JPH06349285A - Nonvolatile semiconductor memory - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory

Info

Publication number
JPH06349285A
JPH06349285A JP13746893A JP13746893A JPH06349285A JP H06349285 A JPH06349285 A JP H06349285A JP 13746893 A JP13746893 A JP 13746893A JP 13746893 A JP13746893 A JP 13746893A JP H06349285 A JPH06349285 A JP H06349285A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
input data
circuit
memory
written
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP13746893A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Noguchi
健二 野口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP13746893A priority Critical patent/JPH06349285A/en
Publication of JPH06349285A publication Critical patent/JPH06349285A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To obtain a nonvolatile semiconductor memory in which the logic circuit operable under automatic write mode is simplified. CONSTITUTION:A comparing circuit 1 comprises a NOR circuit 3 and two inverters 2, 4 and employed when the simultaneously erased data of a memory transistor is set at '1'. Data is rewritten when the input data from a latch circuit is '0' and the data fed from a sense amplifier to the memory transistor is '1'. Writing of data is finished when the input data is '0' and the data of the memory transistor is also '0'. When the input data is '1', writing of data is finished regardless of the data of the transistor.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は不揮発性半導体記憶装
置に関し、特に、入力データをメモリセルに自動的に書
込む自動書込モードを備えた不揮発性半導体記憶装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a non-volatile semiconductor memory device, and more particularly to a non-volatile semiconductor memory device having an automatic write mode for automatically writing input data in a memory cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気的に書替え可能な不揮発性半導体記
憶装置の1つとしてフラッシュメモリ40がある。この
メモリ40は一括消去型(全ビット同時に消去)であ
り、バイト単位での書替えはできないが、1つのメモリ
トランジスタ30(メモリセル)で1ビットを構成でき
るため、安価な不揮発性半導体記憶装置となり得るもの
である。
2. Description of the Related Art A flash memory 40 is one of electrically rewritable nonvolatile semiconductor memory devices. This memory 40 is a batch erasing type (erasing all bits at the same time) and cannot be rewritten on a byte-by-byte basis, but since one bit can be configured by one memory transistor 30 (memory cell), it becomes an inexpensive nonvolatile semiconductor memory device. I will get it.

【0003】図3はこのようなフラッシュメモリ40の
メモリトランジスタ30の構造を示す一部破断した断面
図である。図においてP型基板31の表面には所定の間
隔でN+ 拡散層32,33が形成されていて、それぞれ
ドレイン,ソースを構成する。ドレイン32はアレイ内
でビット線と接続されており、ソース33は通常接地電
位となっている。ドレイン32−ソース33間において
P型基板31上には絶縁膜36を介してフローティング
ゲート35が形成されており、さらにフローティングゲ
ート35上には絶縁膜37を介してコントロールゲート
34が形成されている。コントロールゲート34は、メ
モリトランジスタ30を制御するための電極であり、ア
レイ内ではワード線と接続されている。フローティング
ゲート35は、書込により電子を捕獲し、電源をオフし
ても書込後の状態を保持している。そして消去時には電
子を放出する。フローティングゲート35−基板31間
の絶縁膜36は、通常100Å厚の酸化膜で形成され、
トンネル酸化膜と言われる。トンネル酸化膜と言われる
のは、消去時トンネル現象によってフローティングゲー
ト35内の電子をドレイン32またはソース33に放出
するからである。コントロールゲート34−フローティ
ングゲート35間の絶縁膜37は、通常200Å厚の酸
化膜で形成される。また図中、ドレイン32,ソース3
3,コントロールゲート34に印加する電圧をそれぞれ
D ,VS ,VG とし、ドレイン32に流れる電流をI
D とする。
FIG. 3 is a partially cutaway sectional view showing the structure of the memory transistor 30 of such a flash memory 40. In the figure, N + diffusion layers 32 and 33 are formed on the surface of a P-type substrate 31 at predetermined intervals to form a drain and a source, respectively. The drain 32 is connected to the bit line in the array, and the source 33 is normally at ground potential. A floating gate 35 is formed between the drain 32 and the source 33 on the P-type substrate 31 via an insulating film 36, and a control gate 34 is formed on the floating gate 35 via an insulating film 37. . The control gate 34 is an electrode for controlling the memory transistor 30, and is connected to the word line in the array. The floating gate 35 captures electrons by writing and holds the state after writing even when the power is turned off. Then, at the time of erasing, electrons are emitted. The insulating film 36 between the floating gate 35 and the substrate 31 is usually formed of an oxide film having a thickness of 100Å,
It is called a tunnel oxide film. The tunnel oxide film is referred to because the electrons in the floating gate 35 are emitted to the drain 32 or the source 33 due to the tunnel phenomenon during erase. The insulating film 37 between the control gate 34 and the floating gate 35 is usually formed of an oxide film having a thickness of 200Å. In the figure, the drain 32 and the source 3
3, the voltages applied to the control gate 34 are V D , V S , and V G , respectively, and the current flowing in the drain 32 is I
Let's say D.

