JPH0640469B2 - Color picture tube electron gun - Google Patents
Color picture tube electron gunInfo
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- JPH0640469B2 JPH0640469B2 JP3297486A JP3297486A JPH0640469B2 JP H0640469 B2 JPH0640469 B2 JP H0640469B2 JP 3297486 A JP3297486 A JP 3297486A JP 3297486 A JP3297486 A JP 3297486A JP H0640469 B2 JPH0640469 B2 JP H0640469B2
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- electron
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、カラー受像管用電子銃の主レンズを構成する
電極形状に関するものである。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to the shape of electrodes constituting a main lens of an electron gun for a color picture tube.
第1図は、従来構造の電子銃を備えたカラー受像管の平
面図である。ガラス外囲器1のフエースプレート部2の
内癖に、3色の蛍光体を交互に塗布した蛍光面3が支持
されている。陰極6,7,8の中心軸17,18,19
は、G1電極9、G2電極10、主レンズを構成するG
3電極11、G4電極12、G5電極13、G6電極1
4、および遮蔽カツプ15の、それぞれの陰極に対応す
る開孔部の通信軸と一致し、共通平面上に互いにほぼ平
行に配置されている。中心軸18は電子銃構体自体の中
心軸でもある。上記共通平面に沿つた方向を、以降水平
方向とする。G5電極13、およびG6電極14の開孔
部から各電極内部方向に突出した円筒部のうち、外側方
向に配置された円筒部分の端部は、中心軸17,19に
対して傾斜している。FIG. 1 is a plan view of a color picture tube provided with an electron gun having a conventional structure. A phosphor screen 3 on which phosphors of three colors are alternately coated is supported by the inner surface of the face plate portion 2 of the glass envelope 1. Central axes 17, 18, 19 of cathodes 6, 7, 8
Is the G1 electrode 9, the G2 electrode 10 and the G constituting the main lens.
3 electrodes 11, G4 electrode 12, G5 electrode 13, G6 electrode 1
4 and the shielding cup 15 are aligned with the communication axes of the openings corresponding to the respective cathodes and are arranged substantially parallel to each other on a common plane. The central axis 18 is also the central axis of the electron gun assembly itself. Hereinafter, the direction along the common plane will be referred to as the horizontal direction. Of the cylindrical parts protruding inward from the openings of the G5 electrode 13 and the G6 electrode 14, the ends of the cylindrical parts arranged outward are inclined with respect to the central axes 17 and 19. .
各陰極から射出される3本の電子ビームは、中心軸1
7,18,19に沿つて主レンズに入射する。第1図の
例では、主レンズはG3,G4,G5電極により形成さ
れるいわゆるUni-Potential Focusing電子レンズ、すな
わちUPFレンズと、G5,G6電極により形成される
いわゆるBi-Potential Focusing電子レンズ、すなわち
BPFレンズの2つの電子レンズの組合わせにより構成
されている。G6電極14は、遮蔽カツプ15、ガラス
外囲器内部に設けられた導電膜5と同電位になつてお
り、20〜30KV程度の高電圧が与えられている。G
3,G5電極には5〜9KV程度の集束電圧が与えられ
る。G4電極には、G6電極と共通の高電位が与えられ
る場合と、G2電極とほぼ同一な電位400〜1000V程
度の低電位が与えられる場合の2種類の構成が与えられ
る。主レンズに入射した電子ビームは、上記2つの電子
レンズにより集束される。中心軸18に沿つて入射する
中央ビームに対しては主レンズは軸対称に形成されてい
るので、中央ビームは主レンズにより集束された後、中
心軸18に沿つた軌道を直進する。一方、外側の中心軸
17,19に沿つて形成される主レンズを構成する電子
レンズのうち、G5,G6電極により形成されるBPF
レンズは、円筒部分端面が傾斜しているため、特開昭57
−63750に示されているように、電子ビームを集束する
と同時に偏向させることができる。こうして、外側中心
軸17,19に沿つて主レンズに入射する外側ビーム
は、主レンズによつて集束されると同時に、中央ビーム
方向に集中される。以上により、3本の電子ビームはシ
ヤドウマスク4上で結像し、さらに互いに重なり合うよ
うに集中する。このように、各電子ビームを集中させる
操作を静コンバーゼンス(以後STCと略す)とよぶ。
各電子ビームはシヤドウマスクにより色選別をうけ、各
々に対応する色の蛍光体を励起発光させる成分だけがシ
ヤドウマスクの開孔を通過し蛍光面に到る。また、電子
ビームを蛍光面上で捜査するため、外部磁気偏向ヨーク
16が設けられている。The three electron beams emitted from each cathode have a central axis 1
The light enters the main lens along 7, 18, and 19. In the example of FIG. 1, the main lens is a so-called Uni-Potential Focusing electron lens formed by G3, G4, G5 electrodes, that is, a UPF lens, and a so-called Bi-Potential Focusing electron lens formed by G5, G6 electrodes, that is, It is composed of a combination of two electron lenses of a BPF lens. The G6 electrode 14 has the same potential as the shielding cup 15 and the conductive film 5 provided inside the glass envelope, and is supplied with a high voltage of about 20 to 30 KV. G
A focusing voltage of about 5 to 9 KV is applied to the 3, G5 electrodes. The G4 electrode is provided with two types of configurations: a case where a high potential common to the G6 electrode is applied and a case where a low potential of about 400 to 1000 V, which is almost the same as the G2 electrode, is applied. The electron beam incident on the main lens is focused by the two electron lenses. Since the main lens is formed in axial symmetry with respect to the central beam incident along the central axis 18, the central beam is focused by the main lens and then travels straight along the trajectory along the central axis 18. On the other hand, of the electron lenses forming the main lens formed along the outer central axes 17 and 19, the BPF formed by the G5 and G6 electrodes.
