JPH06344562A - Production of nozzle plate of ink jet head - Google Patents
Production of nozzle plate of ink jet headInfo
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- JPH06344562A JPH06344562A JP16015493A JP16015493A JPH06344562A JP H06344562 A JPH06344562 A JP H06344562A JP 16015493 A JP16015493 A JP 16015493A JP 16015493 A JP16015493 A JP 16015493A JP H06344562 A JPH06344562 A JP H06344562A
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- nozzle
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- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、インクジェットヘッド
のノズルプレートの製造方法に関し、より詳細には、イ
ンクジェット記録装置におけるインクジェットヘッドに
接合されて使用されるノズルプレートの濡れ性制御を伴
う面粗度加工方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a nozzle plate of an ink jet head, and more particularly, to a surface roughness accompanied by control of wettability of a nozzle plate used by being joined to an ink jet head in an ink jet recording apparatus. Regarding processing method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図６は、本発明が適用されるインクジェ
ットヘッドの一例を説明するための図で、図６（ａ）は
各構成要素を示す斜視図、図６（ｂ）は流路板の裏面を
示す斜視図、図（ｃ）は構成要素を一体に接合したとき
の斜視図で、図中、１は流路板、２はノズルプレート、
３はノズル、４は隔壁、５は加圧室、６は共通インク
室、７はインク供給口、８は圧電体、９は仕切スリッ
ト、１０は歪部、１１は充填剤、１２は基板である。2. Description of the Related Art FIG. 6 is a diagram for explaining an example of an ink jet head to which the present invention is applied. FIG. 6 (a) is a perspective view showing each component, and FIG. 6 (b) is a flow path plate. Is a perspective view showing the back surface of FIG. 1, FIG. 6C is a perspective view when the constituent elements are integrally joined, in which 1 is a flow path plate, 2 is a nozzle plate,
3 is a nozzle, 4 is a partition wall, 5 is a pressure chamber, 6 is a common ink chamber, 7 is an ink supply port, 8 is a piezoelectric body, 9 is a partition slit, 10 is a strained portion, 11 is a filler, and 12 is a substrate. is there.
【０００３】図６において、流路板１には、インク供給
口７よりインクの供給を受けてインクを収容する共通イ
ンク室６が、図６（ｂ）に示すごとく、裏面に凹部とし
て設けられており、更に、該共通インク室６に連通して
隔壁４により区画されてインクの流路となり、加圧によ
りインクに圧力波を発生させる加圧室５が複数平行して
設けられている。流路板１には、圧電体８と基板１２と
が順次接合され、圧電体８には加圧室５に対応して加圧
する歪部１０が設けられている。歪部１０は仕切スリッ
ト９により区画され、該仕切スリット９内には弾性のあ
る軟質な充填剤１１が充填されている。流路板１の加圧
室５のノズル側５ａには、加圧室５に対応したノズル３
を有するノズルプレート２が接合され、図６（ｃ）に図
示する如く、一体構成されている。歪部１０に画像情報
に基づく信号が印加されると、周知のように、加圧室５
内が体積変化してインクに圧力波を発生し、ノズルより
インク滴を噴射する。In FIG. 6, a common ink chamber 6 which receives ink from the ink supply port 7 and accommodates the ink is provided in the flow path plate 1 as a recess on the back surface as shown in FIG. 6B. Further, a plurality of pressurizing chambers 5 that communicate with the common ink chamber 6 and are partitioned by the partition wall 4 to serve as an ink flow path and generate a pressure wave in the ink by pressurization are provided in parallel. The piezoelectric body 8 and the substrate 12 are sequentially bonded to the flow path plate 1, and the piezoelectric body 8 is provided with a strain section 10 that applies pressure to the pressure chamber 5. The strained portion 10 is partitioned by the partition slit 9, and the partition slit 9 is filled with a soft and elastic filler 11. The nozzle side 5 a of the pressurizing chamber 5 of the flow path plate 1 has a nozzle 3 corresponding to the pressurizing chamber 5.
