JPH06328352A - Compound working machine - Google Patents

Compound working machine

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JPH06328352A
JPH06328352A JP5118808A JP11880893A JPH06328352A JP H06328352 A JPH06328352 A JP H06328352A JP 5118808 A JP5118808 A JP 5118808A JP 11880893 A JP11880893 A JP 11880893A JP H06328352 A JPH06328352 A JP H06328352A
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Japan
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work
laser
grindstone
reaction product
machining liquid
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JP5118808A
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Toshiharu Kogure
利春 小槫
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Seiko Seiki KK
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  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To machine material extending from metal material to brittle material with decrease in a process affected layer and maintaining fine form accuracy. CONSTITUTION:A work 11 is rotated by a work spindle 13, and machining liquid 21a having low concentration ia supplied to its surface through a machining liquid nozzle 21. A short wave length laser 18a having width equivalent to the radius of the work 11 is irradiated to the surface of the work 11 supplied with the machining liquid 21a by a laser generator 17 and a laser optical system 18 to generate reaction product. A cup grinding wheel 15 is rotated by a grinding wheel shaft 16, which is moved in a direction shown by an arrow (f) by a movable table 19 and a table driving motor 20 at speed fitted to the growing speed of the reaction product to press the cup grind stone onto the surface of the work 11 for grinding the reaction product.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、複合加工機に係り、詳
細にはレーザを用いた複合加工機に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a compound machine, and more particularly to a compound machine using a laser.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体ウエハ等のワークの加工に
おいて、その表面を研削あるいは研磨する方法としてい
くつかのものが知られている。例えば、高濃度のアルカ
リ水溶液と高出力レーザとによるエッチングと、砥石に
よる研削加工とを併用した研削法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there have been known some methods for grinding or polishing the surface of a work such as a semiconductor wafer. For example, a grinding method is known in which etching with a high-concentration alkaline aqueous solution and high-power laser is used in combination with grinding with a grindstone.

【0003】この研削法では、まずワークを高濃度のア
ルカリ水溶液、例えば濃度が10%の水酸化ナトリウム
溶液中に浸漬又は塗布する。そして、このワーク表面に
高出力(例えば、300W)のレーザを照射し、ワーク
表面の温度を上昇させることにより、アルカリ水溶液と
の化学反応によってワーク表面にエッチングによる多量
の溶解作用を起こさせると共に、化学反応で生じたワー
ク表面の改質層をその更に深層の母材と共に、砥石によ
って研削する。この方法は、加工負荷が低減するので、
ダイヤ砥石の砥石磨耗の低減や、高能率の研削を目的と
した場合に行われる。
In this grinding method, the work is first dipped or applied in a high-concentration alkaline aqueous solution, for example, a 10% sodium hydroxide solution. Then, by irradiating the work surface with a high-power (for example, 300 W) laser to raise the temperature of the work surface, a large amount of dissolving action by etching is caused on the work surface by a chemical reaction with an alkaline aqueous solution, and The modified layer on the surface of the work produced by the chemical reaction is ground by a grindstone together with the deeper base material. This method reduces the processing load, so
It is performed for the purpose of reducing the wear of the diamond grindstone and grinding with high efficiency.

【0004】また、他の例としては、メカノケミカルポ
リッシングが知られている。この方法では、先ず、遊離
砥粒を分散させたアルカリ水溶液、例えば水酸化カリウ
ム溶液にワークを浸漬する。この時、ワークと水溶液と
は化学反応が起きやすいように40〜60度に加熱して
おき、ワーク表面に水和膜等の反応膜が生成させる。そ
して、ポリウレタン等の粘弾性体でワーク表面を研磨す
ることによりこの反応膜を除去する。
As another example, mechanochemical polishing is known. In this method, first, the work is immersed in an alkaline aqueous solution in which loose abrasive grains are dispersed, for example, a potassium hydroxide solution. At this time, the work and the aqueous solution are heated to 40 to 60 degrees so that a chemical reaction easily occurs, and a reaction film such as a hydrated film is formed on the surface of the work. Then, the reaction film is removed by polishing the work surface with a viscoelastic body such as polyurethane.