【0004】図4はメモリトランジスタ30のVG −I
D 特性である。消去状態におけるメモリトランジスタ3
0のしきい値は一般に低く、その値をVTHE とする。メ
モリにデータを書込む場合は、ドレイン32およびコン
トロールゲート34に正の高電圧を印加し、ソース33
を接地電位にする。これによりドレイン32−ソース3
3間にチャネルが形成されて電流が流れるとともに、ド
レイン32の空乏層内でホットエレクトロンが発生す
る。このホットエレクサロンは、コントロールゲート3
4に印加された正の高電圧によって発生する電界によ
り、フローティングゲート35へ引張られて捕獲され
る。このフローティングゲート35内に捕獲された電子
によって発生する電界より、メモリトランジスタ30の
しきい値が高い方へシフトしてVTHP となる。
FIG. 4 shows V G -I of the memory transistor 30.
It is a D characteristic. Memory transistor 3 in erased state
The threshold value of 0 is generally low, and its value is V THE . When writing data to the memory, a positive high voltage is applied to the drain 32 and the control gate 34, and the source 33 is applied.
To ground potential. This allows the drain 32-source 3
A channel is formed between the three and current flows, and hot electrons are generated in the depletion layer of the drain 32. This hot electric salon has control gate 3
An electric field generated by the positive high voltage applied to the gate electrode 4 causes the floating gate 35 to be pulled and captured. The electric field generated by the electrons trapped in the floating gate 35 shifts the threshold value of the memory transistor 30 to the higher side to become V THP .

【0005】メモリのデータを消去する場合は、ソース
33に正の高電圧を印加し、コントロールゲート34を
接地電位とし、ドレイン32をフローティング状態にす
る。これによりフローティングゲート35に捕獲された
電子がソース33−フローティングゲート35間の電界
によって生ずるトンネル現象によりソース33に放出さ
れ、メモリトランジスタ30のしきい値が低い方へシフ
トしてVTHE となる。そして、たとえば書込によりしき
い値が高くなりVTHP となった状態がデータ「0」とし
て扱われ、消去によりしきい値が低くなりVTHE となっ
た状態がデータ「1」として扱われる。
When erasing data in the memory, a positive high voltage is applied to the source 33, the control gate 34 is set to the ground potential, and the drain 32 is set in a floating state. As a result, the electrons captured by the floating gate 35 are emitted to the source 33 due to the tunnel phenomenon caused by the electric field between the source 33 and the floating gate 35, and the threshold value of the memory transistor 30 shifts to the lower side to become V THE . Then, for example, a state in which the threshold value becomes high and V THP by writing is treated as data "0", and a state in which the threshold value becomes low and V THE by erasing is treated as data "1".

【0006】図5はフラッシュメモリ40の構成を示す
ブロック図である。図においてこのフラッシュメモリ4
0にはメモリアレイ51が設けられており、メモリアレ
イ51には多数のメモリトランジスタ30が二次元的に
配置されている。各メモリトランジスタ30のコントロ
ールゲート34はワード線によってロウデコーダ42に
接続され、ドレイン32はビット線によってコラムゲー
ト44に接続されている。アドレスはアドレスバッファ
41を介してロウデーコダ42またはコラムデコーダ4
3に入力され、それぞれの出力により1本のワード線お
よび1つのコラムゲート44が選択されビット線と接続
される。
FIG. 5 is a block diagram showing the configuration of the flash memory 40. In the figure, this flash memory 4
0 is provided with a memory array 51, and a large number of memory transistors 30 are two-dimensionally arranged in the memory array 51. The control gate 34 of each memory transistor 30 is connected to a row decoder 42 by a word line, and the drain 32 is connected to a column gate 44 by a bit line. The address is transmitted through the address buffer 41 to the row decoder 42 or the column decoder 4
3, one word line and one column gate 44 are selected by each output and connected to the bit line.

【0007】書込時には、入力データがデータピン45
から入力バッファ46および入力データラッチ回路47
を介して書込回路48に入力され、そのデータが選択さ
れたメモリトランジスタ30に書込まれる。このとき書
込まれるメモリトランジスタ30のビット線は高電圧を
印加され、他のメモリトランジスタ30のビット線は低
電圧たとえば接地電位とされる。また、選択されたワー
ド線は高電圧を印加され、非選択のワード線は接地電位
とされる。
At the time of writing, the input data is the data pin 45.
To input buffer 46 and input data latch circuit 47
Is inputted to the write circuit 48 via the, and the data is written in the selected memory transistor 30. A high voltage is applied to the bit line of memory transistor 30 written at this time, and the bit lines of other memory transistors 30 are set to a low voltage, for example, the ground potential. Further, a high voltage is applied to the selected word line and the unselected word line is set to the ground potential.