The nozzle plate 2 having the above is joined and integrally formed as shown in FIG. When a signal based on image information is applied to the strain section 10, as is well known, the pressurizing chamber 5
The volume of the inside changes and a pressure wave is generated in the ink, and an ink droplet is ejected from the nozzle.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上述のように、現在、
高集積ノズルのオンデマンド型インクジェット記録装置
の実用化が進んでいるが、高画質を構成するためには、
各ノズルの特性が一様で、ばらつきが少なく安定してい
ることが要求される。そのため、ノズルのインク吐出面
の濡れ性向上を図り、噴射特性を安定させる必要があ
る。また、ノズル近傍のインクで濡れている領域は、隣
り合う領域どうしがつながると、噴射安定性が得られな
いため、濡れ領域を隔離する必要がある。As described above, at present,
On-demand type inkjet recording devices with highly integrated nozzles are being put to practical use, but in order to achieve high image quality,
It is required that the characteristics of each nozzle be uniform and that there be little variation and be stable. Therefore, it is necessary to improve the wettability of the ink ejection surface of the nozzle and stabilize the ejection characteristics. Further, in a region near the nozzle that is wet with ink, if adjacent regions are connected to each other, jetting stability cannot be obtained, and thus the wet region needs to be isolated.
【０００５】而して、ノズルのインク吐出面の濡れ性を
向上させるために、エキシマレーザ、或いは、その他の
手段により、ノズルの近傍を外側から内側にかけて粗面
化し、更には、隣り合うノズルの濡れ領域を隔離するこ
とが、例えば、特開平４−１８１９６５号公報に開示さ
れているが、ノズルと粗面の加工順序、粗面領域、材
料、エキシマレーザ加工条件等が明確に開示されておら
ず、ノズルプレートを実際に製作する段階で問題があっ
た。Thus, in order to improve the wettability of the ink ejection surface of the nozzle, the vicinity of the nozzle is roughened from the outside to the inside by an excimer laser or other means, and further, the adjacent nozzles are made to have a rough surface. Isolation of the wet region is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-181965, but the processing order of the nozzle and the rough surface, the rough surface region, the material, the excimer laser processing conditions, etc. are clearly disclosed. Instead, there was a problem in the actual stage of manufacturing the nozzle plate.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、上述のごとき
課題を解決するために、（１）インクジェットヘッドの
インク加圧室に連通する吐出面に接合され、該インク加
圧室内において加圧されたインクを吐出する複数の整列
したノズルを有するノズルプレートの製造方法におい
て、前記ノズルプレートは、発振周波数が１９３ｎｍ以
上のエキシマレーザ光に対する透過率が１０％以下であ
る樹脂材料にて構成され、ノズルの加工後に、インク吐
出側のノズルを含めたノズル近傍の領域に隣り領域と接
しないように、前記エキシマレーザ光を照射して樹脂表
面を粗面化し、該表面に親水性のある層を形成すること
を特徴としたものであり、更には、（２）前記樹脂材料
を粗面化するエキシマレーザ光の照射は、マスクイメー
ジ法で、マスク寸法に対する縮小率を１／２.７〜１／
１０、エネルギー密度を１〜１５Ｊ／ｃｍ2、同一領域
の照射ショット数を１〜１０とすること、或いは、
（３）前記樹脂材料をＰＥＮ（ポリエチレンナフタレー
ト）、又はＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）とし、前
記エキシマレーザをＸｅＦ，ＸｅＣｌ、あるいはＫｒＦ
とすることを特徴としたものである。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is (1) bonded to an ejection surface communicating with an ink pressurizing chamber of an ink jet head, and pressurizing in the ink pressurizing chamber. In the method of manufacturing a nozzle plate having a plurality of aligned nozzles for ejecting the ejected ink, the nozzle plate is made of a resin material having a transmittance of 10% or less for excimer laser light having an oscillation frequency of 193 nm or more, After the nozzle is processed, the resin surface is roughened by irradiating the excimer laser light so that the area near the nozzle including the nozzle on the ink ejection side does not come into contact with the adjacent area, and a hydrophilic layer is formed on the surface. Further, (2) the irradiation of the excimer laser light for roughening the resin material is performed by a mask image method, and a mask dimension is used. The reduction rate against 1 / 2.7 to 1 /
10, the energy density is 1 to 15 J / cm 2 , and the number of irradiation shots in the same region is 1 to 10, or
(3) The resin material is PEN (polyethylene naphthalate) or PES (polyether sulfone), and the excimer laser is XeF, XeCl, or KrF.