【0005】また、いわゆる電解複合研磨という方法も
知られている。この方法では、ワークを遊離砥粒を分散
させた電解液に浸し、ワークを陽極とすることで、陰極
とした電極との間で電気分解を起こさせる。そして、こ
の電気分解時に電解溶出によってワーク表面に発生する
不導体膜を、ポリウレタン等の粘弾性体で研磨すること
により除去するようにしている。
A method called so-called electrolytic composite polishing is also known. In this method, the work is immersed in an electrolytic solution in which loose abrasive grains are dispersed, and the work is used as an anode, so that electrolysis is caused between the work and the electrode used as a cathode. Then, the non-conductive film generated on the surface of the work by electrolysis during the electrolysis is removed by polishing with a viscoelastic body such as polyurethane.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法で
はそれぞれ以下のような問題がある。すなわち、エッチ
ングと研削加工とを併用した研削法では、使用する加工
液が高濃度のアルカリ溶液といった危険物であるので、
取扱が難しく、加工機に防食処理を施す必要がある。ま
た、排液処理のための特別な処理装置も必要であること
から加工機が高価なものとなる。
However, each of the conventional methods has the following problems. That is, in the grinding method that uses both etching and grinding, the working liquid used is a dangerous substance such as a high-concentration alkaline solution.
It is difficult to handle, and it is necessary to apply anticorrosion treatment to the processing machine. Further, since a special processing device for drainage processing is required, the processing machine becomes expensive.

【0007】また、高出力レーザと高濃度アルカリ溶液
によるエッチングは、多量なワークの溶解作用とワーク
との化学反応で発生する生成物がワーク母材より柔らか
くなるので、加工負荷を低減することを目的としてい
る。この加工方法は、エッチングが主体となるのでワー
ク表面があれるためワーク表面は粗くなる。そこで、ワ
ークの表面粗さを良くするために最終仕上げとして砥石
による機械加工が行われる。しかし、最終仕上げ加工が
機械加工では、特にワークが脆性材料の場合、ワーク表
面に亀裂等の加工変質層が残ってしまう。
Further, etching with a high-power laser and a high-concentration alkaline solution reduces the processing load because the products generated by the dissolution action of a large amount of work and the chemical reaction with the work become softer than the work base material. Has an aim. In this processing method, etching is the main component, and the work surface is rough, so that the work surface becomes rough. Therefore, in order to improve the surface roughness of the work, machining with a grindstone is performed as a final finish. However, when the final finishing process is machining, especially when the work is a brittle material, a work-affected layer such as a crack remains on the work surface.

【0008】一方、メカノケミカルポリッシングでは、
ワークを加熱しながら加工するため、温度が一定になる
までの間や加工前後の温度差によりワークが変形し、形
状精度が悪くなるという問題がある。また、電解複合研
磨では、電気分解を用いるため、ワークが金属等の導電
性の物質である場合にしか加工できないという問題があ
る。
On the other hand, in mechanochemical polishing,
Since the work is processed while being heated, there is a problem that the work is deformed due to a temperature difference before and after the temperature becomes constant and before and after the work, and the shape accuracy is deteriorated. Further, in the electrolytic composite polishing, since electrolysis is used, there is a problem that the work can be processed only when the work is a conductive substance such as metal.

【0009】そこで、本発明の目的は、加工液に対する
特別な排液処理等を必要とせずに、形状精度が良く、か
つ、加工変質層の少ない加工を、金属から脆性材料まで
行うことのできる複合加工機を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to perform processing from a metal to a brittle material with good shape accuracy and with a small number of work-affected layers, without requiring special drainage treatment of the working liquid. It is to provide a compound processing machine.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明で
は、ワークを保持する保持手段と、このワーク表面に低
濃度の加工液を供給する加工液供給手段と、前記ワーク
表面に短波長レーザを照射するレーザ照射手段と、前記
短波長レーザの照射により前記ワーク表面に生成される
反応生成物をその生成物成長速度にあわせて加工する表
面加工手段とを複合加工機に具備させて前記目的を達成
する。
According to a first aspect of the invention, a holding means for holding a work, a working liquid supply means for supplying a low concentration working liquid to the work surface, and a short wavelength laser on the work surface. And a surface processing means for processing the reaction product generated on the surface of the work by irradiation of the short-wavelength laser in accordance with the growth rate of the product. To achieve.