【0008】一方、読出時には、書込時同様1つのワー
ド線と1つのビット線が選択される。選択されたワード
線は読出用電源電位VCC(ただし、VTHE <VCC<V
THP であり、通常VCC=5Vである)となり、センサー
アンプ49が動作状態となる。図4に示すように、消去
状態のメモリトランジスタ30においてはそのしきい値
THE が読出用電源電位VCCより小さいため大きなドレ
イン電流ID が流れる。また、書込状態のメモリトラン
ジスタ30においてはそのしきい値VTHP が読出用電源
電位VCCよりも大きいためドレイン電流ID は流れな
い。センスアンプ49は、このようにドレイン電流ID
が流れるか流れないかによってトランジスタ30のデー
タを検知し、検知したデータを出力バッファ50を介し
てデータピン45へ出力する。
On the other hand, in reading, one word line and one bit line are selected as in writing. The selected word line is read power supply potential V CC (where V THE <V CC <V
THP, which is normally V CC = 5V), and the sensor amplifier 49 is activated. As shown in FIG. 4, in the memory transistor 30 in the erased state, a large drain current ID flows because the threshold value V THE is smaller than the read power supply potential V CC . Further, in the memory transistor 30 in the written state, the threshold value V THP is larger than the read power supply potential V CC , so that the drain current I D does not flow. In this way, the sense amplifier 49 receives the drain current I D
The data of the transistor 30 is detected depending on whether the current flows or not, and the detected data is output to the data pin 45 via the output buffer 50.

【0009】また、一括消去する場合は、すべてのメモ
リトランジスタ30のソース33を消去回路52に接続
し、ソース33に高電圧を印加することにより全てのデ
ータを同時に消去する。
In the case of batch erasing, all the data are erased at the same time by connecting the sources 33 of all the memory transistors 30 to the erasing circuit 52 and applying a high voltage to the sources 33.

【0010】なお、上記の説明では書込み、読出しおよ
び消去するための制御回路が必要であるがここでは省略
している。
Although a control circuit for writing, reading and erasing is required in the above description, it is omitted here.

【0011】次に、フラッシュメモリ40の動作の1つ
である自動書込モードについて説明する。自動書込モー
ドによらない通常の書込モードにおいては、まず書込モ
ードにして書込みを行ない、次に読出モードにしてその
書込まれた状態が充分であるかどうかをチェックし、も
し不充分である場合には再度書込モードにして追加書込
みを行なう。そして、十分に書込まれた状態になるまで
この動作を繰り返す。これらのモード設定および書込み
チェックは外部より行なう。
Next, the automatic write mode which is one of the operations of the flash memory 40 will be described. In the normal write mode that does not depend on the automatic write mode, first write in the write mode and then write in the read mode to check if the written state is sufficient. If it is, the writing mode is set again and additional writing is performed. Then, this operation is repeated until the state is sufficiently written. These mode settings and write checks are performed externally.

【0012】このような書込動作をすべてチップ内部で
行なうようにしたのが自動書込モードである。図6はそ
のフローチャートである。ステップ(図ではSと略記す
る。)S1において書込みたいアドレスとデータを入力
すると、ステップS2においてチップ内部で書込みが実
行され、ステップS3において書込み状態がチェックさ
れる。ステップS3において書込み状態が十分であれば
書込みが完了し、不充分であればステップS2に戻って
再度書込みが行なわれる。
The automatic write mode is such that all such write operations are performed inside the chip. FIG. 6 is a flowchart thereof. In step (abbreviated as S in the figure), when an address and data to be written are input in step S1, writing is executed inside the chip in step S2, and the writing state is checked in step S3. If the written state is sufficient in step S3, the writing is completed, and if it is insufficient, the process returns to step S2 and the writing is performed again.

【0013】図7は書込みデータをチェックする比較回
路53の電気回路図である。この比較回路はPチャネル
MOSトランジスタ55、NチャネルMOSトランジス
タ56および3つのインバータ57,58,59を含
む。PチャネルMOSトランジスタ55およびNチャネ
ルMOSトランジスタ56のソースはノード60を介し
て互いに接続されており、PチャネルMOSトランジス
タ55およびNチャネルMOSトランジスタ56のドレ
インはそれぞれインバータ57の入力ノードおよび出力
ノードに接続されている。また、ノード60はインバー
タ58の入力ノードに接続されており、インバータ58
の出力ノードはインバータ59の入力ノードに接続さ
れ、インバータ59の出力ノードはインバータ58の入
力ノードに接続されている。なお、インバータ59はイ
ンバータ58の出力を保持するためのものである。Pチ
ャネルMOSトランジスタ55およびNチャネルMOS
トランジスタ56のゲートは入力データラッチ回路47
に接続され、インバータ57の入力ノードはセンスアン
プ49に接続され、インバータ58の出力ノードは制御
回路54に接続される。
FIG. 7 is an electric circuit diagram of the comparison circuit 53 for checking the write data. This comparison circuit includes a P channel MOS transistor 55, an N channel MOS transistor 56 and three inverters 57, 58 and 59. The sources of P channel MOS transistor 55 and N channel MOS transistor 56 are connected to each other through node 60, and the drains of P channel MOS transistor 55 and N channel MOS transistor 56 are connected to the input node and output node of inverter 57, respectively. Has been done. Further, the node 60 is connected to the input node of the inverter 58, and
Is connected to the input node of the inverter 59, and the output node of the inverter 59 is connected to the input node of the inverter 58. The inverter 59 is for holding the output of the inverter 58. P channel MOS transistor 55 and N channel MOS
The gate of the transistor 56 is the input data latch circuit 47.
, The input node of the inverter 57 is connected to the sense amplifier 49, and the output node of the inverter 58 is connected to the control circuit 54.

