JPH0634433B2 - Metal-clad laminate for printed wiring - Google Patents

Metal-clad laminate for printed wiring

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JPH0634433B2
JPH0634433B2 JP62024700A JP2470087A JPH0634433B2 JP H0634433 B2 JPH0634433 B2 JP H0634433B2 JP 62024700 A JP62024700 A JP 62024700A JP 2470087 A JP2470087 A JP 2470087A JP H0634433 B2 JPH0634433 B2 JP H0634433B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、金属酸化物が均一に分散配合された芳香族系
重合体フィルムあるいはシートなどの薄板体と金属箔と
が積層されてなる印刷配線用金属張り積層板に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to printing in which a thin plate such as an aromatic polymer film or sheet in which a metal oxide is uniformly dispersed and blended and a metal foil are laminated. The present invention relates to a metal-clad laminate for wiring.

[従来の技術] 従来、電子部品における印刷配線用基板としてのフレキ
シブルプリント基板や半導体積層回路の実装用フィルム
キャリアテープの絶縁材あるいは電気機器における各種
電気モーター、変圧器、発電機などに用いられる電気絶
縁体には、ポリイミドフィルム、芳香族ポリアミドペー
パー、ポリエステルフィルム、エポキシ樹脂含浸ガラス
クロス等が用いられている。
[Prior Art] Conventionally used as an insulating material for a flexible printed circuit board as a printed wiring board in an electronic component, a film carrier tape for mounting a semiconductor laminated circuit, or various electric motors, transformers, and generators in electric equipment. Polyimide film, aromatic polyamide paper, polyester film, epoxy resin-impregnated glass cloth, etc. are used for the insulator.

特に、ポリミドフィルムは耐熱性や機械的強度に優れて
いることから、印刷配線用基板において金属箔張り積層
フィルムの絶縁フィルムとして広く用いられている。
In particular, since the polyimide film is excellent in heat resistance and mechanical strength, it is widely used as an insulating film for a metal foil-clad laminated film in a printed wiring board.

しかしながら、一般に有機系重合体は無機物に比して熱
膨張率が大きいという欠点があり、芳香族ポリイミド系
重合体においてもその例外ではないが、それ故に、例え
ば、フレキシブルプリント基板としては使用において、
ポリイミドフィルムに金属箔を接着する際、熱膨張率の
差に起因して発生するカールを防ぐためにポリイミドフ
ィルムと金属箔との間に他の材料からなる接着層を設け
ることを必要としている。而して、かかる接着層に用い
られる材料は一般的に耐熱性に劣ることから、ポリイミ
ドフィルの有する耐熱性を充分に活かすことができない
という問題点がある。
However, in general, organic polymers have a drawback that they have a large coefficient of thermal expansion as compared with inorganic substances, and aromatic polyimide polymers are no exception, therefore, for example, in use as a flexible printed circuit board,
When bonding a metal foil to a polyimide film, it is necessary to provide an adhesive layer made of another material between the polyimide film and the metal foil in order to prevent curling caused by the difference in thermal expansion coefficient. Since the material used for such an adhesive layer is generally inferior in heat resistance, there is a problem that the heat resistance of the polyimide fill cannot be fully utilized.

したがって、ポリイミド系重合体の熱膨張率の改善につ
いて多くの試みが行なわれ、種々の構造のポリイミドが
提案されている。例えば、特開昭60−250031号公報には
低膨張性を有するものとして から選ばれるジアミン成分を用いたポリイミドが開示さ
れ、これらの銅張り積層板などへの応用が特開昭60-221
426 号公報に開示されている。また、他の例としてポリ
イミドの構成成分である酸二無水物、あるいはジアミン
成分に特殊な構造の化合物を用いて寸法安定性を改善す
る試みもある。
Therefore, many attempts have been made to improve the coefficient of thermal expansion of polyimide polymers, and polyimides having various structures have been proposed. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-250031 discloses that it has a low expansion property. A polyimide using a diamine component selected from the above is disclosed, and its application to copper-clad laminates and the like is disclosed in JP-A-60-221.
It is disclosed in Japanese Patent No. 426. Another example is an attempt to improve dimensional stability by using an acid dianhydride, which is a constituent of polyimide, or a compound having a special structure as a diamine component.

しかしながら、上記の如く、特殊な構造の化合物の使用
は原料の入手難や毒性についての問題点を残している。
However, as described above, the use of a compound having a special structure leaves problems such as difficulty in obtaining raw materials and toxicity.

[発明の解決しようとする問題点] 本発明は、前記の如き問題点に鑑みなされたものであっ
て、加熱処理によって金属酸化物となりうる金属酸化物
ゾルまたは金属アルコキシドなどと入手の容易な原料よ
りなる芳香族系重合体のワニスとよりなる組成物を製膜
するとともに加熱処理することによって得られる金属酸
化物含有フィルムあるいはシートなどの薄板体が金属箔
に積層されてなる金属張り積層板が、従来公知の芳香族
系重合体フィルムあるいはシートを用いた積層板に比し
て著しく高い耐熱性、機械的強度、寸法安定性を示し、
接着層を介することなく金属箔との積層が可能であり、
したがって、従来の欠点であったカールの発生もないと
いう知見を得て本発明を完成するに至ったものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made in view of the above problems, and a metal oxide sol or a metal alkoxide that can be converted into a metal oxide by heat treatment and an easily available raw material. A metal-clad laminate obtained by laminating a thin plate such as a metal oxide-containing film or sheet obtained by subjecting a composition comprising a varnish of an aromatic polymer to a film and heat treatment to the metal foil is laminated. , Shows significantly higher heat resistance, mechanical strength, and dimensional stability than a laminate using a conventionally known aromatic polymer film or sheet,
It is possible to stack with metal foil without interposing an adhesive layer,
Therefore, the present invention has been completed with the knowledge that curling, which is a drawback of the prior art, does not occur.

