JPH06346849A - Cryopump regeneration device - Google Patents

Cryopump regeneration device

Info

Publication number
JPH06346849A
JPH06346849A JP14105393A JP14105393A JPH06346849A JP H06346849 A JPH06346849 A JP H06346849A JP 14105393 A JP14105393 A JP 14105393A JP 14105393 A JP14105393 A JP 14105393A JP H06346849 A JPH06346849 A JP H06346849A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cryopump
cryopumps
regeneration
gas
flow rate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14105393A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadao Sakamoto
忠夫 坂本
Junichi Uchida
淳一 内田
Jiro Sakaguchi
二郎 坂口
Koichi Koyanagi
好一 小柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Priority to JP14105393A priority Critical patent/JPH06346849A/en
Publication of JPH06346849A publication Critical patent/JPH06346849A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Abstract

PURPOSE:To regenerate all of cryopumps with accuracy and certainty in a short time in a cryopump regeneration device for simultaneously regenerating a plurality of cryopumps. CONSTITUTION:Operation of a cryopump 2 is stopped, an interruption valve 5 is opened, nitrogen gas is supplied into the cryopump 2, and then regeneration is started. Difference is generated among temperatures in the cryopumps 2 based on the pressure difference of the nitrogen gas caused by variable gas occulsion rates or lengths of pipings in the cryopumps 2. The temperature difference is detected by a detecting means and input to a control means 7. Then a flow rate of a mass flow controller 6 is controlled to equalize the temperatures in all of the cryopumps 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、クライオポンプの再生
装置に関し、特に、複数のクライオポンプの再生装置に
適用して有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a regenerating apparatus for a cryopump, and more particularly to a technique effective when applied to a regenerating apparatus for a plurality of cryopumps.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、複数のクライオポンプを使用
するスパッタリング装置において、前記クライオポンプ
のガス吸蔵量が増加するとクライオポンプの効率が低下
するために、定期的にクライオポンプの再生を行ってい
る。
2. Description of the Related Art For example, in a sputtering apparatus using a plurality of cryopumps, the efficiency of the cryopump decreases as the gas storage amount of the cryopump increases, and therefore the cryopump is regenerated periodically.

【0003】このクライオポンプの再生には、ヒータに
よって60℃〜70℃程度に加熱させられた再生ガスで
ある窒素ガス等を、−260℃程度まで冷却している各
クライオポンプ内に導入することによってクライオポン
プ内を常温程度まで昇温させ、クライオポンプに吸蔵さ
れているガスを蒸発させている。
To regenerate this cryopump, nitrogen gas, which is a regenerated gas heated to about 60 to 70 ° C. by a heater, is introduced into each cryopump cooled to about -260 ° C. The temperature inside the cryopump is raised to about room temperature to evaporate the gas stored in the cryopump.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このクライ
オポンプ再生装置であると、各クライオポンプまでの配
管の長さの違いによって窒素ガスの温度や導入圧力が変
化してしまい、各ポンプに均一に再生ガスが行き渡らな
くなってしまう。
However, with this cryopump regenerator, the temperature and the introduction pressure of the nitrogen gas change due to the difference in the length of the pipe leading to each cryopump, and the pump is evenly distributed. Regenerated gas will not spread.

【0005】それによって、クライオポンプの再生不良
が発生してしまったり、また、各クライオポンプの再生
時間が異なってしまい、再生時間も長時間となってしま
う。
As a result, the regeneration failure of the cryopump may occur, and the regeneration time of each cryopump may be different, resulting in a long regeneration time.

【0006】本発明の目的は、クライオポンプの再生を
短時間で効率よく行うことのできるクライオポンプ再生
装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a cryopump regenerating apparatus which can regenerate the cryopump efficiently in a short time.

【0007】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかにな
るであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0009】すなわち、本願の1つの発明は、複数のク
ライオポンプの再生ガスを導入するための各配管に、再
生ガスの流量を調整するための調整手段が設けられたも
のである。
That is, according to one invention of the present application, each pipe for introducing the regenerated gas of a plurality of cryopumps is provided with an adjusting means for adjusting the flow rate of the regenerated gas.