Since the end surface of the cylindrical portion of the lens is inclined,
The electron beam can be focused and deflected at the same time, as shown at −63750. Thus, the outer beam incident on the main lens along the outer central axes 17, 19 is focused by the main lens and at the same time concentrated in the central beam direction. As described above, the three electron beams form an image on the shadow mask 4 and are concentrated so as to overlap each other. The operation of concentrating each electron beam in this way is called static convergence (hereinafter abbreviated as STC).
Each electron beam is subjected to color selection by a shadow mask, and only the component that excites and emits the phosphor of the corresponding color passes through the aperture of the shadow mask and reaches the phosphor screen. In addition, an external magnetic deflection yoke 16 is provided to detect the electron beam on the fluorescent screen.
第1図に示した方式では、外側電子ビームの偏向量は、
電極円筒部端面の傾斜角が大きいほど増大する。傾斜角
を大きくするためには、円筒部分の長さの最大値を拡大
し、最小値を低く抑えなければならない。ところが、電
極製作上の問題から、上記最大値は円筒部分内径の50
%程度の値が上限であり、また上記最小値は電極肉厚の
2.5倍程度の値が下限値である。したがつて電極製作に
あたつてほぼ同一の肉厚の金属板を用いた場合、主レン
ズ口径が小さくなると上記最大値が小さくなり、一方、
上記最小値は一定のままなので、円筒部端面傾斜角は減
少する。このため外側電子ビーム偏向量が低下し、ST
Cがとれなくなるという問題が発生する。In the method shown in FIG. 1, the deflection amount of the outer electron beam is
It increases as the inclination angle of the end surface of the electrode cylindrical portion increases. In order to increase the inclination angle, it is necessary to increase the maximum value of the length of the cylindrical portion and keep the minimum value low. However, due to electrode manufacturing problems, the maximum value is 50
% Is the upper limit, and the above minimum is the electrode thickness.
A value about 2.5 times is the lower limit. Therefore, when using a metal plate of approximately the same thickness in the production of electrodes, the above maximum value decreases as the main lens aperture decreases, while
Since the minimum value remains constant, the angle of inclination of the end face of the cylinder portion decreases. As a result, the amount of deflection of the outer electron beam decreases, and ST
The problem that C cannot be taken occurs.
この問題を解決するため、BPFレンズ部分だけでな
く、G3,G4,G5電極によつて形成されるUPFレ
ンズ部分も非軸対称構造とし、電子ビームに偏向力を与
え、偏向量の不足を補うという方法が考えられる。In order to solve this problem, not only the BPF lens portion but also the UPF lens portion formed by the G3, G4 and G5 electrodes has a non-axisymmetric structure to give a deflection force to the electron beam and compensate for the shortage of the deflection amount. That method is possible.
第2図は、UPFレンズ部分を、特開昭52−32714号公
報に示された非軸対称構造とし、電子ビームに偏向力を
付加しようとした例である。すなわち、1対の電極G
3,G4のうち、蛍光面側に位置する、G4電極開孔の
中心軸が、G3電極開孔の中心軸に対してわずかに外側
に偏位しているので、外側電子ビームは中心ビーム方向
に偏向されるのである。ここでは、G6電極側から挿入
する円筒形の治具によりすべての電極開孔部を固定でき
るように、隣接する電極開孔のうち、蛍光面側の開孔径
が他の一方の開孔径に比較して小さくならないように組
み合わせている。また、G4電極には、G6電極と共通
の高電圧V0が、G3,G5電極にはこれより低圧の集
束電圧Vfが印加されている。FIG. 2 shows an example in which the UPF lens portion has a non-axisymmetric structure disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-32714 and a deflection force is applied to the electron beam. That is, a pair of electrodes G
Of G3 and G4, the central axis of the G4 electrode opening, which is located on the phosphor screen side, is slightly deviated to the outside with respect to the central axis of the G3 electrode opening. Is biased to. Here, in order to fix all the electrode apertures with a cylindrical jig inserted from the G6 electrode side, the aperture diameter on the phosphor screen side of the adjacent electrode apertures is compared to the other aperture diameter. It is combined so that it does not become small. Further, a high voltage V 0 common to the G6 electrode is applied to the G4 electrode, and a focusing voltage V f lower than this is applied to the G3 and G5 electrodes.