本発明の目的は、金属箔との積層において接着層を必要
とすることのない、耐熱性、機械的強度、寸法安定性ぬ
優れた印刷配線用金属張り積層板を新規に提供すること
にある。
An object of the present invention is to provide a novel metal-clad laminate for printed wiring, which does not require an adhesive layer when laminated with a metal foil and has excellent heat resistance, mechanical strength and dimensional stability. .

[問題点を解決するための手段] 即ち、本発明は、加熱処理によって金属酸化酸化物とな
りうる金属酸化物ゾルまたは金属アルコキシドあるいは
その部分縮合物と芳香族系重合体のワニスとからなる組
成物を製膜するとともに加熱処理して得られる金属酸化
物含有薄板体が金属箔に積層されてなる印刷配線用金属
張り積層罰を提供するものである。
[Means for Solving Problems] That is, the present invention relates to a composition comprising a metal oxide sol or a metal alkoxide or a partial condensate thereof capable of becoming a metal oxide by heat treatment and a varnish of an aromatic polymer. The present invention provides a metal-clad laminate for printed wiring, in which a metal oxide-containing thin plate obtained by film-forming and heat treatment is laminated on a metal foil.

本発明において、芳香族系重合体のワニスとして好適な
のは芳香族ポリイミド系重合体、およびその前駆体であ
る芳香族ポイアミック酸系重合体あるいは芳香族ポリス
ルホン系重合体のワニスである。
In the present invention, the aromatic varnish of the aromatic polymer is preferably a varnish of the aromatic polyimide polymer and its precursor, the aromatic poiamic acid polymer or the aromatic polysulfone polymer.

上記の芳香族ポリイミド系重合体は具体的には下記一般
式[I] (但し、Ar1より選ばれ; Ar2 より選ばれ;Rは炭素数1〜3のアルキル基、アルコキ
シ基、ハロゲンを示し;Xは単結合、-O-,-S-,-SO
2-, 炭素数1〜6のアルコキレン基、パーフルオロアルコキ
レン基のいずれかを示し;nは0〜2の整数を示す。) で表わされる繰返し単位を有する重合体であって、通常
の酸二無水物とジアミン成分とより製造される。ワニス
としての調製は重合体を溶解しうる有機溶媒、例えば、
N,N-ジメチルアセトアミドによって調製される。
The aromatic polyimide-based polymer is specifically represented by the following general formula [I] (However, Ar 1 is Chosen from; Ar 2 is R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group, or halogen; X is a single bond, -O-, -S-, -SO
2- , It represents either an alcoalkylene group having 1 to 6 carbon atoms or a perfluoroalcoalkylene group; n represents an integer of 0 to 2. ) Is a polymer having a repeating unit represented by the formula: and is produced from a usual acid dianhydride and a diamine component. Preparation as a varnish is an organic solvent capable of dissolving the polymer, for example,
Prepared with N, N-dimethylacetamide.

一方、芳香族ポリスルホン系重合体は基本骨格として下
記一般式[II] (但し、式中Arは より選ばれ;R1〜R7は水素、炭素数1〜8炭化水素基を
示し、互いに同一または異なっていてもよい;a〜eは
0〜4、f,g は0〜3の整数で同一または異なっていて
もよい;X1,X2は単結合、-O-,-S-より選ばれ;Yは単
結合、-O-,-S-,-SO2-, より選ばれ;Rは水素、炭素数1〜6の炭化水素基を示
す。) で表わされる単位構造を有し、その基本骨格単位の同一
繰返しからなる単一重合体あるいは二種以上の基本単位
からなる共重合体である。かかる芳香族ポリスルホン系
重合体としては、例えばポリスルホン、ポリエーテルス
ルホン、ポリチオエーテルスルホンおよびそれらの共重
合体である。その製造方法は本発明者らによる特開昭61
-72020号公報に開示されている。ワニスとしての調製に
おける有機溶媒としてはこれら重合体を溶解しうるもの
であれば特に限定されないが、好適なものとしてN-メチ
ル-2- ピロリドンなどを例示しうる。(尚以下、芳香
族ポリイミド系重合体およびポリアミック酸系重合体あ
るいは芳香族ポリスルホン系重合体を総称して重合体と
称する。) 本発明における加熱処理によって金属酸化物となりうる
金属酸化ゾルまたは金属アルコキシドは重合体の分解温
度以下の加熱処理温度下に金属酸化物となるものである
ことが必要である。
On the other hand, an aromatic polysulfone-based polymer has the following general formula [II] as a basic skeleton. (However, Ar in the formula is R 1 to R 7 represent hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and may be the same or different; a to e are 0 to 4, f and g are integers of 0 to 3; They may be the same or different; X 1 and X 2 are single bonds, selected from -O-, -S-; Y is a single bond, -O-, -S-, -SO 2- , R is hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ) Is a homopolymer having the unit structure represented by the formula (1) and having the same repeating basic skeleton unit, or a copolymer having two or more types of basic units. Examples of the aromatic polysulfone-based polymer include polysulfone, polyether sulfone, polythioether sulfone and copolymers thereof. The manufacturing method thereof is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-61.
-72020. The organic solvent in the preparation as a varnish is not particularly limited as long as it can dissolve these polymers, but N-methyl-2-pyrrolidone and the like can be illustrated as a preferable example. (Hereinafter, the aromatic polyimide-based polymer and the polyamic acid-based polymer or the aromatic polysulfone-based polymer are collectively referred to as a polymer.) Metal oxide sol or metal alkoxide capable of forming a metal oxide by the heat treatment in the present invention Is required to be a metal oxide at a heat treatment temperature below the decomposition temperature of the polymer.

