JPH06338199A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH06338199A
JPH06338199A JP5146684A JP14668493A JPH06338199A JP H06338199 A JPH06338199 A JP H06338199A JP 5146684 A JP5146684 A JP 5146684A JP 14668493 A JP14668493 A JP 14668493A JP H06338199 A JPH06338199 A JP H06338199A
Authority
JP
Japan
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signal
word line
lines
line
bit line
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5146684A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Nakai
潔 中井
Yukie Suzuki
幸英 鈴木
Hiroyuki Yoshida
博幸 吉田
Takashi Inui
隆至 乾
Shigeki Numaga
茂樹 沼賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Texas Instruments Japan Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Texas Instruments Japan Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Texas Instruments Japan Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP5146684A priority Critical patent/JPH06338199A/en
Priority to US08/250,130 priority patent/US5615156A/en
Publication of JPH06338199A publication Critical patent/JPH06338199A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/80Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout

Abstract

PURPOSE:To lower the probability of the occurrence of defects when a defective word or bit line is switched to a standby word or bit line so as to improve the operating margin of a semiconductor storage device by providing standby bit or word lines at nearly the central part of the memory mat of the storage device. CONSTITUTION:Word lines WL0-WLn are arranged in parallel in the longitudinal direction. Paired complementary bit lines, the one ends of which are connected to paired input-output nodes of sense amplifiers SA, are arranged in parallel in the transversal direction. The complementary bit lines BL1T and BL1B having odd numbers having twist sections in which the arrangement of the lines are changed to each other at their central parts. In addition, two standby word lines RWL0 and RWL1 are provided at the left-side central parts of the twist sections and two standby word lines RWL2 and RWL3 are provided on the right-side central parts. As a result, the occurrence of defects at the central part of a memory mat is relatively reduced against the occurrence of defects at edge sections. Therefore, the defect remedying probability when a normal word line is switched to a standby work line without tests due to a defect can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、特に相補ビット線にツイスト部が設けられたものの
欠陥救済回路に利用して有効な技術に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a technique effective for use in a defect relief circuit having a twisted portion on a complementary bit line.

【0002】[0002]

【従来の技術】予備のワード線又はビット線(データ線
又はディジット線と呼ばれる場合もある)を設けて、不
良ビット線又は不良データ線の救済を行うようにしたダ
イナミック型RAM(ランダム・アクセス・メモリ)が
ある。このようなダイナミック型RAMの欠陥救済技術
に関しては、例えば特開平3−214699号公報があ
る。
2. Description of the Related Art A dynamic RAM (random access memory) which is provided with a spare word line or a bit line (sometimes called a data line or a digit line) to repair a defective bit line or a defective data line. There is memory). Regarding the defect repair technique for such a dynamic RAM, there is, for example, JP-A-3-214699.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来のダイナミック型
RAMにあっては、例えば不良のワード線を予備ワード
線に切り替えても不良が救済されないという問題があ
る。そこで、予備のワード線のテストを行い、不良があ
るか否かを識別して欠陥救済を行うことが考えられる。
しかしながら、予備のワード線に不良があるか否かを識
別するためには、通常動作とは異なるテストモードに設
定してから予備のワード線又はビット線に接続されたメ
モリセルをアクセスしての試験を行うものとなるため、
その手順やテストパターンの発生が通常のテストパター
ンとは異なるものになってしまう。このため、量産のダ
イナミック型RAMにおいては、テスト時間の短縮化の
ために予備のワード線や予備のビット線について逐一テ
スト動作を行うことが難しいのが現状である。
The conventional dynamic RAM has a problem that the defect cannot be relieved even if the defective word line is switched to the spare word line. Therefore, it is conceivable to test the spare word line, identify whether there is a defect, and perform defect relief.
However, in order to identify whether or not there is a defect in the spare word line, a test mode different from the normal operation is set and then the memory cell connected to the spare word line or bit line is accessed. Because it will be a test,
The procedure and the generation of the test pattern will be different from the normal test pattern. Therefore, in the mass-produced dynamic RAM, it is currently difficult to perform a test operation for each spare word line and each spare bit line in order to shorten the test time.

【0004】従来のダイナミック型RAMにあっては、
予備のワード線又はビット線がメモリマットの端に配置
されている。本願発明者にあっては、メモリマットの端
における不良発生率が、メモリマットの中央部に比べて
相対的に高いことに着目して、実際的な欠陥救済確率を
高くすることを考えた。また、本願発明者においては、
メモリマットの端に予備のワード線を設けると、隣接ビ
ット線との容量結合の影響を軽減するために中央部にビ
ット線ツイスト部を設けたものでは、交差するワード線
との数にアンバランスが生じ、結果としてビット線容量
にアンバランスが生じてしまうという問題も生じること
を見い出した。
In the conventional dynamic RAM,
Spare word lines or bit lines are located at the edges of the memory mat. The inventor of the present application has considered increasing the practical defect repair probability by paying attention to the fact that the defect occurrence rate at the end of the memory mat is relatively higher than that at the central portion of the memory mat. In addition, in the present inventor,
If a spare word line is provided at the end of the memory mat, a bit line twist section is provided in the center to reduce the effect of capacitive coupling with adjacent bit lines. It has been found that there is a problem that the bit line capacitance is unbalanced as a result.

