JPH06347417A - Screening device and semiconductor device - Google Patents

Screening device and semiconductor device

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Publication number
JPH06347417A
JPH06347417A JP14105293A JP14105293A JPH06347417A JP H06347417 A JPH06347417 A JP H06347417A JP 14105293 A JP14105293 A JP 14105293A JP 14105293 A JP14105293 A JP 14105293A JP H06347417 A JPH06347417 A JP H06347417A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
infrared laser
semiconductor
output means
semiconductor device
Prior art date
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Pending
Application number
JP14105293A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Yano
洋 矢野
Hitoshi Kato
仁 加藤
Junichi Arita
順一 有田
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Hitachi Ltd
Akita Electronics Systems Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Akita Electronics Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Akita Electronics Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH06347417A publication Critical patent/JPH06347417A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To carry out screening of a semiconductor device after a resin seal reliably in a short time by carrying out inspection electrically on a crack or a broken piece or the like of a semiconductor chip. CONSTITUTION:An infrared laser, beam outputted by an output means 8 is radiated on the whole side surface of a semiconductor chip, and passes through the semiconductor chip, and is received by a beam receiving means 9. An electric signal converted by the beam receiving means 9 is inputted to a transmissivity measuring device or the like, and transmissivity is measured, and is compared with transmissivity of a semiconductor chip of good quality. When failure such as a crack or a broken piece exists in the semiconductor chip, since the infrared laser beam is attenuated and the transmissivity is reduced, it is detected as a failure semiconductor chip when the transmissivity is lower than that of the semiconductor chip.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップの割れや
欠け等の検出技術に関し、特に、樹脂モールド後の半導
体チップ等の割れや欠け等の不良半導体チップの検出技
術に適用して有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for detecting cracks or chips in a semiconductor chip, and is particularly effective when applied to a technique for detecting defective semiconductor chips such as cracks or chips in a semiconductor chip after resin molding. It is about technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、高集積半導体回路装置等の半導体
チップは、半導体集積回路の大型化に伴い、素子端部と
回路パターンとの間隔が少ないために半導体チップの割
れや欠け等が問題となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, a semiconductor chip such as a highly integrated semiconductor circuit device has a problem that the semiconductor chip is cracked or chipped because the distance between the element end and the circuit pattern is small with the increase in size of the semiconductor integrated circuit. Has become.

【0003】この半導体チップの割れや欠け等の検査
は、たとえば、ダイシングやワイヤボンディング等の各
工程毎に外観検査によって、不良半導体チップのスクリ
ーニングを行っている。
In order to inspect the semiconductor chip for cracks, chips, etc., for example, a defective semiconductor chip is screened by visual inspection in each process such as dicing and wire bonding.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、半導体チッ
プの外観検査は、人による顕微鏡を使用しての目視検査
であるので、樹脂モールド後の不良半導体チップの検出
は不可能である。
However, since the appearance inspection of the semiconductor chip is a visual inspection by a person using a microscope, it is impossible to detect a defective semiconductor chip after resin molding.

【0005】また、作業者の熟練度等による検出能力の
ばらつきが生じてしまい、不良半導体チップをスクリー
ニングできない恐れもある。
Further, there is a possibility that the detection ability may vary depending on the skill level of the operator and the defective semiconductor chips may not be screened.

【0006】さらに、外観検査でも発見できない微小の
割れや欠け等の不良半導体チップは、そのまま製品出荷
されてしまい、ユーザの使用中において耐湿不良等の不
良が発生してしまう恐れがある。
Further, defective semiconductor chips, such as minute cracks and chips, which cannot be found even by visual inspection, are shipped as they are, and there is a risk that defects such as moisture resistance will occur during use by the user.

【0007】本発明の目的は、半導体チップの割れや欠
け等の検査を電気的に行うことによって、不良半導体チ
ップのスクリーニングを樹脂封止後も行うことのできる
半導体チップのスクリーニング装置および半導体素子を
提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor chip screening apparatus and a semiconductor element capable of screening defective semiconductor chips even after resin sealing by electrically inspecting semiconductor chips for cracks and chips. To provide.