It is characterized by
【０００７】[0007]
【作用】ノズルプレートの材料として、ＰＥＮ（ポリエ
チレンナフタレート）、或いは、ＰＥＳ（ポリエーテル
サルフォン）を使用し、ノズル加工後、インク吐出側の
ノズルを含めたノズル近傍に、隣り領域と接しないよう
に、発振周波数が１９３ｎｍ以上のエキシマレーザ光を
照射して粗面加工を行う。[Function] PEN (polyethylene naphthalate) or PES (polyether sulfone) is used as the material of the nozzle plate, and after the nozzle processing, it is not in contact with the adjacent area in the vicinity of the nozzle including the nozzle on the ink ejection side. As described above, rough surface processing is performed by irradiating an excimer laser beam having an oscillation frequency of 193 nm or more.
【０００８】[0008]
【実施例】図１（ａ),(ｂ）は、各種樹脂材料について
の波長と透過率の特性であり、図１（ａ）中、はＴＰ
Ｘ材であり、２４８ｎｍ以上の長波長では全く加工でき
ない。はゼオニクス材であり、２４８ｎｍでは１０％
以下であり、品質は若干劣るが加工可能である。又、
のＰＥＳ材は、３０８ｎｍまでは十分加工可能である。
また、図１（ｂ）中、，のフッ素素材料は、エキシ
マレーザ波長に対し、ほとんど透過するため、穴加工は
できない。また、のＰＰＳ、のＰＩは、エキシマ全
波長に対し、全く、透過率をもたないため、良質の穴加
工ができる。これらの特性より発振周波数が１９３ｎｍ
以上のエキシマレーザ光に対する透過率が１０％以下で
あれば、インクジェット用ノズルプレートとして使用可
能であることがわかる。EXAMPLES FIGS. 1 (a) and 1 (b) show wavelength and transmittance characteristics of various resin materials. In FIG. 1 (a), TP is
It is an X material and cannot be processed at all at wavelengths longer than 248 nm. Is a Zeonics material, 10% at 248 nm
It is below, and the quality is slightly inferior, but it can be processed. or,
The PES material can be sufficiently processed up to 308 nm.
Further, in FIG. 1 (b), the fluorine material of, is almost transparent to the excimer laser wavelength, and therefore cannot be drilled. Further, since PPS and PI have no transmittance for all excimer wavelengths, high-quality hole drilling can be performed. Due to these characteristics, the oscillation frequency is 193 nm
It can be seen that when the transmittance for the above excimer laser light is 10% or less, it can be used as an inkjet nozzle plate.
【０００９】本発明は、上述のごとき実情に鑑み、発振
周波数が１９３ｎｍ以上のエキシマレーザ光としてＫｒ
Ｆ（２４８ｎｍ）、ＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）、ＸｅＦ
（３５０ｎｍ）を使用し、ノズルプレートの材料として
ＰＥＮ，ＰＥＳを使用し、ノズルプレートのインク吐出
面をエキシマレーザ光にて粗面加工するようにしたもの
である。In view of the above situation, the present invention uses Kr as an excimer laser beam having an oscillation frequency of 193 nm or more.
F (248 nm), XeCl (308 nm), XeF
(350 nm), PEN and PES are used as the material of the nozzle plate, and the ink ejection surface of the nozzle plate is roughened by excimer laser light.
【００１０】図２（ａ）,（ｂ）,（ｃ）は、エキシマレ
ーザ光で粗面したノズルプレートの例を示す図で、図２
（ａ）,（ｃ）は、それぞれ円形、四角形のマスクを使
用して、エキシマレーザ光を照射し、粗面加工を行った
ノズルプレートのインク吐出面を上からみた図、図２
（ｂ）は、図２（ａ）のＢ−Ｂの断面図で、１３は粗面
領域、１４は面だれ部、１５は親水層である。図２
（ａ）,（ｃ）において、すでにノズル穴加工されたノ
ズルプレート２のインク吐出面にエキシマレーザ光を照
射し、粗面領域１３を形成する。この粗面領域１３は、
インクで一様に濡れた状態に保持される。図２（ｂ）に
おいて、エキシマレーザ光照射により、粗面領域１３に
親水層１５を形成し、同時に、ノズルプレートのインク
吐出面２ａとノズル穴３との角を取り、面だれ部１４を
形成する。この面だれ部１４は、噴射安定性の向上に効
果的である。また、粗面領域１３が隣り合う粗面領域１
３と重なった場合、ノズル近傍のインクで濡れた領域
が、隣りどうし同一の領域となり、互いに噴射特性に影
響を与え、安定した特性が得られなくなる。そのため、
粗面領域１３は、隣り合う粗面領域１３と隔離状態に形
成する。2A, 2B, and 2C are views showing an example of a nozzle plate roughened by excimer laser light.