【0005】この発明の目的は、欠陥救済の確率を高く
できる半導体記憶装置を提供することにある。この発明
の他の目的は、動作マージンの改善を図った半導体記憶
装置を提供することにある。この発明の前記ならびにそ
のほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添
付図面から明らかになるであろう。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which can increase the probability of defect relief. Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having an improved operation margin. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、予備のビット線又はワード
線をメモリマットのほぼ中央部に配置する。
The outline of a typical one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the spare bit line or word line is arranged in the approximate center of the memory mat.

【0007】[0007]

【作用】上記した手段によれば、予備のワード線又はビ
ット線の不良発生確率が小さいから、不良のワード線又
はビット線を予備のワード線又はビット線に切り替えた
ときの不良発生確率を低くすることができる。
According to the above-mentioned means, since the probability of failure occurrence in the spare word line or bit line is low, the failure probability in switching the defective word line or bit line to the spare word line or bit line is low. can do.

【0008】[0008]

【実施例】図1には、この発明に係るダイナミック型R
AMのメモリマット部の一実施例の概略パターン図が示
されている。同図の各回路と配線は、公知の半導体集積
回路の製造技術より、単結晶シリコンのような1個の半
導体基板上において形成される。同図の各回路と配線
は、半導体基板上における実際の幾何学的な配置にほぼ
合わせて描かれている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a dynamic type R according to the present invention.
A schematic pattern diagram of one embodiment of the memory mat portion of the AM is shown. The respective circuits and wirings in the figure are formed on one semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique. The respective circuits and wirings in the figure are drawn almost in conformity with the actual geometrical arrangement on the semiconductor substrate.

【0009】同図において、ワード線WL0〜WLnは
縦方向に延長されるように並んで配置される。センスア
ンプSAの一対の入出力ノードに一端が接続されてなる
一対からなる相補ビット線は、横方向に延長されるよう
に並んで配置される。特に制限されないが、この実施例
では、隣接ビット線間の容量結合の影響を差動のセンス
アンプSAにより相殺させるようにするために、奇数番
号が付された相補ビット線BL1T,BL1Bは、その
中央部において配置が相互に入れ換えられるツイスト部
が設けられる。
In the figure, the word lines WL0 to WLn are arranged side by side so as to extend in the vertical direction. A pair of complementary bit lines whose one ends are connected to a pair of input / output nodes of the sense amplifier SA are arranged side by side so as to extend in the horizontal direction. Although not particularly limited, in this embodiment, in order to cancel the influence of capacitive coupling between adjacent bit lines by the differential sense amplifier SA, the odd-numbered complementary bit lines BL1T and BL1B are A twist portion is provided in the central portion, the arrangements of which are interchanged with each other.

【0010】この実施例では、単純な構成により欠陥救
済率を高くするために上記ツイスト部を挟んで左側の中
央部に2本の予備ワード線RWL0,RWL1が設けら
れ、上記ツイスト部を挟んで右側の中央部に2本の予備
ワード線RWL2,RWL3が設けられる。
In this embodiment, two spare word lines RWL0 and RWL1 are provided in the central portion on the left side of the twisted portion in order to increase the defect repair rate with a simple structure, and the twisted portion is sandwiched therebetween. Two spare word lines RWL2 and RWL3 are provided in the central portion on the right side.

【0011】この構成では、相補ビット線側から見る
と、交差するワード線の数が予備のワード線を含んで同
じ数にできる。これにより、ビット線においてツイスト
部に対して左右に接続されるメモリセルの数を同数にで
きるので、容量のバランスを採ることができ動作マージ
ンの拡大を図ることも可能となる。
In this structure, the number of intersecting word lines can be made the same including the spare word lines when viewed from the complementary bit line side. As a result, the number of memory cells connected to the left and right of the twisted portion in the bit line can be made equal, so that it is possible to balance the capacitance and expand the operation margin.

【0012】すなわち、ワード線は、一般に単位のデコ
ーダによって4本のワード線を選択し、その中から1つ
を選ぶようするので、上記のようなツイスト部を設けた
場合には、予備のワード線が設けられる側がワード線4
本分のピッチだけ長くなるし、接続されるメモリセルの
数が増加して上記のようなアンバランスが生じてしま
う。これに対して、本願では、上記のようにツイスト部
を挟んで2本ずつ合計4本の予備のワード線を並べて配
置できるので、それらに共通の予備のデコーダを設ける
ことができる。
That is, as a word line, generally, four word lines are selected by a unit decoder, and one of them is selected. Therefore, when the above-mentioned twist portion is provided, a spare word is prepared. The side where the line is provided is the word line 4
The pitch becomes longer, and the number of connected memory cells increases, resulting in the above imbalance. On the other hand, in the present application, as described above, a total of four spare word lines can be arranged side by side with two twisted parts sandwiched therebetween, so that a common spare decoder can be provided for them.