金属アルコキシドとしてはSi,Al,Sn,Ti,Zrから選ば
れる少なくとも1種であるのが好適である。具体的には
シリコンテトラエキシドの如きSiのアルコキシド、アル
ミニウムトリイソプロポキシドの如きAlのアルコキシ
ド、チンテトラブトキシドの如きSnのアルコキシド、チ
タンテトライソプロポキシドの如きTiのアルコキシド、
ジルコニウムテトラブトキシドの如きZrのアルコキシド
等を例示し得る。これらは予備縮合させた部分縮合物も
用いられる。また、金属アルコキシドまたは部分縮合物
を単独、あるいはそれらを併用することができる。
The metal alkoxide is preferably at least one selected from Si, Al, Sn, Ti and Zr. Specifically, Si alkoxides such as silicon tetraoxide, Al alkoxides such as aluminum triisopropoxide, Sn alkoxides such as tin tetrabutoxide, Ti alkoxides such as titanium tetraisopropoxide,
Examples thereof include Zr alkoxides such as zirconium tetrabutoxide. Precondensed partial condensates are also used. Further, metal alkoxides or partial condensates can be used alone or in combination.

(以下、特に部分縮合物と明記のない場合、金属アルコ
キシドには部分縮合物を含む。) 次に、本発明における金属酸化物ゾルとしては水性ある
いは有機性ゾルが用いられ、例えばシリカゾル、アルミ
ナゾル、酸化アンチモンゾル、酸化鉄ゾル、ジルコニア
ゾル、チタニアゾル、酸化錫ゾルが挙げられる。水性金
属酸化物ゾルは、コロイドの大きさの金属酸化物粒子に
水が分散したものであり、有機性ゾルは金属酸化物表面
の疎水化処理により有機化されて、分散媒はアルコール
系、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、n-プ
ヨピルアルコール、イソプロピルアルコールなどよりな
るものが市販されている。本発明において、有機性ゾル
は必要に応じて金属酸化物の表面をさらに疎水化処理し
て分散媒を他の疎水性有機溶媒に転相したり、混合溶媒
としたものを用いることもできる。
(Hereinafter, unless otherwise specified as a partial condensate, the metal alkoxide includes a partial condensate.) Next, an aqueous or organic sol is used as the metal oxide sol in the present invention, for example, silica sol, alumina sol, Examples thereof include antimony oxide sol, iron oxide sol, zirconia sol, titania sol, and tin oxide sol. The aqueous metal oxide sol is a dispersion of water in metal oxide particles of colloidal size, the organic sol is organized by the hydrophobic treatment of the metal oxide surface, the dispersion medium is alcohol-based, for example Those made of methyl alcohol, ethyl alcohol, n-puyopyr alcohol, isopropyl alcohol, etc. are commercially available. In the present invention, an organic sol may be used in which the surface of the metal oxide is further subjected to a hydrophobic treatment to change the phase of the dispersion medium to another hydrophobic organic solvent, or a mixed solvent may be used.

金属アルコキシドと金属酸化物ゾルは併用してもよい。The metal alkoxide and the metal oxide sol may be used in combination.

本発明において、金属箔に積層される金属酸化含有薄板
体はフィルムあるいはシートなどであって、厚さの薄い
板状体を含む。
In the present invention, the metal oxide-containing thin plate to be laminated on the metal foil is a film or a sheet, and includes a thin plate.

薄板体中に含まれる金属酸化物の量は重合体 100重量部
に対して 1〜200 重合部の割合であるのが望ましく、
金属酸化物の量が多くなるにしたがい耐熱性、寸法安定
性は向上するが、多過ぎる場合は脆くなる傾向が、また
少な過ぎる場合は効果は発現され難く、したがって好ま
しくは10〜100 重量部である。
The amount of the metal oxide contained in the thin plate is preferably 1 to 200 polymer parts per 100 parts by weight of the polymer,
Heat resistance and dimensional stability improve as the amount of metal oxide increases, but if it is too large, it tends to become brittle, and if it is too small, the effect is difficult to develop, and therefore, preferably 10 to 100 parts by weight. is there.

重合体に金属酸化物を配合して組成物を調製し、製膜し
てフィルムを得る方法として、金属酸化物を粉体の形態
で直接配合する方法が公知であるが、かかる方法におい
ては、通常二次粒子として存在している粉体を完全に一
次粒子化することが困難であって、この結果、粒子その
ものがフィルムの欠陥点となり、フィルムの強度を低下
させたり、脆くさせ、極端な場合には製膜によるフィル
ム化が困難となることもある。
As a method of preparing a composition by blending a metal oxide with a polymer and forming a film, a method of directly blending a metal oxide in a powder form is known, but in such a method, It is difficult to completely convert the powder, which usually exists as secondary particles, into primary particles, and as a result, the particles themselves become defect points of the film, which lowers the strength of the film or makes it brittle. In some cases, it may be difficult to form a film by film formation.

本発明においては、重合体のワニスに金属酸化物ゾルま
たは金属アルコキシドを配合してなる組成物を製膜する
とともに加熱処理によって金属酸化物含有フィルムやシ
ートなどの薄板体とされることに特徴があり、得られる
薄板体は金属張り積層体としての使用において、上記の
如き問題点は全くない。金属アルコキシドの配合された
組成物の場合、製膜とともに加熱処理されることによっ
て縮合が進行して金属酸化物となり、その結果均一に分
散された薄板体が得られる。ここで、金属アルコキシド
は水および酸、塩基などの如き触媒を添加して加水分解
させ縮合を進行させて部分縮合物としておいてもよい。
この場合、添加する水の量は金属アルコキシドに含まれ
るアルコラートの当量以上であれば充分であるが、アル
コラートの当量以下の量で加水分解による縮合の程度を
調製することもできる。
The present invention is characterized in that a thin film such as a metal oxide-containing film or sheet is formed by heat treatment while forming a film of a composition in which a metal oxide sol or a metal alkoxide is mixed with a polymer varnish. The obtained thin plate body does not have the above-mentioned problems at all when it is used as a metal-clad laminate. In the case of a composition containing a metal alkoxide, the heat treatment with film formation causes the condensation to proceed to form a metal oxide, and as a result, a uniformly dispersed thin plate can be obtained. Here, the metal alkoxide may be stored as a partial condensate by adding water and a catalyst such as an acid or a base to hydrolyze the alkoxide to proceed with condensation.
In this case, it is sufficient if the amount of water added is equal to or more than the equivalent of the alcoholate contained in the metal alkoxide, but the degree of condensation by hydrolysis can be adjusted with an amount equal to or less than the equivalent of the alcoholate.

