmbH Rundlaufpresse
CN111659640A (zh) * 2020-05-14 2020-09-15 富乐德科技发展(大连)有限公司 半导体设备腔体内铝基材多孔分气装置超洁净清洗工艺

Cited By (4)

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CN111659640B (zh) * 2020-05-14 2022-03-18 富乐德科技发展(大连)有限公司 半导体设备腔体内铝基材多孔分气装置超洁净清洗工艺

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