【0013】この実施例では、予備のビット線もRBL
0T,RBL0BとRBL1T,RBL1Bのように2
対がメモリマットの中央部に設けられる。これらの相補
ビット線RBL0T,RBL0BとRBL1T,RBL
1Bとには、センスアンプSAが設けられる。上記予備
のビット線RBL0T,RBL0BとRBL1T,RB
L1Bに対応して設けられるセンスアンプは、他のセン
スアンプと同様に制御される。それ故、予備のワード線
と異なり、予備のビット線RBL0T,RBL0BとR
BL1T,RBL1Bにおいては、センスアンプSAが
欠陥救済のある無しに無関係に動作状態にされる。これ
らのビット線の一方はRBL1T,RBL1Bは中央部
にツイスト部が設けられる。これにより、全体としての
ビット線のツイスト部が無いものと在るものとの規則性
を維持することができる。
In this embodiment, the spare bit line is also RBL.
2 like 0T, RBL0B and RBL1T, RBL1B
A pair is provided at the center of the memory mat. These complementary bit lines RBL0T, RBL0B and RBL1T, RBL
A sense amplifier SA is provided in 1B. The spare bit lines RBL0T, RBL0B and RBL1T, RB
The sense amplifier provided corresponding to L1B is controlled like other sense amplifiers. Therefore, unlike the spare word line, the spare bit lines RBL0T, RBL0B and RBL0B
In BL1T and RBL1B, the sense amplifier SA is operated regardless of whether or not there is defect relief. For one of these bit lines, RBL1T and RBL1B have a twisted portion at the center. As a result, it is possible to maintain the regularity between the one having no twist portion of the bit line and the one having the twist portion as a whole.

【0014】図1において、メモリセルMCは、ワード
線と相補ビット線のうちの一方との交点に○で示された
箇所に接続される。メモリセルMCは、公知のようにア
ドレス選択用MOSFETと情報記憶用キャパシタから
構成される。上記アドレス選択用MOSFETのゲート
はワード線に接続され、その一方のソース,ドレインが
ビット線に接続される。アドレス選択用MOSFETの
他方のソース,ドレインは、キャパシタの一方の電極に
接続される。
In FIG. 1, the memory cell MC is connected to a portion indicated by a circle at an intersection of a word line and one of complementary bit lines. The memory cell MC is composed of an address selection MOSFET and an information storage capacitor, as is well known. The gate of the address selecting MOSFET is connected to the word line, and one of the source and drain is connected to the bit line. The other source and drain of the address selection MOSFET are connected to one electrode of the capacitor.

【0015】上記の構成では、メモリマットの中央部分
での不良発生率は、メモリマットの端の部分での不良発
生率に対して相対的に低くされる。それ故、いずれか正
規のワード線に不良があって、予備のワード線の試験を
行うことなく、一律に予備のワード線に切り替えたとき
の欠陥救済確率を高くすることができる。この実施例で
は、上記のように予備のワード線に対する試験を省略し
ても、欠陥救済確率を高くできるので、量産される汎用
メモリであるダイナミック型RAM等に適用して有効と
なるものである。
In the above structure, the defect occurrence rate in the central portion of the memory mat is relatively lower than the defect occurrence rate in the end portion of the memory mat. Therefore, it is possible to increase the defect relief probability when the spare word line is uniformly switched without testing the spare word line due to a defect in one of the normal word lines. In this embodiment, even if the test on the spare word line is omitted as described above, the probability of defect repair can be increased, so that it is effective when applied to a dynamic RAM or the like which is a mass-produced general-purpose memory. .

【0016】上記ツイスト部を中心にしたロウ系のアド
レスにより、データスクランブル論理の単純化も図るこ
とができる。すなわち、相補ビット線の入れ換えによっ
て、読み出されたデータのレベルが逆転してしまうの
で、それを論理的に補正して試験のためのデータの書き
込み/読み出しを行う必要がある。このようなデータス
クランブル処理において、ツイスト部を挟んで分けられ
るメモリセルの物理レベルが逆転してセンスアンプに入
力されるので、上記ツイスト部に対応した1ビットのア
ドレスのハイレベル/ロウレベルにより反転/非反転の
処理を行うだけでよい。このことは、不良ワード線が予
備のワード線に切り替えられたときのテストモードにお
いて有効となる。
The row address centering on the twist section can simplify the data scramble logic. That is, the level of the read data is reversed due to the replacement of the complementary bit lines, so it is necessary to logically correct it and write / read the data for the test. In such a data scramble process, the physical levels of the memory cells divided by sandwiching the twist part are inverted and input to the sense amplifier, so that the inversion / high level of the 1-bit address corresponding to the twist part is inverted / reduced. Only non-reversal processing is required. This is effective in the test mode when the defective word line is switched to the spare word line.

【0017】図2には、予備ワード線の選択回路の一実
施例の回路図が示されている。信号XEBは、不良ワー
ド線へのアクセスを検出するとハイレベルになる信号で
ある。この信号XEBとRAS系のタイミング信号R2
とがナンドゲート回路G1に供給され、その出力信号が
インバータ回路N1を通して予備のワード線選択回路を
有効にする。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of the spare word line selection circuit. The signal XEB is a signal that goes high when an access to a defective word line is detected. This signal XEB and the RAS timing signal R2
Are supplied to the NAND gate circuit G1, and the output signal of the NAND gate circuit G1 enables the spare word line selection circuit through the inverter circuit N1.