【0014】入力データラッチ回路47からの信号は、
入力データが「1」であるときは「H」レベルとなり、
入力データが「0」であるときは「L」レベルとなる。
また、センスアンプ49からの信号は、メモリトランジ
スタ30のデータが「1」であるときは「H」レベルと
なり、メモリトランジスタ30のデータが「0」である
ときは「L」レベルとなる。また、比較回路53から制
御回路54へ「L」レベルの信号が出力されたときはデ
ータの再書込みが行なわれ、「H」レベルの信号が出力
されたときはデータの書込みが完了する。
The signal from the input data latch circuit 47 is
When the input data is "1", it becomes "H" level,
When the input data is "0", it becomes "L" level.
Further, the signal from the sense amplifier 49 becomes "H" level when the data of the memory transistor 30 is "1", and becomes "L" level when the data of the memory transistor 30 is "0". Further, when the "L" level signal is output from the comparison circuit 53 to the control circuit 54, the data is rewritten, and when the "H" level signal is output, the data writing is completed.

【0015】しかして、一括消去されたメモリトランジ
スタ30のデータを「1」とした場合、入力データが
「0」であるときは入力データラッチ回路47から
「L」レベルの信号がPチャネルMOSトランジスタ5
5およびNチャネルMOSトランジスタ56のゲートに
入力され、PチャネルMOSトランジスタ55がオン状
態となる。書込まれたメモリトランジスタ30のデータ
が「0」であるときは、センスアンプ49からの「L」
レベルの信号がPチャネルMOSトランジスタ55を介
してインバータ58に入力され、「H」レベルの信号が
制御回路54に出力されて、データの書込みが完了す
る。また、書込まれたメモリトランジスタ30のデータ
が「1」であるときは、センスアンプ49からの「H」
レベルの信号がPチャネルMOSトランジスタ55を介
してインバータ58に入力され、「L」レベルの信号が
制御回路54に出力され、データの再書込みが行なわれ
る。
Therefore, when the data of the memory transistors 30 that are erased collectively is "1", when the input data is "0", the "L" level signal from the input data latch circuit 47 is a P channel MOS transistor. 5
5 and the gates of the N-channel MOS transistor 56 and the P-channel MOS transistor 55 is turned on. When the written data of the memory transistor 30 is "0", "L" from the sense amplifier 49
The level signal is input to the inverter 58 via the P-channel MOS transistor 55, the "H" level signal is output to the control circuit 54, and the data writing is completed. Further, when the written data of the memory transistor 30 is “1”, “H” from the sense amplifier 49 is output.
A level signal is input to inverter 58 via P channel MOS transistor 55, an "L" level signal is output to control circuit 54, and data is rewritten.

【0016】一方、入力データが「1」であるときは入
力データラッチ回路47から「H」レベルの信号がPチ
ャネルMOSトランジスタ55およびNチャネルMOS
トランジスタ56のゲートに入力され、NチャネルMO
Sトランジスタ56がオン状態となる。書込まれたメモ
リトランジスタ30のデータが「1」であるときは、セ
ンスアンプ49からの「H」レベルの信号がインバータ
57、NチャネルMOSトランジスタ56およびインバ
ータ58を介してそのまま制御回路54に出力されてデ
ータの書込みが完了する。
On the other hand, when the input data is "1", the "H" level signal from the input data latch circuit 47 is supplied to the P channel MOS transistor 55 and the N channel MOS.
Input to the gate of the transistor 56, N channel MO
The S transistor 56 is turned on. When the written data of the memory transistor 30 is “1”, the “H” level signal from the sense amplifier 49 is directly output to the control circuit 54 via the inverter 57, the N-channel MOS transistor 56 and the inverter 58. Then, the data writing is completed.

【0017】なお、一括消去されたメモリトランジスタ
30のデータを「1」としているので、入力データが
「1」のとき書込み後のトランジスタ30のデータが
「0」となることはない。
Since the data of the memory transistor 30 that has been erased collectively is "1", the data of the transistor 30 after writing is not "0" when the input data is "1".