【0008】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかにな
るであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0010】すなわち、本願の1つの発明は、半導体装
置の一辺に配設された赤外線レーザが出力される出力手
段と、出力手段から出力される赤外線レーザを受光して
電気的信号に変換するために前記出力手段の対辺に配設
された受光手段とを備えるものである。
That is, according to one aspect of the present invention, there is provided an output means arranged on one side of a semiconductor device for outputting an infrared laser, and an infrared laser outputted from the output means for receiving and converting the infrared laser into an electric signal. And light receiving means arranged on the opposite side of the output means.

【0011】また、本願の他の発明は、出力手段から出
力される赤外線レーザを半導体チップの側面に照射さ
せ、半導体チップを透過した赤外線レーザを受光手段に
より受光させて半導体チップの透過率を測定することに
より、半導体チップの割れおよび欠けを検出するもので
ある。
Further, according to another invention of the present application, the transmittance of the semiconductor chip is measured by irradiating the side surface of the semiconductor chip with the infrared laser output from the output means and receiving the infrared laser transmitted through the semiconductor chip by the light receiving means. By doing so, cracking and chipping of the semiconductor chip can be detected.

【0012】さらに、本願の他の発明は、半導体チップ
の一辺に埋設された赤外線レーザが出力される出力手段
と、出力手段の対辺に埋設された出力手段から出力され
た赤外線レーザを受光して電気的信号に変換するための
受光手段とを備えているものである。
Further, according to another invention of the present application, output means for outputting an infrared laser embedded in one side of the semiconductor chip and infrared laser output from the output means embedded in the opposite side of the output means are received. And a light receiving means for converting into an electric signal.

【0013】また、本願のさらに他の発明は、出力手段
から出力された赤外線レーザを受光手段により受光さ
せ、半導体チップの透過率を測定することにより、半導
体チップの割れおよび欠けを検出するものである。
Still another invention of the present application is to detect a crack or a chip of a semiconductor chip by receiving the infrared laser outputted from the output means by the light receiving means and measuring the transmittance of the semiconductor chip. is there.

【0014】さらに、本願のさらに他の発明は、超音波
を発振させる発振手段が半導体チップの一辺に埋設さ
れ、超音波を発振させることにより、半導体チップの割
れおよび欠けを成長させるものである。
Still another invention of the present application is that an oscillating means for oscillating an ultrasonic wave is embedded in one side of a semiconductor chip and the ultrasonic wave is oscillated to grow cracks and chips in the semiconductor chip.

【0015】[0015]

【作用】上記したスクリーニング装置および半導体装置
によれば、不良半導体チップの割れや欠け等の検出が電
気的に行われるので、樹脂モールド後の半導体装置であ
っても、確実に短時間で半導体チップの割れや欠け等を
検出できる。
According to the above-described screening device and semiconductor device, a defective semiconductor chip is cracked, chipped, or the like is electrically detected. Therefore, even in the semiconductor device after resin molding, the semiconductor chip can be reliably and quickly processed. It can detect cracks and chips.

【0016】その結果、顕微鏡による外観目視検査で検
出されない微小な割れや欠け等がある不良半導体チップ
が使用された半導体装置が出荷されることがなくなるの
で、半導体装置の信頼性が向上する。
As a result, a semiconductor device using a defective semiconductor chip having minute cracks or chips which cannot be detected by visual inspection with a microscope is not shipped, and the reliability of the semiconductor device is improved.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below.

【0018】(実施例1)図1は、本発明の実施例1に
よるスクリーニング装置によってスクリーニングされる
半導体装置の概略断面図、図2は、本発明の実施例1に
よるスクリーニング装置の側面図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic sectional view of a semiconductor device screened by a screening apparatus according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a side view of a screening apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. .

【0019】本実施例1において、図1に示すように、
半導体装置1のモールドされたパッケージ2の中央部に
はタブ3が位置しており、タブ3と半導体チップ4は、
接着材5によって接着されている。また、パッケージ2
の導電部であるリードフレーム6は、インナリード6a
とアウタリード6bによって形成されている。
In the first embodiment, as shown in FIG.
A tab 3 is located at the center of the molded package 2 of the semiconductor device 1, and the tab 3 and the semiconductor chip 4 are
It is adhered by the adhesive material 5. Also, package 2
The lead frame 6 which is the conductive portion of the inner lead 6a
And the outer lead 6b.

