JPH06348039A - Photomechanical process for photosensitive planographic printing plate - Google Patents
Photomechanical process for photosensitive planographic printing plateInfo
- Publication number
- JPH06348039A JPH06348039A JP5141998A JP14199893A JPH06348039A JP H06348039 A JPH06348039 A JP H06348039A JP 5141998 A JP5141998 A JP 5141998A JP 14199893 A JP14199893 A JP 14199893A JP H06348039 A JPH06348039 A JP H06348039A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printing plate
- plate
- treatment
- irradiation
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は感光性平版印刷版の製版
方法に関する。更に詳しくは、ポジ型感光性平版印刷版
の製版時の現像処理後の新規なバーニング処理に関す
る。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for making a photosensitive lithographic printing plate. More specifically, it relates to a novel burning treatment after the development treatment at the time of plate making of the positive photosensitive lithographic printing plate.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、ポジ型感光性平版印刷版で
は、現像処理後、耐刷性を向上させる目的でバーニング
処理と呼ばれる熱処理が広く行われている。このバーニ
ング処理とは一般に200〜250℃の雰囲気のオーブ
ン中に現像処理後の版を数分間以上入れることにより、
行われている。この処理によりポジ型感光性平版印刷版
の構成成分のアルカリ可溶性樹脂(とりわけノボラック
樹脂)が硬化し、そのため版の機械的強度が向上し、耐
刷性が向上する。2. Description of the Related Art Conventionally, in a positive-working photosensitive lithographic printing plate, a heat treatment called a burning treatment has been widely performed after the development treatment for the purpose of improving printing durability. This burning treatment is generally carried out by placing the plate after development treatment for several minutes or longer in an oven in an atmosphere of 200 to 250 ° C.
Has been done. By this treatment, the alkali-soluble resin (particularly novolac resin) which is a constituent of the positive photosensitive lithographic printing plate is cured, so that the mechanical strength of the plate is improved and the printing durability is improved.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、該バーニング
処理には大サイズ(例えば、菊全版)の版を収容可能な
200〜250℃の高温のオーブンが必要であり、また
処理時間が数分間以上と長い等の問題点がある。該処理
時間が現像処理等と比較して長いため(例えば、現像処
理は20〜40秒間)、刷版処理のフルオートメーショ
ン化の阻害となっている。即ち、熱処理時のエネルギー
効率の悪さが問題となっていた。However, the burning treatment requires an oven at a high temperature of 200 to 250 ° C. capable of accommodating a large size (for example, Kikuzen plate) plate, and the treatment time is several minutes. There are problems such as the above and long. Since the processing time is longer than development processing and the like (for example, development processing takes 20 to 40 seconds), it is an obstacle to full automation of plate processing. That is, poor energy efficiency during heat treatment has been a problem.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を解決すべく鋭意検討の結果、感光性平版印刷版を露
光現像後、特定のバーニング処理を行って製版すること
により、生産性、耐刷性および安定性に優れた感光性平
版印刷版の製版方法となることを見出し、本発明に到達
した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that after the photosensitive lithographic printing plate is exposed and developed, it is subjected to a specific burning treatment for plate-making to improve productivity. The inventors have found that the method is a method for making a photosensitive lithographic printing plate having excellent printing durability and stability, and have reached the present invention.
【0005】即ち、本発明の目的は、バーニング処理時
のエネルギー効率に優れた低コストの感光性平版印刷版
の製版方法を提供することにある。本発明の別の目的
は、製版時間を短縮し、生産性に優れた感光性平版印刷
版の製版方法を提供することにある。さらに本発明の目
的は、耐刷性および安定性に優れた感光性平版印刷版の
製版方法を提供することにある。That is, it is an object of the present invention to provide a method for making a photosensitive lithographic printing plate having a low cost which is excellent in energy efficiency during the burning process. Another object of the present invention is to provide a plate making method of a photosensitive lithographic printing plate which shortens the plate making time and is excellent in productivity. A further object of the present invention is to provide a method for making a photosensitive lithographic printing plate having excellent printing durability and stability.