【0011】[0011]

【作用】請求項1記載の複合加工機では、保持手段によ
り保持されたワークの表面に加工液供給手段によって低
濃度の加工液を供給し、その上にレーザ照射手段によっ
て短波長レーザを照射する。これにより、ワーク表面に
は反応生成物が生成される。表面加工手段は、この反応
生成物を生成物成長速度にあわせて表面加工する。
In the combined processing machine according to the first aspect of the present invention, the processing liquid supply means supplies a low concentration processing liquid to the surface of the work held by the holding means, and the laser irradiation means irradiates the workpiece with a short wavelength laser. . As a result, reaction products are produced on the surface of the work. The surface processing means processes the reaction product in accordance with the product growth rate.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の複合加工機における一実施例
を図1及び図2を参照して詳細に説明する。図1は、第
1の実施例による複合加工機の主要構成を表したもので
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the combined processing machine of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. FIG. 1 shows a main configuration of a combined processing machine according to the first embodiment.

【0013】本実施例の複合加工機は、ワーク11を吸
着固定するチャック12と、このチャック12を図示し
ない駆動モータにより軸aを中心として矢印bで示すよ
うに回転させる工作物主軸13とを備えている。工作物
主軸13は、図示しない固定部材によって支持台14に
固定されている。
The multi-tasking machine of this embodiment comprises a chuck 12 for adsorbing and fixing a work 11 and a work spindle 13 for rotating the chuck 12 around a shaft a as shown by an arrow b by a drive motor (not shown). I have it. The work spindle 13 is fixed to the support base 14 by a fixing member (not shown).

【0014】また、複合加工機はワーク11を研削する
ためのカップ砥石15を備えており、このカップ砥石1
5は、砥石軸16によって、軸dを中心に矢印eで示す
ように回転するようになっている。なお、本実施例では
カップ砥石15として高剛性のものを用いる。また、砥
石軸16や前述の工作物主軸13は周知の構造を有す
る。
Further, the multi-tasking machine is provided with a cup grindstone 15 for grinding the workpiece 11. The cup grindstone 1
5 is rotated by a grindstone shaft 16 about an axis d as indicated by an arrow e. In this embodiment, the cup grindstone 15 has high rigidity. The grindstone shaft 16 and the work spindle 13 described above have known structures.

【0015】砥石軸16の右方には、レーザ発振器17
及びレーザ光学系18が配設されている。このレーザ発
振器17は、数ワット程度の短波長レーザを出力するも
ので、例えば、エキシマレーザや数次(3次あるいは4
次)高調波のYAGレーザ等を用いる。レーザ光学系1
8は、レーザ発振器17の出力部17aから出力された
レーザ光をワーク11の半径幅まで広げて、18aで示
すようにワーク11に照射するものである。
A laser oscillator 17 is provided to the right of the grindstone shaft 16.
And a laser optical system 18 are provided. The laser oscillator 17 outputs a short-wavelength laser of about several watts, and is, for example, an excimer laser or a several-order (third-order or fourth-order laser).
Next) A harmonic YAG laser or the like is used. Laser optical system 1
Reference numeral 8 spreads the laser light output from the output portion 17a of the laser oscillator 17 to the radial width of the work 11 and irradiates the work 11 as indicated by 18a.

【0016】これらレーザ発振器17、レーザ光学系1
8及び砥石軸16は、図示しない固定部材により移動テ
ーブル19に固定されている。この移動テーブル19
は、図示しない安定面上をワーク11表面に対して垂直
方向(矢印f)に移動可能に設置されている。テーブル
駆動モータ20は、この移動テーブル19を、図示しな
い制御系の制御に応じて、毎分数ミクロン以下の速度で
移動させるようになっている。カップ砥石15は、この
テーブル駆動モータ20による移動テーブル19の移動
によって、ワーク11に切り込むようになっており、こ
の移動テーブル19、テーブル駆動モータ20及び図示
しない制御系等によって本実施例の切り込み装置Aが構
成されている。
These laser oscillator 17 and laser optical system 1
8 and the grindstone shaft 16 are fixed to the moving table 19 by a fixing member (not shown). This moving table 19
Is installed so as to be movable in a direction (arrow f) perpendicular to the surface of the work 11 on a stable surface (not shown). The table drive motor 20 moves the moving table 19 at a speed of several microns or less per minute according to the control of a control system (not shown). The cup grindstone 15 is designed to cut into the work 11 by the movement of the moving table 19 by the table driving motor 20, and the cutting device of the present embodiment is constituted by the moving table 19, the table driving motor 20 and a control system (not shown). A is configured.