2 (a) and 2 (c) are top views of the ink ejection surface of the nozzle plate that has been roughened by irradiating it with excimer laser light using circular and square masks, respectively.
2B is a sectional view taken along line BB of FIG. 2A, in which 13 is a rough surface region, 14 is a chamfered portion, and 15 is a hydrophilic layer. Figure 2
In (a) and (c), the rough surface area 13 is formed by irradiating the ink ejection surface of the nozzle plate 2 which has already been processed with the nozzle holes with the excimer laser light. This rough surface area 13 is
The ink is kept uniformly wet. In FIG. 2B, the hydrophilic layer 15 is formed on the rough surface area 13 by the irradiation of the excimer laser light, and at the same time, the corner between the ink ejection surface 2a of the nozzle plate and the nozzle hole 3 is removed to form the chamfered portion 14. To do. The chamfered portion 14 is effective for improving the injection stability. In addition, the rough surface area 1 in which the rough surface areas 13 are adjacent to each other
In the case of overlapping with No. 3, the areas wet with ink near the nozzle become the same areas adjacent to each other, and affect the ejection characteristics of each other, and stable characteristics cannot be obtained. for that reason,
The rough surface region 13 is formed in an isolated state from the adjacent rough surface region 13.
【００１１】図３及び図４は、ＫｒＦエキシマレーザ光
の照射ショット数による静的接触角を示したもので、図
３（ａ）,（ｂ）はＰＥＮ、図４（ａ）,（ｂ）はＰＥＳ
の静的接触角を示し、それぞれ、図（ａ）は縮小率１／
８、エネルギー密度９.６Ｊ／ｃｍ2，図（ｂ）は縮小率
１／４、エネルギー密度２.４Ｊ／ｃｍ2の場合の静的接
触角である。これらの図からショット数が多ければ、濡
れ性が良くなる傾向にあることが分る。例えば、図３
（ａ）において、ＰＥＮは２ショットでガラス（前進２
５°、後退７°）並の濡れ性が得られることがわかっ
た。FIGS. 3 and 4 show the static contact angle depending on the number of shots of irradiation of the KrF excimer laser light. FIGS. 3 (a) and 3 (b) are PEN, and FIGS. 4 (a) and 4 (b). Is PES
The static contact angle of each is shown in FIG.
8, the energy density is 9.6 J / cm 2 , and the figure (b) is the static contact angle in the case of the reduction ratio ¼ and the energy density 2.4 J / cm 2 . From these figures, it can be seen that the wettability tends to improve as the number of shots increases. For example, in FIG.
In (a), PEN is made of glass (forward 2
It was found that a wettability comparable to 5 ° and receding 7 °) was obtained.
【００１２】縮小率が１／２.７より大きいとエネルギ
ー密度が低くなりすぎ、逆に、１／１０より小さいと、
エネルギー密度が高くなりすぎ、また、複数領域同時加
工に不利となる。エネルギー密度が１Ｊ／ｃｍ2未満だ
と、加工が困難になり、加工ができても時間がかかる。
逆に、エネルギー密度が１５Ｊ／ｃｍ2を越えると、濡
れ性が制御しにくくなる。If the reduction ratio is larger than 1 / 2.7, the energy density becomes too low, and conversely if it is smaller than 1/10,
The energy density becomes too high, and it is disadvantageous for simultaneous processing of a plurality of regions. If the energy density is less than 1 J / cm 2 , processing becomes difficult, and even if processing is possible, it takes time.
On the contrary, when the energy density exceeds 15 J / cm 2 , the wettability becomes difficult to control.