【0006】しかして、かかる本発明の目的は、支持体
上に少なくともo−キノンジアジド化合物およびアルカ
リ可溶性樹脂を含有する感光層を設けた感光性平版印刷
版を製版する方法において、画像露光、現像処理後、2
μm以上の波長成分を含有する遠赤外線照射により少な
くとも感光層を50〜250℃に加熱することを特徴と
する感光性平版印刷版の製版方法、によって容易に達成
される。Therefore, the object of the present invention is to perform image exposure and development treatment in a method for making a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing at least an o-quinonediazide compound and an alkali-soluble resin on a support. After 2
It is easily achieved by a method for making a photosensitive lithographic printing plate characterized by heating at least the photosensitive layer to 50 to 250 ° C. by irradiation with far infrared rays containing a wavelength component of μm or more.
【0007】以下、本発明について、詳細に説明する。
本発明に用いられる感光性平版印刷版は支持体上に少な
くともo−キノンジアジド化合物およびアルカリ可溶性
樹脂を含有する感光層を設けたものである。本発明の感
光層平版印刷版に適した支持体は寸度的に安定な板状の
ものであれば特に限定はされず、好適に使用することが
できる。このような支持体としては紙、プラスチックや
金属などかあるが、とりわけアルミニウム板が最も好適
に使用される。The present invention will be described in detail below.
The photosensitive lithographic printing plate used in the present invention comprises a support having thereon a photosensitive layer containing at least an o-quinonediazide compound and an alkali-soluble resin. The support suitable for the photosensitive layer lithographic printing plate of the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate, and it can be preferably used. Examples of such a support include paper, plastic, and metal, but an aluminum plate is most preferably used.
【0008】支持体としてアルミニウム板を使用する場
合、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔
処理等の表面処理が施される。これらの処理には公知の
方法を適用することができる。砂目立て処理の方法とし
ては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする
方法が挙げられる。機械的方法としては、例えば、ボー
ル研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによる研磨
法、バフ研磨法等が挙げられる。アルミニウム板の組成
等に応じて上述の各種方法を単独あるいは組合せて用い
ることができる。好ましくは電解エッチングする方法で
ある。When an aluminum plate is used as the support, surface treatment such as graining treatment, anodic oxidation treatment and, if necessary, sealing treatment is performed. A known method can be applied to these treatments. Examples of the graining treatment method include a mechanical method and an electrolytic etching method. Examples of mechanical methods include a ball polishing method, a brush polishing method, a liquid honing polishing method, and a buff polishing method. The above-mentioned various methods can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum plate. The method of electrolytic etching is preferable.
【0009】電解エッチングは、リン酸、硫酸、塩酸、
硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行
われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリある
いは酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和して
水洗する。陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、クロ
ム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種以
上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解し
て行われる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50mg
/dm2 が適当であり、好ましくは10〜40mg/d
m2 である。陽極酸化皮膜量は、例えば、アルミニウム
板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35ml、
酸化クロム(VI):20gを1リットルの水に溶解して
作製)に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後
の重量変化測定等から求められる。Electrolytic etching is performed using phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid,
It is carried out in a bath in which inorganic acids such as nitric acid are used alone or in a mixture of two or more kinds. After the graining treatment, if necessary, desmut treatment is performed with an aqueous solution of alkali or acid to neutralize and wash with water. The anodizing treatment is performed by using a solution containing one or more kinds of sulfuric acid, chromic acid, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid, etc. as an electrolytic solution and electrolyzing with an aluminum plate as an anode. The amount of anodized film formed is 1 to 50 mg
/ Dm 2 is suitable, preferably 10-40 mg / d
m 2 . The amount of the anodic oxide film is, for example, a phosphoric acid chromic acid solution (phosphoric acid 85% solution: 35 ml
Chromium (VI) oxide: 20 g is dissolved in 1 liter of water to dissolve the oxide film, and the weight change of the plate before and after film dissolution is measured.
【0010】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。本発
明においては、前述の支持体上に感光層が設けられる。Specific examples of the sealing treatment include boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, and dichromate aqueous solution treatment. In addition to this, the aluminum plate support may be subjected to an undercoating treatment with an aqueous solution of a water-soluble polymer compound or a metal salt such as fluorinated zirconic acid. In the present invention, a photosensitive layer is provided on the above-mentioned support.
