JPH06349049A - Carbon substrate and recording medium - Google Patents

Carbon substrate and recording medium

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JPH06349049A
JPH06349049A JP13782293A JP13782293A JPH06349049A JP H06349049 A JPH06349049 A JP H06349049A JP 13782293 A JP13782293 A JP 13782293A JP 13782293 A JP13782293 A JP 13782293A JP H06349049 A JPH06349049 A JP H06349049A
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JP
Japan
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recording medium
carbon
substrate
resin
center line
Prior art date
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Pending
Application number
JP13782293A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Otani
昌司 大谷
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
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Abstract

PURPOSE:To provide the recording medium having the low flying height of a head and excellent CSS durability by providing the surface of a carbon substrate having surface roughness of a prescribed value with a recording film. CONSTITUTION:Glassy carbon is produced by executing a first treatment at about 1000 to 1400 deg.C in an inert atmosphere, then executing a second treatment to make heat treatment at about 1500 to 2000 deg.C under about >=1000atm. The magnetic recording medium is produced by using such carbon. The magnetic recording medium which has high bending strength, is substantially free from cracking and chipping in the production stage for magnetic disks, is as light as 1.6 to 1.8 density, has small intrinsic resistivity, high corrosion resistance and weatherability and high hardness and is nonmagnetic is thereby obtd. The carbon substrate having a trough-shaped surface is formed and the surface roughness of about 40 to 100Angstrom center line average height and about 1 to 6 Rp/Ra with the center line height as Rp is obtd. by a texturing technique using a polishing tape and free abrasive grains. The recording medium having the low flying height of the head and the excellent CSS durability is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、特にガラス状炭素のよ
うなカーボンを基板として用いた記録媒体に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a recording medium using carbon such as glassy carbon as a substrate.

【0002】[0002]

【発明の背景】現在、ハードディスク用基板の材料とし
て提案されているものはアルミニウム合金が主流であ
り、アルミニウム合金の表面に10μm程度のNi−P
メッキを施したものが使用されている。しかしながら、
アルミニウム合金製の基板は、厚さが薄くなると、剛性
が不足するという問題点が有る。すなわち、剛性が不足
すると、鏡面加工の際、基板にうねりが生じて平坦化で
きず、この為うねりが有る基板をディスクに使用した
際、回転むらが生じ、又、磁気ヘッドの浮上量を小さく
出来ないという不都合を生じたり、さらにはスピンドル
へのチャッキングの際にディスクが変形すると言う不都
合が有る。
BACKGROUND OF THE INVENTION Currently, aluminum alloys are mainly used as a material for hard disk substrates, and Ni-P of about 10 μm is formed on the surface of the aluminum alloy.
Plated ones are used. However,
The aluminum alloy substrate has a problem that its rigidity becomes insufficient when the thickness becomes thin. In other words, if the rigidity is insufficient, the substrate will be wavy during mirror surface processing and cannot be flattened. Therefore, when a wavy substrate is used as a disk, uneven rotation will occur and the flying height of the magnetic head will be small. There is an inconvenience that it cannot be done, and further, there is an inconvenience that the disk is deformed when chucking the spindle.

【0003】又、ディスクの製造は基板上にスパッリン
グ等の薄膜形成手段で磁性膜を形成する方法が一般的で
あるが、この際、基板温度が数百℃となる為、耐熱性が
要求される。しかしながら、アルミニウム合金を主材料
とした基板にあっては、耐熱性が不足するという問題点
が有り、この結果、基板が熱変形するという不都合が有
る。
Further, a disk is generally manufactured by forming a magnetic film on a substrate by a thin film forming means such as sparring. At this time, since the substrate temperature is several hundreds of degrees, heat resistance is required. To be done. However, the substrate made mainly of an aluminum alloy has a problem of insufficient heat resistance, and as a result, the substrate is thermally deformed.

【0004】更に、成膜後に基板を加熱すると磁性膜の
保磁力が高くなることが知られており、この観点から熱
処理が行われることも有り、従って耐熱性が一層要求さ
れている。このようなことから、アルミニウム合金とは
全く異なる材料としてカーボン、特にガラス状炭素が注
目を浴び始めている。そして、本出願人によっても、ガ
ラス状炭素をハードディスクの基板として利用すること
が提案(特開昭60−35333号公報)されている。
Furthermore, it is known that the coercive force of the magnetic film increases when the substrate is heated after film formation. From this viewpoint, heat treatment may be carried out, and therefore heat resistance is further required. For this reason, carbon, particularly glassy carbon, has begun to attract attention as a material completely different from aluminum alloys. The applicant of the present application has also proposed to utilize glassy carbon as a substrate for a hard disk (Japanese Patent Laid-Open No. 60-33333).

【0005】[0005]

【発明の開示】本発明者は、ハードディスク基板に要求
される項目に着目し、すなわち 基板加工時における内外周加工やチャンファー加工
の際、割れや欠けが起き難いよう、又、テクスチヤー形
成や薄膜形成の際のハンドリング時においての信頼性の
面から高強度であること、 磁気ヘッドの追従性から基板のうねりを小さくする
必要があり、基板材料の剛性が高いこと、 高記録密度化する為に基板の表面平滑性が良好で、
微小な欠陥も無いこと、 磁性膜の特性を向上させる為に基板は非磁性である
こと、 耐食性、耐候性が良好であること、 耐衝撃性に富むこと、 製造時の信頼性、及びCSS特性(耐久性)の面か
ら高硬度であること、 CSS特性を高め、ハードディスクドライブのスピ
ンドル負荷を低減化する為に、基板は軽量であること、 静電気によるゴミ等の付着防止の為に基板材料の固
有抵抗が小さいことに着目し、ガラス状炭素をハードデ
ィスクの基板とした磁気記録媒体を提案し、このものは
各方面から称賛を浴びている。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventor pays attention to the items required for a hard disk substrate, that is, cracks and chips are less likely to occur during inner / outer peripheral processing and chamfer processing during substrate processing, and texture formation and thin film formation. In order to achieve high recording density, it is necessary to reduce the waviness of the substrate due to the followability of the magnetic head because of the high strength in terms of reliability during handling during formation, and the high rigidity of the substrate material. The surface smoothness of the substrate is good,
There are no microscopic defects, the substrate is non-magnetic in order to improve the characteristics of the magnetic film, it has good corrosion resistance and weather resistance, it has excellent impact resistance, reliability during manufacturing, and CSS characteristics. From the standpoint of (durability), it has a high hardness, the CSS characteristics are improved, and the spindle load of the hard disk drive is reduced. The board is lightweight. Focusing on the fact that the specific resistance is small, a magnetic recording medium using glassy carbon as a hard disk substrate has been proposed, and this magnetic recording medium has been praised by various parties.