金属酸化物ゾルについては、既に金属酸化物粒子が形成
されているため、基本的には重合体のワニスに配合され
てなる組成物を製膜する際の乾燥工程によって金属酸化
物が均一に分散された薄板体が得られる。
Regarding the metal oxide sol, since the metal oxide particles have already been formed, basically the metal oxide is uniformly dispersed by the drying step when forming the composition formed into the polymer varnish into a film. The obtained thin plate body is obtained.

本発明において用いられる金属酸化物ゾルまたは金属ア
ルコキシドは特に、他の処理を要することなく使用しう
るが、重合体のワニスへの配合による組成物の調製にお
いて、混合性、分散性を向上させる目的から適当な溶媒
体を添加してもよい。さらに混合性などを向上させるた
めにシランカップリング剤を添加してもよく、この場合
のシランカップリング剤は重合体と分散された物質の単
なる分散改良剤、分散安定剤としての作用のみならず、
適当な官能基を有するものを選択することによって重合
体の有する官能基と結合させることが可能となり、得ら
れる薄板体の物性を著しく向上させることができる。か
かるシランカップリング剤として使用し得るものは例え
ば、メチルトリメトキシシランの如きアルキル系シラン
カップリング剤、γ−クロロプロピルトリメトキシシラ
ンの如きハロゲン系シランカップリング剤、ビニルトリ
エトキシシランの如きビニル系シランカップリング剤、
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの如き
メタクリル系シランカップリング剤、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシランの如きエポキシ系シランカ
ップリンギ剤、γ−メルカプトプロピルトリエトクシシ
ランの異きメルカプトシランカップリング剤、γ−(ジ
エタノールアミン)プロピルトリエトキシシランの如き
ヒドロキシ系シランカップリング剤、γ−イソシアナー
トプロピルトリメトキシシランの如きイソシアネート系
シランカップリング剤、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランの如きアミン系シランカップリング剤あるいは
その塩タイプ等が挙げられ、これらは単独でも二種類以
上を併用してもよい。かかるシランカップリング剤は重
合体に金属または金属酸化物ゾルの配合時、あるいは製
膜時に単に添加混合するのみで良いが、重合体が官能基
を有し、シランカップリング剤と何らかの相互作用ある
いは結合形成が期待される場合は、あらかじめ重合体に
混合したり、加熱等の前処理を施すことも効果的であ
る。その他、チタネート系カップリング剤、アルミニウ
ム系カップリング剤を金属酸化物の必要とする特性に応
じて使用することもできる。また、金属アルコキシドや
組成物の安定化、反応を調製する目的でアセチルアセト
ンの如きキレート化剤、錯化剤を用いることも効果があ
る。
The metal oxide sol or metal alkoxide used in the present invention can be used particularly without any other treatment, but in the preparation of the composition by blending the polymer into the varnish, the purpose of improving the miscibility and dispersibility A suitable solvate may be added. Further, a silane coupling agent may be added in order to improve the mixing property, and the silane coupling agent in this case is not only a dispersion improver of the substance dispersed with the polymer but also an action as a dispersion stabilizer. ,
By selecting one having an appropriate functional group, it becomes possible to bind to the functional group of the polymer, and the physical properties of the obtained thin plate can be remarkably improved. Examples of such silane coupling agents that can be used include alkyl-based silane coupling agents such as methyltrimethoxysilane, halogen-based silane coupling agents such as γ-chloropropyltrimethoxysilane, and vinyl-based silane coupling agents such as vinyltriethoxysilane. Silane coupling agent,
Methacrylic silane coupling agents such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, epoxy silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, mercaptosilane coupling agents different from γ-mercaptopropyltriethoxysilane. , Hydroxy-type silane coupling agents such as γ- (diethanolamine) propyltriethoxysilane, isocyanate-type silane coupling agents such as γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, amine-type silane coupling agents such as γ-aminopropyltrimethoxysilane Examples thereof include agents or their salt types, and these may be used alone or in combination of two or more kinds. Such a silane coupling agent may be simply added and mixed at the time of compounding a metal or metal oxide sol with a polymer, or at the time of film formation, but the polymer has a functional group and some interaction with the silane coupling agent or When bond formation is expected, it is also effective to preliminarily mix with the polymer or perform pretreatment such as heating. In addition, titanate-based coupling agents and aluminum-based coupling agents can be used depending on the properties required of the metal oxide. It is also effective to use a chelating agent or a complexing agent such as acetylacetone for the purpose of stabilizing the metal alkoxide or the composition and preparing the reaction.

金属アルコキシドまたは金属酸化物ゾルと重合体のワニ
スとからなる組成物は製膜されるとともに加熱処理され
ることによって重縮合が進行し薄板体化され、金属酸化
物含有薄板体に成形されるが、この場合の加熱温度は50
℃〜500 ℃である。加熱温度が低温にすぎると溶媒除去
が不充分となり、上記の反応に体する加熱の寄与が少な
く、また高温にすぎると熱分解を生ずる。したがって、
好ましくは 100℃〜400 ℃である。かかる処理によって
得られる薄板体は延伸、硬化処理などの後処理を行なう
ことによって、さらに物性を向上させることができる。
また、液状の組成物にガラスクロス、カーボンファイバ
ー、アラミドクロス、ガラスペーパー、カーボンペーパ
ー、アラミドペーパーなどを含浸させたりあるいは繊維
質材料を分散させて、さらに耐熱性に優れた薄板体とす
ることもできる。尚、得られる薄板体の熱膨張率は含ま
れる金属酸化物の量を調整することによって積層する金
属箔と同程度に近づけることも可能である。
A composition comprising a metal alkoxide or a metal oxide sol and a polymer varnish is formed into a film and subjected to heat treatment to cause polycondensation to proceed to form a thin plate, which is then formed into a metal oxide-containing thin plate. , The heating temperature in this case is 50
It is between ℃ and 500 ℃. If the heating temperature is too low, the removal of the solvent will be insufficient, and the contribution of heating to the above reaction will be small, and if it is too high, thermal decomposition will occur. Therefore,
It is preferably 100 ° C to 400 ° C. The physical properties of the thin plate obtained by such treatment can be further improved by performing post-treatments such as stretching and curing treatment.
Further, it is also possible to impregnate a liquid composition with glass cloth, carbon fiber, aramid cloth, glass paper, carbon paper, aramid paper or the like, or to disperse a fibrous material to form a thin plate excellent in heat resistance. it can. The coefficient of thermal expansion of the obtained thin plate body can be made close to that of the metal foil to be laminated by adjusting the amount of metal oxide contained.