【0018】信号MSiは、マット選択信号であり、信
号BX1B,BX1T及びBX0B,BX0Tは、下位
2ビットのアドレス信号に対応した信号であり、4本の
ワード線のうちの1本を選択するために用いられる。ナ
ンドゲート回路G2ないしG5は、上記インバータ回路
N1の出力信号とマット選択信号MSiにより有効にさ
れ、内部アドレス信号BX1B,BX1T及びBX0
B,BX0Tを解読して1つの予備ワード線の選択信号
XR0B〜XR3Bの中のいずれか1つをロウレベルに
する。これにより、不良のワード線に代えて、上記予備
のワード線選択信号XR0B〜XR3Bの中のいずれか
1つロウレベルにされたものに対応した予備のワード線
が選択状態にされる。
The signal MSi is a mat select signal, and the signals BX1B, BX1T and BX0B, BX0T are signals corresponding to the address signals of the lower 2 bits, and select one of the four word lines. Used for. The NAND gate circuits G2 to G5 are enabled by the output signal of the inverter circuit N1 and the mat selection signal MSi, and the internal address signals BX1B, BX1T and BX0.
By decoding B and BX0T, one of the selection signals XR0B to XR3B of one spare word line is set to the low level. As a result, instead of the defective word line, the spare word line corresponding to one of the spare word line selection signals XR0B to XR3B set to the low level is brought into the selected state.

【0019】図3には、ワード線選択動作を説明するた
めの一実施例のタイミング図が示されている。ロウアド
レスストローブ信号RASBのロウレベルによりロウ系
のアドレス信号の取り込みが行われる。すなわち、信号
RASBのロウレベルにより内部信号R1がハイレベル
にされて、アドレス信号Aiがロウアドレス(ROW)
として取り込まれる。
FIG. 3 is a timing diagram of an embodiment for explaining the word line selection operation. The row address signal is taken in by the low level of the row address strobe signal RASB. That is, the internal signal R1 is set to the high level by the low level of the signal RASB, and the address signal Ai is set to the row address (ROW).
Is taken in as.

【0020】上記取り込まれたロウアドレスROWに対
応して内部信号BXiのレベルが決定される。この内部
信号BXiを解読してマット選択信号MS0がハイレベ
ルされる。上記信号R1により不良アドレスとの比較が
行われて、不良アドレスへのアクセスでないときには信
号XEがハイレベルにされる。上記信号R1に遅れて内
部信号R2がハイレベルにされる。この信号R2と信号
XEにより4本分のワード線の中から1つのワード線に
対応したワード線選択タイミング信号X0Bがロウレベ
ルにされる。他のロウ系のアドレス信号を解読するプリ
デコーダ回路によって、4本分のワード線の選択信号が
形成されているので、上記信号XB0のロウレベルに同
期してワード線WL0がハイレベルの選択状態にされ
る。
The level of the internal signal BXi is determined corresponding to the fetched row address ROW. By decoding the internal signal BXi, the mat selection signal MS0 is set to the high level. The signal R1 is compared with the defective address, and when the defective address is not accessed, the signal XE is set to the high level. The internal signal R2 is set to the high level after the signal R1. The signal R2 and the signal XE bring the word line selection timing signal X0B corresponding to one word line out of four word lines to the low level. Since the selection signals for four word lines are formed by the predecoder circuit that decodes other row-related address signals, the word line WL0 is brought into the selected state of the high level in synchronization with the low level of the signal XB0. To be done.

【0021】次のメモリサイクルにおいて、不良ワード
線へのメモリアクセスであるときには、信号XEがロウ
レベルのままとされる。これにより、上記不良ワード線
の選択動作が禁止され、図2に示したような信号XEB
がハイレベルとなって、信号R2がハイレベルにされた
タイミングで予備のワード線に対応した選択信号XRB
0がロウレベルにされる。この信号XR0Bのロウレベ
ルに同期して、予備のワード線RWL0がハイレベルの
選択状態にされる。
In the next memory cycle, when the memory access is to the defective word line, the signal XE is kept at the low level. As a result, the selection operation of the defective word line is prohibited, and the signal XEB as shown in FIG.
Becomes high level, and at the timing when the signal R2 is made high level, the selection signal XRB corresponding to the spare word line is
0 is set to low level. In synchronism with the low level of the signal XR0B, the spare word line RWL0 is brought into the high level selected state.

【0022】図4と図5には、この発明に係るダイナミ
ック型RAMの要部一実施例のブロック図が示されてい
る。図4には、メモリアレイとその周辺選択回路が示さ
れ、図5にはアドレスバッファや入出力バッファのよう
な入出力インターフェイス部とタイミング制御回路が示
されている。
FIG. 4 and FIG. 5 are block diagrams showing an embodiment of a main part of the dynamic RAM according to the present invention. FIG. 4 shows a memory array and its peripheral selection circuit, and FIG. 5 shows an input / output interface unit such as an address buffer and an input / output buffer and a timing control circuit.

【0023】図4において、2つのメモリマットMAT
0とMAT0に挟まれてセンスアンプSA01が設けら
れる。すなわち、センスアンプSA01は、2つのメモ
リマットMAT0とMAT1に対して選択的に用いられ
るシェアードセンスアンプとされる。センスアンプSA
01の入出力部には、図示しないが選択スイッチが設け
られてメモリマットMAT0又はMAT1の相補ビット
線に接続される。
In FIG. 4, two memory mats MAT
A sense amplifier SA01 is provided between 0 and MAT0. That is, the sense amplifier SA01 is a shared sense amplifier that is selectively used for the two memory mats MAT0 and MAT1. Sense amplifier SA
The input / output unit 01 is provided with a selection switch (not shown) and is connected to the complementary bit line of the memory mat MAT0 or MAT1.

