JPH0635545B2 - Ion conductive polymer composition - Google Patents

Ion conductive polymer composition

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JPH0635545B2
JPH0635545B2 JP61053485A JP5348586A JPH0635545B2 JP H0635545 B2 JPH0635545 B2 JP H0635545B2 JP 61053485 A JP61053485 A JP 61053485A JP 5348586 A JP5348586 A JP 5348586A JP H0635545 B2 JPH0635545 B2 JP H0635545B2
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昭 西村
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Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明はイオン導電性高分子組成物に関し、さらに詳
細には、この発明は架橋した高分子化合物に電解質を分
散させたイオン導電性高分子組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an ion conductive polymer composition, and more specifically, the present invention relates to an ion conductive polymer in which an electrolyte is dispersed in a crosslinked polymer compound. It relates to a composition.

〈従来の技術〉 近年、電子部品は高性能化、小型薄型化とともに高信頼
性が強く要求されるため、それら電子部品に使用される
材料も信頼性の向上を図る必要がある。電池、表示素子
等に応用されるイオン導電性材料においても同様の要求
を満足させるべく種々の材料が開発されている。
<Prior Art> In recent years, electronic components are required to have high performance, small size and thinness, and high reliability. Therefore, it is necessary to improve reliability of materials used for those electronic components. Various materials have been developed to meet the same requirements as ion conductive materials applied to batteries, display elements and the like.

従来、このようなイオン導電性材料としては、 (i)電解質を水、水性溶媒または有機溶媒に溶解した電
解質溶液; (ii)ベータ・アルミナ(β−Al)、窒化リチウ
ム(LiN)、ヨウ化リチウム−アルミナ(LiI−
Al)、ヨウ化銀ルビジウム等の無機質からなる
固体電解質材料; 等が知られている。
Conventionally, as such an ion conductive material, (i) an electrolyte solution obtained by dissolving an electrolyte in water, an aqueous solvent or an organic solvent; (ii) beta-alumina (β-Al 2 O 3 ), lithium nitride (Li 3 N), lithium iodide-alumina (LiI-
Al 2 O 3 ), a solid electrolyte material made of an inorganic material such as silver rubidium iodide; and the like are known.

〈発明が解決しようとする問題点〉 しかし、前記の(i)の電解質溶液は水または有機溶媒を
使用しているので、電子部品外への漏液という問題が常
に存在し、この漏液による部品の性能劣化や周辺部品の
損傷を引起こすことがある。この問題点を改善するため
に電解質溶液中に高分子物質を添加しゲル状にしたもの
も知られているが、この材料にしても漏液の危険性を完
全に払拭できるものではなかった。
<Problems to be Solved by the Invention> However, since the electrolyte solution of (i) uses water or an organic solvent, there is always a problem of liquid leakage to the outside of electronic components, and It may cause deterioration of the performance of parts and damage of peripheral parts. In order to improve this problem, it is known that a polymer substance is added to the electrolyte solution to form a gel, but even this material cannot completely eliminate the risk of liquid leakage.

一方、(ii)の固体電解質は、本質的に高信頼性をもって
長寿命の電子部品に適用でき、かつ小型および軽量化で
きる材料であるが、現状では室温で充分な導電性を示す
材料が得られておらず、広く応用されるには至っていな
い。
On the other hand, the solid electrolyte of (ii) is a material that can be applied to electronic components with high reliability and long life, and can be made small and lightweight, but at present, a material showing sufficient conductivity at room temperature is obtained. It has not been widely applied.

上記の現状に鑑み、加工性に優れかつ高い導電性を示す
高分子のイオン導電性材料が注目されている。高分子の
イオン導電性材料において、高い導電性を得るには、そ
れに含有される電解質をイオンに解離させる能力が大き
いこと、およびそのイオンが高分子中を移動しやすいこ
とが必要である。このため、高分子イオン導電性材料と
して、イオン解離能力の大きいポリエーテル系の材料が
検討されたが、分子運動性の面で限界があり、導電率が
あまりよくならない欠点があった。この欠点を改善すべ
く、分子運動性の極めて高いシロキサンとポリエーテル
とを組合せた高分子イオン導電材料が提案されている。
In view of the above situation, attention has been paid to a polymer ion-conductive material which is excellent in workability and has high conductivity. In order to obtain high conductivity in a polymer ion-conductive material, it is necessary that the electrolyte contained therein has a large ability to dissociate into an ion and that the ion easily moves in the polymer. For this reason, a polyether-based material having a large ionic dissociation ability has been studied as the polymer ion conductive material, but there is a limitation in terms of molecular mobility, and there is a drawback that the conductivity does not improve so much. In order to improve this drawback, a polymer ion conductive material in which siloxane and polyether having extremely high molecular mobility are combined has been proposed.

そのような例として、例えば、 (1)シロキサンとポリエチレンオキシドとの共重合体
(下記一般式−I)を架橋固化させ、 金属イオンを含有させてイオン導電性材料としたもの
(特開昭60−217263号および特開昭60−21
6463号参照); (2)ポリエチレンオキシドを側鎖に有するポリシロキサ
ン(下記一般式−II)を2官能性イソシアネートにより
架橋固化し、 金属イオンを含有させてイオン導電性材料としたもの
[ソリド ステート イオニクス (Solid State Ioni
cs)15(1985),233−240 参照]; 等が挙げられる。
As such an example, for example, (1) a copolymer of siloxane and polyethylene oxide (the following general formula-I) is crosslinked and solidified, An ion conductive material containing metal ions (Japanese Patent Laid-Open No. 217263/1985 and Japanese Patent Laid-Open No. 60-21 / 1985).
6463); (2) Polysiloxane having polyethylene oxide in the side chain (the following general formula-II) is crosslinked and solidified with a bifunctional isocyanate, Ion conductive material containing metal ions [Solid State Ionis
cs) 15 (1985), 233-240]] and the like.

