JPH06317897A - Photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Photosensitive planographic printing plate

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JPH06317897A
JPH06317897A JP10782993A JP10782993A JPH06317897A JP H06317897 A JPH06317897 A JP H06317897A JP 10782993 A JP10782993 A JP 10782993A JP 10782993 A JP10782993 A JP 10782993A JP H06317897 A JPH06317897 A JP H06317897A
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acid
resin
photosensitive
printing plate
amt
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Masao Nakatsuka
雅郎 中塚
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Okamoto Chemical Industry Co Ltd
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Okamoto Chemical Industry Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a photosensitive planographic printing plate showing good initial ink build-up property, causing no defects by gum so that build-up failure of printing inks is not caused even lots of sheets are printed, by incorporating a specified amt. of t-butyl substd. polyvinylphenol resin as a sensitizer. CONSTITUTION:This photosensitive planographic printing plate has a photosensitive layer containing a diazo resin, polymer compd., and sensitizer and contains 0.05-20wt.% t-buthyl substd. polyvinylphenol resin as the sensitizer. The amt. of t-butyl substd. polyvinyl phenol resin is preferably 0.1-15wt.%, more preferably 0.1-10wt.%. If the amt. is less than 0.05wt.%, the ink build-up property is deteriorated. If the amt. exceeds 20wt.%, the developing property degrades. Further if necessary, a coloring agent, storage stabilizer, plasticizer, surfactant, etc., may be added to the photosensitive layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、感光性平版印刷版に関
するものであり、さらに詳しくは、インキ着肉性(感脂
性)、現像安定性および耐刷性に優れたネガ型感光性平
版印刷版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate, more specifically, a negative type photosensitive lithographic printing plate excellent in ink receptivity (oil sensitivity), development stability and printing durability. Regarding the edition.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ネガ型感光性平版印刷版は、ア
ルミニウム板などの支持板上に感光性組成物を塗布し、
これに陰画などを通して紫外線などの活性光線を照射す
ることにより、光の照射部分を重合あるいは架橋させて
現像液に不溶化させ、光の非照射部分を現像液に溶出さ
せ、それぞれの部分を水に反発して油性インキを受容す
る画像部と、水を受容して油性インキを反発する非画像
部にすることにより得られる。
2. Description of the Related Art Generally, a negative type photosensitive lithographic printing plate is prepared by coating a photosensitive composition on a support plate such as an aluminum plate,
By irradiating it with actinic rays such as ultraviolet rays through a negative image, the light-irradiated parts are polymerized or cross-linked to be insolubilized in the developing solution, and the non-irradiated parts are eluted in the developing solution, and each part is converted into water. It can be obtained by forming an image area that repels and receives the oil-based ink and a non-image area that receives water and repels the oil-based ink.

【0003】上記の感光性組成物(感光層)としては、
p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮
合物などのジアゾ樹脂に高分子化合物を組み合わせたも
のが広く用いられており、高分子化合物としてはその分
子中に水酸基を有するものが用いられている。このよう
な感光性組成物の例としては、特公昭52−7364号
公報に記載されたジアゾ樹脂とヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレートの重合体からなるもの、特公昭57−
43890号公報に記載されたジアゾ樹脂と芳香族水酸
基を有する重合体からなるもの、特公昭57−5165
6号公報に記載されたジアゾ樹脂とヒドロキシ−フェノ
キシプロピル(メタ)アクリレートの単量体単位を含有
する重合体からなるものなどが挙げられる。
As the above-mentioned photosensitive composition (photosensitive layer),
A combination of a high molecular compound with a diazo resin such as a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde is widely used, and a high molecular compound having a hydroxyl group in its molecule is used. Examples of such a photosensitive composition are those composed of a polymer of a diazo resin and a hydroxyalkyl (meth) acrylate described in JP-B-52-7364, JP-B-57-
Japanese Patent Publication No. 57-5165, which is composed of a diazo resin and a polymer having an aromatic hydroxyl group described in Japanese Patent No. 43890.
Examples thereof include those composed of a polymer containing a diazo resin and a hydroxy-phenoxypropyl (meth) acrylate monomer unit described in JP-A-6.