【0024】他のメモリマットMAT2,MAT3や、
MAT4,MAT5及びMAT6,MAT7もそれぞれ
一対とされて、それぞれにセンスアンプSA23,SA
45及びSA67が共通に設けられる。上記のような合
計8個のメモリマットと4個のセンスアンプにより、1
つのメモリアレイMARY0が構成される。このメモリ
アレイMARY0に対してYデコーダYDが設けられ
る。YデコーダYDを挟んで対称的にメモリアレイMA
RY1が設けられる。このメモリアレイMARY1は、
内部構成が省略されているが、上記メモリアレイMAR
Y0と同様な構成にされる。
Other memory mats MAT2 and MAT3,
MAT4, MAT5 and MAT6, MAT7 are also paired, and sense amplifiers SA23, SA are provided respectively.
45 and SA67 are commonly provided. With the total of 8 memory mats and 4 sense amplifiers as described above, 1
One memory array MARY0 is configured. A Y decoder YD is provided for this memory array MARY0. The memory array MA is symmetrically arranged with the Y decoder YD in between.
RY1 is provided. This memory array MARY1 is
Although the internal structure is omitted, the above memory array MAR
The configuration is similar to that of Y0.

【0025】各メモリマットMAT0〜MAT7におい
て、デコーダXD0〜XD7が設けられる。これらのデ
コーダXD0〜XD7は、プリデコーダ回路XPDの出
力信号アドレス信号AXiを解読して4本分のワード線
選択信号を形成する。このデコーダXD0〜XD7と次
に説明するマット制御回路MATCTRL01〜MAT
CTRL67の出力信号とによってワード線の選択信号
を形成するワードドライバWD0〜WD7が設けられ
る。このワードドライバには、前記予備のワード線に対
応したワードドライバも含まれる。
Decoders XD0 to XD7 are provided in each of the memory mats MAT0 to MAT7. These decoders XD0 to XD7 decode the output signal address signal AXi of the predecoder circuit XPD and form word line selection signals for four lines. The decoders XD0 to XD7 and mat control circuits MATCTRL01 to MAT described below.
Word drivers WD0 to WD7 are provided which form word line selection signals in accordance with the output signal of CTRL 67. This word driver also includes a word driver corresponding to the spare word line.

【0026】上記一対のメモリマットMAT0,MAT
1に対応してマット制御回路MATCTTL01が設け
られる。他の対とされるメモリマットMAT2,MAT
3〜MAT6,MAT7に対しても同様なマット制御回
路MATCTRL23,MATCTRL45,MATC
TRL67が設けられる。マット制御回路MATCTR
L01〜MATCTRL67は、マット選択信号MSi
と信号XE及びセンス動作タイミング信号φSA及び下
位2ビットのアドレス信号の解読信号とを受けて、選択
されたメモリマットに対してた1つのマット制御回路に
おいて、4本のワード線の中の1本を選択する選択信号
XiB等を出力する。この他に、上記選択されたメモリ
マットに対応して左右いずれかのメモリマットに対応し
たビット線選択スイッチをオン状態のままとし、非選択
のメモリマットに対応したビット線選択スイッチをオフ
状態にする選択信号や、センスアンプの増幅動作を開始
させるタイミング信号を出力する。
The pair of memory mats MAT0 and MAT
A mat control circuit MATCTRL01 is provided corresponding to 1. Another pair of memory mats MAT2, MAT
Similar mat control circuits MATCTRL23, MATCTRL45, and MATC for 3 to MAT6 and MAT7
A TRL 67 is provided. Mat control circuit MAT CTR
L01 to MATCTRL67 are mat selection signals MSi
One of the four word lines in one mat control circuit for the selected memory mat in response to the signal XE, the sense operation timing signal φSA, and the decoded signal of the lower 2 bits of the address signal. A selection signal XiB for selecting is output. In addition to this, the bit line selection switches corresponding to the left or right memory mats corresponding to the selected memory mat are left in the ON state, and the bit line selection switches corresponding to the unselected memory mats are turned off. And a timing signal for starting the amplification operation of the sense amplifier.

【0027】不良ワード線へのアクセスが行われたとき
には、信号XEのロウレベルにより上記選択信号XiB
等を出力が禁止されるので不良ワード線の選択動作が停
止される。これに代えて、冗長回路側の選択信号XRi
Bが形成されるので、予備のワード線が選択状態にされ
る。
When the defective word line is accessed, the selection signal XiB is set by the low level of the signal XE.
Since the output of the above is prohibited, the operation of selecting the defective word line is stopped. Instead of this, the selection signal XRi on the redundant circuit side
Since B is formed, the spare word line is selected.

【0028】図5において、タイミング制御回路TG
は、外部端子から供給されるロウアドレスストローブ信
号RASB、カラムアドレスストローブ信号CASB、
ライトイネーブル信号WEB及びアウトプットイネーブ
ル信号OEBを受けて、動作モードの判定、それに対応
して内部回路の動作に必要な各種のタイミング信号を形
成する。
In FIG. 5, the timing control circuit TG
Is a row address strobe signal RASB, a column address strobe signal CASB, supplied from an external terminal,
Upon receiving the write enable signal WEB and the output enable signal OEB, various timing signals necessary for determining the operation mode and correspondingly operating the internal circuit are formed.