【0006】すなわち、例えば熱硬化性樹脂を硬化させ
る硬化工程と、この硬化工程により得られた樹脂材料を
加熱して炭化させる炭化焼成工程とを具備し、前記炭化
焼成工程は、不活性雰囲気下において約1000〜14
00℃で熱処理する第1の処理工程と、不活性雰囲気、
かつ、約1000気圧以上の圧力下において約1500
〜2000℃で熱処理する第2の処理工程とを備えてな
るガラス状炭素の製造方法、あるいは硬化前の初期縮合
物の状態で約20重量%以上の水を含有することが出来
る熱硬化性樹脂を硬化させる硬化工程と、この硬化工程
により得られた樹脂材料を加熱して炭化させる炭化焼成
工程とを具備し、前記炭化焼成工程は、不活性雰囲気下
において約1000〜1400℃で熱処理する第1の処
理工程と、不活性雰囲気、かつ、約1000気圧以上の
圧力下において約1500〜2000℃で熱処理する第
2の処理工程とを備えてなるガラス状炭素の製造方法に
よって、例えば曲げ強度が24kgf/mm2 以上の特
性を有し、特に曲げ強度が24kgf/mm2 以上の特
性を有し、かつ、空孔の孔径が0.1μm以下であると
いった特性のガラス状炭素が得られ、このようなガラス
状炭素を用いて作製した磁気記録媒体はこれまでのもの
に比べて優れたものであった。
That is, for example, a curing step of curing a thermosetting resin and a carbonizing and firing step of heating and carbonizing the resin material obtained by this curing step are provided, and the carbonizing and firing step is performed under an inert atmosphere. At about 1000-14
A first treatment step of heat treatment at 00 ° C., an inert atmosphere,
And about 1500 at a pressure of about 1000 atm or more.
A method for producing glassy carbon, which comprises a second treatment step of heat treatment at ˜2000 ° C., or a thermosetting resin capable of containing about 20% by weight or more of water in the state of an initial condensate before curing. And a carbonization and firing step of heating and carbonizing the resin material obtained by this curing step, wherein the carbonization and firing step is a heat treatment at about 1000 to 1400 ° C. in an inert atmosphere. According to the method for producing glassy carbon, which has a treatment step of 1 and a second treatment step of performing heat treatment at about 1500 to 2000 ° C. under an inert atmosphere and a pressure of about 1000 atm or more, for example, bending strength is 24kgf / mm 2 have the above properties, in particular flexural strength has a 24kgf / mm 2 or more characteristics, and characteristics of glass such pore size of pores is 0.1μm or less Carbon is obtained, the magnetic recording medium produced using such a glassy carbon was excellent as compared with those of the past.

【0007】つまり、上記のようにして得られたガラス
状炭素は、曲げ強度が24kgf/mm2 以上といった
ように機械的強度が向上し、磁気ディスク製造工程上懸
念される割れや欠けが殆どなく、又、弾性率も約250
0Kgf/mm2 以上であって、うねりの問題がないも
のであり、そして鏡面研磨後の表面平滑性(中心線平均
粗さRa)は1.0nm程度まで可能であり、材料表面
には微小な欠陥(開孔や結晶粒界等)が殆ど認められ
ず、又、密度は1.6〜1.8と軽量であり、そして固
有抵抗が小さく、かつ、耐食性や耐候性が良好で、さら
には高硬度で非磁性である。このようなことから、この
ガラス状炭素は記録媒体の基板として極めて好ましい特
長を有したものであった。
That is, the glassy carbon obtained as described above has improved mechanical strength such as a bending strength of 24 kgf / mm 2 or more, and there is almost no cracking or chipping which is a concern in the magnetic disk manufacturing process. Also, the elastic modulus is about 250
The surface roughness is 0 Kgf / mm 2 or more, there is no problem of waviness, and the surface smoothness (center line average roughness Ra) after mirror polishing can be up to about 1.0 nm. Almost no defects (open holes, crystal grain boundaries, etc.) are recognized, the density is 1.6 to 1.8, which is lightweight, the specific resistance is small, and the corrosion resistance and weather resistance are good. High hardness and non-magnetic. From the above, this glassy carbon had extremely preferable characteristics as a substrate of a recording medium.

【0008】ところで、このような優れた特長を呈する
ガラス状炭素を用いて記録媒体を構成した場合、ガラス
状炭素からなる基板の表面プロフィールによって記録・
再生特性に大きな違いが生じることが判って来た。そこ
で、所望の表面プロフィールを形成する為の研究開発が
鋭意推し進められ、例えば酸化性雰囲気中での高温加熱
処理や化学的エッチングなどによる処理が試みられた。
しかしながら、これらの手法では再現性に乏しく、新た
な技術の開発が求められた。
By the way, when a recording medium is formed by using glassy carbon having such excellent characteristics, recording / recording is performed by the surface profile of a substrate made of glassy carbon.
It has been found that there is a large difference in reproduction characteristics. Therefore, research and development for forming a desired surface profile have been earnestly pursued, and, for example, treatment by high temperature heat treatment in an oxidizing atmosphere or chemical etching has been attempted.
However, these methods have poor reproducibility, and development of new technology is required.

【0009】このようなことから、アルミニウム基板の
場合に用いられていたテクスチャー技術に目が向けられ
た。しかしながら、研磨テープや遊離砥粒を用いたアル
ミニウム基板の場合のテクスチャー技術をカーボン基板
に適用しても、好ましいものは得られなかった。すなわ
ち、ヘッド浮上量が低く、かつ、CSS耐久性に優れた
ものが得られなかったのである。
[0009] From the above, attention has been paid to the texture technique used in the case of the aluminum substrate. However, even if the texture technique in the case of an aluminum substrate using a polishing tape or loose abrasive grains is applied to a carbon substrate, a preferable one was not obtained. That is, it was not possible to obtain a head having a low flying height and excellent CSS durability.