ところが、このような構造では、なお次のような問題が
発生する。すなわち、第2図に示した外側電子ビームの
中心軸20が中心軸18の方向に偏向されるため、外側
電子ビームは、特に、外側に中心軸の変位した電極12
の開孔の中心軸から大きく外れ部分を通過することにな
る。このため外側電子ビームは、中心軸20から、中心
ビーム側の部分と他の側の部分とで異つた集束力をうけ
るので蛍光面上で歪んだ形状のスポツトを形成すること
になる。However, in such a structure, the following problems still occur. That is, since the central axis 20 of the outer electron beam shown in FIG. 2 is deflected in the direction of the central axis 18, the outer electron beam is particularly deflected outwardly by the electrode 12 whose central axis is displaced.
It will pass through a portion largely deviated from the central axis of the opening. For this reason, the outer electron beam receives different focusing powers from the central axis 20 between the central beam side portion and the other side portion, so that a spot having a distorted shape is formed on the fluorescent screen.
第3図に、このときのスポツト形状の概略を示す。中央
ビームスポツト30の両側は外側ビームスポツト形状3
1,31′である。斜線部分はコアと称する高輝度部
分、その周囲はハロと称する低輝度部分である。特にハ
ロの横方向への拡がりが顕著になるので、カラー受像管
の縦方向解像度が劣化することになる。FIG. 3 shows an outline of the spot shape at this time. Both sides of the central beam spot 30 have outer beam spot shapes 3
1, 31 '. The shaded area is a high-intensity area called the core, and the surrounding area is a low-intensity area called halo. In particular, the horizontal spread of the halo becomes remarkable, which deteriorates the vertical resolution of the color picture tube.
以上と同様な問題は、G4電極12に、G2電極とほぼ
同一な電位を与える構成の主レンズに対しても発生す
る。このときは、特公昭52−32714号公報の方法に従え
ば、G5電極13のG4電極12側の外側開口中心軸
を、G4電極12の外側開孔に比較して外側に偏位させ
なければならない。この構成でも、外側電子ビームはG
5電極のG4電極側開孔の中心軸から内側に大きく偏位
した部分を通過するので、スクリーンスポツト形状は第
3図に示したものと同様に歪んでしまう。The same problem as described above occurs with respect to the main lens having a configuration in which the G4 electrode 12 is provided with substantially the same potential as the G2 electrode. At this time, according to the method of Japanese Examined Patent Publication No. 52-32714, the central axis of the outer opening of the G5 electrode 13 on the G4 electrode 12 side must be displaced to the outside as compared with the outer opening of the G4 electrode 12. I won't. Even with this configuration, the outer electron beam is G
Since it passes through a portion largely deviated inward from the central axis of the G4 electrode side opening of the five electrodes, the shape of the screen spot is distorted similarly to that shown in FIG.
このように、2段階で電子ビームを偏向させる手法は、
特開昭55−53853号公報に示されているように、G4電
極電位がG3,G5電極電位よりも低い場合には、Vf
に対する電子ビーム偏位量の変動を防ぐ目的で用いられ
ることもあり、このときは、G5,6電極間でも、開孔
中心軸を偏位させる方法により電子ビームを偏向させる
場合もある。このような場合も、上記の外側電子ビーム
スポツトの歪の問題が同様に発生することはもちろんで
ある。Thus, the method of deflecting the electron beam in two steps is
As shown in JP-A-55-53853, when the G4 electrode potential is lower than the G3 and G5 electrode potentials, V f
It may be used for the purpose of preventing the variation of the electron beam deviation amount with respect to the electron beam. In this case, the electron beam may be deflected between the G5 and G6 electrodes by the method of displacing the central axis of the aperture. Even in such a case, the problem of the distortion of the outer electron beam spot similarly occurs.
本発明の目的は、外側電子ビームの蛍光面上でスポツト
の歪を低減することを可能とした電子ビーム偏向手段を
備えた電子銃構造を提供することにある。An object of the present invention is to provide an electron gun structure provided with an electron beam deflecting means capable of reducing spot distortion on the fluorescent surface of an outer electron beam.
蛍光面上での外側電子ビームスポツト形状の歪の原因の
多くは、対向する電極開孔のうち蛍光面側の電極開中心
軸を外側に偏位させていることにある。電子ビームは蛍
光面の方向に進行するに従い、内側に偏向されるので、
蛍光面側開孔の中心軸から大きく内側に偏位した部分を
通過する。これにより、電子ビームに対する集束力に対
してアンバランスが生じ、スポツトが歪む。Most of the causes of the distortion of the shape of the outer electron beam spot on the phosphor screen are that the center axis of the electrode opening on the phosphor screen side of the facing electrode openings is offset to the outside. Since the electron beam is deflected inward as it advances in the direction of the phosphor screen,
It passes through a portion largely deviated inward from the central axis of the phosphor screen side aperture. This causes an imbalance in the focusing force with respect to the electron beam, which distorts the spot.