【0017】なお、この切り込み装置Aを工作物主軸1
3側に設けて、ワーク11の方をカップ砥石15に対し
て移動させるようにしてもよい。また、レーザ発振器1
7やレーザ光学系18の少なくとも一方を移動テーブル
19外に設置してもよい。レーザ光学系18の図におい
て右方には、加工液ノズル21が配設されており、図示
しない供給装置から供給される加工液21aをワーク1
1表面に浸すようになっている。この加工液21aとし
ては、低濃度のアルカリ水溶液、例えば、濃度が5%以
下の水酸化カリウム溶液等やケミカルタイプの研削液を
用いる。
The cutting device A is used for the work spindle 1
It may be provided on the third side and the work 11 may be moved with respect to the cup grindstone 15. Also, the laser oscillator 1
At least one of 7 and the laser optical system 18 may be installed outside the moving table 19. A machining liquid nozzle 21 is arranged on the right side of the laser optical system 18 in the drawing, and the machining liquid 21a supplied from a supply device (not shown) is supplied to the workpiece 1.
It is designed to be immersed in the surface 1. As the processing liquid 21a, a low-concentration alkaline aqueous solution, for example, a potassium hydroxide solution having a concentration of 5% or less, or a chemical type grinding liquid is used.

【0018】次に、このように構成された第1の実施例
の動作について説明する。先ず、工作物主軸13及び砥
石軸16の図示しないモータを駆動させ、ワーク11及
びカップ砥石15を回転させる。そして、加工液ノズル
21に加工液21aを供給し、ワーク11の表面を加工
液21aで浸す。
Next, the operation of the first embodiment thus constructed will be described. First, motors (not shown) for the work spindle 13 and the grindstone shaft 16 are driven to rotate the work 11 and the cup grindstone 15. Then, the working liquid 21a is supplied to the working liquid nozzle 21, and the surface of the workpiece 11 is dipped in the working liquid 21a.

【0019】この加工液21aを浸した面には、レーザ
発振器17及びレーザ光学系18によってワーク11の
半径幅の短波長レーザを照射し、ワーク11表面の温度
を深さ方向に対して局所的に上昇させる。これにより、
ワーク11は加工液21aと反応し、その表面には水和
膜あるいは酸化膜等の反応膜が生成される。
A laser oscillator 17 and a laser optical system 18 irradiate a short wavelength laser having a radius width of the work 11 on the surface soaked with the machining liquid 21a, and the temperature of the surface of the work 11 is locally increased in the depth direction. Raise to. This allows
The work 11 reacts with the working liquid 21a, and a reaction film such as a hydrated film or an oxide film is formed on the surface thereof.

【0020】次に、テーブル駆動モータ20の駆動によ
り移動テーブル19を矢印fで示す方向に移動させ、カ
ップ砥石15をワーク11表面に接触、押圧させること
により、研削を開始する。但し、この時の移動テーブル
19の移動速度は、カップ砥石15のワーク11への切
り込み速度が、反応生成物の成長速度(毎分数ミクロン
以下)と等しくなるように、テーブル駆動モータ20の
駆動を制御する。
Next, the table drive motor 20 is driven to move the moving table 19 in the direction indicated by the arrow f, and the cup grindstone 15 is brought into contact with and pressed against the surface of the work 11 to start grinding. However, the moving speed of the moving table 19 at this time is such that the table driving motor 20 is driven so that the cutting speed of the cup grindstone 15 into the work 11 becomes equal to the growth speed of reaction products (several microns or less per minute). Control.

【0021】これにより、ワーク11表面に生成された
反応生成物のみが、カップ砥石15によって研削され
る。そして、ワーク11の回転と共に、レーザによる反
応生成物の生成とカップ砥石15による反応生成物の研
削とが順次繰り返され、ワーク11の加工が行われる。
As a result, only the reaction product produced on the surface of the work 11 is ground by the cup grindstone 15. Then, along with the rotation of the work 11, the generation of the reaction product by the laser and the grinding of the reaction product by the cup grindstone 15 are sequentially repeated to process the work 11.