【0018】また、この比較回路53は一括消去された
メモリトランジスタ30のデータを「0」とした場合も
同様に動作するが、説明は省略される。
Further, the comparison circuit 53 operates in the same manner when the data of the memory transistor 30 erased collectively is set to "0", but the description is omitted.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】従来のフラッシュメモ
リ40にあっては、自動書込みモードにおいて入力デー
タが「1」であるか「0」であるかに関係なく入力デー
タとメモリトランジスタ30のデータを比較していたの
で、比較回路53の構成が複雑であるという問題点があ
った。
In the conventional flash memory 40, the input data and the data of the memory transistor 30 are irrespective of whether the input data is "1" or "0" in the automatic write mode. Since the comparison is performed, there is a problem that the configuration of the comparison circuit 53 is complicated.

【0020】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたものであり、その目的とするところは、
自動書込みモードを行なう論理回路の構成が簡単な不揮
発性半導体記憶装置を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to:
It is an object of the present invention to provide a nonvolatile semiconductor memory device having a simple logic circuit configuration for performing the automatic write mode.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】この発明の第1の不揮発
性半導体記憶装置は入力データ「0」または「1」をメ
モリセルに書込んだ後、前記入力データと前記メモリセ
ルに書込まれたデータとを比較し、前記入力データと前
記メモリセルに書込まれたデータとが一致しない場合は
再書込みを行なう不揮発性半導体記憶装置において、前
記入力データが「0」であるときのみ前記入力データと
前記メモリセルに書込まれたデータとを比較する論理回
路を設けたことを特徴としている。
According to a first nonvolatile semiconductor memory device of the present invention, after input data "0" or "1" is written in a memory cell, the input data and the memory cell are written. In the non-volatile semiconductor memory device that compares the input data and the data written in the memory cell and does not match the input data, the input is performed only when the input data is "0". It is characterized in that a logic circuit for comparing data with the data written in the memory cell is provided.

【0022】また、この発明の第2の不揮発性半導体記
憶装置は入力データ「0」または「1」をメモリセルに
書込んだ後、前記入力データと前記メモリセルに書込ま
れたデータとを比較し、前記入力データと前記メモリセ
ルに書込まれたデータとが一致しない場合は再書込みを
行なう不揮発性半導体記憶装置において、前記入力デー
タが「1」であるときのみ前記入力データと前記メモリ
セルに書込まれたデータと比較する論理回路を設けたこ
とを特徴としている。
In the second nonvolatile semiconductor memory device of the present invention, after input data "0" or "1" is written in the memory cell, the input data and the data written in the memory cell are stored. In comparison, in the nonvolatile semiconductor memory device that performs rewriting when the input data and the data written in the memory cell do not match, the input data and the memory only when the input data is “1”. It is characterized in that a logic circuit for comparing with the data written in the cell is provided.

【0023】[0023]

【作用】この発明にかかる不揮発性半導体記憶装置にあ
っては、自動書込みモードにおいて入力データが「0」
または「1」のいずれかのときのみ入力データとメモリ
セルに書込まれたデータとを比較するようにしたので、
入力データが「0」であるか「1」であるかに関係なく
入力データとメモリセルに書込まれたデータとを比較し
ていた従来に比べ、自動書込みモードを行なう論理回路
の構成を簡単化することができる。
In the nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, the input data is "0" in the automatic write mode.
Alternatively, since the input data is compared with the data written in the memory cell only when either "1" is set,
The configuration of the logic circuit that performs the automatic write mode is simpler than the conventional method in which the input data and the data written in the memory cell are compared regardless of whether the input data is "0" or "1". Can be converted.

【0024】[0024]

【実施例】以下に、この発明の一実施例によるフラッシ
ュメモリを説明する。このフラッシュメモリにおいては
一括消去されたメモリトランジスタ30のデータが
「1」として扱われ、書込まれたメモリトランジスタ3
0のデータが「0」として扱われる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A flash memory according to an embodiment of the present invention will be described below. In this flash memory, the data of the memory transistor 30 that has been erased collectively is treated as "1" and the written memory transistor 3
Data of 0 is treated as “0”.

【0025】図1はこのフラッシュメモリの自動書込み
モードにおいて用いられる比較回路1の電気回路図であ
る。この比較回路1はNOR回路3と2つのインバータ
2,4を含む。インバータ2の出力ノードはNOR回路
3の一方入力ノード3bに接続されており、NOR回路
3の出力ノードはインバータ4の入力ノードに接続され
ている。NOR回路3の他方入力ノード3aは入力デー
タラッチ回路47に接続され、インバータ2の入力ノー
ドはセンスアンプ49に接続され、インバータ4の出力
ノードは制御回路54に接続される。
FIG. 1 is an electric circuit diagram of a comparison circuit 1 used in the automatic write mode of this flash memory. The comparison circuit 1 includes a NOR circuit 3 and two inverters 2 and 4. The output node of the inverter 2 is connected to one input node 3b of the NOR circuit 3, and the output node of the NOR circuit 3 is connected to the input node of the inverter 4. The other input node 3a of NOR circuit 3 is connected to input data latch circuit 47, the input node of inverter 2 is connected to sense amplifier 49, and the output node of inverter 4 is connected to control circuit 54.