【0011】本発明において使用される感光性組成物と
しては、o−キノンジアジド化合物およびアルカリ可溶
性樹脂を含有するポジ型感光性組成物であれば特に限定
されるものではない。より具体的には以下のものがあげ
られる。本発明において、使用されるo−キノンジアジ
ド化合物としては、o−ベンゾキノンジアジド基または
o−ナフトキノンジアジド基を有する化合物が好まし
く、特にo−ナフトキノンジアジド基を有する化合物が
好ましい。このようなキノンジアジド化合物としては特
開平2−143251号公報に記載のもの等が挙げられ
る。The photosensitive composition used in the present invention is not particularly limited as long as it is a positive photosensitive composition containing an o-quinonediazide compound and an alkali-soluble resin. More specifically, the following are mentioned. In the present invention, the o-quinonediazide compound used is preferably a compound having an o-benzoquinonediazide group or an o-naphthoquinonediazide group, and particularly preferably a compound having an o-naphthoquinonediazide group. Examples of such quinonediazide compounds include those described in JP-A-2-143251.
【0012】本発明においては、該キノンジアジド化合
物の含有量は溶媒を除く感光性組成物全体に対し5〜6
0重量%が好ましく、特に好ましくは10〜50重量%
である。本発明において、キノンジアジド化合物ととも
に使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、主にバイン
ダーとして使用できる樹脂はいずれでもよいが、ノボラ
ック樹脂やビニル系重合体樹脂、米国特許第3,75
1,257号公報に記載されているポリアミド樹脂、米
国特許第3,660,097号公報に記載されている線
状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレー
ト化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから
縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロース
アセテートフタレート等のセルロース類等が挙げられ、
ノボラック樹脂やビニル系重合体樹脂およびその組合せ
等が好ましい例として挙げられる。このようなアルカリ
可溶性樹脂としては特開平2−143251号公報に記
載のもの等が挙げられる。本発明においては該アルカリ
可溶性樹脂の含有量は感光性組成物の全固形分に対し、
5〜95重量%が好ましく、特に好ましくは20〜90
重量%である。In the present invention, the content of the quinonediazide compound is 5 to 6 with respect to the entire photosensitive composition excluding the solvent.
0% by weight is preferable, and particularly preferably 10 to 50% by weight.
Is. In the present invention, as the alkali-soluble resin used together with the quinonediazide compound, any resin that can be mainly used as a binder may be used, but a novolac resin or a vinyl-based polymer resin, US Pat.
1,257, polyamide resins, US Pat. No. 3,660,097, linear polyurethane resins, polyvinyl alcohol phthalated resins, bisphenol A and epichlorohydrin condensed epoxy resins. , Cellulose acetate, celluloses such as cellulose acetate phthalate, and the like,
Preferable examples include novolac resins, vinyl polymer resins and combinations thereof. Examples of such an alkali-soluble resin include those described in JP-A-2-143251. In the present invention, the content of the alkali-soluble resin is based on the total solid content of the photosensitive composition,
5 to 95% by weight is preferable, and 20 to 90 is particularly preferable.
% By weight.
【0013】さらに本発明で使用されるキノンジアジド
化合物を含有するポジ型感光性組成物には、必要に応じ
て染料、レベリング性などを付与するための界面活性
剤、インキ着肉性をよくするための感脂化剤、露光後の
可視画性を付与するための露光可視画剤などを添加する
ことができる。以上の感光性組成物を、上記各成分を溶
解する溶媒に溶解させ、これを支持体表面に塗布乾燥さ
せることにより例えば感光性平版印刷版を形成すること
ができるが、使用し得る溶媒としては、メチルセロソル
ブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、
エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、
アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン、メ
チルエチルケトン、メチルカルビトール、乳酸メチル、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられ
る。これらの溶媒は、単独であるいは2種以上混合して
使用する。Further, in the positive photosensitive composition containing the quinonediazide compound used in the present invention, a dye, a surfactant for imparting a leveling property, etc., and an ink receptivity are improved in order to improve the ink receptivity. The oil sensitizer, the exposed visible image agent for imparting the visible image property after exposure, and the like can be added. The above photosensitive composition is dissolved in a solvent that dissolves each of the above components, and a photosensitive lithographic printing plate can be formed, for example, by coating and drying this on a support surface. , Methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve,
Cellosolves such as ethyl cellosolve acetate, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dioxane,
Acetone, cyclohexanone, trichloroethylene, methyl ethyl ketone, methyl carbitol, methyl lactate,
Examples thereof include diethylene glycol dimethyl ether. These solvents may be used alone or in admixture of two or more.