しがつて、対向する電極開孔のうち蛍光面側の電極開孔
中心軸を内側に偏位させて電子ビームを内側に偏向させ
ることができれば、電子ビームは常に電極開孔中心軸付
近を通過することになり、スポツトの歪は低域される。
第1図のような多段の主レンズでは、対向する電極のう
ち、蛍光面側に位置する電極の電位が、他方の電極電位
よりも低い場合がある。そのような部分では、蛍光面側
電極開孔の中心軸を内側に偏位させることにより電子ビ
ームを内側に偏向させることができ、発明の目的を達成
できる。Therefore, if it is possible to deflect the electron beam inward by displacing the center axis of the electrode aperture on the phosphor screen side of the opposite electrode apertures, the electron beam always passes near the center axis of the electrode aperture. Therefore, the spot distortion is lowered.
In the multi-stage main lens as shown in FIG. 1, of the electrodes facing each other, the potential of the electrode located on the phosphor screen side may be lower than the potential of the other electrode. In such a portion, the electron beam can be deflected inward by displacing the central axis of the aperture of the phosphor screen side electrode inward, and the object of the invention can be achieved.
本発明の効果を確認するため、第4図にあげた本発明の
実施例と、第5図にあげた従来例について、電子ビーム
解析プログラムによる解析を行い、結果を比較した。こ
こでは簡単のため、円筒形の電極で構成された主レンズ
を考え、G3電極11、G4電極12、G5電極13、
により形成されるUPFレンズ部にビーム偏向手段を設
けた。第4図の例では本発明に従い集束電圧の印加され
るG5電極13のG4電極側開口の中心軸が内側に偏位
されており、第5図の例では従来例に従い、高圧の印加
されるG4電極12の開孔が、対向するG3電極11の
開孔に比較して外側に偏位されている。いずれも、電極
組立時にG6電極14側から挿入される固定治具が貫通
できるようにするため、隣接する開孔部のうちG6電極
側の開孔径が一方の開孔径に比較して小さくならないよ
うに組合わせている。In order to confirm the effect of the present invention, the embodiment of the present invention shown in FIG. 4 and the conventional example shown in FIG. 5 were analyzed by an electron beam analysis program and the results were compared. Here, for the sake of simplicity, consider a main lens composed of cylindrical electrodes, and assume that the G3 electrode 11, the G4 electrode 12, the G5 electrode 13,
A beam deflecting means is provided in the UPF lens portion formed by. In the example of FIG. 4, the central axis of the G4 electrode side opening of the G5 electrode 13 to which the focusing voltage is applied according to the present invention is displaced inward, and in the example of FIG. 5, a high voltage is applied according to the conventional example. The opening of the G4 electrode 12 is offset to the outside as compared with the opening of the facing G3 electrode 11. In either case, in order to allow the fixing jig inserted from the G6 electrode 14 side during electrode assembly to penetrate, the opening diameter of the adjacent opening portions on the G6 electrode side does not become smaller than one opening diameter. Combined with.
電子ビームの中心軌道20と、中心軌道に対して一定角
度(±0.5°)をもつて入射する2本の軌道45,46
を解析する。プラスの角度で入射する軌道45が、蛍光
面3上で中心軌道17と一致するときの集束電圧Vfの
値をVfh1とし、マイナスの角度で入射する軌道46が
蛍光面3上で中心軌道20と一致するときの集束電圧V
fの値をVfh2とする。Vfh1とVfh2が一致すると電子
ビームは中心軌道の両側の集束力が一致し、蛍光面上の
スポツト形状の歪みが無くなる。逆に、これらの電圧値
の差が大きいと歪みは大きくなる。開孔中心軸の偏位を
大きくすると、電子ビームの偏向量が大きくなり、それ
にともないスポツト形状の歪みも拡大する。The central orbit 20 of the electron beam and two orbits 45 and 46 which are incident at a constant angle (± 0.5 °) with respect to the central orbit.
To analyze. The value of the focusing voltage V f when the orbit 45 incident at a positive angle coincides with the central orbit 17 on the phosphor screen 3 is V fh1, and the orbit 46 incident at a negative angle is the central orbit on the phosphor screen 3. Focusing voltage V when it matches 20
The value of f is V fh2 . When V fh1 and V fh2 match, the focusing forces on both sides of the central orbit of the electron beam match, and the spot-shaped distortion on the phosphor screen disappears. Conversely, if the difference between these voltage values is large, the distortion becomes large. If the deviation of the central axis of the aperture is increased, the deflection amount of the electron beam is increased, and accordingly, the distortion of the spot shape is also increased.