上記のようにして得られる金属化物含有薄板体を金属箔
に積層して金属張り積層板とするには、上記の製膜によ
る薄板体化の工程を利用する方法と得られた薄板体と金
属箔とを熱融着する2つの方法が採用される。即ち 金属酸化物ゾルまたは金属アルキシドと重合体のワニ
スとからなる組成物を金属箔上に直接処理して製膜する
とともに前記の加熱処理方法にしたがって金属箔上で薄
板体化することによって金属酸化物薄板体が積層された
金属張り積層板とする方法。
In order to form a metal-clad laminate by laminating the metallization-containing thin plate obtained as described above to a metal foil, a method utilizing the step of thinning the film by the above film formation and the obtained thin plate and metal Two methods of heat-sealing the foil are adopted. That is, a metal oxide sol or a composition comprising a metal alkoxide and a polymer varnish is directly processed on a metal foil to form a film, and a metal oxide is formed by thinning the metal foil according to the above heat treatment method. A method for forming a metal-clad laminate in which thin sheet bodies are laminated.

金属酸化物ゾルまたは金属アルコキシドと重合体のワ
ニスとからなる組成物を製膜するとともに前記の加熱処
理方法にしたがって薄板体化することによって得られた
金属酸化物含有薄板体と金属箔とを熱融着することによ
って金属張り積層板とする方法。
The composition comprising a metal oxide sol or metal alkoxide and a polymer varnish is formed into a film and the metal oxide-containing thin plate and the metal foil obtained by thinning the composition according to the heat treatment method are heated. A method of forming a metal-clad laminate by fusing.

上記、いずれの方法によっても良好な金属張り積層
板を得ることができる。ここで、金属酸化物含有フィル
ムとして熱可塑タイプであれば製膜の際の加熱温度に関
して前記の温度であるのが望ましいが、熱硬化タイプで
ある場合は、硬化が進行しすぎないように調整した状
態、いわゆるBステージ化によって薄板体化し、これに
よって得られた金属酸化物含有フィルムを金属箔との熱
融着により積層時に完全に硬化させることもできる。上
記の方法における熱融着による積層には加熱プレス、
ロールラミネーターなどの積層装置の使用が好適であ
る。また、熱融着の他に接着剤によって積層することも
できるが、金属酸化物含有薄板体の熱膨張率は金属箔と
同程度に小さいため接着剤を用いることなく単なる熱融
着によって金属箔と積層してカールやそりの発生などが
ない金属張り積層板とするのが好ましい。
A good metal-clad laminate can be obtained by any of the above methods. Here, if it is a thermoplastic type as the metal oxide-containing film, it is desirable that the temperature is the above-mentioned temperature with respect to the heating temperature at the time of film formation, but if it is a thermosetting type, it is adjusted so that curing does not proceed too much. It is also possible to make it into a thin plate by the above-mentioned state, so-called B-stage, and to completely cure the metal oxide-containing film obtained by laminating it with the metal foil at the time of lamination. A heating press for lamination by heat fusion in the above method,
The use of a laminating device such as a roll laminator is preferred. In addition to heat fusion, it can be laminated with an adhesive, but since the coefficient of thermal expansion of the metal oxide-containing thin plate body is as small as that of the metal foil, the metal foil can be simply heat fused without using an adhesive. It is preferable that the metal-clad laminate is laminated with the metal-clad laminate without curling or warping.

[作用] 本発明における金属酸化物含有フィルムやシートなどの
薄板体が金属箔に積層されてなる金属張り積層板が優れ
た耐熱製、寸法安定性などを有する作用機構については
必ずしも明確ではないが、金属酸化物が重合体のワニス
に金属酸化物ゾルまたは金属アルコキシドで配合される
ことにより、均一に混合分散されること、しかも製膜と
ともに加熱処理されて重縮合が進行することから、この
際、金属酸化物が重合体の有する官能基と何らかの相互
作用を生ずるか、あるいは化学結合が形成されることに
よるものと推測される。また、含有する金属酸化物を多
量とすることが可能であり、その量を調整して金属酸化
物含有薄板体の熱膨張率を金属箔のそれと同程度となし
うることから、金属箔との積層による金属張り積層板と
して、カールやそりの発生がない積層板となり得るもの
と考えられる。
[Action] The action mechanism of the metal-clad laminate obtained by laminating a thin plate such as a metal oxide-containing film or sheet of the present invention on a metal foil has excellent heat resistance and dimensional stability, but is not always clear. When the metal oxide is mixed with the polymer varnish in the metal oxide sol or the metal alkoxide, the metal oxide is uniformly mixed and dispersed, and further, the polycondensation proceeds by heat treatment with film formation. It is assumed that the metal oxide causes some interaction with the functional group of the polymer or a chemical bond is formed. Further, it is possible to make the contained metal oxide a large amount, and by adjusting the amount, the coefficient of thermal expansion of the metal oxide-containing thin plate can be made approximately the same as that of the metal foil. It is considered that the metal-clad laminate by lamination can be a laminate without curling or warping.

[実施例] 本発明を実施例によって、さらに具体的に説明するが、
かかる実施例のみによって本発明が限定されるものでな
いことは勿論である。
[Examples] The present invention will be described in more detail with reference to Examples.
Needless to say, the present invention is not limited to only the embodiments.