【0014】前記感光性組成物の塗布量は用途によって
も異なるが、一般的に固形分として0.5〜3.5g/
m2 の範囲が適当である。塗布する方法としては、一般
に公知のロールコーター、スライドホッパー方式コータ
ー、グラビアコーター、ホエラーコーター、ワイヤーバ
ーコーター等を用いることができる。The coating amount of the above-mentioned photosensitive composition varies depending on the use, but is generally 0.5 to 3.5 g / solid content.
A range of m 2 is suitable. As a coating method, a generally known roll coater, slide hopper type coater, gravure coater, whaler coater, wire bar coater or the like can be used.
【0015】塗布工程後には、溶媒の除去等を目的とし
て乾燥する乾燥工程が設けられる。本発明の製版方法に
おいては、かくして得られる感光性平版印刷版を、常法
に従い、露光現像処理後、遠赤外線照射により版面を5
0〜250℃に加熱することによって、平版印刷版を得
ることができる。従来は、高温雰囲気中に平版印刷版を
置いてバーニング処理を行っていたので、感光層側から
だけでなく、離面の支持体からも加熱していたが、本発
明のように遠赤外線照射でバーニングを行うことによ
り、感光層側からのみ加熱できるので、主として感光層
のみを効率よく加熱することが可能となった。After the coating process, a drying process for drying the solvent is provided. In the plate-making method of the present invention, the photosensitive lithographic printing plate thus obtained is exposed to light and developed according to a conventional method, and then the plate surface is irradiated with far-infrared rays to form a plate.
A lithographic printing plate can be obtained by heating at 0 to 250 ° C. Conventionally, since the lithographic printing plate was placed in a high-temperature atmosphere to perform the burning treatment, it was heated not only from the photosensitive layer side but also from the support on the release surface, but far infrared irradiation as in the present invention. By performing the burning in (1), it is possible to heat only from the photosensitive layer side, so that it becomes possible to mainly heat only the photosensitive layer efficiently.
【0016】本発明で使用する遠赤外線としては約2μ
m以上の波長成分を含有すれば、特に限定はないが、1
μm以下の短波長成分が少ないことが好ましく、紫外、
可視領域(0.7μm以下)を含まないものがより好ま
しい。紫外、可視領域の波長成分が多いものを使用する
場合は光学フィルター等を利用して、0.7μm以下の
低波長成分を除去することが好ましい。The far infrared ray used in the present invention is about 2 μm.
There is no particular limitation as long as it contains a wavelength component of m or more, but 1
It is preferable that the short wavelength component of μm or less is small,
Those that do not include the visible region (0.7 μm or less) are more preferable. When using those having a large number of wavelength components in the ultraviolet and visible regions, it is preferable to remove low wavelength components of 0.7 μm or less by using an optical filter or the like.
【0017】該遠赤外線を発生させる装置の好適な例と
してセラミックス遠赤外線ヒーター等が挙げられる。セ
ラミックス遠赤外線ヒーターから放射される各波長の放
射量分布はヒーターの表面温度により変化する。そのた
め該表面温度は一般的には100〜1000℃の範囲か
ら選択され、より好ましくは200〜800℃である。
また照射源の形状は特に問題なく、例えばパネル状、管
状、ランプ状でも良い。エネルギー効率を考えると照射
源背面に反射板を設けるのが好ましい。A ceramic far-infrared heater or the like can be cited as a preferred example of the device for generating far-infrared rays. The radiation amount distribution of each wavelength emitted from the ceramic far infrared heater changes depending on the surface temperature of the heater. Therefore, the surface temperature is generally selected from the range of 100 to 1000 ° C, more preferably 200 to 800 ° C.
The shape of the irradiation source is not particularly limited, and may be, for example, a panel shape, a tubular shape, or a lamp shape. Considering energy efficiency, it is preferable to provide a reflector on the back surface of the irradiation source.