【0010】また、本願の他の発明は、複数のクライオ
ポンプ内の温度が検出される検出手段と、検出手段によ
り検出された温度から複数のクライオポンプの再生状況
を判断して、複数のクライオポンプ内の温度を均一にす
るために、再生ガスの流量を各配管に配設された調整手
段により、自動的に制御することのできる制御手段とよ
りなるものである。
Further, according to another invention of the present application, a plurality of cryopumps are judged by detecting means for detecting the temperature in the plurality of cryopumps and the regeneration status of the plurality of cryopumps from the temperatures detected by the detecting means. In order to make the temperature in the pump uniform, the control means is capable of automatically controlling the flow rate of the regeneration gas by the adjusting means arranged in each pipe.

【0011】[0011]

【作用】上記のような構成のクライオポンプ再生装置に
よれば、それぞれのクライオポンプ内に再生ガスが同じ
流量で供給され、クライオポンプ内の温度が同じとなる
ので、クライオポンプの再生が均一化される。
According to the cryopump regenerator having the above-described structure, the regenerating gas is supplied to the respective cryopumps at the same flow rate and the temperature inside the cryopumps becomes the same, so that the regeneration of the cryopumps becomes uniform. To be done.

【0012】また、それぞれのクライオポンプ内の温度
に応じて、再生ガス量を調整するので、効率よく短時間
で確実に各クライオポンプが再生される。
Further, since the amount of regeneration gas is adjusted in accordance with the temperature inside each cryopump, each cryopump is regenerated efficiently and reliably in a short time.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below.

【0014】図1は、本発明の一実施例によるクライオ
ポンプ再生装置の概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a cryopump regenerating apparatus according to an embodiment of the present invention.

【0015】本実施例において、高真空処理室1には、
高真空処理室1内を真空引きするために、それぞれクラ
イオポンプ2が配設されており、高真空処理室1とクラ
イオポンプ2の間には、高真空処理室1とクライオポン
プ2を遮断するための遮断弁3が設けられている。
In this embodiment, the high vacuum processing chamber 1 includes
A cryopump 2 is provided to evacuate the high vacuum processing chamber 1, and the high vacuum processing chamber 1 and the cryopump 2 are shut off between the high vacuum processing chamber 1 and the cryopump 2. A shutoff valve 3 is provided for this purpose.

【0016】また、図示しないヒータ等によって加熱さ
れた再生ガスである、たとえば、窒素ガスは、配管4に
よって供給され、さらに、その配管4は、それぞれのク
ライオポンプ2に接続されている配管4aに接続され
る。
Regeneration gas heated by a heater or the like (not shown), for example, nitrogen gas is supplied through a pipe 4, and the pipe 4 is connected to a pipe 4a connected to each cryopump 2. Connected.

【0017】この配管4aには、クライオポンプ2のす
ぐ後段に、窒素ガスの供給および供給の停止を行うため
の遮断弁5が接続され、さらに、その後段には、窒素ガ
スの流量を調節するためのマスフローコントローラ(調
整手段)6が接続されている。また、このマスフローコ
ントローラ6の制御は、制御手段7によって行われる。
A cutoff valve 5 for supplying and stopping the supply of nitrogen gas is connected to the pipe 4a immediately after the cryopump 2, and the flow rate of nitrogen gas is adjusted in the subsequent stage. A mass flow controller (adjusting means) 6 is connected. The control of the mass flow controller 6 is performed by the control means 7.

【0018】さらに、クライオポンプ2には、再生時の
クライオポンプ2内の温度を検出するための検出手段
(図示せず)が配設され、前記検出手段によって検出さ
れた温度は、クライオポンプ2に配設された温度データ
出力端子2aから出力され、制御手段7に入力される。
Further, the cryopump 2 is provided with a detection means (not shown) for detecting the temperature inside the cryopump 2 during regeneration, and the temperature detected by the detection means is the cryopump 2 Is output from the temperature data output terminal 2a provided in the control unit 7 and input to the control means 7.

【0019】次に、本実施例における作用について説明
する。
Next, the operation of this embodiment will be described.

【0020】まず、クライオポンプ2の再生を行う前
に、高真空処理室1内に再生ガスが入り込まないように
遮断弁3によって遮断する。また、その時、クライオポ
ンプ2内に再生ガスがリークしないように、配管4aに
接続されている遮断弁5も閉じていなければならない。
First, before the regeneration of the cryopump 2, the shutoff valve 3 shuts off the regeneration gas so that the regeneration gas does not enter the high vacuum processing chamber 1. At that time, the shutoff valve 5 connected to the pipe 4a must be closed so that the regeneration gas does not leak into the cryopump 2.