第6図に、電子ビーム偏向量と、Vfh1とVfh2の値の差
によつて示したスポツト歪みとの関係を示す。電子ビー
ム偏向量は、第5図に示した電子ビーム中心軌道20
の、スクリーン上での中心軸からの偏位量hで表わす。
hの値は、Vfの値がVfh2となつたときの値をとる。
第6図から分るように、電極開孔中心軸偏位量を大きく
して電子ビーム偏向量を増大させるに従い、Vfh1とV
fh2の不一致が拡がり、電子ビームスポツトの歪が顕著
になつてくるが、本特許による構造をもつ第4図の例で
は、従来構造の第5図の例に比較して歪みが抑制され
る。FIG. 6 shows the relationship between the electron beam deflection amount and the spot distortion indicated by the difference between the values of V fh1 and V fh2 . The electron beam deflection amount is the electron beam center trajectory 20 shown in FIG.
Is represented by the deviation amount h from the central axis on the screen.
The value of h takes a value when the value of V f becomes V fh2 .
As can be seen from FIG. 6, as the amount of deflection of the central axis of the electrode aperture is increased and the amount of deflection of the electron beam is increased, V fh1 and V fh1
Although the disagreement of fh2 spreads and the distortion of the electron beam spot becomes noticeable, the distortion in the example of FIG. 4 having the structure according to the present patent is suppressed as compared with the example of the conventional structure of FIG.
第7図に本発明の一実施例を示す。第1図に従来例とし
て示した電子銃と異なり、G5電極15の、G4電極側
開孔のうち両側の開孔の中心軸が内側に偏位している。
このため電子ビームはUPFレンズ部分でも偏向され、
BPFレンズ部分での偏向量が不足した場合でも3本の
電子ビームを集中させ、STCをとることができる。こ
のとき蛍光面側で、開孔中心軸がビームの偏向される方
向、すなわち内側に偏位しているため、電子ビームは開
孔中心軸付近を通過することになり、歪みは抑制され
る。FIG. 7 shows an embodiment of the present invention. Unlike the electron gun shown as the conventional example in FIG. 1, the central axes of the G5 electrode 15 on both sides of the G4 electrode side aperture are deviated inward.
Therefore, the electron beam is deflected by the UPF lens part,
Even if the amount of deflection at the BPF lens portion is insufficient, the three electron beams can be concentrated and STC can be obtained. At this time, on the phosphor screen side, the central axis of the aperture is deviated in the direction in which the beam is deflected, that is, inside, so that the electron beam passes near the central axis of the aperture, and distortion is suppressed.
第8図は、G4電極12にG2電極10と共通の低電位
を与える構成の主レンズに本発明を適用した実施例であ
る。この例ではG4電極12のG3電極側開孔の中心軸
が、対向するG3電極開孔中心軸に比較して内側に偏位
している。FIG. 8 shows an embodiment in which the present invention is applied to a main lens having a structure for giving a low potential common to the G2 electrode 10 to the G4 electrode 12. In this example, the central axis of the G3 electrode side opening of the G4 electrode 12 is displaced inward as compared with the opposing central axis of the G3 electrode opening.
第9図は、G3電極11、G5電極13に共通の集束電
圧Vfを、G4電極12とのG6電極14に共通の高電
圧V0を与える構成の主レンズに本発明を適用した他の
例である。G5電極のG4電極側開孔の中心側17′、
G5電極とG6電極の対向する開孔に共通の中心軸1
7″が、三極部並びにG3,G4電極開孔中心軸17に
比較して次第に内側に偏位している。このため、サイド
ビーム中心軌道20は、中心ビーム方向に偏向されなが
ら、すべての電極開孔の中心付近を通過する。したがっ
て、電子ビームの偏向にともなう蛍光面上のスポツトの
歪みは軽減される。FIG. 9 shows another embodiment of the present invention in which the present invention is applied to a main lens configured to provide a common focusing voltage V f to the G3 electrode 11 and the G5 electrode 13 and a high voltage V 0 common to the G4 electrode 12 and the G6 electrode 14. Here is an example. Center side 17 'of G4 electrode side opening of G5 electrode,
Central axis 1 common to the opposing openings of the G5 and G6 electrodes
7 ″ is gradually deviated inward as compared with the central axis 17 of the triode and the G3 and G4 electrode apertures. Therefore, the side beam central trajectory 20 is deflected in the central beam direction while Since the light passes through the center of the electrode aperture, the spot distortion on the fluorescent screen due to the deflection of the electron beam is reduced.