【0018】照射方法としては版の全面に照射できる方
法であればよく、特に全面に均一に照射できることが好
ましい。通常の前述のセラミックス遠赤外線ヒーターで
あれば、照射源は版面から1m〜2cmの距離、好まし
くは80cm以内、更に好ましくは60cm以内であ
り、照射時間は1〜60秒以内が好ましい。The irradiation method may be any method as long as it can irradiate the entire surface of the plate, and it is particularly preferable that the entire surface can be uniformly irradiated. In the case of the usual ceramic far-infrared heater described above, the irradiation source is at a distance of 1 m to 2 cm from the plate surface, preferably within 80 cm, more preferably within 60 cm, and the irradiation time is preferably within 1 to 60 seconds.
【0019】これらの条件は版の膜厚等により熱容量が
異なり、感光層の組成により発熱量が異なるため、一律
には定義できないが、少なくとも版面温度を50〜25
0℃にするように使用する装置に応じて適宜選択するこ
とができる。版面温度は上記範囲であれば特に限定され
ないが、生産性の面からは、好ましくは100℃以上、
更に好ましくは150℃以上である。例えば照射源と版
面の距離が遠くなれば照射時間を長くする必要がある
し、ヒーター表面温度が低ければ照射時間を長くする必
要がある。また、ヒーターのサイズや数や出力が小さけ
ればその分照射時間を長くする必要がある。しかし、長
時間照射すると感光性化合物の分解等の問題が生じた
り、設備費が高くなる等もあり60秒以内とすることが
好ましい。また、版面温度も高ければ照射時間を短くす
ることが可能だが、あまり高温にした場合は感光層が分
解等の問題が生じるため、250℃以下とする必要があ
る。また、照射方法はバッチ式で1枚ごとに処理する方
法でもベルトコンベヤー等を利用して連続的に処理する
方法でも可能である。These conditions have different heat capacities depending on the film thickness of the plate and the amount of heat generation depending on the composition of the photosensitive layer, and therefore cannot be defined uniformly, but at least the plate surface temperature is 50 to 25.
It can be appropriately selected depending on the apparatus used so as to be 0 ° C. The plate surface temperature is not particularly limited as long as it falls within the above range, but from the viewpoint of productivity, it is preferably 100 ° C. or higher,
More preferably, it is 150 ° C. or higher. For example, if the distance between the irradiation source and the plate surface is long, the irradiation time needs to be long, and if the heater surface temperature is low, the irradiation time needs to be long. Further, if the size, number and output of the heaters are small, it is necessary to lengthen the irradiation time accordingly. However, irradiation for a long time may cause problems such as decomposition of the photosensitive compound and increase in equipment cost. Further, if the plate surface temperature is also high, the irradiation time can be shortened, but if the temperature is too high, problems such as decomposition of the photosensitive layer occur, so it is necessary to set the temperature to 250 ° C. or lower. Further, the irradiation method may be a batch method in which it is processed one by one, or a method in which it is processed continuously using a belt conveyor or the like.
【0020】[0020]
(平版印刷版の準備)厚さ0.24mmのアルミニウム
板(材質1050、調質H16)を5重量%水酸化ナト
リウム水溶液中で1分間脱脂処理を行った後、0.5モ
ル/リットルの塩酸水溶液中で温度;25℃、電流密
度;60A/dm2 、処理時間;30秒間の条件で電解
エッチング処理を行った。次いで5重量%水酸化ナトリ
ウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を行
った。次に20%硫酸溶液中で温度;20℃、電流密
度;3A/dm2 、処理時間;1分間の条件で陽極酸化
処理を行った。更に又、80℃の熱水で20秒間、熱水
封孔処理を行い、平版印刷版用支持体のアルミニウム板
を作成した。(Preparation of planographic printing plate) An aluminum plate (material 1050, temper H16) having a thickness of 0.24 mm was degreased in a 5 wt% sodium hydroxide aqueous solution for 1 minute, and then 0.5 mol / liter of hydrochloric acid was added. The electrolytic etching treatment was performed in an aqueous solution under the conditions of temperature: 25 ° C., current density: 60 A / dm 2 , treatment time: 30 seconds. Then, desmutting treatment was performed at 60 ° C. for 10 seconds in a 5 wt% sodium hydroxide aqueous solution. Then, anodization treatment was performed in a 20% sulfuric acid solution under the conditions of temperature: 20 ° C., current density: 3 A / dm 2 , treatment time: 1 minute. Furthermore, hot water sealing treatment was performed for 20 seconds with hot water at 80 ° C. to prepare an aluminum plate as a lithographic printing plate support.