【0020】前記半導体チップ4の導電部であるボンデ
ィングパッド(図示せず)と該パッケージ2内のインナ
リード6aは、ワイヤ7によって電気的に接続されてい
る。
A bonding pad (not shown) which is a conductive portion of the semiconductor chip 4 and an inner lead 6a in the package 2 are electrically connected by a wire 7.

【0021】また、スクリーニング装置は、図2に示す
ように、たとえばレーザダイオード等の赤外線レーザを
出力させる出力手段8と、出力された赤外線レーザを電
気的信号に変換するためのたとえばフォトダイオード等
の受光手段9とを半導体装置1の対辺に配設させる。そ
して、前記受光手段9によって変換された電気的信号
が、図示しない透過率測定装置等に入力される。
As shown in FIG. 2, the screening device includes an output means 8 for outputting an infrared laser such as a laser diode, and a photodiode for converting the output infrared laser into an electric signal. The light receiving means 9 and the light receiving means 9 are arranged on opposite sides of the semiconductor device 1. Then, the electrical signal converted by the light receiving means 9 is input to a transmittance measuring device (not shown) or the like.

【0022】次に、本実施例における作用について説明
する。
Next, the operation of this embodiment will be described.

【0023】出力手段8によって出力された赤外線レー
ザは、半導体装置1の中央部に配設されている半導体チ
ップ4の側面全体に照射される。この照射された赤外線
レーザは、半導体チップ4を透過して受光手段9によっ
て受光される。
The infrared laser output by the output means 8 is applied to the entire side surface of the semiconductor chip 4 arranged in the central portion of the semiconductor device 1. The irradiated infrared laser passes through the semiconductor chip 4 and is received by the light receiving means 9.

【0024】次に、受光手段9によって受光された赤外
線レーザは、電気的信号に変換され、その電気的信号を
透過率測定装置等に入力して、透過率を測定する。この
時、半導体チップ4に割れや欠け等の不良がある場合、
赤外線レーザが半導体チップの割れや欠け等によって散
乱し減衰するために、透過率が低下してしまう。
Next, the infrared laser beam received by the light receiving means 9 is converted into an electric signal, and the electric signal is input to a transmittance measuring device or the like to measure the transmittance. At this time, if the semiconductor chip 4 has a defect such as a crack or a chip,
Since the infrared laser is scattered and attenuated due to cracks and chips of the semiconductor chip, the transmittance is lowered.

【0025】よって、予め良品の半導体チップの透過率
を測定して、その良品の半導体チップよりも半導体チッ
プ4の透過率が低い場合には、不良半導体チップとして
検出する。
Therefore, the transmittance of the good semiconductor chip is measured in advance, and if the transmittance of the semiconductor chip 4 is lower than that of the good semiconductor chip, it is detected as a defective semiconductor chip.

【0026】したがって、本実施例1においては、モー
ルド後の半導体装置1であっても確実に半導体チップ4
の割れや欠け等を検出することができるので、半導体装
置1の信頼性が向上する。
Therefore, in the first embodiment, even if the semiconductor device 1 is molded, the semiconductor chip 4 is surely produced.
Since cracks, chips, and the like can be detected, the reliability of the semiconductor device 1 is improved.

【0027】(実施例2)図3は、本発明の実施例2に
よるスクリーニング用素子が埋設された半導体チップの
平面図、図4は、本発明の実施例2によるスクリーニン
グ用素子が埋設された半導体チップを用いた半導体装置
の断面図である。
(Embodiment 2) FIG. 3 is a plan view of a semiconductor chip in which a screening element according to Embodiment 2 of the present invention is embedded, and FIG. 4 is a plan view of a semiconductor chip in which the screening element according to Embodiment 2 of the present invention is embedded. It is a sectional view of a semiconductor device using a semiconductor chip.