しかしながら、上記(1)にあっては、主鎖中に含まれる-
Si-O-C-結合が水の存在により容易に切断されるため、
材料としての取扱が極めて不便である。また、上記(2)
にあっては、側鎖のポリエチレンオキシド基が架橋に使
用されているので、ポリエチレンオキシド部分の運動性
が低下し、導電率が室温で高々10-6S/cmのオーダーに
しかならない欠点がある。
However, in the above (1), it is contained in the main chain-
Since the Si-OC- bond is easily broken by the presence of water,
Handling as a material is extremely inconvenient. Also, above (2)
However, since the side chain polyethylene oxide group is used for cross-linking, the mobility of the polyethylene oxide part is reduced, and the electrical conductivity at room temperature is at most on the order of 10 -6 S / cm. .

〈目的〉 この発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、側
鎖のオキシアルキレン基またはポリオキシアルキレン基
の運動性を損わずに架橋されたポリシロキサン架橋体に
より、高いイオン導電性を有するイオン導電性高分子組
成物を提供することを目的とする。
<Purpose> The present invention has been made in view of the above problems, and has a high ionic conductivity due to a crosslinked polysiloxane crosslinked product without impairing the mobility of a side chain oxyalkylene group or polyoxyalkylene group. It aims at providing the ion conductive polymer composition which has.

〈構成〉 上記目的を達成するためになされた、この発明のイオン
導電性高分子組成物は、下記の一般式で表されるポリシ
ロキサンの架橋硬化体と、周期律表第I族または第II族
の金属イオンからなる電解質とを含むことを特徴とす
る。
<Structure> The ion conductive polymer composition of the present invention made to achieve the above object is a crosslinked cured product of a polysiloxane represented by the following general formula and a periodic table group I or II. And an electrolyte composed of a group metal ion.

〔式中、R,R,R,R11およびR11′は同一また
は異なって、アルキル基、アルコキシル基またはアリー
ル基を示し、 Rはアルキレン基、オキシアルキレン基、オキシカル
ボニルアルキレン基を示し、 Rは水素原子またはアルキル基を示し、 Yはオキシアルキレン基またはポリオキシアルキレン基
を示し、 Zは両末端がアルキレン基、オキシアルキレン基、ポリ
オキシアルキレン基またはポリシロキサン構造を有する
基のいずれかからなる有機基を示し、 lおよびtはそれぞれ正の整数、mは0または正の整数
であって、l、tおよびmは以下の関係にある。
[In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 11 and R 11 ′ are the same or different and each represents an alkyl group, an alkoxyl group or an aryl group, and R 4 is an alkylene group, an oxyalkylene group or an oxycarbonylalkylene group. R 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Y represents an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group, and Z represents a group having an alkylene group, an oxyalkylene group, a polyoxyalkylene group or a polysiloxane structure at both ends. Which represents an organic group consisting of any of the following, 1 and t are positive integers, m is 0 or a positive integer, and l, t, and m have the following relationships.

l/(l+m+t)≧0.1〕 上記の構成において、ポリシロキサン架橋硬化体の架橋
部分以外の部分の構造は、下記の一般式−IIIで示され
る。
1 / (l + m + t) ≧ 0.1] In the above structure, the structure of the portion other than the crosslinked portion of the crosslinked cured polysiloxane is represented by the following general formula-III.

(式中、R、R、R、R、R、Y、l、mは
前記と同じである。) 上記の一般式−IIIにおいて、ケイ素原子と結合しうる
、RおよびRの基としては、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル等の
アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキ
シ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ等のアルコキシ
基、フェニル、ナフチル等のアリール基を例示できる。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , Y, 1, and m are the same as above.) In the above general formula-III, R 1 and R capable of bonding to a silicon atom. 2 and R 3 include methyl, ethyl,
Examples thereof include alkyl groups such as propyl, butyl, pentyl, hexyl and octyl, alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, hexyloxy and octyloxy, and aryl groups such as phenyl and naphthyl.

基Yで示されるオキシアルキレン基またはポリオキシア
ルキレン基しては、例えば、 [式中、pは正の整数を意味する。] 等が例示できる。
The oxyalkylene group or polyoxyalkylene group represented by the group Y is, for example, [In the formula, p means a positive integer. ] Etc. can be illustrated.

また、ケイ素原子と基Yとを結ぶ化学結合基であるR
としては、例えば、 -CH2-CH2-O- -CH2-CH2-CH2-O- -CH2-CH2COO- -CH2-CH2CO- -CH2-CH(CH3)COO- 等が例示できる。
In addition, R 4 which is a chemical bonding group connecting the silicon atom and the group Y
For example, -CH 2 -CH 2 -O- -CH 2 -CH 2 -CH 2 -O- -CH 2 -CH 2 COO- -CH 2 -CH 2 CO- -CH 2 -CH (CH 3 ) COO- can be exemplified.

基Yと結合しうる有機基であるRとしては、例えば、
水素原子、前記のアルキル基等が挙げられる。
Examples of R 5 which is an organic group capable of binding to the group Y include, for example,
Examples thereof include a hydrogen atom and the above alkyl groups.

次に、この発明のポリシロキサン架橋硬化体の架橋部分
の構造は、下記の一般式−VIで示される。
Next, the structure of the crosslinked portion of the crosslinked cured polysiloxane of the present invention is represented by the following general formula-VI.

[式中、R11およびR11′はケイ素原子と結合しうる有機
基、Zは架橋結合基を意味する。] ケイ素原子と結合しうる有機基であるR11およびR11′と
しては、前記のRで例示したのと同様な基が挙げられ
る。
[In the formula, R 11 and R 11 ′ represent an organic group capable of bonding to a silicon atom, and Z represents a cross-linking group. Examples of R 11 and R 11 ′, which are organic groups capable of binding to a silicon atom, include the same groups as those exemplified for R 1 .

また、架橋結合基であるZとしては、両末端がアルキレ
ン基、オキシアルキレン基、ポリオキシアルキレン基ま
たはポリシロキサン構造を有する基のいずれかからなる
有機基があげられる。これらの基はイミノ基、フェニレ
ン基、カルボニル基等を含んでいてもよい。さらに基Z
を具体的に説明すると、 [式中、q、rおよびsはそれぞれ正の整数を意味す
る。] 等が例示できる。
Examples of Z, which is a cross-linking group, include an organic group whose both terminals are either an alkylene group, an oxyalkylene group, a polyoxyalkylene group, or a group having a polysiloxane structure. These groups may include an imino group, a phenylene group, a carbonyl group and the like. Further group Z
Specifically, [In formula, q, r, and s mean a positive integer, respectively. ] Etc. can be illustrated.