【0010】このような問題点に対する研究が鋭意推し
進められて行った結果、研磨テープや遊離砥粒を用いた
テクスチャー技術によるアルミニウム基板の表面と研磨
テープや遊離砥粒を用いたテクスチャー技術によるカー
ボン基板の表面とは全く異なり、すなわち研磨テープや
遊離砥粒を用いたテクスチャー技術によるカーボン基板
の表面は、図1に示す如く、谷状のものが形成されるの
に対して、研磨テープや遊離砥粒を用いたテクスチャー
技術によるアルミニウム基板の表面は、図2に示す如
く、山状のものが形成されることになり、このような表
面プロフィールの差によってアルミニウム基板の場合の
技術思想では対応できないことが判ったのである。
As a result of earnestly researching such problems, the surface of an aluminum substrate by a texture technique using a polishing tape or loose abrasive grains and a carbon substrate by a texture technique using a polishing tape or loose abrasive grains. The surface of the carbon substrate, which is completely different from the surface of the carbon substrate obtained by the texturing technique using the polishing tape or the loose abrasive grains, has a valley-shaped one as shown in FIG. As shown in FIG. 2, the surface of the aluminum substrate formed by the texture technique using particles has a mountain-like shape, and such a difference in surface profile cannot be handled by the technical idea of the aluminum substrate. Was understood.

【0011】そして、このような知見を基にして更なる
研究が鋭意推し進められて行った結果、RaとRp/R
a(但し、Raは中心線平均粗さ、Rpは中心線高さ)
とを所定の範囲内のものとしておけば、ヘッド浮上量は
低く、かつ、CSS耐久性に優れたものが得られること
が判って来た。本発明はこのようにして達成されたもの
であり、Raが約40〜100Å、Rp/Ra(但し、
Raは中心線平均粗さ、Rpは中心線高さ)が約1〜6
であることを特徴とするカーボン基板を提供するもので
ある。
As a result of earnestly promoting further research based on such knowledge, Ra and Rp / R
a (however, Ra is center line average roughness, Rp is center line height)
It has been found that when the values of and are within a predetermined range, the head flying height is low and the CSS durability is excellent. The present invention has been achieved in this way, Ra is about 40 ~ 100 Å, Rp / Ra (however,
Ra is the center line average roughness, Rp is the center line height) and is about 1 to 6
The present invention provides a carbon substrate characterized by

【0012】尚、Raが約40〜100Å、Rp/Ra
が約2.5〜5であることが一層好ましい。又、Raが
約10〜40Å、Rp/Ra(但し、Raは中心線平均
粗さ、Rpは中心線高さ)が約4〜15であることを特
徴とするカーボン基板を提供するものである。
Ra is about 40 to 100Å, Rp / Ra
Is more preferably about 2.5-5. Further, the present invention provides a carbon substrate characterized in that Ra is about 10 to 40Å and Rp / Ra (where Ra is the centerline average roughness and Rp is the centerline height) is about 4 to 15. .

【0013】尚、Raが約25〜40Å、Rp/Raが
約5〜10であることが一層好ましい。又、Raが約4
0〜100Å、Rp/Ra(但し、Raは中心線平均粗
さ、Rpは中心線高さ)が約1〜6であるカーボン基板
の上に記録膜が設けられてなることを特徴とする記録媒
体を提供するものである。
It is more preferable that Ra is about 25 to 40Å and Rp / Ra is about 5 to 10. Also, Ra is about 4
Recording comprising a carbon film having a recording film thickness of 0 to 100Å, Rp / Ra (where Ra is the center line average roughness, and Rp is the center line height) of about 1 to 6 and a recording film is provided on the carbon substrate. It provides a medium.

【0014】尚、Raが約40〜100Å、Rp/Ra
が約2.5〜5であることが一層好ましい。又、Raが
約10〜40Å、Rp/Ra(但し、Raは中心線平均
粗さ、Rpは中心線高さ)が約4〜15であるカーボン
基板の上に記録膜が設けられてなることを特徴とする記
録媒体を提供するものである。
Ra is about 40 to 100Å, Rp / Ra
Is more preferably about 2.5-5. Further, a recording film is provided on a carbon substrate having Ra of about 10 to 40Å and Rp / Ra (where Ra is the center line average roughness and Rp is the center line height) of about 4 to 15. The present invention provides a recording medium characterized by:

【0015】尚、Raが約25〜40Å、Rp/Raが
約5〜10であることが一層好ましい。そして、上記の
ような表面プロフィールのカーボン基板は、研磨テープ
や遊離砥粒を用いたテクスチャー技術によって得られる
のであるが、これは研磨テープの種類、遊離砥粒の種
類、研磨時間、研磨時の圧力など種々の要因を各々調節
することによって達成される。
It is more preferable that Ra is about 25 to 40Å and Rp / Ra is about 5 to 10. And, the carbon substrate of the surface profile as described above is obtained by a texture technique using a polishing tape or free abrasive grains. This is the type of polishing tape, the type of free abrasive grains, the polishing time, and the time of polishing. This is achieved by adjusting various factors such as pressure.

【0016】因みに、Raが約40〜100Å、Rp/
Raが約1〜6のカーボン基板を得る為には、テープ種
日本ミクロコーティング社製の♯4000フラットタイ
プ、テープ送り速度400mm/分、加工圧力0.8k
g/cm2 、テープ揺動460往復/分、ローラゴム硬
度60度、ワーク回転数50rpm、加工時間40秒、
ジョンソン社製JS602の3wt%研磨液といった条
件下で行えば良い。
Incidentally, Ra is about 40 to 100Å, Rp /
In order to obtain a carbon substrate having Ra of about 1 to 6, tape type # 4000 flat type manufactured by Nippon Micro Coating Co., tape feeding speed 400 mm / min, processing pressure 0.8 k
g / cm 2 , tape oscillating 460 reciprocations / minute, roller rubber hardness 60 degrees, work rotation speed 50 rpm, processing time 40 seconds,
It may be carried out under the conditions such as a JS602 3 wt% polishing liquid manufactured by Johnson.