【0004】しかしながら、上記の如き高分子化合物を
含む感光性組成物を平版印刷板として使用した場合、初
期インキ着肉性が悪く、特に仕上げ工程で使用するガム
液によっても「ガム負け現象」を引き起こすという問題
がある。「ガム負け現象」とは、非画像部の親水性を保
護するため、現像後の版面に塗布する親水性の皮膜(一
般にはアラビアガムあるいは水溶性樹脂の水溶液が広く
用いられている。)によって、画像のインキ受容性が低
下する現象をいう。インキ着肉性(すなわちインキ受容
性および感脂性)を改良するために、印刷インキに対す
る親和力を持つ種々の化合物を感光性組成物中に添加す
る技術が知られている。例えば特公昭62−60701
号公報には親油性で主となる高分子化合物と相溶性の悪
い高分子化合物を添加し、表面ほど親油性に富む層構成
にした技術が開示されており、特開昭63−20424
8号公報には置換フェノールとアルデヒド類とを縮合し
て得られる縮合重合樹脂を添加する技術が開示されてい
る。
However, when a photosensitive composition containing a polymer compound as described above is used as a lithographic printing plate, the initial ink receptivity is poor, and the "gum loss phenomenon" is caused even by the gum solution used in the finishing step. There is a problem of causing. The "gum loss phenomenon" refers to a hydrophilic film (generally gum arabic or an aqueous solution of a water-soluble resin is widely used) applied to the plate surface after development in order to protect the hydrophilicity of the non-image area. , A phenomenon in which the ink acceptability of an image decreases. In order to improve ink receptivity (that is, ink receptivity and oil sensitivity), a technique is known in which various compounds having an affinity for printing ink are added to a photosensitive composition. For example, Japanese Patent Publication 62-60701
Japanese Patent Laid-Open No. 63-20424 discloses a technique in which a high molecular compound which is lipophilic and has poor compatibility with a main polymer compound is added to form a layer structure which is more lipophilic toward the surface.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 8 discloses a technique of adding a condensation polymerization resin obtained by condensing a substituted phenol and an aldehyde.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにして印刷インキの着肉性を改良した感光性組成物を
平版印刷版として使用した場合、種々の不都合が生じる
ことが明らかになった。例えば、印刷を多数枚行うにつ
れて、レジストの刷り減りが起こり、表面にあった感脂
性分がなくなり、その結果、極端な印刷インキ着肉不良
すなわち耐刷力不良を引き起こすという問題がある。ま
た、上記縮合重合樹脂は、ジアゾ樹脂とカップリング反
応するためか、凝集物として感光層中に析出し、塗布不
良を起こすという問題がある。そこで本発明の目的は、
初期インキ着肉性が良好でガム負け現象を起こすことが
なく、多数枚印刷を行った場合でも印刷インキの着肉不
良が起きない感光性平版印刷版を提供することにある。
また、他の目的は、疲労した現像液にて処理したときで
も現像不良の起きない、すなわち印刷時に汚れの起きな
い現像安定性に優れた感光性平版印刷版を提供すること
にある。
However, it has become clear that various disadvantages occur when the photosensitive composition having improved ink receptivity of printing ink is used as a lithographic printing plate. For example, as a large number of prints are made, the amount of printing of the resist is reduced, and the oil sensitivity on the surface is lost. As a result, there is a problem that an extreme inking defect of the printing ink, that is, a poor printing durability is caused. Further, the condensation-polymerized resin has a problem that it may be deposited in the photosensitive layer as an aggregate and cause coating failure, probably because of the coupling reaction with the diazo resin. Therefore, the purpose of the present invention is to
An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate which has good initial ink receptivity, does not cause gum loss phenomenon, and does not cause imperfections in ink replenishment of printing ink even when printing a large number of sheets.
Another object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate excellent in development stability that does not cause development failure even when treated with a tired developer, that is, does not cause stains during printing.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、ジアゾ樹脂、
高分子化合物および感脂化剤を含む感光層を有する感光
性平版印刷版において、上記感脂化剤としてt−ブチル
置換ポリビニルフェノール樹脂を0.05〜20重量%
含有していることを特徴とする感光性平版印刷版を提供
するものである。
The present invention is directed to a diazo resin,
In a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a polymer compound and an oil sensitizer, 0.05 to 20% by weight of t-butyl-substituted polyvinylphenol resin is used as the oil sensitizer.
The present invention provides a photosensitive lithographic printing plate characterized by containing it.

【0007】上記ジアゾ樹脂としては、4−ジアゾジフ
ェニルアミン骨格、4−ジアゾジフェニルエーテル骨格
または4−ジアゾジフェニルスルフィド骨格を有するジ
アゾ単量体、アルデヒドまたはカルボキシル基を有する
アルデヒド類、および場合によっては前記アルデヒド類
と縮合可能な2価の芳香族化合物の共縮合体などが挙げ
られる。上記ジアゾ単量体の具体例としては、4−ジア
ゾジフェニルアミン、4’−ヒドロキシ−4−ジアゾジ
フェニルアミン、4’−メトキシ−4−ジアゾジフェニ
ルアミン、4’−エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミ
ン、4’−メチル−4−ジアゾジフェニルアミン、4’
−エチル−4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾ−
3−メトキシジフェニルアミン、3−メチル−4−ジア
ゾジフェニルアミン、3−エチル−4−ジアゾジフェニ
ルアミン、3’−メチル−4−ジアゾジフェニルアミ
ン、3−エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、4−
ジアゾジフェニルエーテル、4’−メトキシ−4−ジア
ゾジフェニルエーテル、4’−カルボキシ−4−ジアゾ
ジフェニルエーテル、4−ジアゾジフェニルスルフィ
ド、4’−メチル−4−ジアゾジフェニルスルフィルド
などが挙げられる。上記アルデヒド類の具体例として
は、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ブチルアルデヒド、グリオキシル酸などが
挙げられる。また、上記アルデヒド類の代わりに、4,
4’−ジメトキシメチルジフェニルエーテルを用いて縮
合することもできる。
Examples of the diazo resin include a diazo monomer having a 4-diazodiphenylamine skeleton, a 4-diazodiphenylether skeleton or a 4-diazodiphenylsulfide skeleton, an aldehyde or an aldehyde having a carboxyl group, and in some cases, the above-mentioned aldehydes. Examples thereof include a cocondensation product of a divalent aromatic compound that can be condensed with. Specific examples of the diazo monomer include 4-diazodiphenylamine, 4'-hydroxy-4-diazodiphenylamine, 4'-methoxy-4-diazodiphenylamine, 4'-ethoxy-4-diazodiphenylamine, 4'-methyl. -4-diazodiphenylamine, 4 '
-Ethyl-4-diazodiphenylamine, 4-diazo-
3-methoxydiphenylamine, 3-methyl-4-diazodiphenylamine, 3-ethyl-4-diazodiphenylamine, 3'-methyl-4-diazodiphenylamine, 3-ethoxy-4-diazodiphenylamine, 4-
Examples thereof include diazodiphenyl ether, 4'-methoxy-4-diazodiphenyl ether, 4'-carboxy-4-diazodiphenyl ether, 4-diazodiphenyl sulfide, 4'-methyl-4-diazodiphenylsulfide. Specific examples of the aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, glyoxylic acid and the like. Further, instead of the above aldehydes, 4,
It is also possible to condense with 4'-dimethoxymethyldiphenyl ether.