この発明のポリシロキサン架橋硬化体は、種々の方法で
合成するとができる。例えば、 合成法−1 不飽和結合およびオキシアルキレン基またはポリオキシ
アルキレン基を有する有機化合物と水素化ケイ素を有す
るポリシロキサンとの付加反応を行った後(第1工
程)、導入した側鎖の官能基の種類に応じて、該官能基
と反応しえる反応基を2個以上含む架橋剤により側鎖の
一部を架橋する(第2工程)方法。
The crosslinked cured polysiloxane of the present invention can be synthesized by various methods. For example, Synthesis Method-1 After the addition reaction of an organic compound having an unsaturated bond and an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group with a polysiloxane having a silicon hydride (first step), the functionality of the side chain introduced A method of crosslinking a part of the side chain with a crosslinking agent containing two or more reactive groups capable of reacting with the functional group depending on the type of the group (second step).

上記第1工程の反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒
としては、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば
何れの溶媒も使用でき、例えば、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル類が挙げられる。
The reaction of the first step is usually performed in a solvent. As the solvent, any solvent can be used as long as it does not adversely affect this reaction, and for example, benzene, toluene,
Examples thereof include aromatic hydrocarbons such as xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride and tetrachloroethane, and ethers such as tetrahydrofuran and dioxane.

この反応は、触媒の存在下に行うのが好ましい。触媒と
しては、塩化白金酸が好ましいが、その他ヒドロシリル
化反応に慣用の触媒、例えば、周期律表第VIII族遷移金
属錯体、塩基性化合物等も使用できる。また出発原料で
ある不飽和化合物の重合を防止するためハイドロキノン
等の重合禁止剤を添加するのが望ましい。
This reaction is preferably carried out in the presence of a catalyst. As the catalyst, chloroplatinic acid is preferable, but other conventional catalysts for hydrosilylation reaction, for example, Group VIII transition metal complex of the periodic table, basic compounds and the like can also be used. Further, it is desirable to add a polymerization inhibitor such as hydroquinone in order to prevent the polymerization of the unsaturated compound as the starting material.

反応温度は特に限定されないが、通常、室温ないし加熱
下に行われる。
The reaction temperature is not particularly limited, but it is usually performed at room temperature or under heating.

上記の第2工程の反応は、上記第1工程で得られたシロ
キサンポリマーと架橋剤とを溶媒の存在下または非存在
下に反応させることにより行われる。ここで使用される
溶媒としては、前記第1工程で例示された溶媒と同様な
溶媒が挙げられる。
The reaction in the second step is carried out by reacting the siloxane polymer obtained in the first step with the crosslinking agent in the presence or absence of a solvent. Examples of the solvent used here include the same solvents as those exemplified in the first step.

架橋剤としては、ポリシロキサンに導入された側鎖上の
官能基の種類により適宜選択されるが、例えば、導入さ
れた側鎖の末端が水酸基であるオキシアルキレンまたは
ポリオキシアルキレン基を有する有機基の場合、架橋剤
としては、例えば、イソシアネート基、カルボキシ基、
カルボン酸無水物、カルボン酸ハライド基、エポキシ
基、水酸基、ハライド基、ビニル基、アルキロールアミ
ド基、シラノール基、アルコキシシラン基等の官能基を
2以上含有する化合物、またはホウ酸、オルトリン酸ジ
エステル、ケタール化合物などが例示される。なお、側
鎖上の官能基と使用できる架橋剤との関係に関しては、
[架橋剤ハンドブック](大成社発行)に詳述されてお
り、これを参照できる。
The cross-linking agent is appropriately selected depending on the kind of the functional group on the side chain introduced into the polysiloxane. For example, an organic group having an oxyalkylene or polyoxyalkylene group in which the end of the introduced side chain is a hydroxyl group. In the case of, as the cross-linking agent, for example, an isocyanate group, a carboxy group,
Compounds containing two or more functional groups such as carboxylic acid anhydride, carboxylic acid halide group, epoxy group, hydroxyl group, halide group, vinyl group, alkylolamide group, silanol group and alkoxysilane group, or boric acid, orthophosphoric acid diester , Ketal compounds and the like. Regarding the relationship between the functional group on the side chain and the crosslinking agent that can be used,
It is described in detail in [Crosslinking Agent Handbook] (published by Taisei Co., Ltd.), which can be referred to.

架橋度の調整は、前記の架橋剤の量を調整する方法、上
記第1工程において、架橋剤と反応するタイプの側鎖と
反応しないタイプの側鎖の2種類を側鎖として導入し、
その導入量比を適宜調整することにより架橋度を調整す
る方法等が挙げられる。
The degree of cross-linking is adjusted by the method of adjusting the amount of the cross-linking agent, and in the first step, two types of side chains of a type that reacts with the cross-linking agent and a side chain that does not react are introduced as side chains,
Examples thereof include a method of adjusting the degree of crosslinking by appropriately adjusting the introduction amount ratio.

この架橋反応の反応温度は、特に限定されないが、通
常、冷却下ないし加熱下に行われる。また、架橋剤の種
類によっては、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基性
物質を添加するのが好ましい。
The reaction temperature of this crosslinking reaction is not particularly limited, but it is usually performed under cooling or heating. Further, it is preferable to add a basic substance such as triethylamine or pyridine depending on the kind of the crosslinking agent.

合成法−2 不飽和結合およびオキシアルキレン基またはポリオキシ
アルキレン基を有する有機化合物ならびに少なくとも2
個の不飽和結合を有する有機化合物と水素化ケイ素を有
するポリシロキサンとの付加反応を行い、オキシアルキ
レン基またはポリオキシアルキレン基を有する有機基の
側鎖への導入と架橋反応を同時に行う方法。
Synthetic method-2 Organic compound having unsaturated bond and oxyalkylene group or polyoxyalkylene group and at least 2
A method of performing an addition reaction between an organic compound having one unsaturated bond and a polysiloxane having silicon hydride, and simultaneously introducing an oxyalkylene group or an organic group having a polyoxyalkylene group into a side chain and performing a crosslinking reaction.