第10図は、G3電極11、G5電極13に共通の集束
電圧Vfを、G4電極12に、G2電極10と共通の低
電圧VG2を、G6電極14に高電圧V0を与える構成
の主レンズに本発明を適用した他の例である。三極部お
よびG3電極11の開孔中心軸17に比較し、G4電極
およびG5電極の互いに対向する開孔の中心軸17′、
G5電極およびG6電極の互いに対向する開孔の中心軸
17″が次第に内側に偏位しているため、スポツトの歪
みは軽減される。FIG. 10 shows a configuration in which the focusing voltage V f common to the G3 electrode 11 and the G5 electrode 13 is applied, the low voltage V G2 common to the G2 electrode 10 is applied to the G4 electrode 12, and the high voltage V 0 is applied to the G6 electrode 14. It is another example in which the present invention is applied to a main lens. As compared with the central axis 17 of the opening of the triode and the G3 electrode 11, the central axis 17 'of the opening of the G4 electrode and the G5 electrode facing each other,
Since the central axes 17 ″ of the openings of the G5 electrode and the G6 electrode facing each other are gradually displaced inward, the strain of the spot is reduced.
第11図は、第3電極11、第5電極13に共通の高電
圧V0を、第4電極12に集束電圧Vfを印加する構成
の主レンズに本特許を適用した実施例である。第3電極
と第4電極、第4電極と第5電極の間にそれぞれBPF
レンズが形成される。三極部と第3電極開孔の中心軸1
7に比較し、第4電極の第3電極側開孔中心軸17′、
第4電極と第5電極の互いに対向する開孔の中心軸1
7″が順次中央ビーム方向に偏位しているため、中央ビ
ーム方向に偏向される外側ビームは常に各電極開孔の中
心軸付近を通過するので、スポツトの歪は軽減される。FIG. 11 shows an embodiment in which the present patent is applied to a main lens configured to apply a high voltage V 0 common to the third electrode 11 and the fifth electrode 13 and a focusing voltage V f to the fourth electrode 12. BPF is provided between the third electrode and the fourth electrode and between the fourth electrode and the fifth electrode, respectively.
A lens is formed. Central axis 1 of the triode and the opening of the third electrode
Compared with 7, the third electrode side opening central axis 17 'of the fourth electrode,
Central axis 1 of the opening of the fourth electrode and the fifth electrode facing each other
Since 7 ″ is sequentially deviated in the direction of the central beam, the outer beam deflected in the direction of the central beam always passes near the central axis of each electrode aperture, so that the spot distortion is reduced.
第12図は、G5電極13とG6電極14により形成さ
れるBPFレンズを、特開昭59−215640に示された非円
筒形の電子レンズ構造とし、これをG3電極11、G4
電極12、G5電極13によつて形成されるUPFレン
ズと組合わせ、このUPFレンズ部分に本特許を適用し
た実施例である。楕円形の開孔をもつ電極板121,1
22がそれぞれG3電極、G4電極内に設けられてい
る。三極部とG3電極開孔中心軸に比較し、G4,G5
電極開孔中心軸17′が内側に偏位している。また、G
5電極のG4電極側開孔からG5電極内部に突出した円
筒部分のうち外側に位置するものは、円筒部分が中心軸
17′に対して傾斜している。これは、中心軸17と1
7′の軸ずれによる電子ビーム偏向だけでは偏向量が不
足でSTCがとれない場合、さらに偏向力を強くするた
めのものである。中心軸17′の、中心軸17に対する
偏位が十分大きく、この軸ずれだけでSTCをとれると
きは、円筒端部を傾斜させる必要は無く、通常の円筒で
よい。FIG. 12 shows the BPF lens formed by the G5 electrode 13 and the G6 electrode 14 as the non-cylindrical electron lens structure shown in Japanese Patent Laid-Open No. 59-215640.
This is an example in which the present patent is applied to the UPF lens portion in combination with the UPF lens formed by the electrode 12 and the G5 electrode 13. Electrode plates 121, 1 having elliptical openings
22 are provided in the G3 electrode and the G4 electrode, respectively. G4, G5
The electrode aperture central axis 17 'is offset inward. Also, G
Among the cylindrical portions of the five electrodes protruding from the G4 electrode side opening to the inside of the G5 electrode, those located on the outer side have the cylindrical portion inclined with respect to the central axis 17 '. This is the central axis 17 and 1
This is to further increase the deflection force when the deflection amount is insufficient and the STC cannot be obtained only by the electron beam deflection due to the axis deviation 7 '. When the deviation of the central shaft 17 'with respect to the central shaft 17 is sufficiently large and the STC can be obtained only by this axial deviation, it is not necessary to incline the end of the cylinder, and a normal cylinder may be used.
本実施例の代表的寸法を以下に示す。Typical dimensions of this example are shown below.