【0028】本実施例2では、図3に示すように、半導
体チップ4の一辺の側面全体に、たとえばレーザダイオ
ード等の赤外線レーザが出力される出力手段8を埋設す
る。
In the second embodiment, as shown in FIG. 3, the output means 8 for outputting an infrared laser such as a laser diode is embedded in the entire side surface of one side of the semiconductor chip 4.

【0029】また、その対辺の側面全体には、出力され
た赤外線レーザを受光して電気的信号に変換するため
の、たとえばフォトダイオード等の受光手段9を埋設す
る。
Further, a light receiving means 9 such as a photodiode for receiving the output infrared laser and converting it into an electric signal is embedded in the entire side surface of the opposite side.

【0030】そして、これら埋設された出力手段8よび
受光手段9は、半導体チップ4上に形成されたボンディ
ングパッド4aおよび4bに接続される。また、そのボ
ンディングパッド4aおよび4bとインナリード6aと
が電気的にワイヤ7によって接続され、アウタリード6
bによって、赤外線レーザの出力に必要な電源の供給や
受光手段9によって変換された電気的信号の出力が行わ
れる。
The embedded output means 8 and light-receiving means 9 are connected to the bonding pads 4a and 4b formed on the semiconductor chip 4. Further, the bonding pads 4a and 4b and the inner lead 6a are electrically connected by the wire 7, and the outer lead 6
By b, the power supply necessary for the output of the infrared laser is supplied and the electric signal converted by the light receiving means 9 is output.

【0031】次に、出力手段8から出力された赤外線レ
ーザは、半導体チップ4を透過して対面に埋設されてい
る受光手段9によって受光される。この受光された赤外
線レーザは受信手段9によって電気的信号に変換され、
その電気的信号を透過率測定装置等に入力して、透過率
を測定する。この時、半導体チップ4に割れや欠け等の
不良がある場合、その不良箇所によって赤外線レーザが
減衰するために、透過率が低下してしまう。
Next, the infrared laser output from the output means 8 is transmitted through the semiconductor chip 4 and received by the light receiving means 9 embedded in the opposite surface. The received infrared laser is converted into an electric signal by the receiving means 9,
The electrical signal is input to a transmittance measuring device or the like to measure the transmittance. At this time, if the semiconductor chip 4 has a defect such as a crack or a chip, the infrared laser is attenuated by the defective portion, so that the transmittance is reduced.

【0032】よって、予め良品の半導体チップの透過率
を測定して、その良品の半導体チップよりも半導体チッ
プ4の透過率が低い場合には、不良半導体チップとして
検出する。
Therefore, the transmittance of a good semiconductor chip is measured in advance, and if the transmittance of the semiconductor chip 4 is lower than that of the good semiconductor chip, it is detected as a defective semiconductor chip.

【0033】したがって、本実施例2においても、モー
ルド後の半導体装置1であっても確実に半導体チップ4
の割れや欠け等を検出することができるので、半導体装
置1の信頼性が向上する。
Therefore, also in the second embodiment, the semiconductor chip 4 is surely applied to the semiconductor device 1 after being molded.
Since cracks, chips, and the like can be detected, the reliability of the semiconductor device 1 is improved.

【0034】(実施例3)図5は、本発明の実施例3に
よる超音波振動子が埋設された半導体チップの平面図、
図6は、本発明の実施例3による超音波振動子が埋設さ
れた半導体チップを用いた半導体装置の断面図である。
(Embodiment 3) FIG. 5 is a plan view of a semiconductor chip in which an ultrasonic transducer according to a third embodiment of the present invention is embedded,
FIG. 6 is a sectional view of a semiconductor device using a semiconductor chip in which an ultrasonic transducer according to a third embodiment of the present invention is embedded.

【0035】本実施例3においては、半導体チップ4の
一辺の側面全体に、たとえば超音波を発振させる超音波
振動子等の発振手段10を埋設する。
In the third embodiment, the oscillating means 10 such as an ultrasonic oscillator for oscillating ultrasonic waves is embedded in the entire side surface of one side of the semiconductor chip 4.