この反応は前記の合成法−1の第1工程の反応と実質的
に同様に行うことができ、使用される溶媒、触媒、反応
温度等は合成法−1の第1工程に記述された説明を参照
できる。
This reaction can be carried out in substantially the same manner as the reaction of the first step of the synthesis method-1, and the solvent, catalyst, reaction temperature and the like used are the same as those described in the first step of the synthesis method-1. Can be referred to.

合成法−3 水素化ケイ素を有するポリシロキサンと、該水素化ケイ
素基の当量より少ない量の不飽和結合およびオキシアル
キレン基またはポリオキシアルキレン基を有する有機化
合物との付加反応を行った後(第1工程)、得られたポ
リマー中の水素化ケイ素基を加水分解し(第2工程)、
≡Si-O-Si≡結合により架橋する方法。
Synthetic Method-3 After carrying out an addition reaction between a polysiloxane having a silicon hydride and an organic compound having an unsaturated bond and an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group in an amount smaller than the equivalent amount of the silicon hydride group ( 1 step), hydrolyzing the silicon hydride group in the obtained polymer (2nd step),
A method of crosslinking by ≡Si-O-Si≡ bond.

この反応の第1工程は、前記の合成法−1の第1工程の
反応と実質的に同様に行うことができ、使用される溶
媒、触媒、反応温度等は合成法−1の第1工程に記述さ
れた説明を参照できる。
The first step of this reaction can be carried out in substantially the same manner as the reaction of the first step of the above-mentioned synthesis method-1, and the solvent, catalyst, reaction temperature and the like used are the same as those of the first step of the synthesis method-1. See the description given in.

第2工程の反応は、水の存在下、ポリマーを加熱するこ
とにより行うことができるが、フィルム等に成形された
該ポリマーを大気中で加熱することによっても行うこと
ができる。
The reaction in the second step can be carried out by heating the polymer in the presence of water, but can also be carried out by heating the polymer formed into a film or the like in the atmosphere.

合成法−4 前記合成法−1の第1工程で得られた、オキシアルキレ
ン基またはポリオキシアルキレン基を有する有機基を側
鎖に有するポリシロキサンに放射線を照射し架橋させる
方法。
Synthetic Method-4 A method of irradiating the polysiloxane having a side chain with an organic group having an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group, obtained in the first step of the above-mentioned Synthetic Method-1, to radiate and crosslink.

この反応で使用される放射線としては、電子線、X線、
ガンマー線等が例示できるが、電子線が好ましい。照射
線量は特に限定されないが、通常、1〜50Mrad程度で
行われる。
The radiation used in this reaction includes electron beams, X-rays,
Gamma rays and the like can be exemplified, but electron beams are preferable. The irradiation dose is not particularly limited, but is usually about 1 to 50 Mrad.

上記の合成法−1および2で得られるポリシロキサン架
橋硬化体は前記一般式で表される構造を有する。この一
般式において、lの値は l/(l+m+t)≧0.1 となることが好ましい。
The crosslinked polysiloxane cured products obtained by the above-mentioned synthesis methods-1 and 2 have a structure represented by the above general formula. In this general formula, the value of l is preferably l / (l + m + t) ≧ 0.1.

この発明で使用される周期律表第I族または第II族の金
属イオンからなる電解質としては、従来からイオン導電
性高分子材料の電解質として使用されている電解質が使
用でき、例えば、過塩素酸リチウム、チオシアン酸リチ
ウム、ホウフッ化リチウム、トリフルオロメタンスルホ
ン酸リチウム等のリチウム塩、トリフルオロ酢酸ナトリ
ウム、ホウフッ化ナトリウム等のナトリウム塩、トリフ
ルオロメタンスルホン酸カリウム、チオシアン酸カリウ
ム等のカリウム塩、ヨウ化バリウム等のバリウム塩など
の第I族または第II族の金属イオンからなる電解質が例
示できる。
As the electrolyte composed of a metal ion of Group I or Group II of the periodic table used in the present invention, an electrolyte conventionally used as an electrolyte of an ion-conductive polymer material can be used. Lithium, lithium thiocyanate, lithium borofluoride, lithium trifluoromethanesulfonate, lithium salts, sodium trifluoroacetate, sodium borofluoride, sodium salts, potassium trifluoromethanesulfonate, potassium thiocyanate, potassium salts, barium iodide Examples of the electrolyte include group I or group II metal ions such as barium salts.

この発明のイオン導電性高分子組成物は、前記のポリシ
ロキサンの架橋反応前または後に上記の電解質を添加し
て製造される。また、所望に応じて、フィルム等に成形
される。
The ion conductive polymer composition of the present invention is produced by adding the above electrolyte before or after the crosslinking reaction of the polysiloxane. Further, it is formed into a film or the like, if desired.

さらに、イオン導電性高分子組成物には種々のものを添
加することが可能である。例えば、ガラス転移点を下げ
るために、メタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ポリエチレングリコールなどの有機溶剤を可塑剤と
して少量添加することも可能である。また、力学的物性
に対する要求が厳しい場合には、シリカなどの補強剤を
添加することができる。
Furthermore, various compounds can be added to the ion conductive polymer composition. For example, in order to lower the glass transition point, it is possible to add a small amount of an organic solvent such as methanol, tetrahydrofuran, dioxane or polyethylene glycol as a plasticizer. Further, when demands on mechanical properties are strict, a reinforcing agent such as silica can be added.

〈作用〉 この発明は上記の構成よりなり、電解質の溶解度を大き
くするオキシアルキレン基またはポリオキシアルキレン
基を有する側鎖が導入されているとともにガラス転移点
を下げるポリシロキサン骨格より構成されるので、電解
質の解離度を大きくかつイオンの移動度も大きくするこ
とができる。
<Operation> The present invention has the above-mentioned constitution, and is composed of a polysiloxane skeleton which lowers the glass transition point while introducing a side chain having an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group for increasing the solubility of the electrolyte, The dissociation degree of the electrolyte can be increased and the mobility of ions can be increased.