○三極部ならびにG3電極11の開孔中心軸間距離;S
1=5.78 ○G4電極12ならびにG5電極13の開孔中心軸間距
離;S2=5.70 ○G5電極円筒部高さ ;h1=0.7 ;h2=2.0 ○中央部楕円開孔半短径 ;a1=2.2 ;a2=2.5 ○外側楕円半短径 ;b1=2.1 ;b2=2.5 ○電極板後退量 ;d1=4.0 ;d2=4.0 ○G5,G6電極開口外側部分半径;R=4.0 (単位;mm) ここでh1=h2として、G5電極13の円筒突出部端
面を傾斜させないときは、STCをとるため、S1の寸
法を5.8mmまで拡大する必要がある。○ Distance between the central axes of the openings of the triode and the G3 electrode 11; S
1 = 5.78 ○ G4 electrode 12 and G5 electrode 13 hole center axis distance; S 2 = 5.70 ○ G5 electrode cylinder height; h 1 = 0.7; h 2 = 2.0 ○ Center part elliptical hole semi-short diameter; a 1 = 2.2; a 2 = 2.5 ○ Outer elliptic semi-short diameter; b 1 = 2.1; b 2 = 2.5 ○ Electrode plate retreat amount; d 1 = 4.0; d 2 = 4.0 ○ G5, G6 electrode opening outer part radius; R = 4.0 (unit; mm) Here, h 1 = h 2 is set, and when the end surface of the cylindrical protruding portion of the G5 electrode 13 is not tilted, it is necessary to expand the dimension of S 1 to 5.8 mm in order to take STC.
本発明によれば、外側電子ビームが偏向される方向、す
なわち中央電子ビーム方向に電極各開孔部中心軸が順次
変位されているので、電子ビームは各開孔中心軸付近を
通過することになり、中心軸を外れた部分を通過するこ
とによつて生じる外側電子ビームスポツトの歪みを軽減
することができる。これにより、この歪みによつて生じ
るブラウン管解像度の劣化を抑制できる。According to the present invention, since the central axis of each electrode aperture is sequentially displaced in the direction in which the outer electron beam is deflected, that is, the central electron beam direction, the electron beam passes near the central axis of each aperture. Therefore, it is possible to reduce the distortion of the outer electron beam spot caused by passing through the portion deviated from the central axis. As a result, it is possible to suppress the deterioration of the cathode ray tube resolution caused by this distortion.
第1図は従来方式の主レンズを備えたブラウン管の断面
図、第2図は従来方式の主レンズの断面図、第3図はス
クリーン上のビームスポツト形状を示す図、第4図は本
発明の一実施例の主レンズの断面図、第5図は従来方式
の主レンズの断面図、第6図は第4図の実施例と第5図
の従来例の比較解析結果を示す図、第7〜第12図は本
発明の他の実施例の電子銃の断面図である。 1……ガラス外囲器、2……フエイスプレート、3……
螢光面、4……シヤドウマスク、5……導電膜、6,
7,8……陰極、9……G1電極、10……G2電極、
11……G3電極、12……G4電極、13……G5電
極、14……G6電極、15……遮蔽カツプ、16……
外部磁気偏向ヨーク、17,19……外側電子ビームを
発生する三極部中心軸、17′,17″……外側電子ビ
ームを集束する主レンズ開孔中心軸。FIG. 1 is a sectional view of a cathode ray tube having a conventional main lens, FIG. 2 is a sectional view of a conventional main lens, FIG. 3 is a view showing a beam spot shape on a screen, and FIG. 4 is the present invention. FIG. 5 is a sectional view of a main lens of one embodiment of the present invention, FIG. 5 is a sectional view of a main lens of a conventional method, FIG. 6 is a diagram showing a comparative analysis result of the embodiment of FIG. 4 and the conventional example of FIG. 7 to 12 are sectional views of electron guns according to other embodiments of the present invention. 1 ... glass envelope, 2 ... face plate, 3 ...
Fluorescent surface, 4 ... Shead mask, 5 ... Conductive film, 6,
7, 8 ... Cathode, 9 ... G1 electrode, 10 ... G2 electrode,
11 ... G3 electrode, 12 ... G4 electrode, 13 ... G5 electrode, 14 ... G6 electrode, 15 ... shielding cup, 16 ...
External magnetic deflection yoke, 17, 19 ... Central axis of triode for generating outer electron beam, 17 ', 17 "... Central axis of main lens aperture for focusing outer electron beam.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飯高 芳昭 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 福島 正和 東京都国分寺市東恋ヶ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshiaki Iitaka 3681 Hayano, Mobara-shi, Chiba Hitachi Device Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Masakazu Fukushima 1-280, Higashi Koigakubo, Kokubunji, Tokyo Hitachi Central Research Laboratory, Ltd.