【0008】上記芳香族化合物の具体例としては、フェ
ノール、o,m,p−クレゾール、キシレノール、レゾ
ルシン,o,m,p−メトキシフェノール、カテコー
ル、p−ヒドロキシエチルフェノール、ナフトール、ピ
ロガロール、ヒドロキノン、ビスフェノールA、ビスフ
ェノールS、o,m,p−クロロフェノール、クミルフ
ェノール、安息香酸、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息
香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、p−メトキシ安
息香酸、p−フェノキシ安息香酸、ケイ皮酸、4−ヒド
ロキシケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、p
−ヒドロキシケイ皮酸メチル、p−ヒドロキシケイ皮酸
エチル、p−ニトロケイ皮酸、p−メトキシケイ皮酸、
シンナミリデン酢酸、p−ヒドロキシシンナミリデン酢
酸、シンナミリデン酢酸メチル、シンナミリデン酢酸エ
チル、p−ヒドロキシシンナミリデン酢酸メチル、p−
ヒドロキシシンナミリデン酢酸エチル、p−ニトロシン
ナミリデン酢酸、p−メトキシシンナミリデン酢酸、
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
Specific examples of the aromatic compound include phenol, o, m, p-cresol, xylenol, resorcin, o, m, p-methoxyphenol, catechol, p-hydroxyethylphenol, naphthol, pyrogallol, hydroquinone, Bisphenol A, bisphenol S, o, m, p-chlorophenol, cumylphenol, benzoic acid, salicylic acid, p-hydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, p-methoxybenzoic acid, p-phenoxybenzoic acid, Cinnamic acid, 4-hydroxycinnamic acid, methyl cinnamate, ethyl cinnamate, p
-Methyl hydroxycinnamate, ethyl p-hydroxycinnamate, p-nitrocinnamic acid, p-methoxycinnamic acid,
Cinnamylidene acetic acid, p-hydroxycinnamylidene acetic acid, cinnamylidene methyl acetate, cinnamylidene ethyl acetate, p-hydroxycinnamylidene methyl acetate, p-
Ethyl hydroxycinnamylidene acetate, p-nitrocinnamylidene acetic acid, p-methoxycinnamylidene acetic acid,
2,4-dihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone and the like can be mentioned.

【0009】上記ジアゾ樹脂は、有機塩または無機塩の
形態で用いることが好ましい。上記ジアゾ樹脂と反応し
て有機塩を形成する有機化合物の例としては、特公昭4
0−2203号、特公昭41−6813号、特公昭47
−1167号などに記載された化合物、具体的にはベン
ゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、2,5−キ
シレンスルホン酸、直鎖あるいは側鎖型ドデシルベンゼ
ンスルホン酸(通称ドデシルベンゼンスルホン酸)、2
−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼン
スルホン酸、メタニルエロー、2−クロルトルエン−4
−スルホン酸、およびこれらのアルカリ金属塩、アルカ
リ土類金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる。ま
た、上記ジアゾ樹脂と反応して無機塩を形成する無機化
合物の例としては、特公昭40−2203号、特開昭5
4−98613号、米国特許4093465号などに記
載された化合物、具体的にはホウフッ化水素酸、ヘキサ
フルオルリン酸、リンタングステン酸、チオシアン酸、
およびこれらのアルカリ金属塩、アンモニウム塩などが
挙げられる。上記ジアゾ樹脂の感光層に対する含有割合
は好ましくは1〜60重量%、より好ましくは5〜40
重量%である。
The diazo resin is preferably used in the form of an organic salt or an inorganic salt. As an example of the organic compound which reacts with the diazo resin to form an organic salt, Japanese Patent Publication No.
0-2203, Japanese Patent Publication No. 41-6813, Japanese Patent Publication No. 47
Nos. 1167 and the like, specifically benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, 2,5-xylenesulfonic acid, linear or side chain dodecylbenzenesulfonic acid (commonly known as dodecylbenzenesulfonic acid), Two
-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonic acid, methanyl yellow, 2-chlorotoluene-4
-Sulfonic acids and their alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts and the like. Further, examples of the inorganic compound which reacts with the above-mentioned diazo resin to form an inorganic salt include JP-B-40-2203 and JP-A-5-2053.
4-98613, U.S. Pat. No. 4,093,465 and the like, specifically, borofluoric acid, hexafluorophosphoric acid, phosphotungstic acid, thiocyanic acid,
And alkali metal salts and ammonium salts thereof. The content ratio of the diazo resin to the photosensitive layer is preferably 1 to 60% by weight, more preferably 5 to 40%.
% By weight.