特に、オキシアルキレン基またはポリオキシアルキレン
基を有する側鎖の内、架橋に使用されていない側鎖が多
く存在するので、該側鎖の運動性が大きく、上記の効果
を一層大きくすることができる。
In particular, among the side chains having an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group, there are many side chains that are not used for crosslinking, so the mobility of the side chains is large, and the above effect can be further enhanced. .

〈実施例〉 以下、実施例をもって、この発明をより詳細に説明す
る。
<Example> Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

実施例1 下記に示される化合物(1)1.58g、ポリシロキサン
(2)0.98gおよびハイドロキノン0.02gをトル
エン50mlに溶解し、ここに3.8×10-3モル/lの
塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液を0.5ml加
えた後、50℃で24時間反応させた。減圧乾燥により
ポリマーを回収した。得られたポリマーのH−NMR
スペクトルを添附図面に示す。添附図面から明らかなよ
うに、化合物(1)のビニル基に由来するピークは消失
し、ケイ素原子とオキシエチレン基との結合を示すメチ
レン基のピークがδ=0.5〜2.0ppmに出現し
た。
Example 1 1.58 g of compound (1) shown below, polysiloxane
(2) 0.98 g and 0.02 g of hydroquinone were dissolved in 50 ml of toluene, and 0.5 ml of an isopropyl alcohol solution of chloroplatinic acid of 3.8 × 10 −3 mol / l was added thereto, and then at 24 ° C. at 24 ° C. Reacted for hours. The polymer was recovered by vacuum drying. 1 H-NMR of the obtained polymer
The spectrum is shown in the attached drawing. As is apparent from the attached drawings, the peak derived from the vinyl group of compound (1) disappeared, and the peak of the methylene group showing the bond between the silicon atom and the oxyethylene group appeared at δ = 0.5 to 2.0 ppm. did.

得られたポリマー1.0gと過塩素酸リチウム0.15
6gをテトラヒドロフランに溶解した後、テフロン製の
シャーレ上で乾燥させた。これに、3MeVの電子線を1
0Mrad照射し、1mmの厚さのフィルムを得た。さらに、
これを90℃で3日間減圧乾燥させた後、白金を電極と
して25℃での導電率を測定したところ、1.3×10
-5S/cmの値が得られた。
1.0 g of the obtained polymer and 0.15 of lithium perchlorate.
After dissolving 6 g in tetrahydrofuran, it was dried on a Petri dish made of Teflon. To this, 1 electron beam of 3 MeV
Irradiation with 0 Mrad gave a film with a thickness of 1 mm. further,
This was dried under reduced pressure at 90 ° C. for 3 days, and the conductivity at 25 ° C. was measured using platinum as an electrode.
A value of -5 S / cm was obtained.

化合物(1): CH2=CH-CH2-O-CH2-CH2-O-CH3 化合物(2): (W=300,000) 実施例2 上記の化合物(2)0.7g、下記の化合物(3)1.77
g、化合物(4)0.33gおよびハイドロキノン0.0
2gをトルエン32gに溶解し、ここに3.8×10-3
モル/lの塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液を
0.5ml加えた後、50℃で24時間反応させた。この
反応溶液12.7gに、過塩素酸リチウム0.073g
のテトラヒドロフラン溶液を加え、充分に混合した後、
減圧乾燥し、さらに90℃で3日間真空乾燥して厚さ1
mmのフィルムを得た。このフィルムの25℃での導電率
を測定したところ1.6×10-5S/cmであった。
Compound (1): CH 2 = CH -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 3 Compound (2): (W = 300,000) Example 2 0.7 g of the above compound (2) and 1.77 of the following compound (3)
g, compound (4) 0.33 g and hydroquinone 0.0
The 2g was dissolved in toluene 32g, here 3.8 × 10 -3
After adding 0.5 ml of a mol / l solution of chloroplatinic acid in isopropyl alcohol, the mixture was reacted at 50 ° C. for 24 hours. 12.7 g of this reaction solution, 0.073 g of lithium perchlorate
Tetrahydrofuran solution was added and mixed thoroughly,
Dry under reduced pressure and vacuum dry at 90 ° C for 3 days to obtain a thickness of 1
A film of mm was obtained. When the conductivity of this film at 25 ° C. was measured, it was 1.6 × 10 −5 S / cm.

化合物(3): 化合物(4): 実施例3 前記化合物(2)0.9g、化合物(4)0.43g、化合物
(1)1.305gおよびハイドロキノン0.20gをト
ルエン32gに溶解し3.8×10-3モル/lの塩化白
金酸/イソプロピルアルコール溶液を0.5ml加え、5
0℃で24時間反応させた。この溶液13.43gと過
塩素酸リチウム0.111gを溶解したテトラヒドロフ
ラン溶液とを混合して減圧乾燥させた。この後90℃で
24時間真空乾燥を行ないフィルムを得た。30℃での
導電率を測定したところ1.25×10-5S/cmであっ
た。
Compound (3): Compound (4): Example 3 0.9 g of the compound (2), 0.43 g of the compound (4), and the compound
(1) 1.305 g of hydroquinone and 0.20 g of hydroquinone were dissolved in 32 g of toluene, and 0.5 ml of 3.8 × 10 −3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution was added.
The reaction was carried out at 0 ° C for 24 hours. 13.43 g of this solution and a tetrahydrofuran solution in which 0.111 g of lithium perchlorate was dissolved were mixed and dried under reduced pressure. Then, vacuum drying was performed at 90 ° C. for 24 hours to obtain a film. When the conductivity at 30 ° C. was measured, it was 1.25 × 10 −5 S / cm.

実施例4 前記化合物(2)0.98g、化合物(1)0.948gおよ
びハイドロキノン0.01gをトルエン16gに溶解
し、3.8×10-3モル/lの塩化白金酸/イソプロピ
ルアルコール溶液を0.5ml加え、50℃で24時間反
応に付した後、減圧乾燥にてポリマーを回収した。この
ポリマー1gと過塩素酸リチウムをテトラヒドロフラン
溶液に溶解し、80℃の温度で乾燥させた後、さらに5
時間加熱してフィルムを得た。このフィルムを90℃で
真空乾燥したところイオン導電性のフィルムが得られ
た。
Example 4 0.98 g of the compound (2), 0.948 g of the compound (1) and 0.01 g of hydroquinone were dissolved in 16 g of toluene, and a 3.8 × 10 −3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution was added. After adding 0.5 ml and subjecting it to reaction at 50 ° C. for 24 hours, the polymer was recovered by drying under reduced pressure. 1 g of this polymer and lithium perchlorate were dissolved in a tetrahydrofuran solution and dried at a temperature of 80 ° C.
A film was obtained by heating for a period of time. When this film was vacuum dried at 90 ° C., an ion conductive film was obtained.