【0021】上記アルミニウム板に下記組成の感光性組
成物を固型分濃度12重量%になるようにメチルセロソ
ルブに溶解した塗布液を回転塗布法を用いて22.6m
g/dm2 となるように塗布し、90℃で4分間乾燥
し、ポジ型感光性平版印刷版を得た。 (感光性組成物の塗布液)A coating solution prepared by dissolving a photosensitive composition having the following composition in methylcellosolve so as to have a solid content concentration of 12% by weight was applied to the above-mentioned aluminum plate by a spin coating method for 22.6 m.
It was coated so as to be g / dm 2 and dried at 90 ° C. for 4 minutes to obtain a positive photosensitive lithographic printing plate. (Coating liquid of photosensitive composition)
【0022】[0022]
【表1】 ・ナフトキノン(1,2)−ジアジド−(2)−4−ス
ルホニルクロリドとピロガロール−アセトン樹脂(Mw
=2000)のエステル化生成物(縮合率30%)……
15部 ・フェノールとm−,p−混合クレゾール(20:4
8:32の重量比)とホルムアルデヒドとの共重縮合樹
脂(“SK−156”住友デュレン社製)……85部 ・ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学社製、染
料)……0.8部 ・p−tert−オクチルフェノールとホルムアルデヒ
ドより合成されたノボラック樹脂(Mw=1800)と
ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−5−ス
ルホン酸クロライドとのエステル化合物(縮合率50
%)……1部 ・4−(p−ジメチルアミノフェニル)−6−(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン……1部 ・cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸……2
部[Table 1] Naphthoquinone (1,2) -diazide- (2) -4-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin (Mw
= 2000) esterification product (condensation rate 30%) ...
15 parts-Phenol and m-, p-mixed cresol (20: 4
8:32 weight ratio) and co-polycondensation resin of formaldehyde (“SK-156” manufactured by Sumitomo Duren Co., Ltd.) …… 85 parts ・ Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd. dye) …… 0.8 parts An ester compound of a novolak resin (Mw = 1800) synthesized from p-tert-octylphenol and formaldehyde and naphthoquinone- (1,2) -diazide- (2) -5-sulfonic acid chloride (condensation rate 50
%) ...... 1 part 4- (p-dimethylaminophenyl) -6- (trichloromethyl) -s-triazine ...... 1 part cis-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid ...... 2
Department
【0023】こうして得られた感光性平版印刷版を1k
wメタルハライドランプ(岩崎電気(株)製“アイドル
2000”)を光源としてポジ透明原画を介して400
mJ/cm2 で露光し、コニカ(株)製現像液“SDR
−1”の6倍希釈溶液で25℃、45秒間皿現像した。1 k of the photosensitive lithographic printing plate thus obtained
w A metal halide lamp (“Idle 2000” manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) is used as a light source and 400 through a positive transparent original image.
Exposure at mJ / cm 2 and developer "SDR" manufactured by Konica Corporation
The plate was developed with a 6-fold diluted solution of "-1" at 25 ° C for 45 seconds.
【0024】(実施例1〜3)引き続き、平版印刷版を
以下に示す遠赤外線照射装置を用い、表−1に示した条
件で照射処理を行った。表中の照射時間は版の先端が片
側のニップローラー間を通過し照射面に入り、他方のニ
ップローラー間を通過し照射面からでる時間のことであ
る。遠赤外線ヒーター表面温度はセラミックスヒーター
に予め埋め込まれている熱電対を用いて測定した。(Examples 1 to 3) Subsequently, the planographic printing plate was irradiated with the far-infrared irradiation device shown below under the conditions shown in Table 1. The irradiation time in the table is the time when the leading edge of the plate passes between the nip rollers on one side to enter the irradiation surface, passes between the other nip rollers, and exits from the irradiation surface. The far-infrared heater surface temperature was measured using a thermocouple embedded in the ceramic heater in advance.