【００１３】ショット数が１０を越えると、濡れ性の変
化が鈍くなる。また、ショット数は、ＰＥＮ及びＰＥＳ
の場合、エネルギー密度９.６Ｊ／ｃｍ2で、１ショット
約１μｍだけ深さ方向へ加工されるため、ショット数が
１０ショットを越えると、図５に示すように、（なお、
図５において、Ａは多ショット数によるエキシマ加工除
去部、Ｂは少ショット数の場合の穴径、Ｃは多ショット
数の場合の穴径である）、ノズルの穴径が目立って大き
くなり、滴速度が遅く、滴が大きくなり、噴射特性に影
響がでる。When the number of shots exceeds 10, the change in wettability becomes slow. The number of shots is PEN and PES.
In the case of, since the energy density is 9.6 J / cm 2 and one shot is processed in the depth direction by about 1 μm, if the number of shots exceeds 10, as shown in FIG.
In FIG. 5, A is the excimer processing removed portion by a large number of shots, B is a hole diameter in the case of a small number of shots, C is a hole diameter in the case of a large number of shots), and the hole diameter of the nozzle is noticeably large. The drop velocity is slow, the drop is large, and the ejection characteristics are affected.
【００１４】[0014]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によると、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：穴開け加工後のエキシ
マレーザ光による粗面加工で、面だれ部が形成され、噴
射安定性を向上できる。また、粗面領域を重ねないよう
加工することで隣り合うノズルの噴射特性に影響を与え
ないようにできる。指定の樹脂材料を使用することによ
りエキシマレーザ光での加工が可能となる。粗面を後加
工することで、ノズル面とノズル穴との角が取れ、ま
た、指定の領域を粗面化することで、濡れ性領域が確保
でき、さらには、ノズル面を隔離できる。 （２）請求項２に対応する効果：エキシマレーザ光照射
ショット数を可変をすることで、濡れ性を制御すること
が可能となる。指定の縮小率、エネルギー密度、ショッ
ト数で粗面が容易に得られ、濡れ性領域を確保でき、ま
た、ショット数を変えることで、その濡れ性を制御でき
る。 （３）請求項３に対応する効果：エキシマレーザ光とし
てＫｒＦ，ＸｅＣｌ，ＸｅＦを、樹脂材料としてＰＥ
Ｎ，ＰＥＳを使用することで、ノズルプレートに粗面領
域を確保することが容易になる。指定のエキシマレーザ
光を使用することで、効率のよいアブレーションが実現
し、指定の樹脂を使用することよりアブレーションによ
る粗面が容易に得られる。As is apparent from the above description, the present invention has the following effects. (1) Effect corresponding to claim 1: Roughening of the surface by excimer laser light after drilling forms a chamfer and improves jetting stability. In addition, it is possible to prevent the ejection characteristics of the adjacent nozzles from being affected by processing so as not to overlap the rough surface areas. By using the specified resin material, processing with excimer laser light becomes possible. By post-processing the rough surface, the corners between the nozzle surface and the nozzle hole can be removed, and by roughening the designated area, the wettability area can be secured and the nozzle surface can be isolated. (2) Effect corresponding to claim 2: The wettability can be controlled by varying the number of excimer laser light irradiation shots. A rough surface can be easily obtained with a specified reduction ratio, energy density, and shot number, a wettability region can be secured, and the wettability can be controlled by changing the shot number. (3) Effect corresponding to claim 3: KrF, XeCl, XeF as excimer laser light and PE as resin material
By using N and PES, it becomes easy to secure a rough surface area in the nozzle plate. Efficient ablation is realized by using the designated excimer laser light, and a rough surface due to ablation can be easily obtained by using the designated resin.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図１】 各種樹脂材料に対するレーザ光の波長と透過
率の特性を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing characteristics of wavelength and transmittance of laser light with respect to various resin materials.
【図２】 本発明によって製造されたノズルプレートの
例を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a nozzle plate manufactured according to the present invention.
【図３】 ＫｒＦエキシマレーザ光の照射ショット数に
対するＰＥＮの静的接触角を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a static contact angle of PEN with respect to the number of shots of irradiation with KrF excimer laser light.
【図４】 ＫｒＦエキシマレーザ光の照射ショット数に
対するＰＥＳの静的接触角を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a static contact angle of PES with respect to the number of shots of irradiation with KrF excimer laser light.
【図５】 レーザ光の照射ショット数とノズルの穴径と
の関係を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a relationship between the number of shots of laser light irradiation and the hole diameter of a nozzle.
【図６】 本発明が適用させるインクジェット記録装置
の一例を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram illustrating an example of an inkjet recording apparatus to which the present invention is applied.