実施例5 前記化合物(4)0.23g、化合物(1)0.69g、下記
化合物(5)1.0gおよびハイドロキノン0.02gを
トルエン32gに溶解し3.8×10-3モル/lの塩化
白金酸/イソプロピルアルコール溶液0.5mlを加え、
50℃で24時間反応に付した。この溶液8.83gと
過塩素酸リチウムを溶解したテトラヒドロフランを混合
した後、減圧にて乾燥し、90℃で3日間真空乾燥をし
たところイオン導電性のフィルムが得られた。
Example 5 0.23 g of the compound (4), 0.69 g of the compound (1), 1.0 g of the following compound (5) and 0.02 g of hydroquinone were dissolved in 32 g of toluene to obtain 3.8 × 10 −3 mol / l. Add 0.5 ml of chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution,
The reaction was carried out at 50 ° C. for 24 hours. After mixing 8.83 g of this solution with tetrahydrofuran in which lithium perchlorate was dissolved, it was dried under reduced pressure and vacuum dried at 90 ° C. for 3 days to obtain an ion conductive film.

化合物(5): (W=100,000,m:n=1:1) 実施例6 前記化合物(2)1.0g、化合物(4)0.51g、下記化
合物(6)2.51gおよびハイドロキノン0.02gを
トルエン32gに溶解し3.8×10-3モル/lの塩化
白金酸/イソプロピルアルコール溶液0.5mlを加え、
50℃で24時間反応に付した。この溶液8.96gと
過塩素酸リチウムを溶解したテトラヒドロフランを混合
し、減圧乾燥し、90℃で3日間真空乾燥を行なったと
ころイオン導電性のフィルムが得られた。
Compound (5): (W = 100,000, m: n = 1: 1) Example 6 1.0 g of the compound (2), 0.51 g of the compound (4), 2.51 g of the following compound (6) and 0.02 g of hydroquinone were added to 32 g of toluene. Dissolve and add 0.5 ml of 3.8 × 10 −3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution,
The reaction was carried out at 50 ° C. for 24 hours. 8.96 g of this solution and tetrahydrofuran in which lithium perchlorate was dissolved were mixed, dried under reduced pressure, and vacuum dried at 90 ° C. for 3 days to obtain an ion conductive film.

化合物(6): 実施例7 前記化合物(2)1.0g、下記化合物(7)3.3g、化合
物(8)1.7gおよびハイドロキノン0.04gをトル
エン50gに溶解し、塩化白金酸2.1mgの存在下で8
0℃で6時間反応に付した。この溶液9.3gと過塩素
酸リチウムを溶解したテトラヒドロフランを混合し、減
圧乾燥し、90℃で3日間真空乾燥を行なったところイ
オン導電性のフィルムが得られた。
Compound (6): Example 7 1.0 g of the compound (2), 3.3 g of the following compound (7), 1.7 g of the compound (8) and 0.04 g of hydroquinone were dissolved in 50 g of toluene, and 2.1 mg of chloroplatinic acid was added. 8
The reaction was allowed to proceed for 6 hours at 0 ° C. 9.3 g of this solution and tetrahydrofuran in which lithium perchlorate was dissolved were mixed, dried under reduced pressure, and vacuum dried at 90 ° C. for 3 days to obtain an ion conductive film.

化合物(7): (W=300) 化合物(8): (W=350) 実施例8 前記化合物(2)0.90g、化合物(1)1.30g、下記
化合物(9)0.32gおよびハイドロキノン0.02g
をトルエン32gに溶解し3.8×10-3モル/lの塩
化白金酸/イソプロピルアルコール溶液を0.5ml加
え、50℃で24時間反応に付した。この溶液6.85
gと過塩素酸リチウムを溶解したテトラヒドロフランを
混合し、減圧乾燥し、90℃で3日間真空乾燥を行なっ
たところイオン導電性のフィルムが得られた。
Compound (7): (W = 300) Compound (8): (W = 350) Example 8 0.90 g of the compound (2), 1.30 g of the compound (1), 0.32 g of the following compound (9) and 0.02 g of hydroquinone.
Was dissolved in 32 g of toluene, 0.5 ml of a 3.8 × 10 −3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution was added, and the mixture was reacted at 50 ° C. for 24 hours. This solution 6.85
g and tetrahydrofuran in which lithium perchlorate was dissolved were mixed, dried under reduced pressure, and vacuum dried at 90 ° C. for 3 days to obtain an ion conductive film.

化合物(9): 実施例9 前記化合物(1)0.78g、下記化合物(10)1.135
gおよびハイドロキノン0.04gをトルエン32gに
溶解し、3.8×10-3モル/lの塩化白金酸/イソプ
ロピルアルコール溶液を0.5ml加え、50℃で12時
間反応に付した後、下記化合物(11)1.0gを加え、さ
らに50℃で24時間反応させた。この溶液を実施例5
と同様の処理をしたところイオン導電性のフィルムが得
られた。
Compound (9): Example 9 0.78 g of the above compound (1) and the following compound (10) 1.135
g and 0.04 g of hydroquinone were dissolved in 32 g of toluene, 0.5 ml of 3.8 × 10 −3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution was added, and the mixture was reacted at 50 ° C. for 12 hours, then the following compound (11) 1.0 g was added and further reacted at 50 ° C. for 24 hours. This solution was used in Example 5.
When the same treatment as in (1) was performed, an ion conductive film was obtained.