調製例1 シリコンテトラエトキシド溶液の調製 撹拌機および滴下ロートを装着した反応器内にN,N-ジメ
チルアセトアミド80gとシリコンテトラエトキシド(東
京化成社品)69.4gを仕込み、激しく撹拌しながら、ρ
−トルエンスルホン酸0.69gと水24.0gとの混合液を室
温にて30分を費やして滴下し、さらに一昼夜撹拌して透
明な均一なシリコンテトラエトキシドの溶液(SiO2換算
濃度11.5%)を調製した。
Preparation Example 1 Preparation of Silicon Tetraethoxide Solution In a reactor equipped with a stirrer and a dropping funnel, 80 g of N, N-dimethylacetamide and 69.4 g of silicon tetraethoxide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were charged and stirred vigorously. ρ
-Toluenesulfonic acid (0.69 g) and water (24.0 g) are added dropwise at room temperature over 30 minutes, and the mixture is stirred for a whole day and night to give a transparent and homogeneous solution of silicon tetraethoxide (SiO 2 concentration 11.5%). Prepared.

調製例2 チタンテトライソプロポキシド溶液の調製 撹拌機を装着した反応器内にN,N-ジメチルアセトアミド
56gとチタンテトラ−イソプロキシド(日本曹達社品)
71.4gを仕込み激しく撹拌しながらアセチルアセトン2
5.1gと水4.5gとを室温で加え、さらに一昼夜撹拌して
透明均一なチタンテトライソプロポキシドの溶液(TiO2
換算濃度12.8%)を調製した。
Preparation Example 2 Preparation of titanium tetraisopropoxide solution N, N-dimethylacetamide was placed in a reactor equipped with a stirrer.
56g and titanium tetra-isoproxide (product of Nippon Soda Co., Ltd.)
Charge 71.4g and stir vigorously to acetylacetone 2
5.1 g of water and 4.5 g of water were added at room temperature, and the mixture was stirred for a whole day and night, and a transparent and uniform solution of titanium tetraisopropoxide (TiO 2
A converted concentration of 12.8%) was prepared.

調製例3 シリカゾルの調製 撹拌機および滴下ロートを装着した反応器内にN-メチル
-2- ピロリドン100gを仕込み、激しく撹拌しながら、
シリカ30%メトノールゾル(“OSCAL−1132”触媒
化成工業社品)83g を室温で10分を費やして滴下し
後、加熱してゾル中のメタノール分を留去し透明均一な
シリカ20%N-メチル-2- ピロリドンゾルを調製した。
Preparation Example 3 Preparation of silica sol N-methyl was placed in a reactor equipped with a stirrer and a dropping funnel.
-2-Prepare 100 g of pyrrolidone and, with vigorous stirring,
83 g of 30% silica methonol sol (“OSCAL-1132”, manufactured by Catalysis & Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise at room temperature over 10 minutes, and then heated to distill off the methanol content of the sol to give a transparent, uniform 20% N-methyl silica. -2-Pyrrolidone sol was prepared.

調製例4 ポリアミック酸ワニスの調製 撹拌機、滴下ロート、還流冷却器を装着した反応器内に
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル20.02gとN,N-ジメ
チルアセトアミド213gとを仕込み、窒素ガスを通じて激
しく撹拌しながら10℃以下に保持してピロメリット酸二
無水物21.81gを2時間を費やして添加した。その後、反
応温度を室温としてピロメリット酸二無水物が完全に溶
解した溶液をさらに室温にて6時間撹拌してポリアミッ
ク酸のワニスを得た。このポリアミック酸のワニスの対
数粘度(ηinh)は1.86dl/g(0.5g/N,N-ジメチルアセト
アミド100mlの濃度、30℃にて測定、以下同じ)であっ
た。
Preparation Example 4 Preparation of polyamic acid varnish In a reactor equipped with a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser.
Charge 4,4'-diaminodiphenyl ether (20.02 g) and N, N-dimethylacetamide (213 g), and add pyromellitic dianhydride (21.81 g) over 2 hours while maintaining the temperature at 10 ° C or lower with vigorous stirring through nitrogen gas. did. Then, the reaction temperature was set to room temperature, and the solution in which pyromellitic dianhydride was completely dissolved was further stirred at room temperature for 6 hours to obtain a varnish of polyamic acid. The logarithmic viscosity (ηinh) of this varnish of polyamic acid was 1.86 dl / g (0.5 g / N, concentration of 100 ml of N-dimethylacetamide, measured at 30 ° C., the same applies hereinafter).

調製例5 芳香族ポイスルホン系重合体ワニスの調製 4,4-ジクロルジフェニルスルホン、ビスフェノールA、
および炭酸カリウムを反応させて得られるプレカーサー
に4,4′−ジクロルフェニルスルホンと硫酸ナトリムを
加えて反応させて下記式で表わされる芳香族ポリチオエ
ーテルスルホン系重合体を得た。(詳細は、前記特開昭
61-72020号公報参照。) 対数粘度(η-inh)は0.65(0.5g/フェノール:1,1,2,
2-テトラクロルエチレン=3:2重量比、100mlの濃
度、30℃にて測定) この重合体 20gとヘキサメトキシメチルメラミン0.5gを
N-メチル-2- ピロリドン80gに溶解し、不溶物を濾過に
よって除去してワニスを調製した。
Preparation Example 5 Preparation of aromatic poisulfone polymer varnish 4,4-dichlorodiphenylsulfone, bisphenol A,
Further, 4,4'-dichlorophenyl sulfone and sodium sulfate were added to a precursor obtained by reacting potassium carbonate with each other and reacted to obtain an aromatic polythioether sulfone polymer represented by the following formula. (For details, see
See JP 61-72020. ) Logarithmic viscosity (η-inh) is 0.65 (0.5g / phenol: 1,1,2,
2-tetrachloroethylene = 3: 2 weight ratio, concentration of 100 ml, measured at 30 ° C.) 20 g of this polymer and 0.5 g of hexamethoxymethylmelamine
It was dissolved in 80 g of N-methyl-2-pyrrolidone and the insoluble material was removed by filtration to prepare a varnish.