【0025】(遠赤外線照射装置)日本碍子(株)製イ
ンフラスタイン遠赤外線セラミックスヒータ(単体は1
25mm×65mmの長方形で300W)を縦(125
mm辺方向)に10体、横(65mm辺方向)に10
体、合計100体を配置した遠赤外線照射源を作成し
た。電力は各ヒータに200Vで300Wまで供給でき
るようにし、可変抵抗器を用いてヒータ温度を調節でき
るようにした。またこの照射源の面を水平(照射面が下
方)に設置し、この照射面を版を水平に搬送させるよう
にした。照射面の版に版以外のものが接触すると熱容量
が上がり、発生した熱を奪うので好ましくない。そのた
め実際には、照射面の長辺方向に2組の動力つきのニッ
プローラー(長さ1m)を設けて版を抑え込むようにし
た。該2対のニップローラーの間には、版の両サイド
に、それぞれアルミニウム製の幅20mmの棒を渡して
ガイドレールとした。このニップローラーの動力により
搬送速度を変えることができ照射時間を調整することが
できる。また照射面間の距離の調整は照射源の上下を上
下させて行った。(Far-infrared irradiation device) Infrastein far-infrared ceramic heater manufactured by Nippon Insulators Co., Ltd.
A rectangle of 25 mm x 65 mm and 300 W) is vertically (125
10 units in the mm side direction, 10 in the horizontal direction (65 mm side direction)
A far-infrared irradiation source having 100 bodies arranged was prepared. Electric power was supplied to each heater at 200V up to 300W, and the heater temperature was adjusted using a variable resistor. Further, the surface of the irradiation source was set horizontally (the irradiation surface was downward), and the irradiation surface was made to convey the plate horizontally. If something other than the plate comes into contact with the plate on the irradiation surface, the heat capacity increases and the generated heat is taken away, which is not preferable. Therefore, in practice, two sets of powered nip rollers (length 1 m) were provided in the long side direction of the irradiation surface to hold down the plate. Between the two pairs of nip rollers, aluminum rods having a width of 20 mm were passed on both sides of the plate to form guide rails. The power of this nip roller can change the conveying speed and adjust the irradiation time. The distance between the irradiation surfaces was adjusted by moving the irradiation source up and down.
【0026】[0026]
【表2】 [Table 2]
【0027】上記のようにして得られた各平版印刷版を
“ハイデルベルグGTO”印刷機にて印刷し、耐刷枚数
を測定した。耐刷力はベタ部がかすれ始めた枚数で示し
た。これらの結果を表−1の耐刷枚数の列に示した。Each lithographic printing plate obtained as described above was printed by a "Heidelberg GTO" printing machine, and the number of printed sheets was measured. The printing durability is indicated by the number of sheets at which the solid portion starts to fade. These results are shown in the column of the number of printable sheets in Table-1.
【0028】(比較例1,2)比較例として、平版印刷
版を表−1に示す条件で、オーブン中に置き、バーニン
グ処理を行ったものを作成した。またこれらの平版印刷
版の耐刷力を実施例と同様の方法で実施した。その結果
を表−1の耐刷枚数の列に示した。比較例1では本発明
の遠赤外線照射のサンプルと同等の耐刷力を示している
が本発明の遠赤外線照射処理に比べて圧倒的に処理時間
が必要であった。また比較例2では実施例2または3と
同じ処理時間だけバーニング処理をしたものであるが実
施例に比べ耐刷力が極めて劣っていた。(Comparative Examples 1 and 2) As comparative examples, lithographic printing plates were prepared by placing them in an oven under the conditions shown in Table 1 and performing a burning treatment. Further, the printing durability of these lithographic printing plates was carried out in the same manner as in the examples. The results are shown in the column for the number of printable sheets in Table-1. In Comparative Example 1, a printing durability equivalent to that of the far-infrared irradiation sample of the present invention was shown, but a processing time was overwhelmingly required as compared with the far-infrared irradiation processing of the present invention. Further, in Comparative Example 2, the burning treatment was performed for the same processing time as in Example 2 or 3, but the printing durability was extremely inferior to that in Example.
【0029】[0029]
【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版の製版方法を
用いると、極めて短時間の処理で高耐刷力の平版印刷版
が得られる。EFFECT OF THE INVENTION By using the method for making a photosensitive lithographic printing plate according to the present invention, a lithographic printing plate having high printing durability can be obtained in a very short time.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 富安 寛 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor, Hiroshi Fuyasu, 1000 Kamoshida-cho, Midori-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Sanryo Kasei Co., Ltd.