【0029】信号R1とR2は、ロウ系の内部タイミン
グ信号であり、前記図3のように使用する。タイミング
信号φXLは、ロウ系アドレスを取り込んで保持させる
信号であり、ロウアドレスバッファRABに供給され
る。すなわち、ロウアドレスバッファRABは、上記タ
イミング信号φXLによりアドレス端子A0〜Aiから
入力されたアドレスを取り込んでラッチ回路に保持させ
る。
The signals R1 and R2 are row-system internal timing signals and are used as shown in FIG. The timing signal φXL is a signal for fetching and holding a row address, and is supplied to the row address buffer RAB. That is, the row address buffer RAB fetches the address input from the address terminals A0 to Ai by the timing signal φXL and holds it in the latch circuit.

【0030】タイミング信号φYLは、カラムウ系アド
レスを取り込んで保持させる信号であり、カラムアドレ
スバッファCABに供給される。すなわち、カラムアド
レスバッファRABは、上記タイミング信号φYLによ
りアドレス端子A0〜Aiから入力されたアドレスを取
り込んでラッチ回路に保持させる。
The timing signal φYL is a signal for fetching and holding the column address and is supplied to the column address buffer CAB. That is, the column address buffer RAB fetches the address input from the address terminals A0 to Ai by the timing signal φYL and causes the latch circuit to hold the address.

【0031】信号φREFは、リフレッシュモードのと
きに発生される信号であり、ロウアドレスバッファの入
力部に設けられたマルチプレクサAMXに供給されて、
リフレッシュモードのときにリフレッシュアドレスカウ
ンタ回路RFCにより形成されたリフレッシュ用アドレ
ス信号に切り替えるよう制御する。リフレッシュアドレ
スカウンタ回路RFCは、タイミング制御回路TGによ
り形成されたリフレッシュ用の歩進パルスφRCを計数
してリフレッシュアドレス信号を生成する。
The signal φREF is a signal generated in the refresh mode and is supplied to the multiplexer AMX provided in the input section of the row address buffer.
In the refresh mode, control is performed to switch to the refresh address signal formed by the refresh address counter circuit RFC. The refresh address counter circuit RFC counts the refreshing step pulse φRC formed by the timing control circuit TG to generate a refresh address signal.

【0032】タイミング信号φXは、ワード線選択タイ
ミング信号であり、デコーダXIBに供給されて、下位
2ビットのアドレス信号の解読された信号に基づいて4
通りのワード線選択タイミング信号XiBが形成され
る。タイミング信号φYはカラム選択タイミング信号で
あり、カラム系プリデコーダYPDに供給されてカラム
選択信号AYix、AYjx、AYkxが出力される。
The timing signal φX is a word line selection timing signal, is supplied to the decoder XIB, and is 4 based on the decoded signal of the address signal of the lower 2 bits.
The same word line selection timing signal XiB is formed. The timing signal φY is a column selection timing signal and is supplied to the column system predecoder YPD to output the column selection signals AYix, AYjx, AYkx.

【0033】タイミング信号φWは、書き込み動作を指
示する制御信号であり、タイミング信号φRは読み出し
動作を指示する制御信号である。これらのタイミング信
号φWとφRは、入出力回路I/Oに供給されて、書き
込み動作のときには入出力回路I/Oに含まれる入力バ
ッファを活性化し、出力バッファを出力ハイインピーダ
ンス状態にさせる。これに対して、読み出し動作のとき
には、上記出力バッファを活性化し、入力バッファを出
力ハイインピーダンス状態にする。
The timing signal φW is a control signal for instructing a write operation, and the timing signal φR is a control signal for instructing a read operation. These timing signals .phi.W and .phi.R are supplied to the input / output circuit I / O to activate the input buffer included in the input / output circuit I / O during the write operation and bring the output buffer into the output high impedance state. On the other hand, during the read operation, the output buffer is activated and the input buffer is set to the output high impedance state.

【0034】タイミング信号φMSは、マット選択動作
を指示する信号であり、ロウアドレスバッファRABに
供給され、このタイミングに同期してマット選択信号M
Siが出力される。タイミング信号φSAは、センスア
ンプの動作を指示する信号である。このタイミング信号
φSAに基づいて、センスアンプの活性化パルスが形成
されることの他、相補ビット線のプリチャージ終了動作
や、非選択のメモリマット側のビット線を切り離す動作
の制御信号を形成するにも用いられる。
The timing signal φMS is a signal for instructing a mat selection operation, is supplied to the row address buffer RAB, and is synchronized with this timing, the mat selection signal M.
Si is output. Timing signal φSA is a signal instructing the operation of the sense amplifier. Based on the timing signal φSA, in addition to the activation pulse of the sense amplifier being formed, a control signal for precharge termination operation of the complementary bit line and operation for disconnecting the bit line on the non-selected memory mat side is formed. Also used for.