１…流路板、２…ノズルプレート、２ａ…インク吐出
面、３…ノズル、４…隔壁、５…加圧室、６…共通イン
ク室、７…インク供給口、８…圧電体、９…仕切スリッ
ト、１０…歪部、１１…充填剤、１２…基板、１３…粗
面領域、１４…面だれ部、１５…親水層。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Flow path plate, 2 ... Nozzle plate, 2a ... Ink ejection surface, 3 ... Nozzle, 4 ... Partition wall, 5 ... Pressurization chamber, 6 ... Common ink chamber, 7 ... Ink supply port, 8 ... Piezoelectric body, 9 ... Partitioning slits, 10 ... Strained portion, 11 ... Filler, 12 ... Substrate, 13 ... Rough surface region, 14 ... Deflection portion, 15 ... Hydrophilic layer.
Claims (3)
連通する吐出面に接合され、該インク加圧室内において
加圧されたインクを吐出する複数の整列したノズルを有
するノズルプレートの製造方法において、前記ノズルプ
レートは、発振周波数が１９３ｎｍ以上のエキシマレー
ザ光に対する透過率が１０％以下である樹脂材料にて構
成され、ノズルの加工後に、インク吐出側のノズルを含
めたノズル近傍の領域に、隣り領域と接しないように、
前記エキシマレーザ光を照射して樹脂表面を粗面化し、
該表面に親水性のある層を形成することを特徴としたイ
ンクジェットヘッドのノズルプレート製造方法。1. A method for manufacturing a nozzle plate having a plurality of aligned nozzles, which are joined to an ejection surface communicating with an ink pressurizing chamber of an inkjet head, and have a plurality of aligned nozzles for ejecting pressurized ink in the ink pressurizing chamber, The nozzle plate is made of a resin material having a transmittance of 10% or less with respect to excimer laser light having an oscillation frequency of 193 nm or more, and after processing the nozzle, a region adjacent to the nozzle including the nozzle on the ink ejection side has a neighboring region. To avoid contact with
Irradiate the excimer laser light to roughen the resin surface,
A method for manufacturing a nozzle plate for an inkjet head, which comprises forming a hydrophilic layer on the surface.
ザ光の照射は、マスクイメージ法で、マスク寸法に対す
る縮小率を１／２.７〜１／１０、エネルギー密度を１
〜１５Ｊ／ｃｍ2、同一領域の照射ショット数を１〜１
０とすることを特徴とした請求項１に記載のインクジェ
ットヘッドのノズルプレート製造方法。2. Irradiation of excimer laser light for roughening the resin material is performed by a mask image method with a reduction ratio of 1 / 2.7 to 1/10 with respect to the mask size and an energy density of 1
~ 15 J / cm 2 , 1 to 1 irradiation shots in the same area
The method according to claim 1, wherein the nozzle plate is 0.
フタレート）、又はＰＥＳ（ポリエーテルサルフォン）
とし、前記エキシマレーザをＸｅＦ，ＸｅＣｌ、あるい
はＫｒＦとすることを特徴とした請求項１又は２に記載
のインクジェットヘッドのノズルプレート製造方法。3. The resin material is PEN (polyethylene naphthalate) or PES (polyether sulfone).
3. The method of manufacturing a nozzle plate for an inkjet head according to claim 1, wherein the excimer laser is XeF, XeCl, or KrF.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16015493A JPH06344562A (en) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | Production of nozzle plate of ink jet head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16015493A JPH06344562A (en) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | Production of nozzle plate of ink jet head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06344562A true JPH06344562A (en) | 1994-12-20 |
Family
ID=15709046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16015493A Pending JPH06344562A (en) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | Production of nozzle plate of ink jet head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06344562A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2747960A1 (en) * | 1996-04-24 | 1997-10-31 | Toxot Sciences & Applic | Nozzle mounting for ink jet printer |
| KR100433530B1 (en) * | 2001-12-10 | 2004-05-31 | 삼성전자주식회사 | Manufacturing method for monolithic ink-jet printhead |
| US7722159B2 (en) | 2005-03-04 | 2010-05-25 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Inkjet head and inkjet recording device |
-
1993
- 1993-06-04 JP JP16015493A patent/JPH06344562A/en active Pending
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