【0022】なお、本実施例では、高剛性のカップ砥石
15を用いているので、従来のメカノケミカルポリッシ
ングや電解複合加工のように粘弾性体を用いて研磨した
場合と異なり、形状を崩すことなくワーク11を加工す
ることができる。図2は、第2の実施例による複合加工
機の主要構成を表したものである。なお、第1の実施例
と同様の構成については同一の符号を付し、その詳細な
説明は適宜省略することとする。
Since the cup grindstone 15 having a high rigidity is used in this embodiment, the shape of the cup grindstone 15 should not be destroyed unlike the case of polishing with a viscoelastic body as in the conventional mechanochemical polishing or electrolytic composite machining. It is possible to process the work 11 without using it. FIG. 2 shows the main configuration of the multi-tasking machine according to the second embodiment. The same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be appropriately omitted.

【0023】本実施例では、ワーク11を加工する砥石
として、高剛性の円筒砥石22を用い、ワーク11表面
にはこの円筒砥石22の外周面が当接するようになって
いる。円筒砥石22を回転させる砥石軸16は、レシプ
ロテーブル23に固定されている。レシプロテーブル2
3は、案内テーブル24上に移動可能に設置されてお
り、図示しない駆動モータによって、レシプロテーブル
移動幅を(ワーク11の半径)≦(レシプロテーブル移
動幅)として、図において紙面に垂直方向に往復動する
ようになっている。
In this embodiment, a high-rigidity cylindrical grindstone 22 is used as a grindstone for processing the work 11, and the outer peripheral surface of the cylindrical grindstone 22 contacts the surface of the work 11. The grindstone shaft 16 that rotates the cylindrical grindstone 22 is fixed to the reciprocating table 23. Reciprocating table 2
3 is movably installed on the guide table 24, and is reciprocated in a direction perpendicular to the paper surface in the figure by a drive motor (not shown) with the reciprocating table moving width set to (radius of work 11) ≦ (reciprocating table moving width). It is designed to move.

【0024】レーザ発振器17、レーザ光学系18及び
加工液ノズル21は、砥石軸16の往復動とは無関係に
一定位置を保つように図示しない固定部材によって固定
されている。また、本実施例では、切り込み装置Aは、
工作物主軸13側に設けられており、これにより、工作
物主軸13が矢印g方向に移動して、円筒砥石22のワ
ーク11への切り込みが行われるようになっている。ま
た、この切り込み装置Aは、第1の実施例と同様に砥石
軸16側に設けられていてもよく、この場合、移動テー
ブル19には案内テーブル24、レーザ発振器17及び
レーザ光学系18等が固定される。
The laser oscillator 17, the laser optical system 18, and the machining liquid nozzle 21 are fixed by a fixing member (not shown) so as to maintain a constant position regardless of the reciprocal movement of the grindstone shaft 16. In addition, in this embodiment, the cutting device A is
The work spindle 13 is provided on the work spindle 13 side, whereby the work spindle 13 moves in the direction of the arrow g, and the cylindrical grindstone 22 is cut into the work 11. The cutting device A may be provided on the grindstone shaft 16 side as in the first embodiment. In this case, the moving table 19 includes the guide table 24, the laser oscillator 17, the laser optical system 18, and the like. Fixed.

【0025】次に、このように構成された第2の実施例
の動作について説明する。先ず、砥石軸16及び工作物
主軸13により円筒砥石22とワーク11とをそれぞれ
回転させ、更に、砥石軸16を所定速度で紙面に垂直方
向に往復動させる。
Next, the operation of the second embodiment thus constructed will be described. First, the cylindrical grindstone 22 and the work 11 are respectively rotated by the grindstone shaft 16 and the work spindle 13, and the grindstone shaft 16 is reciprocated at a predetermined speed in a direction perpendicular to the paper surface.