【0010】上記高分子化合物としては、水に不溶でア
ルカリ可溶性または膨潤性の重合体が好ましい。このよ
うな重合体の例としては、下記(1)〜(8)のモノマ
ーをその構造単位とする共重合体が挙げられる。 (1) 芳香族水酸基を有するモノマー;例えばN−
(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−
(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド、p−イソプロ
ペニルフェノール、o,m,p−ヒドロキシスチレン、
o,m,p−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメ
タクリレート: (2) 脂肪族水酸基を有するモノマー;例えば2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシアクリ
レート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシメタクリレー
ト: (3) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸な
どのα,β−不飽和カルボン酸: (4) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ラウリル、グリシジルアクリレートなどの(置換)アル
キルアクリレート: (5) メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、シクロヘキシルメタクリレート、グリシジルメ
タクリレートなどの(置換)アルキルメタクリレート: (6) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリル
アミドなどのアクリルアミドまたはメタクリルアミド
類: (7) スチレン、α−メチルスチレン、クロロメチル
スチレンなどのスチレン類: (8) N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリルニトリル、メタクリ
ロニトリルなど: 上記アルカリ可溶性重合体としては、上記(1)〜
(8)のモノマーと共重合し得るモノマーを共重合させ
た共重合体を用いることもできる。また、上記モノマー
と共重合することによって得られた共重合体を、例えば
グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートな
どで修飾したものを用いることもできるが、勿論これら
に限定されるものではない。
The above-mentioned polymer compound is preferably a water-insoluble, alkali-soluble or swellable polymer. Examples of such polymers include copolymers having the following structural units (1) to (8) as their structural units. (1) A monomer having an aromatic hydroxyl group; for example, N-
(4-hydroxyphenyl) acrylamide or N-
(4-hydroxyphenyl) methacrylamide, N-
(P-hydroxyphenyl) maleimide, p-isopropenylphenol, o, m, p-hydroxystyrene,
o, m, p-hydroxyphenyl acrylate or methacrylate: (2) Monomer having aliphatic hydroxyl group; for example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy acrylate, 2-hydroxy-3-. Phenoxymethacrylate: (3) α, β-unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride: (4) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate,
(Substituted) alkyl acrylates such as hexyl acrylate, octyl acrylate, lauryl acrylate, glycidyl acrylate: (5) methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate,
(Substituted) alkyl methacrylates such as amyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate and glycidyl methacrylate: (6) acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacryl Amides, acrylamides such as N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide and N-phenylacrylamide, or methacrylamides: (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, chloromethylstyrene: (8) N-vinylpyrrolidone , N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc .: the above alkali-soluble polymer It is to, (1) to
It is also possible to use a copolymer obtained by copolymerizing a monomer copolymerizable with the monomer (8). Further, a copolymer obtained by copolymerizing with the above-mentioned monomer modified with, for example, glycidyl methacrylate or glycidyl acrylate may be used, but the copolymer is not limited thereto.

【0011】また、上記重合体には必要に応じてポリビ
ニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、アルカリ可溶
性ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、アルカリ可溶性
ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリド
ン、エチレン−ビニルアセテート共重合体、スチレン−
無水マレイン酸共重合体およびその部分エステル化物、
ポリビニルフェノール樹脂、フェノールまたはクレゾー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、t−ブチルフェノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂などを添加してもよい。上記高分子
化合物の感光層に対する含有割合は好ましくは5〜95
重量%、より好ましくは10〜90重量%である。
Further, if necessary, the above-mentioned polymers include polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, alkali-soluble polyurethane resin, polyamide resin, alkali-soluble polyamide resin, epoxy resin, polyvinylpyrrolidone, ethylene-vinyl acetate copolymer, styrene-
Maleic anhydride copolymer and its partially esterified product,
Polyvinylphenol resin, phenol or cresol-formaldehyde resin, t-butylphenol-formaldehyde resin and the like may be added. The content ratio of the polymer compound to the photosensitive layer is preferably 5 to 95.
%, More preferably 10 to 90% by weight.

【0012】上記感脂化剤はt−ブチル置換ポリビニル
フェノール樹脂であり、下記一般式(I)で示される。
The oil sensitizer is a t-butyl-substituted polyvinylphenol resin and is represented by the following general formula (I).

【化1】 (nは2以上の整数である。) 上記t−ブチル置換ポリビニルフェノール樹脂の感光層
に対する含有量は、0.05〜20重量%、より好まし
くは0.1〜15重量%、さらに好ましくは0.1〜1
0重量%である。0.05重量%未満ではインキ着肉性
が悪くなり、20重量%を越えると現像性が悪くなる。
[Chemical 1] (N is an integer of 2 or more.) The content of the t-butyl-substituted polyvinylphenol resin in the photosensitive layer is 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, and further preferably 0. 1-1
It is 0% by weight. If it is less than 0.05% by weight, the ink receptivity will be poor, and if it exceeds 20% by weight, the developability will be poor.