化合物(10): 化合物(11): (W=5,300,m:n=7:3) 実施例10 前記化合物(1)0.62g、化合物(10)0.91gおよ
びハイドロキノン0.02gをトルエン16gに溶解
し、3.8×10-3モル/lの塩化白金酸/イソプロピ
ルアルコール溶液を0.5ml加え、50℃で12時間反
応に付した後、前記の化合物(11)1.0gを加え、さら
に50℃で24時間反応させた[反応液(A)と称す
る]。
Compound (10): Compound (11): (W = 5,300, m: n = 7: 3) Example 10 0.62 g of the compound (1), 0.91 g of the compound (10) and 0.02 g of hydroquinone were dissolved in 16 g of toluene to obtain 3.8 × 10 −. After adding 0.5 ml of 3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution and reacting at 50 ° C. for 12 hours, 1.0 g of the compound (11) was added and further reacted at 50 ° C. for 24 hours. [Referred to as reaction liquid (A)].

一方、化合物(1)0.15g、化合物(10)0.1gおよ
びハイドロキノン0.01gをトルエン16gに溶解
し、3.8×10-3モル/lの塩化白金酸/イソプロピ
ルアルコール溶液を0.5ml加え、50℃で24時間反
応させた[反応液(B)と称する]。
On the other hand, 0.15 g of the compound (1), 0.1 g of the compound (10) and 0.01 g of hydroquinone were dissolved in 16 g of toluene, and a 3.8 × 10 −3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution was added. 5 ml was added and reacted at 50 ° C. for 24 hours [referred to as reaction solution (B)].

上記の反応液(A)と反応液(B)を混合した後、50
℃で24時間反応させた。この溶液を実施例5と同様の
処理したところイオン導電性のフィルムが得られた。
After mixing the reaction solution (A) and the reaction solution (B), 50
The reaction was performed at 24 ° C. for 24 hours. When this solution was treated in the same manner as in Example 5, an ion conductive film was obtained.

実施例11 前記化合物(2)1.30g、下記化合物(12)2.14
g、ジビニルベンゼン0.195gおよびハイドロキノ
ン0.02gをトルエン16gに溶解し、3.8×10
-3モル/lの塩化白金酸/イソプロピルアルコール溶液
を0.5mlを加え、50℃で12時間反応に付した。こ
の溶液を実施例5と同様の処理をしたところイオン導電
性のフィルムが得られた。
Example 11 1.30 g of the above compound (2) and the following compound (12) 2.14
g, 0.195 g of divinylbenzene and 0.02 g of hydroquinone were dissolved in 16 g of toluene, and 3.8 x 10
0.5 ml of -3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution was added, and the mixture was reacted at 50 ° C. for 12 hours. When this solution was treated in the same manner as in Example 5, an ion conductive film was obtained.

化合物(12): CH2=CH CH2OCH2-CH2O-C6H5 実施例12 前記化合物(2)0.50g、下記化合物(13)4.99
g、化合物(14)0.155gおよびハイドロキノン0.
02gをトルエン32gに溶解し、3.8×10-3モル
/lの塩化白金酸/イソプロピルアルコール溶液0.5
mlを加え、50℃で48時間反応に付した。この溶液を
実施例5と同様の処理をしたところイオン導電性のフィ
ルムが得られた。
Compound (12): CH 2 ═CH CH 2 OCH 2 —CH 2 OC 6 H 5 Example 12 0.50 g of the above compound (2), the following compound (13) 4.99
g, compound (14) 0.155 g and hydroquinone 0.
02 g was dissolved in 32 g of toluene, and a solution of 3.8 × 10 −3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol 0.5 was added.
ml was added and the reaction was carried out at 50 ° C. for 48 hours. When this solution was treated in the same manner as in Example 5, an ion conductive film was obtained.

化合物(13): (n≒10) 化合物(14): 実施例13 前記化合物(2)0.90g、化合物(1)1.39g、エチ
レングリコールモノアリルエーテル0.153gおよび
ハイドロキノン0.04gを32gのトルエンに溶解
し、3.8×10-3モル/lの塩化白金酸/イソプロピ
ルアルコール溶液を0.5ml混合した後、50℃で24
時間反応させた。この溶液に過塩素酸リチウムを溶解し
たテトラヒロドフランを混合し、真空乾燥させた後、窒
素雰囲気中でヘキサメチレンジイソシアネートを0.2
4gとジブチルチンジラウレート数滴を加えよく混合
し、一日放置した。さらに反応を完結させるため90℃
で2日間真空乾燥したところイオン導電性のフィルムが
得られた。
Compound (13): (N≈10) Compound (14): Example 13 0.90 g of the compound (2), 1.39 g of the compound (1), 0.153 g of ethylene glycol monoallyl ether and 0.04 g of hydroquinone were dissolved in 32 g of toluene to give 3.8 × 10 −3 mol / mol. 1 ml of chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution (1 ml) was mixed, and the mixture was mixed at 50 ° C for 24 hours.
Reacted for hours. Tetrahydrofuran furan in which lithium perchlorate was dissolved was mixed with this solution and dried in a vacuum, and then hexamethylene diisocyanate was added to 0.2 in a nitrogen atmosphere.
4 g and a few drops of dibutyltin dilaurate were added, mixed well and allowed to stand for one day. 90 ° C to further complete the reaction
After vacuum drying for 2 days, an ion conductive film was obtained.

実施例14 前記化合物(2)0.90g、化合物(1)1.39g、下記
化合物(15)0.25gおよびハイドロキノン0.04g
を32gのトルエンに溶解し、3.8×10-3モル/l
の塩化白金酸/イソプロピルアルコール溶液を0.5ml
混合した後、50℃で24時間反応に付した。この溶液
に過塩素酸リチウムを溶解したテトラヒドロフランを混
合し、真空乾燥させた後、エチレンジアミンを0.1g
を混合し、60℃で5時間反応させたところイオン導電
性のフィルムが得られた。
Example 14 0.90 g of the compound (2), 1.39 g of the compound (1), 0.25 g of the following compound (15) and 0.04 g of hydroquinone
Was dissolved in 32 g of toluene to give 3.8 × 10 −3 mol / l.
0.5 ml of chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution
After mixing, the mixture was reacted at 50 ° C. for 24 hours. Tetrahydrofuran in which lithium perchlorate was dissolved was mixed with this solution and vacuum dried, and then 0.1 g of ethylenediamine was added.
Were mixed and reacted at 60 ° C. for 5 hours to obtain an ion conductive film.