実施例1 撹拌器、滴下ロート、還流冷却器とを装着した反応器内
に、調製例4ちて得られたポリアミック酸のワニス100g
を仕込み、激しく撹拌しながら温度を室温に保持して、
調製例1にて調製したシリコンテトラエトキシド溶液 3
6gを約30分を要して滴下し、茶色の透明な粘稠液よりな
る組成物を得た。
Example 1 100 g of the polyamic acid varnish obtained in Preparation Example 4 was placed in a reactor equipped with a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser.
, While maintaining vigorous stirring at room temperature,
Silicon tetraethoxide solution prepared in Preparation Example 1 3
6 g was added dropwise over about 30 minutes to obtain a brown transparent viscous liquid composition.

次に、この得られた粘稠液な組成物を厚さ35μmの圧延
銅箔に塗布し、窒素ガス雰囲気中で 100gにて1時間乾
燥し、続いて銅箔を固定枠にて固定して 200℃にて2時
間、 350℃にて2時間それぞれ加熱を行なうことによっ
て、塗膜厚さが30μmに積層されてなるフレキシブル印
刷配線用金属張り積層板を得た。この積層板は固定枠よ
り取り外してもカールの発生はなく、またハンダ耐熱試
験として 350℃に30秒間保持しても、膨れ、カールなど
の発生は全く認められなかった。
Next, the obtained viscous liquid composition was applied to a rolled copper foil having a thickness of 35 μm and dried in a nitrogen gas atmosphere at 100 g for 1 hour, and then the copper foil was fixed with a fixing frame. By heating at 200 ° C. for 2 hours and at 350 ° C. for 2 hours, a metal-clad laminate for flexible printed wiring having a coating film thickness of 30 μm was obtained. No curling occurred even when this laminated plate was removed from the fixed frame, and no swelling or curling was observed even after holding at 350 ° C. for 30 seconds as a solder heat resistance test.

実施例2 実施例1と同様の反応器内に調製例4にて得られたポリ
アミック酸のワニス100gを仕込み、激しく撹拌しながら
室温にて、3-アミノプロピルトリエトキシシラン 0.16g
を加え、室温に保持して撹拌し、次いで、調製例1にて
調製されたシリコンテトラエトキシド溶液 22gおよび調
製例2にて調製されたチタンテトライソプロポキシド溶
液 11.5gを混合した溶液を約30分を要して滴下すること
によって茶色の透明な粘稠液よりなる組成物を得た。
Example 2 In a reactor similar to that of Example 1, 100 g of the polyamic acid varnish obtained in Preparation Example 4 was charged, and 0.16 g of 3-aminopropyltriethoxysilane was added at room temperature with vigorous stirring.
Was added and stirred at room temperature, and then a solution prepared by mixing 22 g of the silicon tetraethoxide solution prepared in Preparation Example 1 and 11.5 g of the titanium tetraisopropoxide solution prepared in Preparation Example 2 was added. It was added dropwise over 30 minutes to obtain a brown transparent viscous liquid composition.

次に、この粘稠液を実施例1と同様に銅箔上に塗布、乾
燥、加熱して、銅箔と積層されたフレキシブル印刷配線
用金属張り積層板を得た。
Next, this viscous liquid was applied onto a copper foil, dried and heated in the same manner as in Example 1 to obtain a metal-clad laminate for flexible printed wiring laminated with the copper foil.

この積層板は固定枠より取り外してもカールすることな
く、また、ハンダ耐熱試験の 350℃、30秒においても膨
れ、カールなどの発生は認められなかった。
This laminated plate did not curl even after it was removed from the fixed frame, and no swelling or curling was observed even at 350 ° C. for 30 seconds in the solder heat resistance test.

実施例3 実施例1と同様の反応器内に調製例5で得られた芳香族
ポリスルホン系重合体ワニス100gを仕込み、激しく撹拌
しながら、心音にて調製例1で調製したシリコンテトラ
エトキシ溶液116gを約1時間を要して滴下することによ
って、半透明な粘稠液よりなる組成物を得た。
Example 3 100 g of the aromatic polysulfone-based polymer varnish obtained in Preparation Example 5 was charged in the same reactor as in Example 1, and 116 g of the silicon tetraethoxy solution prepared in Preparation Example 1 was prepared with a heart sound while vigorously stirring. Was added dropwise over about 1 hour to obtain a composition composed of a translucent viscous liquid.

この粘稠液をガラス板上に流延し、 100℃にて1時間、
200℃にて2時間熱処理した後、ガラス板上に形成され
た塗膜を剥離して厚さ30μmのフィルムを得た。このフ
ィルムを厚さ35μmの圧延銅箔上に重ねて、 28℃、40k
g/cm2の条件で1時間プレスしてフレキシブル印刷配線
用金属張り積層板を得た。この積層板はカールすること
なく、またハンダ耐熱試験において、 350℃、30秒にて
も膨れ、カールなどの発生は全く認められなかった。
This viscous liquid is cast on a glass plate and kept at 100 ° C for 1 hour.
After heat treatment at 200 ° C. for 2 hours, the coating film formed on the glass plate was peeled off to obtain a film having a thickness of 30 μm. This film is laid on a rolled copper foil with a thickness of 35 μm, 28 ℃, 40k
It was pressed for 1 hour under the condition of g / cm 2 to obtain a metal-clad laminate for flexible printed wiring. This laminated plate did not curl, and no swelling or curling was observed even at 350 ° C. for 30 seconds in the solder heat resistance test.

実施例4 実施例1と同様の反応器内に、市販の芳香族ポリスルホ
ン(“Udelp-1700”:ユニオンカーバイド社製品)のN-
メチル-2-ピロリドン20%溶液100gを仕込み、激しく撹
拌しながら室温にて、調製例3で調製されたシリカゾー
ル10g を約10,分間を要して滴下することによって無色
透明の粘稠液よりなる組成物を得た。
Example 4 N- of a commercially available aromatic polysulfone (“Udelp-1700”: manufactured by Union Carbide Co.) was placed in the same reactor as in Example 1.
100 g of 20% methyl-2-pyrrolidone solution was charged, and 10 g of silicasol prepared in Preparation Example 3 was dripped at room temperature with vigorous stirring for about 10 minutes to give a colorless transparent viscous liquid. A composition was obtained.