【0013】本発明の感光層には、上記の如き各成分の
ほか、必要に応じてさらに着色剤、保存安定剤、可塑
剤、界面活性剤などを添加することができる。上記着色
剤としては、染料、顔料などを使用することができる。
上記染料の具体例としては、クリスタルバイオレット、
マラカイドグリーン、ビクトリアブルー、メチレンブル
ー、エチルバイオレット、ローダミンBなど、およびこ
れらの誘導体である塩基性油性染料を挙げることができ
る。このような染料は、ビクトリアピュアーブルーBO
H(保土谷化学工業株式会社製)、オイルブルー613
(オリエント化学工業株式会社製)、パーマネントブル
ー#47(大同化学工業株式会社製)などとして市販さ
れている。また、上記顔料の具体例としては、フタロシ
アニンブルー、フタロシアニングリーン、ジオキサジン
バイオレット、キナクリドンレッド、インダンスレンブ
ルーなどを挙げることができる。その市販品としては、
ネオザポンブルーFLE(バーディシュ・アニリン
(社)製)、オイルブルーBOS(オリエント化学工業
株式会社製)、スピロンブルーGNH(保土谷化学工業
株式会社製)などがある。上記染料あるいは顔料の感光
層に対する含有割合は好ましくは0.1〜5.0重量
%、より好ましくは0.5〜4.0重量%である。
In addition to the above-mentioned components, the photosensitive layer of the present invention may further contain a colorant, a storage stabilizer, a plasticizer, a surfactant and the like, if necessary. As the colorant, a dye, a pigment or the like can be used.
Specific examples of the dye include crystal violet,
Mention may be made of malachide green, Victoria blue, methylene blue, ethyl violet, rhodamine B and the like, and basic oil dyes which are derivatives thereof. Such dyes are available in Victoria Pure Blue BO
H (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Oil Blue 613
(Manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Permanent Blue # 47 (manufactured by Daido Chemical Industry Co., Ltd.) and the like. Specific examples of the above pigment include phthalocyanine blue, phthalocyanine green, dioxazine violet, quinacridone red, and indanthrene blue. As its commercial product,
Examples include Neozapon Blue FLE (manufactured by Bardish Aniline Co., Ltd.), Oil Blue BOS (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), and Spiron Blue GNH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.). The content of the dye or pigment in the photosensitive layer is preferably 0.1 to 5.0% by weight, more preferably 0.5 to 4.0% by weight.

【0014】上記保存安定剤としては、リン酸、シュウ
酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、マンデル酸、ベンゾ
フェノン誘導体などが挙げられる。これら保存安定剤の
含有量は、ジアゾ樹脂塩に対して、好ましくは2〜20
重量%、より好ましくは5〜15重量%である。本発明
においては、感光層の塗布性をよくしたり、感光層の支
持体への接着性を向上させる目的で、可塑剤や界面活性
剤を加えることもできる。上記可塑剤としては、ジメチ
ルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、ジヘプチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフ
タレート、ジ−n−オクチルフタレート、ジイソデシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニル
フタレート、エチルフタリルエチルグリコール、ジメチ
ルイソフタレートなどが挙げられる。上記可塑剤の感光
層に対する含有割合は好ましくは約0.5〜3.0重量
%、より好ましくは0.6〜2.0重量%である。上記
界面活性剤としては、ソルビタンモノオレエイト、ソル
ビタンステアリレイト、ソルビタンモノステアレイト、
ソルビタンセキスオレイト、ソルビタンモノラウレイ
ト、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリ
オキシエチレンオクチルフェニルエーテルなどが挙げら
れる。
Examples of the storage stabilizer include phosphoric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, tartaric acid, mandelic acid, benzophenone derivatives and the like. The content of these storage stabilizers is preferably 2 to 20 with respect to the diazo resin salt.
%, More preferably 5 to 15% by weight. In the present invention, a plasticizer or a surfactant may be added for the purpose of improving the coatability of the photosensitive layer and improving the adhesion of the photosensitive layer to the support. Examples of the plasticizer include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, di-n-octyl phthalate, diisodecyl phthalate, butylbenzyl phthalate, diisononyl phthalate, ethylphthalylethyl glycol, dimethyl. Examples include isophthalate. The content of the plasticizer in the photosensitive layer is preferably about 0.5 to 3.0% by weight, more preferably 0.6 to 2.0% by weight. As the surfactant, sorbitan monooleate, sorbitan stearate, sorbitan monostearate,
Examples thereof include sorbitan sesquioleate, sorbitan monolaurate, polyoxyethylene nonylphenyl ether, and polyoxyethylene octylphenyl ether.

【0015】本発明においては、上記の如き成分を含む
感光性組成物をメタノール、エタノール、プロパノー
ル、アセトン、メチレンクロライド、メチルエチルケト
ン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、N−N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセ
ロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、乳酸メチルなどの適当な溶媒に単独であるい
は2種以上混合して溶解することにより、感光液を調製
する。そして、調製した感光液を支持体表面に塗布乾燥
することにより、本発明の感光性平版印刷版が得られ
る。
In the present invention, a photosensitive composition containing the above components is added to methanol, ethanol, propanol, acetone, methylene chloride, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, tetrahydrofuran, NN-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, ethylene glycol monomethyl. Sensitization by dissolving in a suitable solvent such as ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl lactate alone or in combination of two or more Prepare the liquid. Then, the prepared photosensitive solution is applied to the surface of the support and dried to obtain the photosensitive lithographic printing plate of the present invention.