【0026】そして、加工液ノズル21によってワーク
11表面に低濃度の加工液21aを供給し、その上にレ
ーザ発振器17及びレーザ光学系18によってワーク1
1の半径幅の短波長レーザを照射して、ワーク11表面
に反応生成物を生成する。次に、テーブル駆動モータ2
0の駆動により移動テーブル19を矢印g方向に移動さ
せ、第1の実施例と同様に反応生成物の成長速度と同速
度で円筒砥石22をワーク11に切り込ませていくと、
円筒砥石22は往復動しながら、ワーク11表面の反応
生成物を研削する。
Then, a low-concentration machining liquid 21a is supplied to the surface of the work 11 by the machining liquid nozzle 21, and a laser oscillator 17 and a laser optical system 18 are applied to the machining liquid 21a.
The reaction product is generated on the surface of the work 11 by irradiating a short wavelength laser having a radius width of 1. Next, the table drive motor 2
When the moving table 19 is moved in the direction of the arrow g by driving 0, and the cylindrical grindstone 22 is cut into the work 11 at the same speed as the growth rate of the reaction product as in the first embodiment,
The cylindrical grindstone 22 grinds the reaction product on the surface of the work 11 while reciprocating.

【0027】以上、本発明の各実施例について説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明の
技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。例え
ば、以上の各実施例では、ワーク11を加工する砥石と
して高剛性のものを使用したが、粘弾性の砥石を用いて
もよい。また、砥石の代わりにポリウレタン等の粘弾性
パットを使用し、加工液に遊離砥粒を分散させて、粘弾
性パットによる研磨によってワーク11表面の反応生成
物を除去するようにしてもよい。
Although each embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made based on the technical idea of the present invention. For example, in each of the above embodiments, a grindstone having a high rigidity is used as the grindstone for processing the workpiece 11, but a viscoelastic grindstone may be used. Further, a viscoelastic pad such as polyurethane may be used instead of the grindstone, free abrasive grains may be dispersed in the working liquid, and the reaction product on the surface of the work 11 may be removed by polishing with the viscoelastic pad.

【0028】また、切り込み装置Aの代わりに、例え
ば、エアシリンダやオイルシリンダ等によって砥石をワ
ーク11表面に対し一定圧力で押圧する切り込み装置を
用いてもよい。また、ワーク11を回転させる代わり
に、レーザ発振器17や砥石軸16等の方をワーク11
に対して移動させるようにして、ワーク11の表面全体
の加工を行ってもよい。
Instead of the cutting device A, for example, a cutting device which presses the grindstone against the surface of the work 11 with a constant pressure by an air cylinder, an oil cylinder or the like may be used. Further, instead of rotating the work 11, the laser oscillator 17, the grindstone shaft 16 or the like is used for the work 11
The entire surface of the workpiece 11 may be processed by moving the workpiece 11 with respect to the workpiece 11.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の複合加工
機によれば、低濃度の加工液と短波長レーザによりワー
ク表面に生成した反応生成物のみを砥石で研削するよう
にしているので、加工変質層の少ない、または、ない加
工をすることができる。
As described above, according to the multi-tasking machine of the present invention, only the reaction product formed on the surface of the work by the low-concentration working liquid and the short wavelength laser is ground by the grindstone. In addition, it is possible to perform processing with little or no work-affected layer.

【0030】また、短波長レーザを用いて、ワークをそ
の深さ方向に局所的に温度上昇させるので、温度上昇に
よるワークの変形がなく、形状精度のよい加工ができ
る。低濃度の加工液を用いるので、排液処理が容易で加
工機に特別な防食処理を必要とせず、加工機が高価とな
らない。
Further, since the temperature of the work is locally raised in the depth direction by using the short wavelength laser, the work is not deformed due to the temperature rise, and the work with high shape accuracy can be performed. Since a low-concentration processing liquid is used, drainage processing is easy, no special anticorrosion treatment is required for the processing machine, and the processing machine does not become expensive.

【0031】更に、レーザを用いた複合加工なので、金
属のみならず導電性のない脆性材料も加工することがで
きる。
Further, since it is a composite processing using a laser, not only metal but also brittle material having no conductivity can be processed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例による複合加工機の主要
構成を表した概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view showing a main configuration of a combined processing machine according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例による複合加工機の主要
構成を表した概略平面図である。
FIG. 2 is a schematic plan view showing the main configuration of a combined processing machine according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 ワーク 12 チャック 13 工作物主軸 15 カップ砥石 16 砥石軸 17 レーザ発振器 17a 出力部 18 レーザ光学系 18a レーザ光 19 移動テーブル 20 テーブル駆動モータ 21 加工液ノズル 21a 加工液 22 円筒砥石 23 レシプロテーブル 24 案内テーブル A 切り込み装置 11 Work 12 Chuck 13 Work Spindle 15 Cup Grinding Stone 16 Grinding Stone Axis 17 Laser Oscillator 17a Output Unit 18 Laser Optical System 18a Laser Light 19 Moving Table 20 Table Driving Motor 21 Machining Liquid Nozzle 21a Machining Liquid 22 Cylindrical Grinding Stone 23 Reciprocating Table 24 Guide Table A notching device