【0026】しかして、入力データが「0」である場
合、入力データラッチ回路47からの信号は「L」レベ
ルとなり、NOR回路3の出力はセンスアンプ49から
の信号と同相になる。すなわち、十分な書込みが行なわ
れておらずメモリトランジスタ30のデータが「1」で
ありセンスアンプ49からの出力が「H」レベルであれ
ばNOR回路3の出力は「H」レベルとなる。したがっ
て、比較回路1の出力は「L」レベルとなり、再度の書
込みが制御回路54に指令される。また、十分な書込み
が行なわれ、メモリトランジスタ30のデータが「0」
でありセンスアンプ49からの出力が「L」レベルであ
ればNOR回路3の出力は「L」レベルとなる。したが
って、比較回路1の出力は「H」レベルとなり、自動書
込みの完了が制御回路54に指令される。一方、入力デ
ータが「1」である場合は、入力データラッチ回路46
からの信号は「H」レベルであるので、センスアンプ4
8からの出力の如何にかかわらず比較回路1の出力は
「H」レベルとなり、常に書込みの完了が制御回路54
に指令される。
Therefore, when the input data is "0", the signal from the input data latch circuit 47 becomes "L" level, and the output of the NOR circuit 3 becomes in phase with the signal from the sense amplifier 49. That is, if the data has not been sufficiently written and the data in the memory transistor 30 is "1" and the output from the sense amplifier 49 is at the "H" level, the output of the NOR circuit 3 is at the "H" level. Therefore, the output of the comparison circuit 1 becomes the "L" level, and the control circuit 54 is instructed to write again. In addition, sufficient writing is performed and the data of the memory transistor 30 is "0".
If the output from the sense amplifier 49 is "L" level, the output of the NOR circuit 3 becomes "L" level. Therefore, the output of the comparison circuit 1 becomes "H" level, and the control circuit 54 is instructed to complete the automatic writing. On the other hand, when the input data is “1”, the input data latch circuit 46
Since the signal from is at "H" level, the sense amplifier 4
The output of the comparison circuit 1 becomes the "H" level regardless of the output from the control circuit 54, and the completion of the writing is always indicated by the control circuit 54.
To be ordered.

【0027】なお、この実施例では一括消去されたメモ
リトランジスタ30のデータを「1」としているので、
入力データが「1」である場合にはメモリトランジスタ
30へのデータの書込みは行なわれれず、データの書込
みが不充分であると判断されることはあり得ない。した
がって、入力データが「1」である場合に常に書込みを
完了することとしても何ら問題はない。
In this embodiment, since the data of the memory transistors 30 that are collectively erased is "1",
When the input data is "1", the data writing to the memory transistor 30 is not performed, and it cannot be judged that the data writing is insufficient. Therefore, there is no problem even if the writing is always completed when the input data is "1".

【0028】次に、この発明の他の実施例によるフラッ
シュメモリについて説明する。このフラッシュメモリに
あっては、一括消去されたメモリトランジスタ30のデ
ータが「0」として扱われ、書込まれたメモリトランジ
スタ30のデータが「1」として扱われる。
Next, a flash memory according to another embodiment of the present invention will be described. In this flash memory, the data of the memory transistors 30 that are collectively erased is treated as "0", and the written data of the memory transistors 30 is treated as "1".

【0029】図2はこの自動書込みモードにおいて用い
られる比較回路5の電気回路図である。この比較回路5
はインバータ6とNAND回路7とを含み、インバータ
6の出力ノードはNAND回路7の一方入力ノード7b
に接続されている。NAND回路7の他方入力ノード7
aは入力データラッチ回路47に接続され、インバータ
6の入力ノードはセンスアンプ49に接続され、NAN
D回路7の出力ノードは制御回路54に接続される。
FIG. 2 is an electric circuit diagram of the comparison circuit 5 used in the automatic write mode. This comparison circuit 5
Includes an inverter 6 and a NAND circuit 7, and the output node of the inverter 6 is one input node 7b of the NAND circuit 7.
It is connected to the. The other input node 7 of the NAND circuit 7
a is connected to the input data latch circuit 47, the input node of the inverter 6 is connected to the sense amplifier 49, and the NAN
The output node of the D circuit 7 is connected to the control circuit 54.