【0021】次に、クライオポンプ2の動作を停止さ
せ、遮断弁5を開けることにより、窒素ガスをクライオ
ポンプ2内に供給する。それによって、クライオポンプ
2の再生が開始されるが、この時、クライオポンプ2の
ガス吸蔵量や各クライオポンプ2までの配管の長さに起
因する再生ガスの圧力の違い等によって、それぞれのク
ライオポンプ2内に温度差が生じてしまう。
Next, the operation of the cryopump 2 is stopped and the shutoff valve 5 is opened to supply the nitrogen gas into the cryopump 2. As a result, the regeneration of the cryopump 2 is started, but at this time, due to the difference in the pressure of the regenerated gas caused by the gas storage amount of the cryopump 2 and the length of the pipe to each cryopump 2, etc. A temperature difference occurs in the pump 2.

【0022】これら各クライオポンプの温度を前記検出
手段によって検出して、制御手段7に入力する。そし
て、温度の低いクライオポンプ2がある場合には、制御
手段7によってマスフローコントローラ6の流量を増加
させる。
The temperature of each of these cryopumps is detected by the detecting means and input to the control means 7. When there is a cryopump 2 having a low temperature, the control means 7 increases the flow rate of the mass flow controller 6.

【0023】また、逆に温度の高いクライオポンプ2が
ある場合には、制御手段7によってマスフローコントロ
ーラ6の流量を減少させる。
On the contrary, when there is a cryopump 2 having a high temperature, the control means 7 decreases the flow rate of the mass flow controller 6.

【0024】よって、すべてのクライオポンプ2(図1
においては、4台)内の温度は、再生が終了するまで制
御手段7によって同一温度に制御されることになる。
Therefore, all cryopumps 2 (see FIG.
In the above, the temperature inside the four units will be controlled to the same temperature by the control means 7 until the regeneration is completed.

【0025】それにより、本実施例によれば、制御手段
7によって、それぞれのクライオポンプ2内の窒素ガス
流量をマスフローコントローラ6によって制御しながら
再生を行うので、効率よく短時間で、すべてのクライオ
ポンプ2が均一に再生される。
Thus, according to the present embodiment, since the control means 7 performs the regeneration while controlling the nitrogen gas flow rate in each cryopump 2 by the mass flow controller 6, all the cryopumps can be efficiently and in a short time. Pump 2 is evenly regenerated.

【0026】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき説明したが、本発明は前記実施例に限定さ
れるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been described based on the embodiments, the present invention is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. There is no end.

【0027】たとえば、制御手段7によって制御される
再生ガスの流量調整は、前記実施例のマスフローコント
ローラ6以外でも良く、再生ガスの圧力を調整する圧力
調整バルブでも良い。
For example, the flow rate of the regenerated gas controlled by the control means 7 may be adjusted by means other than the mass flow controller 6 of the above-mentioned embodiment, or by a pressure adjusting valve for adjusting the pressure of the regenerated gas.

【0028】また、再生ガスの流量制御も前記実施例の
制御手段以外でも良く、図2に示すように、マスフロー
メータまたは圧力メータ等の計測手段8を目視にて確認
し、マスフローコントローラまたは圧力調整バルブ等の
調整手段9によって、各クライオポンプに流れる再生ガ
ス量を手動で制御しても良い。
The flow rate of the regenerated gas may be controlled by means other than the control means of the above embodiment. As shown in FIG. 2, the measuring means 8 such as a mass flow meter or a pressure meter is visually checked to check the mass flow controller or the pressure adjustment. The amount of regeneration gas flowing through each cryopump may be manually controlled by adjusting means 9 such as a valve.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明によって開示される発明のうち、
代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれ
ば、以下のとおりである。
Of the inventions disclosed by the present invention,
The following is a brief description of the effects obtained by the typical ones.

【0030】(1)本発明によれば、再生ガスの流量
を、それぞれのクライオポンプ内の温度によって制御す
るので、効率よく短時間で複数のクライオポンプの再生
が確実に行える。
(1) According to the present invention, since the flow rate of the regeneration gas is controlled by the temperature in each cryopump, the regeneration of a plurality of cryopumps can be reliably performed in a short time efficiently.