【0016】上記感光液の塗布は、従来公知の方法、例
えば回転塗布、押し出し塗布、ワイヤーバー塗布、ロー
ル塗布、エアーナイフ塗布、ディップ塗布、カーテン塗
布などの塗布方法で行なうことができる。上記感光液の
塗布量は用途により異なるが、感光性平版印刷材料につ
いては固形分として0.1〜10g/m2 が好ましい。
本発明の感光性平版印刷版の支持体としては、紙、プラ
スチックフィルム、あるいは銅、亜鉛、アルミニウム、
ステンレスなどの金属板、さらにこれらを2種以上組み
合わせた複合材料を用いることができる。これらの中
で、特にブラシまたはボール研磨したアルミニウム板、
ブラシ研磨したのち陽極酸化処理を施したアルミニウム
板、電解研磨したのち陽極酸化を施したアルミニウム
板、あるいはこれらを組み合わせた処理を施したアルミ
ニウム板が好ましい。このような前処理を施したアルミ
ニウム板に、さらに後処理としてケイ酸アルカリ、リン
酸ソーダ、フッ化ナトリウム、フッ化ジルコニウム、ア
ルキルチタネート、トリヒドロキシ安息香酸などの単独
液あるいは混合液による化成処理や、ベーマイト処理あ
るいは酢酸ストロンチウム、酢酸亜鉛、酢酸マグネシウ
ム、安息香酸カルシウムなどの水溶液による被覆処理、
ポリビニルピロリドン、ポリアミンスルホン酸、ポリビ
ニルホスホン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、
ポリ−2−ヒドロキシエチルアクリレートなどによる被
覆処理を行なうこともできる。
The above-mentioned photosensitive liquid can be applied by a conventionally known method such as spin coating, extrusion coating, wire bar coating, roll coating, air knife coating, dip coating, curtain coating and the like. The coating amount of the above-mentioned photosensitive solution varies depending on the use, but the solid content of the photosensitive lithographic printing material is preferably 0.1 to 10 g / m 2 .
The support of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, paper, plastic film, or copper, zinc, aluminum,
A metal plate such as stainless steel or a composite material in which two or more of these are combined can be used. Among these, especially brushed or ball-polished aluminum plates,
An aluminum plate that has been brush-polished and then anodized, an aluminum plate that has been electrolytically polished and then anodized, or an aluminum plate that has been subjected to a combination of these processes is preferable. The aluminum plate which has been subjected to such a pretreatment is further subjected to a chemical conversion treatment with a single liquid or a mixed liquid of alkali silicate, sodium phosphate, sodium fluoride, zirconium fluoride, alkyl titanate, trihydroxybenzoic acid or the like as a post treatment. , Boehmite treatment or coating treatment with an aqueous solution of strontium acetate, zinc acetate, magnesium acetate, calcium benzoate, etc.
Polyvinylpyrrolidone, polyaminesulfonic acid, polyvinylphosphonic acid, polyacrylic acid, polymethacrylic acid,
It is also possible to perform a coating treatment with poly-2-hydroxyethyl acrylate or the like.

【0017】また、本発明においては、フィルムとの真
空密着性をよくする目的で、感光層上にマット層を設け
たり、感光層中に有機溶剤不溶性のマット剤あるいは有
機溶剤不溶性の高分子化合物を含有することもできる。
本発明の感光性平版印刷版に活性光線を照射するための
光源としては、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノ
ンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、アルゴ
ンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、エキシマ
レーザーなどを用いることができる。本発明の感光性平
版印刷版に対する現像液としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、オルトケイ酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、オクタン酸ナトリウム、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イドなどのアルカリ性化合物の水溶液(アルカリ性水溶
液)が挙げられる。
In the present invention, for the purpose of improving the vacuum adhesion to the film, a mat layer is provided on the photosensitive layer, an organic solvent-insoluble matting agent or an organic solvent-insoluble polymer compound is contained in the photosensitive layer. Can also be included.
As a light source for irradiating the photosensitive lithographic printing plate of the present invention with an actinic ray, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp, an argon laser, a helium / cadmium laser, an excimer laser or the like can be used. it can. The developer for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, sodium hydroxide,
Alkaline such as potassium hydroxide, sodium silicate, sodium metasilicate, sodium orthosilicate, sodium phosphate tribasic, sodium phosphate dibasic, sodium octanoate, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide An aqueous solution of the compound (alkaline aqueous solution) may be mentioned.