【0030】しかして、入力データが「1」である場
合、入力データラッチ回路47からの信号は「H」レベ
ルとなり、NAND回路7の出力はセンスアンプ49か
らの信号と同相となる。すなわち、データの書込みが不
充分でありセンスアンプ49からの出力が「L」レベル
であれば、NAND回路7の出力は「L」レベルとな
る。したがって、比較回路5の出力は「L」レベルとな
り、再度の書込みが制御回路54に指令される。また、
十分にデータが書込まれセンスアンプ49からの出力が
「H」レベルであれば、NAND回路7の出力は「H」
レベルとなる。したがって、比較回路5の出力は「H」
レベルとなり、書込みの完了が制御回路54に指令され
る。一方、入力データが「0」である場合には、入力デ
ータラッチ回路47からの信号は「L」レベルでありセ
ンスアンプ49の出力に関係なく比較回路5の出力は
「H」レベルとなる。したがって、入力データが「0」
である場合には、常に書込みの完了が制御回路54に指
令される。
Therefore, when the input data is "1", the signal from the input data latch circuit 47 becomes "H" level, and the output of the NAND circuit 7 becomes in phase with the signal from the sense amplifier 49. That is, if the writing of data is insufficient and the output from the sense amplifier 49 is at "L" level, the output of the NAND circuit 7 becomes "L" level. Therefore, the output of the comparison circuit 5 becomes the "L" level, and the control circuit 54 is instructed to write again. Also,
If sufficient data is written and the output from the sense amplifier 49 is at "H" level, the output of the NAND circuit 7 is "H".
It becomes a level. Therefore, the output of the comparison circuit 5 is "H".
The level becomes the level, and the control circuit 54 is instructed to complete the writing. On the other hand, when the input data is "0", the signal from the input data latch circuit 47 is at "L" level and the output of the comparison circuit 5 is at "H" level regardless of the output of the sense amplifier 49. Therefore, the input data is "0"
If so, the control circuit 54 is always instructed to complete writing.

【0031】なお、この実施例では一括消去されたメモ
リトランジスタ30のデータを「0」としているので、
入力データが「0」である場合にはメモリトランジスタ
30へのデータの書込みは行なわれず、データの書込み
が不充分であると判断されることはあり得ない。したが
って、入力データが「0」である場合に常に書込みが完
了することとしても何ら問題はない。
In this embodiment, since the data of the memory transistors 30 that are collectively erased is "0",
When the input data is "0", the data writing to the memory transistor 30 is not performed, and it cannot be judged that the data writing is insufficient. Therefore, there is no problem even if the writing is always completed when the input data is "0".

【0032】[0032]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、自動
書込みモードにおいて入力データが「0」または「1」
のいずれか一方のときのみ入力データとメモリセルのデ
ータを比較するようにしたので、入力データが「0」で
あるか「1」であるかに関係なく入力データとメモリセ
ルのデータを比較していた従来に比べ、自動書込みモー
ドを行なう論理回路の回路構成を簡単化することができ
る。
As described above, according to the present invention, the input data is "0" or "1" in the automatic write mode.
Since the input data and the data in the memory cell are compared only when either one of the above is selected, the input data and the data in the memory cell are compared regardless of whether the input data is "0" or "1". As compared with the conventional case, the circuit configuration of the logic circuit for performing the automatic write mode can be simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例によるフラッシュメモリの
自動書込みモードにおいて用いられる比較回路の電気回
路図である。
FIG. 1 is an electric circuit diagram of a comparison circuit used in an automatic write mode of a flash memory according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の他の実施例によるフラッシュメモリ
の自動書込みモードにおいて用いられる比較回路の電気
回路図である。
FIG. 2 is an electric circuit diagram of a comparison circuit used in an automatic write mode of a flash memory according to another embodiment of the present invention.

【図3】フラッシュメモリのメモリトランジスタの構造
を示す一部破断した断面図である。
FIG. 3 is a partially cutaway sectional view showing a structure of a memory transistor of a flash memory.

【図4】図3に示したメモリトランジスタのVG −ID
特性を示す図である。
4 is a V G -I D of the memory transistor shown in FIG.
It is a figure which shows a characteristic.

【図5】フラッシュメモリの構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a flash memory.

【図6】フラッシュメモリの自動書込みモードのフロー
チャートである。
FIG. 6 is a flowchart of a flash memory automatic write mode.

【図7】従来のフラッシュメモリの自動書込みモードに
おいて用いられる比較回路の電気回路図である。
FIG. 7 is an electric circuit diagram of a comparison circuit used in a conventional flash memory automatic write mode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,5 比較回路 2,4,6 インバータ 3 NOR回路 7 NAND回路 1,5 Comparison circuit 2,4,6 Inverter 3 NOR circuit 7 NAND circuit