【0036】そして、この埋設された発振手段10は、
半導体チップ4上に形成されたボンディングパッド4c
に接続され、そのボンディングパッド4cとインナリー
ド6aとが電気的にワイヤ7によって接続され、アウタ
リード6bから超音波の発振に必要な電源の供給が行わ
れる。
The embedded oscillating means 10 is
Bonding pad 4c formed on semiconductor chip 4
, The bonding pad 4c and the inner lead 6a are electrically connected by the wire 7, and the outer lead 6b supplies power required for ultrasonic wave oscillation.

【0037】次に、所定の時間、発振手段10から発振
された超音波は、半導体チップ4を振動させ、目視検査
では検出できないような微小な割れや欠け等がある場合
に、その割れや欠け等の不良を成長させ、完全な破壊に
至らしめる。その後に、半導体装置1を電気的検査する
ことによって、不良半導体チップをスクリーニングす
る。
Next, the ultrasonic wave oscillated from the oscillating means 10 for a predetermined time vibrates the semiconductor chip 4, and if there is a minute crack or chip which cannot be detected by visual inspection, the crack or chip. Grows defects such as, and leads to complete destruction. After that, the semiconductor device 1 is electrically inspected to screen defective semiconductor chips.

【0038】したがって、本実施例3においては、モー
ルド後の半導体装置1であっても確実に半導体チップ4
の割れや欠け等を検出することができるので、半導体装
置1の信頼性が向上する。
Therefore, in the third embodiment, even if the semiconductor device 1 is molded, the semiconductor chip 4 can be surely processed.
Since cracks, chips, and the like can be detected, the reliability of the semiconductor device 1 is improved.

【0039】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき説明したが、本発明は前記実施例に限定さ
れるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。
The invention made by the present inventor has been described above based on the embodiments, but the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. There is no end.

【0040】たとえば、半導体装置の一辺に超音波を発
振させる超音波振動子等の発振手段を配設させ、半導体
チップを振動させることによって、割れや欠け等の不良
を成長させ、完全な破壊に至らしめて、その後に半導体
装置を電気的検査することによって、不良半導体チップ
をスクリーニングしても良い。
For example, by arranging an oscillating means such as an ultrasonic oscillator for oscillating ultrasonic waves on one side of the semiconductor device and vibrating the semiconductor chip, defects such as cracks and chips grow and complete destruction occurs. After that, the defective semiconductor chips may be screened by electrically inspecting the semiconductor device after that.

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明によって開示される発明のうち、
代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれ
ば、以下のとおりである。
Of the inventions disclosed by the present invention,
The following is a brief description of the effects obtained by the typical ones.

【0042】(1)本発明によれば、目視検査で検出で
きない微小な割れや欠け等の半導体チップの不良をモー
ルド後であっても確実に短時間で検出することができ
る。
(1) According to the present invention, semiconductor chip defects such as minute cracks and chips that cannot be detected by visual inspection can be reliably detected in a short time even after molding.

【0043】(2)また、上記(1)により、不良半導
体チップの半導体装置が誤って出荷されることがなくな
るので、半導体装置の信頼性が向上する。
(2) Further, according to the above (1), the semiconductor device of the defective semiconductor chip is prevented from being shipped by mistake, so that the reliability of the semiconductor device is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1によるスクリーニング装置に
よってスクリーニングされる半導体装置の概略断面図で
ある。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a semiconductor device screened by a screening device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例1によるスクリーニング装置の
側面図である。
FIG. 2 is a side view of the screening apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例2によるスクリーニング用素子
が埋設された半導体チップの平面図である。
FIG. 3 is a plan view of a semiconductor chip in which a screening element according to a second embodiment of the present invention is embedded.

【図4】本発明の実施例2によるスクリーニング用素子
が埋設された半導体チップを用いた半導体装置の断面図
である。
FIG. 4 is a sectional view of a semiconductor device using a semiconductor chip in which a screening element according to a second embodiment of the present invention is embedded.