【0018】上記のアルカリ性水溶液には、必要に応じ
て活性剤および/または溶剤を添加することができる。
上記活性剤としては、陰イオン界面活性剤あるいは両性
界面活性剤を使用することができる。上記陰イオン界面
活性剤としては、炭素数が8〜22のアルコールの硫酸
エステル類(例えばポリオキシエチレンアルキルサルフ
ェートソーダ塩)、アルキルアリールスルホン酸塩類
(例えばドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ、ポリオキ
シエチレンドデシルフェニルサルフェートソーダ塩、ア
ルキルナフタレンスルホン酸ソーダ、ナフタレンスルホ
ン酸ソーダ、ナフタレンスルホン酸ソーダのホルマリン
縮合物)、ソジウムジアルキルスルホサクシネート、ア
ルキルエーテルリン酸エステル、アルキルリン酸エステ
ルなどを用いることができる。また、上記両性界面活性
剤としては、アルキルベタイン型またはアルキルイミダ
ソリン型活性剤が好ましい。上記溶剤としてはアルコー
ル類、エーテル類が好ましいが、水中(20℃)に10
%以上溶解しない溶剤が好ましく、この種の溶剤として
は、ベンジルアルコール、DL−α−フェニルエチルア
ルコール、2−フェニルエチルアルコール、フェニルグ
リコール、フェニルセロソルブなどが挙げられる。上記
アルカリ性水溶液中には、さらに亜硫酸ナトリウム、亜
硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウムな
どの水溶性亜硫酸塩を添加することもできる。
If necessary, an activator and / or a solvent may be added to the above alkaline aqueous solution.
An anionic surfactant or an amphoteric surfactant can be used as the above-mentioned surfactant. Examples of the anionic surfactant include sulfuric acid esters of alcohol having 8 to 22 carbon atoms (for example, polyoxyethylene alkyl sulfate soda salt), alkylaryl sulfonates (for example, sodium dodecylbenzenesulfonate, polyoxyethylene dodecylphenyl). Sulfate soda salt, sodium alkylnaphthalene sulfonate, sodium naphthalene sulfonate, formalin condensate of sodium naphthalene sulfonate), sodium dialkyl sulfosuccinate, alkyl ether phosphate, alkyl phosphate ester and the like can be used. The amphoteric surfactant is preferably an alkyl betaine type or an alkyl imidazoline type. Alcohols and ethers are preferable as the above-mentioned solvent, but 10% in water (20 ° C)
A solvent that does not dissolve by more than 100% is preferable, and examples of this type of solvent include benzyl alcohol, DL-α-phenylethyl alcohol, 2-phenylethyl alcohol, phenyl glycol, and phenyl cellosolve. Water-soluble sulfites such as sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite and magnesium sulfite can be further added to the alkaline aqueous solution.

【0019】〔実施例〕以下に、本発明を合成例と実施
例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
[Examples] The present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0020】合成例: 1.高分子化合物No.1の合成;攪拌機および冷却管
を備えた1リットルの四ツ口フラスコに反応溶媒として
エチレングリコールモノメチルエーテル200gと下記
組成の混合物を加えた。フラスコ内を90℃に加温して
から、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリ
ル)0.4gを加えて、窒素ガスで置換したのち、90
℃で5時間攪拌した。反応終了後、反応混合物を10リ
ットルの水に投入したのち、濾過、乾燥した。 記 2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート 20g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート 30g メタクリル酸 5g メチルメタクリレート 20g アクリルニトリル 25g 2.高分子化合物No.2の合成;下記組成の混合物を
使用する以外は高分子化合物No.1と同様の条件で共
重合させて、高分子化合物No.2を得た。 記 p−イソプロペニルフェノール 40g 2−ヒドロキシエチルメタクリレート 15g メタクリル酸 5g メチルメタクリレート 10g アクリルニトリル 30g
Synthesis example: 1. Polymer compound No. Synthesis of 1; 200 g of ethylene glycol monomethyl ether as a reaction solvent and a mixture having the following composition were added to a 1-liter four-necked flask equipped with a stirrer and a cooling tube. After heating the inside of the flask to 90 ° C., 0.4 g of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added and the atmosphere was replaced with nitrogen gas.
The mixture was stirred at 0 ° C for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into 10 liters of water, filtered and dried. Note 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate 20 g 2-hydroxyethyl methacrylate 30 g methacrylic acid 5 g methyl methacrylate 20 g acrylonitrile 25 g 2. Polymer compound No. Synthesis of Polymer Compound No. 2 except that a mixture having the following composition is used. Polymerization was carried out under the same conditions as in Polymer No. Got 2. Description p-isopropenylphenol 40 g 2-hydroxyethyl methacrylate 15 g Methacrylic acid 5 g Methyl methacrylate 10 g Acrylonitrile 30 g