【0017】又、Raが約10〜40Å、Rp/Raが
約4〜15であるカーボン基板を得る為には、テープ種
日本ミクロコーティング社製の♯4000フラットタイ
プ、テープ送り速度400mm/分、加工圧力0.8k
g/cm2 、テープ揺動460往復/分、ローラゴム硬
度60度、ワーク回転数50rpm、加工時間10秒、
ジョンソン社製JS602の3wt%研磨液といった条
件下で行えば良い。
Further, in order to obtain a carbon substrate having Ra of about 10 to 40Å and Rp / Ra of about 4 to 15, tape type # 4000 flat type manufactured by Nippon Micro Coating Co., tape feeding speed 400 mm / min, Processing pressure 0.8k
g / cm 2 , tape oscillating 460 reciprocations / minute, roller rubber hardness 60 degrees, workpiece rotation speed 50 rpm, processing time 10 seconds,
It may be carried out under the conditions such as a JS602 3 wt% polishing liquid manufactured by Johnson.

【0018】勿論、その他の因子を変更すれば、上記の
条件もこれに応じて変わることは言うまでもない。以
下、本発明について詳しく説明する。本発明で用いられ
るカーボン基板、特にガラス状炭素からなる基板は、熱
硬化性樹脂を硬化させる硬化工程と、この硬化工程によ
り得られた樹脂材料を加熱して炭化させる炭化焼成工程
とを具備するガラス状炭素の製造方法において、前記炭
化焼成工程は、不活性雰囲気下において約1000〜1
400℃で熱処理する第1の処理工程と、不活性雰囲
気、かつ、約1000気圧以上の圧力下において約15
00〜2000℃で熱処理する第2の処理工程とを備え
てなるガラス状炭素の製造方法によって得られる。
Needless to say, if the other factors are changed, the above conditions will be changed accordingly. Hereinafter, the present invention will be described in detail. The carbon substrate used in the present invention, particularly a substrate made of glassy carbon, includes a curing step of curing a thermosetting resin and a carbonizing and firing step of heating and carbonizing the resin material obtained by this curing step. In the method for producing glassy carbon, the carbonizing and firing step is performed under an inert atmosphere at about 1000-1.
A first treatment step of heat treatment at 400 ° C., an inert atmosphere, and a pressure of about 1000 atm or more for about 15
It is obtained by a method for producing glassy carbon, which comprises a second treatment step of heat treatment at 00 to 2000 ° C.

【0019】好ましい熱硬化性樹脂としては、硬化前の
初期縮合物の状態で20重量%以上の水を含有すること
が出来るものである。ここで、「初期縮合物」とは、硬
化前の樹脂を意味し、原料モノマーを相当量含む場合も
あるが、ある程度付加及び/又は縮合反応が起こり、粘
度が高くなった樹脂組成物をいう。該熱硬化性樹脂組成
物の特徴は、硬化の際に縮合水のような低沸点物の溜ま
りが起こらないことであり、つまり熱硬化性樹脂が硬化
する前の粘度が高くなった初期縮合物の状態で樹脂が2
0重量%以上の水を含有することが出来る程度の親水性
を有するようにしておくことにより、低沸点物が樹脂内
(あるいは硬化物内)に閉じ込められても、低沸点物の
溜まりが生ずることがないようになる。尚、より一層に
低沸点物を樹脂内に完全に分散溶解させる為には、30
重量%以上の水を含み得る樹脂組成物が望ましい。
A preferable thermosetting resin is one which can contain 20% by weight or more of water in the state of an initial condensate before curing. Here, the "initial condensate" means a resin before curing, which may contain a considerable amount of raw material monomers, but refers to a resin composition having a high viscosity due to addition and / or condensation reaction to some extent. . A characteristic of the thermosetting resin composition is that a low boiling point substance such as condensed water does not accumulate during curing, that is, the initial condensate having a high viscosity before the thermosetting resin is cured. Resin is 2
When the low boiling point substance is trapped in the resin (or in the cured product), the low boiling point substance is accumulated even if the low boiling point substance is confined in the resin (or the cured product) by making it hydrophilic enough to contain 0% by weight or more of water. It will never happen. In order to completely disperse and dissolve the low boiling point substance in the resin,
A resin composition that can contain water by weight or more is desirable.

【0020】熱硬化性樹脂組成物がどの程度の粘度の時
に、樹脂組成物の水可溶能力が20重量%を越えていれ
ば硬化・炭化後に空孔(気孔)を殆ど生じないようにな
るかは、原料樹脂の種類、重合度、ブレンド比率等によ
り異なるが、本発明者の研究の結果によれば、200〜
8000cps/20℃の粘度状態において20重量%
を越える水可溶能力があれば良いことが判明した。
At what viscosity of the thermosetting resin composition, if the water solubility of the resin composition exceeds 20% by weight, almost no pores (pores) will be formed after curing and carbonization. It depends on the type of raw material resin, the degree of polymerization, the blending ratio, etc., but according to the results of the research conducted by the present inventor,
20% by weight in a viscosity state of 8000 cps / 20 ° C
It has been found that a water-soluble capacity exceeding 10 is sufficient.

【0021】本発明における熱硬化性樹脂の初期縮合物
は、原料樹脂の種類、ブレンドの比率、重合度制御、変
性等により適宜設計することが出来る。本発明において
用いられる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エステル樹脂、
フラン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹
脂、キシレン樹脂等を挙げることが出来、これらの樹脂
をそのまま、あるいはブレンド、又は変性することによ
り用いられる。好ましくは変性フェノール・フラン樹脂
をベースにした樹脂で、例えば特開昭60−17120
8号公報、特開昭60−171209号公報、特開昭6
0−171210号公報、特開昭60−171211号
公報で開示された熱硬化性樹脂が挙げられる。熱硬化性
樹脂に変性し得るものとしては、上述のフェノール樹
脂、フラン樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいはアスファル
ト、ピッチ類等の天然に産出する高い炭素化収率を有す
る材料、リグニン、セルロース、トラガカントガム、ア
ラビアガム、フミン酸、各種糖類等の比較的高い炭化収
率を有する親水性物質が挙げられる。
The initial condensate of the thermosetting resin in the present invention can be appropriately designed depending on the type of raw material resin, blending ratio, control of polymerization degree, modification and the like. Examples of the thermosetting resin used in the present invention include phenol resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, ester resin,
Furan resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, xylene resin and the like can be mentioned, and these resins are used as they are, or by blending or modifying them. Resins based on modified phenol-furan resins are preferred, for example JP-A-60-17120.
No. 8, JP-A-60-171209, JP-A-6
The thermosetting resins disclosed in JP-A No. 0-171210 and JP-A No. 60-171121 are mentioned. As those that can be modified into a thermosetting resin, the above-mentioned phenolic resins, thermosetting resins such as furan resin, or asphalt, materials having a naturally high carbonization yield such as pitches, lignin, cellulose, Examples thereof include hydrophilic substances having a relatively high carbonization yield, such as tragacanth gum, gum arabic, humic acid, and various sugars.