【0035】この実施例では、ロウ系の冗長回路X−R
DEが代表として例示的に示されている。すなわち、上
記回路X−REDは、不良アドレスを記憶させる記憶回
路と、アドレス比較回路とを含んでいる。記憶された不
良アドレスとロウアドレスバッファRABから出力され
る内部アドレス信号BXiとを比較し、不一致のときに
は信号XEをハイレベルにし、信号XEBをロウレベル
にして、正規回路の動作を有効にする。上記入力された
内部アドレス信号BXiと記憶されり不良アドレスとが
一致すると、信号XEをロウレベルにして正規回路の不
良ワード線の選択動作を禁止させるとともに、信号XE
Bをハイレベルにして、前記図2のような選択回路によ
って、1つの予備ワード線を選択する選択信号XRiB
を出力させる。
In this embodiment, the row redundancy circuit X-R is used.
DE is exemplarily shown as a representative. That is, the circuit X-RED includes a storage circuit for storing a defective address and an address comparison circuit. The stored defective address is compared with the internal address signal BXi output from the row address buffer RAB, and when they do not match, the signal XE is set to the high level and the signal XEB is set to the low level to enable the operation of the normal circuit. When the input internal address signal BXi matches the stored and defective address, the signal XE is set to low level to inhibit the defective word line selecting operation of the normal circuit, and the signal XE
A selection signal XRiB for selecting one spare word line by the selection circuit as shown in FIG.
Is output.

【0036】図5では、省略されているが、上記ロウ系
の回路と同様な回路がカラム系にも設けられており、そ
れによって不良ビット線に対するメモリアクセスを検出
すると、カラムデコーダYDによる不良ビット線の選択
動作を停止させ、それに代えて、予備に設けられている
ビット線を選択する選択信号が形成される。
Although not shown in FIG. 5, a circuit similar to the above row system circuit is also provided in the column system, and when a memory access to a defective bit line is detected thereby, the defective bit by the column decoder YD is detected. A selection signal for stopping the line selection operation and replacing the spare bit line is formed instead.

【0037】上記実施例から得られる作用効果は、下記
の通りである。すなわち、 (1) 予備のビット線又はワード線をメモリマットの
ほぼ中央部に配置することにより、予備のワード線又は
ビット線の不良発生確率が小さいことを利用して、不良
のワード線又はビット線を予備のワード線又はビット線
に切り替えたときの不良発生確率を低くすることができ
るという効果が得られる。
The functions and effects obtained from the above-mentioned embodiment are as follows. That is, (1) By arranging the spare bit line or word line in substantially the central portion of the memory mat, the probability of occurrence of a defect in the spare word line or bit line is small, and the defective word line or bit line is used. It is possible to obtain the effect of reducing the probability of occurrence of defects when the line is switched to the spare word line or the bit line.

【0038】(2) ワード線を相補ビット線のツイス
ト部を挟んで両側に同じ数の予備のワード線を設けるこ
とにより、相補ビット線間の容量バランスを採ることが
でき、動作マージンの向上を図ることができるという効
果が得られる。
(2) By providing the same number of spare word lines on both sides of the word line with the twisted portion of the complementary bit line interposed, it is possible to balance the capacitance between the complementary bit lines and improve the operation margin. The effect that it can be achieved is obtained.

【0039】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、予備
のワード線は、上記のように相補ビット線のツイスト部
の両側に同じ数だけ分散して設けるようにし、ビット線
の容量バランスを採るようにしたとき、他のレイアウト
等の関係により相補ビット線をメモリマットの周辺部に
配置してもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention of the present application is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, when the spare word lines are arranged on both sides of the twisted portion of the complementary bit line in the same number as described above to balance the capacitance of the bit lines, the spare word lines may be different due to other layouts. Complementary bit lines may be arranged around the memory mat.

【0040】図4において、同様なメモリアレイとYデ
コーダを設けて、4つのメモリアレイにより1つのダイ
ナミック型RAMを構成してもよい。また、4つのメモ
リアイレを1組として、それを4組設けて1つのダイナ
ミック型RAMを構成するようにしてもよい。このよう
に、ダイナミック型RAMの実際のメモリアレイの構成
は、種々の実施形態を採ることができる。
In FIG. 4, a similar memory array and a Y decoder may be provided and four memory arrays may constitute one dynamic RAM. Further, it is also possible to configure four memory arrays as one group and to provide four groups to configure one dynamic RAM. As described above, the actual memory array configuration of the dynamic RAM can take various embodiments.

【0041】相補ビット線を持つ半導体記憶装置として
は、折り返しビット線方式のダイナミック型RAMの他
に、スタティック型RAMもある。スタティック型RA
Mにおいても、1つおきの相補ビット線にツイスト部を
設けることによりビット線間のカップリングの影響を軽
減できるので、予備のワード線を相補ビット線のツイス
ト部を挟んで同じ数だけ設けることにより、同様な動作
マージンの改善を図ることができ、同時にデータスクラ
ンブルの単純化を図ることができる。
As a semiconductor memory device having complementary bit lines, there is a static type RAM in addition to the folded bit line type dynamic RAM. Static type RA
Also in M, since the influence of the coupling between the bit lines can be reduced by providing the twist portion for every other complementary bit line, the same number of spare word lines are provided with the twist portion of the complementary bit line interposed therebetween. As a result, it is possible to improve the operation margin in the same manner, and at the same time, simplify the data scramble.