次に、この粘稠液に、100g/m2のガラスクロスを浸漬し
た後、引上げて、 180℃にて15分間乾燥させて樹脂含量
70%のプリブレグを製作し、続いて、このプリプレグ8
枚に厚さ35μmの圧延銅箔を上下に挟み、 280℃にて40
kg/cm2の条件にて30分間プレスしてリジッド印刷配線用
金属張り積層板を得た。この積層板は、ハンダ耐熱試験
において 350℃、30秒にても膨れ、カールなどの発生は
全く認められなかった。
Next, 100 g / m 2 of glass cloth was immersed in this viscous liquid, then pulled up and dried at 180 ° C for 15 minutes to obtain a resin content of
Produced 70% prepreg, followed by this prepreg 8
A rolled copper foil with a thickness of 35 μm is sandwiched between the top and bottom, and it is 40
It was pressed for 30 minutes under the condition of kg / cm 2 to obtain a metal-clad laminate for rigid printed wiring. In the solder heat resistance test, this laminated plate did not show any swelling or curling even at 350 ° C. for 30 seconds.

比較例1 調製例4において得られたポリアミック酸のワニスのみ
を実施例1と同様の方法で銅箔上に塗布、乾燥してフレ
キシブル印刷配線用金属張り積層板を作製した。しか
し、この積層板は加熱処理後固定枠から取り外したこと
ろ、カールしてしまった。この積層板を逆方向に巻き直
してカールを取り除き、平板とした後にハンダ耐熱試験
を行なったところ 350℃、30秒で再びカールしてしまっ
た。
Comparative Example 1 Only the polyamic acid varnish obtained in Preparation Example 4 was applied onto a copper foil in the same manner as in Example 1 and dried to prepare a metal-clad laminate for flexible printed wiring. However, this laminated plate curled after being removed from the fixed frame after the heat treatment. When this laminated plate was rewound in the opposite direction to remove the curl and made into a flat plate and subjected to a solder heat resistance test, it curled again at 350 ° C. for 30 seconds.

比較例2 実施例4にて用いた市販の芳香族ポリスルホンのワニス
に100g/m2のガラスクロスを浸漬し、実施例4と同様の
方法によってリジッド印刷配線用金属張り積層板を得
た。この積層板は、ハンダ耐熱試験において 350℃、30
秒で膨れを生じてしまった。
Comparative Example 2 100 g / m 2 of glass cloth was immersed in the commercially available aromatic polysulfone varnish used in Example 4, and a metal-clad laminate for rigid printed wiring was obtained by the same method as in Example 4. This laminate was tested at
I swelled in seconds.

[発明の効果] 本発明の印刷用配線用金属張り積層板は、金属箔上に、
金属酸化物を多量に含有する重合体のフィルム、あるい
はシートなどの薄板体が直接積層されてなることに特徴
がある。したがって、金属箔と薄板体とは接着剤層を介
して積層されることがないために、従来の積層板に比し
て、耐熱性、寸法安定性が極めて良好であるという効果
が認められる。
[Effects of the Invention] The metal-clad laminate for wiring for printing of the present invention comprises a metal foil,
It is characterized in that thin films such as polymer films or sheets containing a large amount of metal oxides are directly laminated. Therefore, since the metal foil and the thin plate are not laminated via the adhesive layer, it is recognized that the heat resistance and the dimensional stability are extremely good as compared with the conventional laminated plate.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】加熱処理によって金属酸化物となりうる金
属酸化物ゾルまたは金属アルコキシドあるいはその部分
縮合物と芳香族系重合体のワニスとからなる組成物を製
膜するとともに加熱処理して得られる金属酸化物含有薄
板体が金属箔に積層さてなる印刷配線用金属張り積層
板。
1. A metal obtained by heat-treating a composition comprising a metal oxide sol or metal alkoxide or a partial condensate thereof and a varnish of an aromatic polymer capable of forming a metal oxide by heat treatment and heat-treating. A metal-clad laminate for printed wiring, comprising an oxide-containing thin plate laminated on a metal foil.
【請求項2】芳香族系重合体のワニスが芳香族ポリイミ
ド系重合体のワニスあるいはその前駆体である芳香族ポ
リアミック酸系重合体のワニスである特許請求の範囲第
1項記載の金属張り積層板。
2. The metal-clad laminate according to claim 1, wherein the varnish of the aromatic polymer is a varnish of the aromatic polyimide polymer or a varnish of the aromatic polyamic acid polymer which is a precursor thereof. Board.
【請求項3】芳香族系重合体のワニスが芳香族ポリスル
ホン系重合体のワニスである特許請求の範囲第1項記載
の金属張り積層板。
3. The metal-clad laminate according to claim 1, wherein the aromatic polymer varnish is an aromatic polysulfone polymer varnish.
【請求項4】金属張り積層板が金属酸化物ゾルまたは金
属アルコキシドあるいはその部分縮合物と芳香族系重合
体のワニスとからなる組成物を金属箔上に製膜するとと
もに加熱処理し積層されてなる特許請求の範囲第1項記
載の金属張り積層板。
4. A metal-clad laminate is formed by forming a composition comprising a metal oxide sol, a metal alkoxide or a partial condensate thereof and a varnish of an aromatic polymer on a metal foil and heat-treating the composition to form a laminate. A metal-clad laminate according to claim 1.
【請求項5】金属張り積層板が金属酸化物含有薄板体を
金属箔に熱融着されてなる特許請求の範囲第1項記載の
金属張り積層板。
5. The metal-clad laminate according to claim 1, wherein the metal-clad laminate is obtained by heat-sealing a metal oxide-containing thin plate member to a metal foil.
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