【0022】又、本発明を実施するにあたってフィラー
を入れることができる。フィラーとしては、上述の熱硬
化性樹脂を含む各種カーボン材料、例えばポリアクリロ
ニトリル系カーボン材、セルロース系カーボン材、レー
ヨン系カーボン材、ピッチ系カーボン材、リグニン系カ
ーボン材、フェノール樹脂系カーボン材、フラン樹脂系
カーボン材、エポキシ樹脂系カーボン材、アルキッド樹
脂系カーボン材、不飽和ポリエステル系カーボン材、キ
シレン樹脂系カーボン材の他に、各種黒鉛、カーボンブ
ラック等がある。
Further, a filler can be added in carrying out the present invention. As the filler, various carbon materials including the above-mentioned thermosetting resin, for example, polyacrylonitrile-based carbon material, cellulose-based carbon material, rayon-based carbon material, pitch-based carbon material, lignin-based carbon material, phenol resin-based carbon material, furan In addition to resin-based carbon materials, epoxy resin-based carbon materials, alkyd resin-based carbon materials, unsaturated polyester-based carbon materials, and xylene resin-based carbon materials, there are various types of graphite, carbon black, and the like.

【0023】そして、上記したような熱硬化性樹脂やフ
ィラー等を、硬化前に目的とする用途に応じた所定の形
状の型に入れ、加熱等による硬化工程を経ることによ
り、所定の形状の樹脂材料が得られる。このようにして
得られた所定形状の樹脂材料を加熱して炭化させる炭化
焼成工程において、不活性雰囲気中において約1000
〜1400℃で熱処理し、この後不活性雰囲気下におけ
る約1000気圧以上の圧力下において約1500〜2
000℃で熱処理する。
Then, the thermosetting resin, the filler and the like as described above are put into a mold having a predetermined shape according to the intended use before curing, and a curing step such as heating is performed to obtain a predetermined shape. A resin material is obtained. In the carbonization and firing step of heating and carbonizing the resin material having a predetermined shape obtained in this manner, about 1000 in an inert atmosphere.
˜1400 ° C., then about 1500-2 at a pressure of about 1000 atm or more in an inert atmosphere.
Heat treatment at 000 ° C.

【0024】このような処理により、ガラス状炭素は、
実質的に無孔性で、よりパッキング化し、材料内部に存
在するミクロポアの径が小さくなり、緻密化する。か
つ、加圧熱処理段階は2000℃以下としたので、ガラ
ス状炭素の黒鉛化が抑えられ、高密度で、機械的強度
(曲げ強度)が24kg/mm2 以上と大きく向上し、
基板加工時における割れや欠けが激減し、又、薄膜形成
等に際してのハンドリングの信頼性が向上する。
By such treatment, the glassy carbon becomes
It is substantially non-porous, more packing, and the micropores present inside the material are smaller in size and densified. Moreover, since the pressure heat treatment step was set to 2000 ° C. or less, graphitization of glassy carbon was suppressed, the density was high, and the mechanical strength (bending strength) was greatly improved to 24 kg / mm 2 or more,
The cracks and chips during substrate processing are drastically reduced, and the reliability of handling when forming a thin film is improved.

【0025】ここで、前処理工程(第1の処理工程)に
おける不活性雰囲気とは、酸素を含まず、通常、ヘリウ
ム、アルゴン、窒素等からなる群より選ばれた少なくと
も一種の気体よりなる雰囲気、あるいは減圧ないしは真
空状態のことである。又、前処理工程における温度は約
1000〜1400℃必要であるが、より好ましくは約
1100〜1300℃である。この場合、炭化焼成時間
は、樹脂材料の種類、形状や焼成温度により適宜選択す
れば良い。
Here, the inert atmosphere in the pretreatment step (first treatment step) is an atmosphere which does not contain oxygen and which is usually composed of at least one gas selected from the group consisting of helium, argon, nitrogen and the like. Or, it means a reduced pressure or vacuum state. Further, the temperature in the pretreatment step is required to be about 1000 to 1400 ° C, more preferably about 1100 to 1300 ° C. In this case, the carbonization firing time may be appropriately selected depending on the type and shape of the resin material and the firing temperature.

【0026】前処理焼成温度が1000℃未満の低すぎ
る温度では、前処理工程段階でより十分な炭化まで至っ
ておらず、気孔が十分に小さくなりきっていない。又、
材料内部に残留する水素や酸素は前処理工程で十分に除
去されておらず、残留水素や酸素が存在したままで加圧
熱処理が行われると、水素や酸素の放出が抑制され、材
料内部での反応が引き起こされる原因となり、炭素−炭
素結合が切られてしまい、強度が低下してしまう恐れが
ある。それ故、後の加圧熱処理工程を経ても目的とする
特性に達しない。
If the pretreatment firing temperature is too low, that is, lower than 1000 ° C., sufficient carbonization has not yet been reached in the pretreatment process stage, and the pores have not become sufficiently small. or,
Hydrogen and oxygen remaining in the material are not sufficiently removed in the pretreatment process, and if pressure heat treatment is performed with residual hydrogen and oxygen present, the release of hydrogen and oxygen is suppressed, and The above reaction may be caused, the carbon-carbon bond may be broken, and the strength may be reduced. Therefore, the target characteristics are not reached even after the subsequent pressure heat treatment step.