化合物(15): CH2=CH-CH2OCH2-CH2OCH2-CH2Cl 実施例15 前記化合物(2)0.90g、化合物(1)1.39g、化合
物(15)1.05gおよびハイドロキノン0.02gをト
ルエン16gに溶解し3.8×10-3モル/lの塩化白
金酸/イソプロピルアルコール溶液を0.5ml混合し5
0℃で24時間反応させた。この溶液を実施例5と同様
の方法で処理したところイオン導電性のフィルムが得ら
れた。
Compound (15): CH 2 = CH -CH 2 OCH 2 -CH 2 OCH 2 -CH 2 Cl Example 15 the Compound (2) 0.90 g, Compound (1) 1.39 g, compound (15) 1.05 g And 0.02 g of hydroquinone were dissolved in 16 g of toluene, and 0.5 ml of a 3.8 × 10 −3 mol / l chloroplatinic acid / isopropyl alcohol solution was mixed.
The reaction was carried out at 0 ° C for 24 hours. When this solution was treated in the same manner as in Example 5, an ion conductive film was obtained.

〈効果〉 以上のように、この発明のイオン導電性高分子組成物に
よれば、常温でのイオン伝導性が高くかつフィルム等へ
の成形性が良好なイオン伝導性材料が得られ、さらに固
体であるため、電子部品等に応用した際に漏液等の恐れ
がないので、高信頼性の製品が得られるという特有の効
果を奏する。
<Effect> As described above, according to the ion conductive polymer composition of the present invention, an ion conductive material having high ion conductivity at room temperature and good moldability for a film or the like can be obtained, and further solid Therefore, there is no fear of liquid leakage or the like when applied to electronic parts and the like, so that there is a unique effect that a highly reliable product can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

添附図面は、実施例1で得られたポリマーのH−NM
Rスペクトルを示す図である。
The accompanying drawings show 1 H-NM of the polymer obtained in Example 1.
It is a figure which shows R spectrum.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丹羽 真一郎 大阪府大阪市此花区島屋1丁目1番3号 住友電気工業株式会社大阪製作所内 (72)発明者 西村 昭 大阪府大阪市此花区島屋1丁目1番3号 住友電気工業株式会社大阪製作所内 (72)発明者 柴田 豊 大阪府大阪市此花区島屋1丁目1番3号 住友電気工業株式会社大阪製作所内 ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (72) Inventor Shinichiro Niwa 1-3-3 Shimaya, Konohana-ku, Osaka City, Osaka Prefecture Sumitomo Electric Industries, Ltd. Osaka Works (72) Inventor Akira Nishimura 1 Shimaya, Konohana-ku, Osaka City, Osaka Prefecture 1st-3rd Sumitomo Electric Industries, Ltd. Osaka Works (72) Inventor Yutaka Shibata 1-3-3 Shimaya, Konohana-ku, Osaka City, Osaka Prefecture Sumitomo Electric Industries Ltd. Osaka Works

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記の一般式で表されるポリシロキサンの
架橋硬化体と、周期律表第I族または第II族の金属イオ
ンからなる電解質とを含むことを特徴とするイオン導電
性高分子組成物。 〔式中、R,R,R,R11およびR11′は同一ま
たは異なって、アルキル基、アルコキシル基またはアリ
ール基を示し、 Rはアルキレン基、オキシアルキレン基、オキシカル
ボニルアルキレン基を示し、 Rは水素原子またはアルキル基を示し、 Yはオキシアルキレン基またはポリオキシアルキレン基
を示し、 Zは両末端がアルキレン基、オキシアルキレン基、ポリ
オキシアルキレン基またはポリシロキサン構造を有する
基のいずれかからなる有機基を示し、 lおよびtはそれぞれ正の整数、mは0または正の整数
であって、l、tおよびmは以下の関係にある。 l/(l+m+t)≧0.1〕
1. An ion conductive polymer comprising a crosslinked cured product of a polysiloxane represented by the following general formula and an electrolyte composed of a metal ion of Group I or II of the periodic table. Composition. [In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 11 and R 11 ′ are the same or different and each represents an alkyl group, an alkoxyl group or an aryl group, and R 4 is an alkylene group, an oxyalkylene group or an oxycarbonylalkylene group. R 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Y represents an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group, and Z represents a group having an alkylene group, an oxyalkylene group, a polyoxyalkylene group or a polysiloxane structure at both ends. Which represents an organic group consisting of any of the following, 1 and t are positive integers, m is 0 or a positive integer, and l, t, and m have the following relationships. l / (l + m + t) ≧ 0.1]
【請求項2】前記基Zがオキシアルキレン基またはポリ
オキシアルキレン基を含有する特許請求の範囲第1項記
載のイオン導電性高分子組成物。
2. The ion conductive polymer composition according to claim 1, wherein the group Z contains an oxyalkylene group or a polyoxyalkylene group.
【請求項3】オキシアルキレン基またはポリオキシアル
キレン基が(-CH2-CH2-O-)(nは正の整数)である
特許請求の範囲第1項または第2項記載のイオン導電性
高分子組成物。
3. The ionic conductivity according to claim 1 or 2, wherein the oxyalkylene group or polyoxyalkylene group is (-CH 2 -CH 2 -O-) n (n is a positive integer). Polymer composition.
【請求項4】前記基Zを含む架橋部が少なくとも2個以
上の不飽和基を有する有機化合物と、ポリシロキサン主
鎖中の水素化ケイ素基(≡SiH)との付加反応によって
形成されたものである特許請求の範囲第1項記載のイオ
ン導電性高分子組成物。
4. A crosslinked portion containing the group Z formed by an addition reaction of an organic compound having at least two unsaturated groups and a silicon hydride group (≡SiH) in the polysiloxane main chain. The ion conductive polymer composition according to claim 1, which is
【請求項5】前記基Zを含む架橋部が電子線照射によっ
て形成されたものである特許請求の範囲第1項記載のイ
オン導電性高分子組成物。
5. The ion conductive polymer composition according to claim 1, wherein the crosslinked portion containing the group Z is formed by electron beam irradiation.
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