Claims (5)
の電子ビームを互いに平行な初期通路に沿つて指向させ
る第1の電極手段と、上記各電子ビームを蛍光面に集束
させ、かつ、集中させるために各電子ビームの通路に実
質的に個別的な主レンズを構成する第2の電極手段とを
具備したカラー受像管用電子銃において、上期各主レン
ズを複数の電子レンズにより構成し、各主レンズのうち
少くとも1つの主レンズを構成する複数の電子レンズの
うち、少くとも1つの電子レンズを非軸対称に形成する
ことにより上記各電子ビームを蛍光面上に集中させ、さ
らに、上記非軸対称に形成された電子レンズのうちの少
くとも1つは、電子レンズを構成する一対の電極のう
ち、第1の電極手段側に設けられた電極の開孔の中心軸
が、対向する他の電極の対応する開孔の中心軸に比較
し、電子銃構体中心軸に対して外側に偏位していること
を特徴とするカラー受像管用電子銃。1. A first electrode means for generating a plurality of electron beams and directing these electron beams along mutually parallel initial passages, and for focusing and concentrating each electron beam on a fluorescent screen. In the electron gun for a color picture tube, which is provided with a second electrode means that constitutes a substantially individual main lens in the passage of each electron beam, in the first half, each main lens is composed of a plurality of electron lenses, Among the plurality of electron lenses forming at least one main lens among the main lenses, at least one electron lens is formed non-axisymmetrically to concentrate each electron beam on the phosphor screen, and further, At least one of the electron lenses formed non-axisymmetrically has a pair of electrodes forming the electron lens, and the central axes of the holes of the electrodes provided on the first electrode means side face each other. Other electric Corresponding compared to the central axis of the aperture, the electron gun for a color picture tube, characterized in that is offset outwardly with respect to the electron gun assembly central axis of.
ら蛍光面側に順次配置されたG3電極、G4電極、G5
電極、G6電極の4つの電極によつて構成し、G4電
極、G6電極に共通の高電位を、G3電極、G5電極に
共通の低電位を与え、G5電極のG4電極に対向した開
孔のうち、上記電子銃構体中心軸を含まない開孔の中心
軸を、対向するG4電極開孔の中心軸に比較し、上記電
子銃構体中心軸側に偏位していることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のカラー受像管用電子銃。2. A G3 electrode, a G4 electrode, and a G5 in which the main lens is sequentially arranged from the first electrode means side to the phosphor screen side.
The G4 electrode and the G6 electrode are provided with four electrodes, and a high potential common to the G4 electrode and the G6 electrode is applied, a low potential common to the G3 electrode and the G5 electrode is applied, and an opening facing the G4 electrode of the G5 electrode is formed. Among them, the central axis of the hole which does not include the central axis of the electron gun structure is deviated to the central axis side of the electron gun structure as compared with the central axis of the G4 electrode opening facing each other. An electron gun for a color picture tube according to claim 1.
開孔の中心軸を、上記第1の電極手段における対応する
電極開孔中心軸に比較し、上記電子銃構体中心軸側に偏
位させたことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の
カラー受像管用電子銃。3. The center axes of the apertures of the G5 electrode and the G6 electrode facing each other are compared with the center axes of the corresponding electrode apertures in the first electrode means, and are displaced toward the electron gun structure center axis side. The electron gun for a color picture tube according to claim 2, wherein the electron gun is a color picture tube.
ら、蛍光面側に順次配置されたG3電極、G4電極、G
5電極、G6電極の4つの電極によつて構成し、G6電
極に高電位を、G3電極、G5電極に低電位を、G4電
極に上記低電位よりさらに低い電位を与え、G4電極の
G3電極に対向した開孔のうち、上記電子銃構体中心軸
を含まない開孔の中心軸を、対向するG3電極開孔の中
心軸に比較し、上記電子銃構体中心軸側に変位している
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のカラー受
像管用電子銃。4. The G3 electrode, the G4 electrode, and the G4 electrode, which are sequentially arranged from the first electrode means side to the phosphor screen side, of the main lens.
A high potential is applied to the G6 electrode, a low potential is applied to the G3 electrode and the G5 electrode, and a potential lower than the low potential is applied to the G4 electrode. Of the openings facing each other, the central axis of the opening not including the central axis of the electron gun assembly is compared with the central axis of the facing G3 electrode opening, and is displaced toward the central axis of the electron gun assembly. An electron gun for a color picture tube according to claim 1.
開孔の中心軸を、上記第1の電極手段における対応する
電極開孔中心軸に比較し、上記電子銃構体中心軸側に偏
位させたことを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の
カラー受像管用電子銃。5. The center axes of the apertures of the G5 electrode and the G6 electrode facing each other are compared with the center axes of the corresponding electrode apertures in the first electrode means, and are displaced toward the electron gun assembly center axis side. The electron gun for a color picture tube according to claim 4, wherein the electron gun is a color picture tube.
Priority Applications (4)
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---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3297486A JPH0640469B2 (en) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | Color picture tube electron gun |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62193043A JPS62193043A (en) | 1987-08-24 |
JPH0640469B2 true JPH0640469B2 (en) | 1994-05-25 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3297486A Expired - Lifetime JPH0640469B2 (en) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | Color picture tube electron gun |
Country Status (1)
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Families Citing this family (4)
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JPH0416859U (en) * | 1990-05-30 | 1992-02-12 | ||
KR930011058B1 (en) * | 1991-02-12 | 1993-11-20 | 삼성전관 주식회사 | Electron gun for color cathode-ray tube |
JPH05211048A (en) * | 1991-11-29 | 1993-08-20 | Nec Corp | Electron gun for inline type color picture tube |
-
1986
- 1986-02-19 JP JP3297486A patent/JPH0640469B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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