【0027】逆に、前処理焼成温度が1400℃を越え
て高すぎる温度では、気孔は殆ど見当たらず、非常に緻
密な構造となってはいるものの、黒鉛化が進行してお
り、後の加圧熱処理が行われても強度的に不十分なもの
となる。この為、記録媒体の製造工程中の些細な衝撃に
対しても欠け等が発生し易くなる。後処理工程(第2の
処理工程)である加圧熱処理工程における不活性雰囲気
とは、通常、アルゴン、窒素等からなる群より選ばれた
少なくとも一種の気体雰囲気である。加圧熱処理工程に
おける温度は約1500〜2000℃が必要である。1
500℃未満の低すぎる温度では、期待どおりの効果が
得られない。逆に、2000℃を越えた高すぎる温度で
は、黒鉛化が進行し、高密度化しているものの、機械的
強度が減少して来る。この為、記録媒体の製造工程中の
些細な衝撃に対しても欠け等が発生し易くなる。
On the contrary, when the pretreatment firing temperature exceeds 1400 ° C. and is too high, pores are scarcely found and the structure is very dense, but graphitization is progressing, and after-treatment is performed. Even if the pressure heat treatment is performed, the strength becomes insufficient. For this reason, chipping or the like is likely to occur even with a slight impact during the manufacturing process of the recording medium. The inert atmosphere in the pressure heat treatment step which is the post-treatment step (second treatment step) is usually at least one gas atmosphere selected from the group consisting of argon, nitrogen and the like. The temperature in the pressure heat treatment step needs to be about 1500 to 2000 ° C. 1
If the temperature is too low below 500 ° C, the expected effect cannot be obtained. On the other hand, at a temperature higher than 2000 ° C. and too high, graphitization proceeds and the density becomes high, but the mechanical strength decreases. For this reason, chipping or the like is likely to occur even with a slight impact during the manufacturing process of the recording medium.

【0028】圧力を加える方法としては、密閉された容
器内に外部から油圧、その他の機械的力を加え、処理中
の材料に直接または間接に圧力を加える方法を用いるこ
とが出来る。この方法により、密閉された容器内の気圧
は1000気圧以上に高めることが出来、この圧力を利
用して内部の試料に等方的な圧力を加えるとことが出来
る。このような処理は熱間静水圧加圧装置により実施す
ることが可能である。
As a method of applying pressure, a method of applying hydraulic pressure or other mechanical force from the outside into a closed container to directly or indirectly apply pressure to the material being processed can be used. By this method, the atmospheric pressure in the closed container can be increased to 1000 atmospheric pressure or higher, and this pressure can be used to apply an isotropic pressure to the internal sample. Such treatment can be carried out by a hot isostatic press.

【0029】加圧熱処理工程における圧力は、前述の熱
硬化性樹脂組成物の種類にかかわらず、1000気圧以
上、特に約1500気圧以上であるとき良好な結果が得
られる。そして、このようにして得られたガラス状炭素
は、機械的強度が大きく、鏡面研磨後の表面平滑性がR
aで1.0nm程度まで可能であり、材料表面には微小
な欠陥(開孔や結晶粒界等)が殆ど認められない。又、
ガラス状炭素自体が有する特性、すなわち固有抵抗が小
さく、耐食性、耐候性が良好で、軽量、高硬度、非磁性
である性質をも兼ね備えている。
Good results can be obtained when the pressure in the pressure heat treatment step is 1000 atm or higher, particularly about 1500 atm or higher, regardless of the type of the thermosetting resin composition. The glassy carbon thus obtained has a large mechanical strength and has a surface smoothness of R after mirror polishing.
It is possible for a to be up to about 1.0 nm, and minute defects (opening, grain boundaries, etc.) are hardly recognized on the material surface. or,
It also has the properties of glassy carbon itself, that is, low specific resistance, good corrosion resistance and weather resistance, light weight, high hardness, and non-magnetic properties.

【0030】上記のようなガラス状炭素の基板は、先
ず、仕上げ研磨に供される。この仕上げ研磨は、研磨ク
ロスを上下の定盤に貼り付けた両面ラッピング装置によ
り遊離砥粒などの研磨液を用いて鏡面仕上げすることに
よって得られる。尚、この仕上げ研磨後のガラス状炭素
の表面プロフィールは、表面粗さRaが約5〜10Åの
ようになっている。
The glassy carbon substrate as described above is first subjected to finish polishing. This final polishing can be obtained by mirror finishing using a polishing liquid such as loose abrasive grains by a double-sided lapping device in which polishing cloths are attached to upper and lower surface plates. The surface profile of the glassy carbon after this finish polishing has a surface roughness Ra of about 5 to 10Å.

【0031】そして、この後、研磨テープと遊離砥粒と
を用いて機械的なテクスチャー処理が行われる。このテ
クスチャー処理は、図3に示す如く、一定速度で回転し
ている基板1にコンタクトローラ2により所定の加工圧
で研磨テープ3を押し当てて加工する。この時、コンタ
クトローラ2は必要に応じて揺動させる。加工中、研磨
テープ3は一定速度で送られ、研磨液が供給される。
尚、遊離砥粒による場合、研磨テープはバフテープに、
研磨液は遊離砥粒を含む研磨液が用いられる。
After that, mechanical texture processing is performed using the polishing tape and the loose abrasive grains. As shown in FIG. 3, this texture processing is performed by pressing the polishing tape 3 against the substrate 1 rotating at a constant speed by the contact roller 2 with a predetermined processing pressure. At this time, the contact roller 2 is swung if necessary. During processing, the polishing tape 3 is fed at a constant speed and a polishing liquid is supplied.
When using free abrasive grains, the polishing tape is a buff tape,
A polishing liquid containing loose abrasive grains is used as the polishing liquid.

【0032】そして、上記のようにして得られたカーボ
ン基板に、例えば下地Cr膜、CoNiCr磁性膜とい
った膜を設けることによって本発明になる磁気記録媒体
が得られる。以下、実施例により本発明をさらに具体的
に説明する。
Then, a magnetic recording medium according to the present invention is obtained by providing a film such as a Cr underlayer film or a CoNiCr magnetic film on the carbon substrate obtained as described above. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

【0033】[0033]