【図5】本発明の実施例3による超音波振動子が埋設さ
れた半導体チップの平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a semiconductor chip having an ultrasonic transducer embedded therein according to a third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例3による超音波振動子が埋設さ
れた半導体チップを用いた半導体装置の断面図である。
FIG. 6 is a sectional view of a semiconductor device using a semiconductor chip in which an ultrasonic transducer according to a third embodiment of the present invention is embedded.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体装置 2 パッケージ 3 タブ 4 半導体チップ 4a ボンディングパッド 4b ボンディングパッド 4c ボンディングパッド 5 接着材 6 リードフレーム 6a インナリード 6b アウタリード 7 ワイヤ 8 出力手段 9 受光手段 10 発振手段 1 Semiconductor Device 2 Package 3 Tab 4 Semiconductor Chip 4a Bonding Pad 4b Bonding Pad 4c Bonding Pad 5 Adhesive 6 Lead Frame 6a Inner Lead 6b Outer Lead 7 Wire 8 Output Means 9 Light Receiving Means 10 Oscillating Means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有田 順一 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Junichi Arita 5-20-1 Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Hitachi, Ltd. Semiconductor Division

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体装置の一辺に配設された赤外線レ
ーザが出力される出力手段と、前記出力手段から出力さ
れる赤外線レーザを受光して電気的信号に変換するため
に前記出力手段の対辺に配設された受光手段とを備える
ことを特徴とするスクリーニング装置。
1. An output means for outputting an infrared laser disposed on one side of a semiconductor device, and an opposite side of the output means for receiving the infrared laser output from the output means and converting the infrared laser into an electric signal. And a light receiving unit disposed in the screening device.
【請求項2】 前記出力手段から出力される赤外線レー
ザを半導体チップの側面に照射させ、前記半導体チップ
を透過した赤外線レーザを前記受光手段により受光さ
せ、透過率を測定して半導体チップの割れおよび欠けを
検出することを特徴とする請求項1記載のスクリーニン
グ装置。
2. A side surface of a semiconductor chip is irradiated with an infrared laser output from the output means, the infrared laser transmitted through the semiconductor chip is received by the light receiving means, the transmittance is measured, and the semiconductor chip is cracked. The screening device according to claim 1, wherein a chipping is detected.
【請求項3】 半導体チップの一辺に埋設された赤外線
レーザが出力される出力手段と、前記出力手段の対辺に
埋設された前記出力手段から出力された赤外線レーザを
受光して電気的信号に変換するための受光手段とを備え
ることを特徴とする半導体装置。
3. An output means embedded in one side of a semiconductor chip for outputting an infrared laser, and an infrared laser emitted from the output means embedded in the opposite side of the output means are received and converted into an electrical signal. A semiconductor device comprising:
【請求項4】 前記出力手段から出力された赤外線レー
ザを前記受光手段により受光させ、半導体チップの透過
率を測定することにより、前記半導体チップの割れおよ
び欠けを検出することを特徴とする請求項3記載の半導
体装置。
4. An infrared laser output from the output means is received by the light receiving means and the transmittance of the semiconductor chip is measured to detect cracks and chips in the semiconductor chip. 3. The semiconductor device according to item 3.
【請求項5】 超音波を発振させる発振手段が半導体チ
ップの一辺に埋設され、前記超音波を発振させることに
より、前記半導体チップの割れおよび欠けを成長させる
ことを特徴とする半導体装置。
5. A semiconductor device, characterized in that an oscillating means for oscillating ultrasonic waves is embedded in one side of a semiconductor chip, and the ultrasonic waves are oscillated to grow cracks and chips in the semiconductor chip.
JP14105293A 1993-06-14 1993-06-14 Screening device and semiconductor device Pending JPH06347417A (en)

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JP (1) JPH06347417A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000234993A (en) * 1999-02-16 2000-08-29 Mitsubishi Electric Corp Defect inspection method of power semiconductor device
JP2019024096A (en) * 2018-09-06 2019-02-14 リンテック株式会社 Protection coat-forming film, sheet for protection film formation, and method for inspection
US10399306B2 (en) 2013-07-31 2019-09-03 Lintec Corporation Protective film forming film, sheet for forming protective film, and inspection method

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