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワークを保持する保持手段と、 このワーク表面に低濃度の加工液を供給する加工液供給
手段と、 前記ワーク表面に短波長レーザを照射するレーザ照射手
段と、 前記短波長レーザの照射により前記ワーク表面に生成さ
れる反応生成物をその生成物成長速度にあわせて加工す
る表面加工手段とを具備することを特徴とする複合加工
機。
1. A holding means for holding a work, a working liquid supply means for supplying a low-concentration working liquid to the work surface, a laser irradiation means for irradiating the work surface with a short wavelength laser, and the short wavelength laser. And a surface processing means for processing the reaction product generated on the surface of the work by irradiation of the product according to the growth rate of the product.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000122310A (en) * 1998-10-14 2000-04-28 Nisshin Unyu Kogyo Kk Production of mirror surface pipe for photorecertive drum of copying machine or the like
US6638140B2 (en) 2000-09-22 2003-10-28 Sony Corporation Method and apparatus for polishing
JP2006231475A (en) * 2005-02-25 2006-09-07 Hitachi Metals Ltd Method of machining ceramic honeycomb structure, and device for machining the same
US20110294403A1 (en) * 2010-05-25 2011-12-01 Denso Corporation Wafer processing method, wafer polishing apparatus, and ingot slicing apparatus
JP2014117767A (en) * 2012-12-14 2014-06-30 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Composite machining method and composite machining apparatus
JP2015030005A (en) * 2013-08-01 2015-02-16 株式会社ディスコ Processing device
JP2015047621A (en) * 2013-09-02 2015-03-16 三菱重工業株式会社 Composite processing device and composite processing method
CN105537966A (en) * 2016-03-07 2016-05-04 东莞市普创机械有限公司 Gantry type multi-head milling and grinding composite machining center and operation method thereof
JP2017205817A (en) * 2016-05-17 2017-11-24 株式会社ディスコ Grinding device
CN109822349A (en) * 2019-01-15 2019-05-31 深圳市贝优通新能源技术开发有限公司 A kind of laser welding apparatus with polishing function

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000122310A (en) * 1998-10-14 2000-04-28 Nisshin Unyu Kogyo Kk Production of mirror surface pipe for photorecertive drum of copying machine or the like
US6638140B2 (en) 2000-09-22 2003-10-28 Sony Corporation Method and apparatus for polishing
JP2006231475A (en) * 2005-02-25 2006-09-07 Hitachi Metals Ltd Method of machining ceramic honeycomb structure, and device for machining the same
US20110294403A1 (en) * 2010-05-25 2011-12-01 Denso Corporation Wafer processing method, wafer polishing apparatus, and ingot slicing apparatus
JP2011249449A (en) * 2010-05-25 2011-12-08 Denso Corp Processing method of wafer, and polishing device and cutting device used for the same
US8758087B2 (en) 2010-05-25 2014-06-24 Denso Corporation Wafer processing method, wafer polishing apparatus, and ingot slicing apparatus
JP2014117767A (en) * 2012-12-14 2014-06-30 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Composite machining method and composite machining apparatus
JP2015030005A (en) * 2013-08-01 2015-02-16 株式会社ディスコ Processing device
JP2015047621A (en) * 2013-09-02 2015-03-16 三菱重工業株式会社 Composite processing device and composite processing method
US10220469B2 (en) 2013-09-02 2019-03-05 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Combined machining apparatus and combined machining method
CN105537966A (en) * 2016-03-07 2016-05-04 东莞市普创机械有限公司 Gantry type multi-head milling and grinding composite machining center and operation method thereof
CN105537966B (en) * 2016-03-07 2017-12-22 东莞市普创机械有限公司 Gantry type multiheaded milling Compositions of metal-working machines and its operation method
JP2017205817A (en) * 2016-05-17 2017-11-24 株式会社ディスコ Grinding device
CN109822349A (en) * 2019-01-15 2019-05-31 深圳市贝优通新能源技术开发有限公司 A kind of laser welding apparatus with polishing function

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