【実施例】フルフリルアルコール500重量部、92%
パラホルムアルデヒド480重量部および水30重量部
を75℃で攪拌して溶解させ、攪拌下でフェノール52
0重量部、水酸化ナトリウム8.8重量部および水45
重量部の混合液を滴下した。滴下終了後、75℃で3時
間反応させた。この後、フェノール80重量部、水酸化
ナトリウム8.8重量部および水45重量部の混合液を
さらに滴下し、75℃で4.5時間反応させた。30℃
まで冷却した後に、60%パラトルエンスルホン酸水溶
液で中和した。この中和物を減圧下で脱水して170重
量部の水を除去し、フルフリルアルコール500重量部
を添加混合した。得られた樹脂の粘度は20℃で370
cpsであった。尚、この樹脂が含むことのできる水量
を測定したところ39重量%であった。
Example: Furfuryl alcohol 500 parts by weight, 92%
480 parts by weight of paraformaldehyde and 30 parts by weight of water are dissolved by stirring at 75 ° C, and phenol 52 is added under stirring.
0 parts by weight, sodium hydroxide 8.8 parts by weight and water 45
Part by weight of the mixed solution was added dropwise. After the dropping was completed, the reaction was carried out at 75 ° C for 3 hours. Then, a mixed solution of 80 parts by weight of phenol, 8.8 parts by weight of sodium hydroxide and 45 parts by weight of water was further added dropwise and reacted at 75 ° C. for 4.5 hours. 30 ° C
After cooling to 60%, it was neutralized with a 60% aqueous paratoluenesulfonic acid solution. The neutralized product was dehydrated under reduced pressure to remove 170 parts by weight of water, and 500 parts by weight of furfuryl alcohol was added and mixed. The viscosity of the obtained resin is 370 at 20 ° C.
It was cps. The water content of the resin was measured and found to be 39% by weight.

【0034】この熱硬化性樹脂100重量部に対し、パ
ラトルエンスルホン酸70重量部、水20重量部、セロ
ソルブ10重量部の混合溶液3.5重量部を添加し、十
分攪拌した後、厚さ5mmの型に注入し、減圧脱泡し
た。次に、50℃で3時間、さらに80℃で2日間加熱
硬化した。得られた樹脂硬化物を有機物焼成炉(中外炉
工業製)に入れ、窒素雰囲気中にて2〜5℃/時の昇温
速度で700℃まで加熱し、さらに0.5mTorr程
度の真空中にて5〜20℃/時の昇温速度で1200℃
まで加熱焼成し、この温度で2時間保持し、この後に冷
却した。
To 100 parts by weight of this thermosetting resin, 3.5 parts by weight of a mixed solution of 70 parts by weight of paratoluenesulfonic acid, 20 parts by weight of water and 10 parts by weight of cellosolve was added, and after sufficiently stirring, the thickness was increased. It was poured into a 5 mm mold and degassed under reduced pressure. Next, it was heat-cured at 50 ° C. for 3 hours and further at 80 ° C. for 2 days. The obtained resin cured product is put into an organic firing furnace (made by Chugai Furnace Industry Co., Ltd.), heated in a nitrogen atmosphere to 700 ° C. at a heating rate of 2 to 5 ° C./hour, and further in a vacuum of about 0.5 mTorr. 1200 ℃ at a heating rate of 5 to 20 ℃ / hour
The mixture was heated and calcined up to, held at this temperature for 2 hours, and then cooled.

【0035】次に、前処理工程にて得られたガラス状炭
素を熱間静水圧プレス(HIP)装置の試料室に挿入
し、アルゴンガスにて加圧しながら500℃/時の昇温
速度で1500℃まで加熱し、1500℃、2000気
圧で1時間保持し、この後冷却した。得られたガラス状
炭素の密度は1.65g/cm3 であり、破断面を見る
と明らかにガラス状であった。
Next, the glassy carbon obtained in the pretreatment step was inserted into a sample chamber of a hot isostatic pressing (HIP) apparatus, and pressurized with argon gas at a temperature rising rate of 500 ° C./hour. The mixture was heated to 1500 ° C., kept at 1500 ° C. and 2000 atm for 1 hour, and then cooled. The density of the obtained glassy carbon was 1.65 g / cm 3 , and the fracture surface was clearly glassy.

【0036】そして、#500〜#8000の砥粒にて
鏡面研磨し、研磨面の表面孔状態および孔径を走査型電
子顕微鏡にて観察した。孔径は0.05〜0.01μm
以下であり、問題となるような欠陥(開孔や結晶粒界
等)は存在しなかった。又、表面平滑性はRaで1.0
nmであり、極めて良好であった。さらに、当該材料の
曲げ強度をJIS規格R1601に基づき測定した結
果、曲げ強度は29.8kg/mm2 であった。又、弾
性率は2500kgf/mm 2 であった。
Then, with # 500 to # 8000 abrasive grains
Mirror-polished, and the surface pore condition and pore diameter of the polished surface are determined by
Observed with a microscope. Pore size is 0.05-0.01 μm
The following are problems that may cause problems (opening and grain boundaries).
Etc.) did not exist. The surface smoothness is Ra 1.0
nm, which was extremely good. In addition, the material
Bending strength measured according to JIS standard R1601
As a result, bending strength is 29.8 kg / mm2Met. Bullet
The sex rate is 2500 kgf / mm 2Met.

【0037】このようにして得られたガラス状炭素から
なる基板に対して、下記の表−1に示す条件での仕上げ
研磨を行い、その後下記の表−2に示す条件でのテクス
チャー処理を施した。 表−1 研磨装置;スピードファム製両面ラッピング装置DSL
−9B 研磨クロス;サーフィン018−3 加工圧;150g/cm2 加工時間;10分,30分 研磨剤;スノーテックスZL:水=1:9 pH2〜10 表−2 テープ;日本ミクロコーティング社製♯4000フラッ
トタイプ テープ送り速度;400mm/分 加工圧力;0.8kg/cm2 テープ揺動;460往復/分 ローラゴム硬度;60度 ワーク回転数;50rpm 加工時間;10〜60秒 研磨液;ジョンソン製のJS602 3wt%研磨液 そして、このようにしてテクスチャー処理が行われたガ
ラス状炭素基板上にCr膜、CoNiCr磁性膜、カー
ボン膜を設け、ガラス状炭素−Cr膜−CoNiCr膜
−Carbon膜構成の磁気記録媒体を得た。
The substrate made of glassy carbon thus obtained was subjected to finish polishing under the conditions shown in Table 1 below, and then subjected to texture treatment under the conditions shown in Table 2 below. did. Table-1 Polishing equipment; Double-sided lapping equipment made by Speedfam DSL
-9B Abrasive cloth; Surfing 018-3 Processing pressure; 150 g / cm 2 Processing time; 10 minutes, 30 minutes Abrasive; Snowtex ZL: water = 1: 9 pH 2-10 Table-2 tape; Nippon Micro Coating Co. # 4000 flat type Tape feed speed; 400 mm / min Processing pressure; 0.8 kg / cm 2 Tape swing; 460 reciprocations / minute Roller rubber hardness; 60 degrees Workpiece rotation speed; 50 rpm Processing time; 10-60 seconds Polishing liquid; made by Johnson JS602 3 wt% polishing liquid Then, a Cr film, a CoNiCr magnetic film, and a carbon film are provided on the glassy carbon substrate that has been subjected to the texture treatment as described above, and the magnetic properties of the glassy carbon-Cr film-CoNiCr film-Carbon film structure are provided. A recording medium was obtained.