【0031】(2)また、上記(1)により、クライオ
ポンプを複数使用している装置の実稼働時間が増えるの
で、生産効率が向上する。
(2) Further, according to the above (1), since the actual operating time of the apparatus using a plurality of cryopumps is increased, the production efficiency is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例によるクライオポンプ再生装
置の概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a cryopump regeneration device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例によるクライオポンプ再生
装置の概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a cryopump regeneration device according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 高真空処理室 2 クライオポンプ 2a 温度データ出力端子 3 遮断弁 4 配管 4a 配管 5 遮断弁 6 マスフローコントローラ(調整手段) 7 制御手段 8 計測手段 9 調整手段 1 high vacuum processing chamber 2 cryopump 2a temperature data output terminal 3 shutoff valve 4 piping 4a piping 5 shutoff valve 6 mass flow controller (adjusting means) 7 control means 8 measuring means 9 adjusting means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂口 二郎 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 小柳 好一 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Jiro Sakaguchi 3-3, Fujibashi 2-3, Ome-shi, Tokyo Inside Hitachi Tokyo Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Yoshikazu Koyanagi 3-3-2 Fujibashi, Ome-shi, Tokyo Hitachi Inside Tokyo Electronics Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のクライオポンプの再生を行うクラ
イオポンプ再生装置であって、前記複数のクライオポン
プの再生ガスを導入するための各配管に、前記再生ガス
の流量調整用の調整手段が設けられたことを特徴とする
クライオポンプ再生装置。
1. A cryopump regeneration device for regenerating a plurality of cryopumps, wherein each pipe for introducing a regeneration gas of the plurality of cryopumps is provided with an adjusting means for adjusting a flow rate of the regeneration gas. A cryopump regeneration device characterized in that
【請求項2】 前記複数のクライオポンプ内の温度が検
出される検出手段と、前記検出手段により検出された温
度から前記複数のクライオポンプの再生状況を判断し
て、前記複数のクライオポンプ内の温度を同一にするた
めに、前記再生ガスの流量を、前記各配管に配設された
前記調整手段により自動的に制御する制御手段とよりな
ることを特徴とする請求項1記載のクライオポンプ再生
装置。
2. The detecting means for detecting the temperature inside the plurality of cryopumps, and the regeneration status of the plurality of cryopumps are judged from the temperature detected by the detecting means to determine the inside of the plurality of cryopumps. 2. The cryopump regeneration according to claim 1, further comprising control means for automatically controlling the flow rate of the regeneration gas by the adjusting means arranged in each of the pipes so as to keep the temperatures the same. apparatus.
JP14105393A 1993-06-14 1993-06-14 Cryopump regeneration device Pending JPH06346849A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14105393A JPH06346849A (en) 1993-06-14 1993-06-14 Cryopump regeneration device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14105393A JPH06346849A (en) 1993-06-14 1993-06-14 Cryopump regeneration device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06346849A true JPH06346849A (en) 1994-12-20

Family

ID=15283162

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14105393A Pending JPH06346849A (en) 1993-06-14 1993-06-14 Cryopump regeneration device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06346849A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3943128B2 (en) In situ getter pump apparatus and method
US5513499A (en) Method and apparatus for cryopump regeneration using turbomolecular pump
KR960003788B1 (en) Evacuation system and the method thereof
EP0632144B1 (en) Method of purging and pumping vacuum chamber to ultra-high vacuum
US8136549B2 (en) Sluice system for a vacuum facility
KR20210095640A (en) Multi-chamber evacuation system
JPH11333277A (en) Vacuum pressure control system
JPS6312336A (en) Method of supplying very high purity gas and its supplying system
JPH06346849A (en) Cryopump regeneration device
WO1998048168A2 (en) In situ getter pump system and method
JPS5828936A (en) Operation controlling method of compressor with inverter
JP2024516979A (en) Semiconductor Processing Systems
JPS5812342B2 (en) Continuous dry etching method
JP2826479B2 (en) Gas supply device and operation method thereof
JP2760331B2 (en) Vacuum exhaust device
JP2007502928A (en) Vacuum equipment
JP3347794B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment
JPH08150333A (en) Vacuum apparatus
JPS614875A (en) Vacuum exhaust of plasma etching apparatus
JPH0893643A (en) Cryopump
KR100234531B1 (en) Exhausting system of semiconductor low press chemincal vapor deposition system
JPH0250421A (en) Gas feeder
JP2646998B2 (en) Vacuum processing method
JPS6269509A (en) Low pressure cvd equipment
JPS60169138A (en) Method of supplying gas to vacuum treating chamber