【0042】この発明は、上記のような相補ビット線を
持つダイナミック型RAMやスタティック型RAMの他
に、各種ROMにも適用できる。RAMやROMは、1
つのメモリ集積回路を構成するもの他、マイクロコンピ
ュータ等のようなディジタル集積回路に内蔵されるもの
であってもよい。
The present invention can be applied to various ROMs in addition to the dynamic RAM and static RAM having the complementary bit lines as described above. RAM or ROM is 1
In addition to one memory integrated circuit, it may be built in a digital integrated circuit such as a microcomputer.

【0043】[0043]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、予備のビット線又はワード
線をメモリマットのほぼ中央部に配置することにより、
予備のワード線又はビット線における不良発生確率が小
さいことを利用して、不良のワード線又はビット線を予
備のワード線又はビット線に切り替えたときの不良発生
確率を低くすることができる。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, by arranging the spare bit line or word line in the substantially central portion of the memory mat,
By utilizing the fact that the probability of failure occurrence in the spare word line or bit line is small, it is possible to reduce the failure occurrence probability when the defective word line or bit line is switched to the spare word line or bit line.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に係るダイナミック型RAMのメモリ
マット部の一実施例を示す概略パターン図である。
FIG. 1 is a schematic pattern diagram showing one embodiment of a memory mat section of a dynamic RAM according to the present invention.

【図2】予備ワード線の選択回路の一実施例を示す回路
図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a spare word line selection circuit.

【図3】ワード線選択動作を説明するための一実施例を
示すタイミング図である。
FIG. 3 is a timing chart showing an embodiment for explaining a word line selection operation.

【図4】この発明に係るダイナミック型RAMにおける
メモリアレイ部と周辺回路の一実施例を示すブロック図
である。
FIG. 4 is a block diagram showing an embodiment of a memory array section and peripheral circuits in the dynamic RAM according to the present invention.

【図5】この発明に係るダイナミック型RAMにおける
入出力インターフェイス部とタイミング制御回路の一実
施例を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing an embodiment of an input / output interface section and a timing control circuit in the dynamic RAM according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MAT0〜MAT7…メモリマット、MARY0,MA
RY1…メモリアレイ、XD0〜XD7…デコーダ回
路、WD0〜WD7…ワードドライバ、SA01〜SA
67…センスアンプ、YD…カラムデコーダ回路、MA
TCTRL0〜MATCTRL3…マット制御回路、T
G…タイミング制御回路、I/O…入出力回路、RAB
…ロウアドレスバッファ、CAB…カラムアドレスバッ
ファ、AMX…マルチプレクサ、RFC…リフレッシュ
アドレスカウンタ回路、XPD,YPD…プリテコーダ
回路、X−DEC…カラム系冗長回路、XIB…デコー
ダ回路。
MAT0 to MAT7 ... Memory mat, MARY0, MA
RY1 ... Memory array, XD0 to XD7 ... Decoder circuit, WD0 to WD7 ... Word driver, SA01 to SA
67 ... Sense amplifier, YD ... Column decoder circuit, MA
TCTRL0 to MATCTRL3 ... Mat control circuit, T
G ... Timing control circuit, I / O ... Input / output circuit, RAB
... row address buffer, CAB ... column address buffer, AMX ... multiplexer, RFC ... refresh address counter circuit, XPD, YPD ... pre-coder circuit, X-DEC ... column system redundant circuit, XIB ... decoder circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 幸英 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 吉田 博幸 茨城県稲敷郡美浦村木原2350 日本テキサ ス・インスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 乾 隆至 茨城県稲敷郡美浦村木原2350 日本テキサ ス・インスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 沼賀 茂樹 茨城県稲敷郡美浦村木原2350 日本テキサ ス・インスツルメンツ株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yukie Hide Suzuki 2326 Imai, Ome-shi, Tokyo Inside the Device Development Center, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Hiroyuki Yoshida 2350 Kiura Miura, Inashiki-gun, Ibaraki Japan Texas Instruments Co., Ltd. In-house (72) Inventor Takashi Inui 2350 Kihara, Miura-mura, Inashiki-gun, Ibaraki Japan Textile Instruments Co., Ltd. (72) Inventor Shigeki Numaga 2350 Kihara, Miura-mura, Inashiki-gun, Ibaraki Nippon Textiles Instruments Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 予備のビット線又はワード線をメモリマ
ットのほぼ中央部に配置してなることを特徴とする半導
体記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising a spare bit line or word line arranged substantially in the center of a memory mat.
【請求項2】 上記ビット線は、一対の相補ビット線か
らなり、その中央部においてツイスト部が設けられるも
のと、上記ツイスト部が設けられないものとが交互に配
置されるものであり、上記ツイスト部を挟んで両側に同
じ数からなる予備のワード線が設けられるものであるこ
とを特徴とする請求項1の半導体記憶装置。
2. The bit line is composed of a pair of complementary bit lines, and a twisted portion and a twisted portion that are not provided in the central portion are alternately arranged. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the same number of spare word lines are provided on both sides of the twist portion.
【請求項3】 上記ビット線とワード線の交点にはダイ
ナミック型メモリセルが配置されるものであることを特
徴とする請求項1又は請求項2の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a dynamic memory cell is arranged at an intersection of the bit line and the word line.
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