【0038】上記のようにして構成された磁気記録媒体
のCSSテスト及び2μのGHTテストを行ったので、
テクスチャー処理によるガラス状炭素基板の表面プロフ
ィールと共に表−3に示す。 表−3 テープ種 加工時間 Ra Rp/Rp CSS回数 2μGHT 比較例1 フラットタイプ4 40秒 18Å 4.8 0(吸着) OK 比較例2 フラットタイプ4 40秒 21Å 4.8 0(吸着) OK 比較例3 フラットタイプ1 20秒 24Å 4.6 1023 OK 比較例4 フラットタイプ3 60秒 116Å 2.3 1652 NG 比較例5 フラットタイプ2 60秒 121Å 2.2 498 NG 本発明1 フラットタイプ2 10秒 30Å 6.1 5万回以上 OK 本発明2 フラットタイプ2 40秒 41Å 4.3 5万回以上 OK 本発明3 フラットタイプ2 40秒 59Å 3.5 2万回以上 OK 本発明4 フラットタイプ2 40秒 70Å 3.1 3万回以上 OK 本発明5 フラットタイプ3 40秒 72Å 2.7 3万回以上 OK 本発明6 フラットタイプ2 40秒 73Å 3.0 3万回以上 OK 本発明7 フラットタイプ2 40秒 74Å 3.2 3万回以上 OK 本発明8 フラットタイプ2 40秒 98Å 2.7 4万回以上 OK *Ra,Rpは、表面粗さ計 TENCOR P2で測定(針曲率
半径0.6 μmR、測定長さ250 μm、カットオフなし) *CSS回数は、半径18mmの位置において、70%
AlTiC(4μ”)のヘッドを用い、ヘッド荷重は6
gで、3600rpmのモーターオンタイムを8秒、モ
ーターオフタイムを8秒とし、摩擦係数が0.6より小
さくなった時点における回数を表示
Since the CSS test and the 2 μGHT test of the magnetic recording medium constructed as described above were performed,
It is shown in Table 3 together with the surface profile of the glassy carbon substrate by the texture treatment. Table-3 Tape type Processing time Ra Rp / Rp CSS count 2 μGHT Comparative example 1 Flat type 4 40 seconds 18 Å 4.8 0 (adsorption) OK Comparative example 2 Flat type 4 40 seconds 21 Å 4.8 0 (adsorption) OK Comparative example 3 Flat type 1 20 seconds 24 Å 4.6 1023 OK Comparative example 4 Flat type 3 60 seconds 116 Å 2.3 1652 NG Comparative example 5 Flat type 2 60 seconds 121 Å 2.2 498 NG Present invention 1 Flat type 2 10 seconds 30 Å 6 150,000 times or more OK Present invention 2 Flat type 2 40 seconds 41 Å 4.3 50,000 times or more OK Present invention 3 Flat type 2 40 seconds 59 Å 3.5 20,000 times OK Present invention 4 Flat type 2 40 seconds 70 Å 3.1 30,000 times or more OK Present invention 5 Flat type 3 40 seconds 72 Å 2.7 30,000 times or more OK Present invention 6 Flat type 2 40 seconds 73 Å 3 0 30,000 times or more OK Present invention 7 Flat type 2 40 seconds 74Å 3.2 30,000 times or more OK Present invention 8 Flat type 2 40 seconds 98 Å 2.7 40,000 times or more OK * Ra, Rp are surface roughness testers Measured with TENCOR P2 (needle curvature radius 0.6 μmR, measurement length 250 μm, no cutoff) * CSS count is 70% at a radius of 18 mm
An AlTiC (4μ ") head is used and the head load is 6
In g, the motor on time at 3600 rpm is 8 seconds, the motor off time is 8 seconds, and the number of times when the friction coefficient becomes smaller than 0.6 is displayed.

【0039】[0039]

【効果】ヘッド浮上量が低く、かつ、CSS耐久性に優
れたものが得られる。
[Effect] A head having a low flying height and excellent CSS durability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】研磨テープや遊離砥粒を用いたテクスチャー技
術によるカーボン基板の表面の概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a surface of a carbon substrate by a texture technique using a polishing tape and loose abrasive grains.

【図2】研磨テープや遊離砥粒を用いたテクスチャー技
術によるアルミ基板の表面の概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the surface of an aluminum substrate by a texture technique using a polishing tape and loose abrasive grains.

【図3】テクスチャー加工の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of texture processing.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Raが約40〜100Å、Rp/Ra
(但し、Raは中心線平均粗さ、Rpは中心線高さ)が
約1〜6であることを特徴とするカーボン基板。
1. Ra is about 40 to 100Å, Rp / Ra
(However, Ra is a center line average roughness, Rp is a center line height) is about 1-6, The carbon substrate characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 Raが約10〜40Å、Rp/Ra(但
し、Raは中心線平均粗さ、Rpは中心線高さ)が約4
〜15であることを特徴とするカーボン基板。
2. Ra is about 10 to 40Å and Rp / Ra (where Ra is the centerline average roughness and Rp is the centerline height) is about 4
The carbon substrate is characterized in that
【請求項3】 Raが約40〜100Å、Rp/Ra
(但し、Raは中心線平均粗さ、Rpは中心線高さ)が
約1〜6であるカーボン基板の上に記録膜が設けられて
なることを特徴とする記録媒体。
3. Ra is about 40 to 100Å, Rp / Ra
A recording medium, wherein a recording film is provided on a carbon substrate having a center line average roughness of Ra and a center line height of Rp of about 1 to 6.
【請求項4】 Raが約10〜40Å、Rp/Ra(但
し、Raは中心線平均粗さ、Rpは中心線高さ)が約4
〜15であるカーボン基板の上に記録膜が設けられてな
ることを特徴とする記録媒体。
4. Ra is about 10 to 40Å and Rp / Ra (where Ra is the center line average roughness and Rp is the center line height) is about 4.
A recording medium having a recording film provided on a carbon substrate having a size of .about.15.
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