Claims (1)
ド化合物およびアルカリ可溶性樹脂を含有する感光層を
設けた感光性平版印刷版を製版する方法において、画像
露光、現像処理後、2μm以上の波長成分を含有する遠
赤外線照射により少なくとも感光層を50〜250℃に
加熱することを特徴とする感光性平版印刷版の製版方
法。1. A method for making a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing at least an o-quinonediazide compound and an alkali-soluble resin on a support, wherein a wavelength component of 2 μm or more is exposed after image exposure and development treatment. A method for making a photosensitive lithographic printing plate, which comprises heating at least the photosensitive layer to 50 to 250 ° C. by irradiation with far infrared rays.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5141998A JPH06348039A (en) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | Photomechanical process for photosensitive planographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5141998A JPH06348039A (en) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | Photomechanical process for photosensitive planographic printing plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06348039A true JPH06348039A (en) | 1994-12-22 |
Family
ID=15305014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5141998A Pending JPH06348039A (en) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | Photomechanical process for photosensitive planographic printing plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06348039A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005062870A (en) * | 2003-08-13 | 2005-03-10 | Agfa Gevaert Nv | Method for postbaking lithographic printing plate |
US7022463B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Near-field exposure photoresist and fine pattern forming method using the same |
JP2007515307A (en) * | 2003-07-17 | 2007-06-14 | コダック ポリクロウム グラフィクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Apparatus and method for processing imaging materials |
WO2022064917A1 (en) * | 2020-09-25 | 2022-03-31 | 富士フイルム株式会社 | Cured product production method, laminate production method, and semiconductor device production method |
-
1993
- 1993-06-14 JP JP5141998A patent/JPH06348039A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007515307A (en) * | 2003-07-17 | 2007-06-14 | コダック ポリクロウム グラフィクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Apparatus and method for processing imaging materials |
JP2005062870A (en) * | 2003-08-13 | 2005-03-10 | Agfa Gevaert Nv | Method for postbaking lithographic printing plate |
US7022463B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Near-field exposure photoresist and fine pattern forming method using the same |
US7419763B2 (en) | 2003-08-22 | 2008-09-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Near-field exposure photoresist and fine pattern forming method using the same |
WO2022064917A1 (en) * | 2020-09-25 | 2022-03-31 | 富士フイルム株式会社 | Cured product production method, laminate production method, and semiconductor device production method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1094376A (en) | Process for the preparation of planographic printing forms using laser beams | |
WO1996002021A1 (en) | Original form for lithographic plate and process for preparing lithographic plate | |
JP3130188B2 (en) | Positive photosensitive lithographic printing plate | |
JPS6325079B2 (en) | ||
JPH06282067A (en) | Positive photosensitive lithographic printing plate | |
EP0123153A2 (en) | Plate making process using positive working presensitized plate | |
JPH06348039A (en) | Photomechanical process for photosensitive planographic printing plate | |
JP2005305740A (en) | Aluminum sheet support for photosensitive lithographic plate material, manufacturing method thereof and photosensitive lithographic plate material | |
JP2001162958A (en) | Supporting body for lithographic printing plate and original plate of lithographic printing plate | |
JPS6397948A (en) | Photosensitive mixture | |
JPH0345826B2 (en) | ||
JP2006327068A (en) | Substrate for photosensitive lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate material | |
JPS59214651A (en) | Plate making process using photo-sensitive lithographic printing plate | |
WO2008071069A1 (en) | Manufacturing method of printing plate | |
JP2002079769A (en) | Supporting body for lithographic printing plate and manufacturing method of the same | |
JP2003103954A (en) | Manufacturing method for aluminum support for lithographic printing plate, aluminum support for lithographic printing plate, and lithographic printing original plate | |
JPH06317896A (en) | Production of photosensitive planographic printing plate | |
JPH0214188A (en) | Manufacture of support for lithographic printing plate | |
JP2002079770A (en) | Lithographic printing plate | |
JP2934105B2 (en) | Lithographic printing plate manufacturing method | |
JPH0798433B2 (en) | Method for producing support for lithographic printing plate | |
JPH052265A (en) | Production of planographic printing board | |
JP3359403B2 (en) | Processing method of photosensitive lithographic printing plate | |
JPS60123846A (en) | Lithographic plate material | |
JP2001033945A (en) | Production of planographic printing plate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20050216 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070306 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071002 |