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 入力データ「0」または「1」をメモリ
セルに書込んだ後、前記入力データと前記メモリセルに
書込まれたデータとを比較し、前記入力データと前記メ
モリセルに書込まれたデータとが一致しない場合は再書
込を行なう不揮発性半導体記憶装置において、 前記入力データが「0」であるときのみ前記入力データ
と前記メモリセルに書込まれたデータとを比較する論理
回路を設けたことを特徴とする、不揮発性半導体記憶装
置。
1. After writing input data "0" or "1" into a memory cell, the input data and the data written in the memory cell are compared, and the input data and the memory cell are written. In a non-volatile semiconductor memory device that performs rewriting if the written data does not match, the input data is compared with the data written in the memory cell only when the input data is "0". A non-volatile semiconductor memory device comprising a logic circuit.
【請求項2】 入力データ「0」または「1」をメモリ
セルに書込んだ後、前記入力データと前記メモリセルに
書込まれたデータとを比較し、前記入力データと前記メ
モリセルに書込まれたデータとが一致しない場合は再書
込を行なう不揮発性半導体記憶装置において、 前記入力データが「1」であるときのみ前記入力データ
と前記メモリセルに書込まれたデータとを比較する論理
回路を設けたことを特徴とする、不揮発性半導体記憶装
置。
2. The input data "0" or "1" is written in the memory cell, the input data is compared with the data written in the memory cell, and the input data is written in the memory cell. In a non-volatile semiconductor memory device that rewrites when the written data does not match, the input data is compared with the data written in the memory cell only when the input data is "1". A non-volatile semiconductor memory device comprising a logic circuit.
JP13746893A 1993-06-08 1993-06-08 Nonvolatile semiconductor memory Withdrawn JPH06349285A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13746893A JPH06349285A (en) 1993-06-08 1993-06-08 Nonvolatile semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13746893A JPH06349285A (en) 1993-06-08 1993-06-08 Nonvolatile semiconductor memory

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06349285A true JPH06349285A (en) 1994-12-22

Family

ID=15199317

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13746893A Withdrawn JPH06349285A (en) 1993-06-08 1993-06-08 Nonvolatile semiconductor memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06349285A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006080063A1 (en) * 2005-01-27 2006-08-03 Spansion Llc Semiconductor device, address assignment method, and verify method
KR100912518B1 (en) * 2007-08-01 2009-08-18 스펜션 엘엘씨 Semiconductor device, address assignment method, and verify method
JP2011170971A (en) * 2011-06-10 2011-09-01 Spansion Llc Semiconductor device and verifying method

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006080063A1 (en) * 2005-01-27 2006-08-03 Spansion Llc Semiconductor device, address assignment method, and verify method
GB2436272A (en) * 2005-01-27 2007-09-19 Spansion Llc Semiconductor device, address assignment method, and verify method
US7433219B2 (en) 2005-01-27 2008-10-07 Spansion Llc Method and apparatus for address allotting and verification in a semiconductor device
US7813154B2 (en) 2005-01-27 2010-10-12 Spansion Llc Method and apparatus for address allotting and verification in a semiconductor device
GB2436272B (en) * 2005-01-27 2011-01-19 Spansion Llc Semiconductor device, address assignment method, and verify method
US8023341B2 (en) 2005-01-27 2011-09-20 Spansion Llc Method and apparatus for address allotting and verification in a semiconductor device
TWI407440B (en) * 2005-01-27 2013-09-01 Spansion Llc Method and apparatus for address allotting and verification in a semiconductor device
KR100912518B1 (en) * 2007-08-01 2009-08-18 스펜션 엘엘씨 Semiconductor device, address assignment method, and verify method
JP2011170971A (en) * 2011-06-10 2011-09-01 Spansion Llc Semiconductor device and verifying method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7359249B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device and method of rewriting data thereof
JPH09106686A (en) Programming method for nonvolatile semiconductor memory
US7212443B2 (en) Non-volatile memory and write method of the same
JPH06119790A (en) Nonvolatile semiconductor memory
JP2003022681A (en) Semiconductor memory device
JP4426868B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device and semiconductor integrated circuit device
JP4104151B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device and method for programming nonvolatile semiconductor memory device
JP2933090B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
US5684747A (en) Method for erasing nonvolatile semiconductor memory device incorporating redundancy memory cells
US4974206A (en) Nonvolatile semiconductor memory device having reference potential generating circuit
JP2801879B2 (en) Common source line driving circuit for nonvolatile semiconductor memory
JP4372406B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device and semiconductor integrated circuit device
JP3268732B2 (en) Non-volatile semiconductor memory
JP2970750B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
JP3342878B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
JPH06103790A (en) Non-volatile semiconductor memory
JPH06349285A (en) Nonvolatile semiconductor memory
US20080031070A1 (en) Power on sequence for a flash memory device
JP4136646B2 (en) Semiconductor memory device and control method thereof
JPH05250889A (en) Nonvolatile semiconductor storage device
JP3360855B2 (en) Batch erase nonvolatile semiconductor memory device and test method therefor
JPH06139785A (en) Nonvolatile semiconductor storage device
JP4907758B2 (en) Semiconductor memory device and control method thereof
JPH065087A (en) Nonvolatile semiconductor memory device
JPH0863985A (en) Non-volatile semiconductor memory

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20000905