【0021】実施例1,2および比較例1〜3:厚さ
0.24mm、幅1000mmのアルミニウム板(材質
1050)をアルカリ脱脂したのち、パーミストンの水
懸濁液をかけながらナイロンブラシで表面を研磨し、そ
の後よく水洗した。次に、70℃、20%のカセイソー
ダ液を5秒間かけ流し、表面を3g/m2エッチングし
たのち、流水で水洗し、塩酸(35g/リットル)、ホ
ウ酸(20g/リットル)およびアルミニウムイオン
(20g/リットル)からなる電解液中45℃で30A
/dm2 の電流密度で30秒間電解研磨し、水洗した。
次いで、70℃、20%のカセイソーダ液をかけ流して
表面をエッチングし、さらに水洗を行なったのち、30
℃の10%硫酸水溶液中で陽極酸化処理を行なって、
2.0g/m2 の酸化皮膜を形成させた。水洗したの
ち、JIS3号ケイ酸ナトリウム5%を含む水溶液で、
70℃、10秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。このよう
にして得られたアルミニウム板上に下記組成の感光液1
〜5をそれぞれ乾燥後の塗膜重量が1.8g/m2 にな
るように塗布して、乾燥した。 記 実施例1(感光液1); 高分子化合物No.1 3.0g 4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物の 2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼン スルホン酸塩(ジアゾ樹脂No.1) 0.3g t−ブチル置換ポリビニルフェノール樹脂 0.06g ビクトリアピュアーブルーBOH 0.06g シュウ酸 0.02g エチレングリコールモノメチルエーテル 60g プロピレングリコールモノメチルエーテル 30g N−N−ジメチルホルムアミド 10g 実施例2(感光液2); 高分子化合物No.2 3.0g 4−ジアゾジフェニルアミンとp−ヒドロキシ安息香酸と ホルムアルデヒドの共縮合物の2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5− ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩(ジアゾ樹脂No.2) 0.3g t−ブチル置換ポリビニルフェノール樹脂 0.06g ビクトリアピュアーブルーBOH 0.06g リンゴ酸 0.02g エチレングリコールモノメチルエーテル 60g プロピレングリコールモノメチルエーテル 30g N−N−ジメチルホルムアミド 10g 比較例1(感光液3); 高分子化合物No.1 3.0g ジアゾ樹脂No.1 0.3g スチレン−無水マレイン酸樹脂のイソブチルアルコール ハーフエステル樹脂 0.06g ビクトリアピュアーブルーBOH 0.06g シュウ酸 0.02g エチレングリコールモノメチルエーテル 60g プロピレングリコールモノメチルエーテル 30g N−N−ジメチルホルムアミド 10g 比較例2(感光液4); 高分子化合物No.2 3.0g ジアゾ樹脂No.2 0.3g t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 0.06g ビクトリアピュアーブルーBOH 0.06g リンゴ酸 0.02g エチレングリコールモノメチルエーテル 60g プロピレングリコールモノメチルエーテル 30g N−N−ジメチルホルムアミド 10g 比較例3(感光液5); 高分子化合物No.1 3.0g ジアゾ樹脂No.1 0.3g ビクトリアピュアーブルーBOH 0.06g シュウ酸 0.02g エチレングリコールモノメチルエーテル 60g プロピレングリコールモノメチルエーテル 30g N−N−ジメチルホルムアミド 10g
Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3: An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.24 mm and a width of 1000 mm was alkali-degreased, and then a nylon brush was used to clean the surface with a water suspension of permistone. Polished and then thoroughly washed with water. Then, a caustic soda solution of 20% at 70 ° C. is flowed over for 5 seconds to etch the surface with 3 g / m 2 and then washed with running water, hydrochloric acid (35 g / liter), boric acid (20 g / liter) and aluminum ion ( 20 g / l) in electrolyte at 45 ° C for 30 A
Electrolytic polishing was carried out at a current density of / dm 2 for 30 seconds, followed by washing with water.
Then, a caustic soda solution of 70 ° C. and 20% is poured over the surface to etch the surface, and the surface is further washed with water.
Anodic oxidation treatment in 10% sulfuric acid aqueous solution at ℃,
An oxide film of 2.0 g / m 2 was formed. After washing with water, an aqueous solution containing JIS 3 sodium silicate 5%,
It was dipped at 70 ° C. for 10 seconds, washed with water and dried. On the aluminum plate thus obtained, the photosensitive liquid 1 having the following composition
Nos. 5 to 5 were applied so that the coating film weight after drying was 1.8 g / m 2 and dried. Example 1 (photosensitive liquid 1); Polymer compound No. 1 3.0 g 4- condensate of diazodiphenylamine and formaldehyde 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzene sulfonate (diazo resin No. 1) 0.3 g t-butyl-substituted polyvinylphenol resin 0.06 g Victoria Pure blue BOH 0.06 g Oxalic acid 0.02 g Ethylene glycol monomethyl ether 60 g Propylene glycol monomethyl ether 30 g N-N-dimethylformamide 10 g Example 2 (photosensitive solution 2); 2 3.0 g 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate (diazo resin No. 2) of a co-condensate of 4-diazodiphenylamine, p-hydroxybenzoic acid and formaldehyde 0.3 g t-butyl substitution Polyvinylphenol resin 0.06 g Victoria Pure Blue BOH 0.06 g Malic acid 0.02 g Ethylene glycol monomethyl ether 60 g Propylene glycol monomethyl ether 30 g N-N-dimethylformamide 10 g Comparative example 1 (photosensitive solution 3); 1 3.0 g diazo resin No. 1 1 0.3 g Styrene-isobutyl alcohol of maleic anhydride resin Half ester resin 0.06 g Victoria Pure Blue BOH 0.06 g Oxalic acid 0.02 g Ethylene glycol monomethyl ether 60 g Propylene glycol monomethyl ether 30 g N-N-dimethylformamide 10 g Comparative example 2 (photosensitive liquid 4); polymer compound No. 2 3.0 g diazo resin No. 2 0.3 g t-butylphenol-formaldehyde resin 0.06 g Victoria Pure Blue BOH 0.06 g Malic acid 0.02 g Ethylene glycol monomethyl ether 60 g Propylene glycol monomethyl ether 30 g N-N-dimethylformamide 10 g Comparative example 3 (photosensitive solution 5) Polymer compound No. 1 3.0 g diazo resin No. 1 1 0.3 g Victoria Pure Blue BOH 0.06 g Oxalic acid 0.02 g Ethylene glycol monomethyl ether 60 g Propylene glycol monomethyl ether 30 g N-N-dimethylformamide 10 g

【0022】このようにして得た感光性平版印刷版に、
ネガフィルムおよびコダック社製ステップタブレットN
o.2を真空密着し、2KW高圧水銀灯を用いて、距離
1mで30秒間紫外線を照射したのち、下記組成の現像
液No.1またはNo.2を用いて25℃、30秒間浸
漬して現像し、平版印刷版試料を得た。 現像液No.1; ケイ酸カリウム20%水溶液 50g フェニルグリコール 40g イソプロピルナフタレンスルホン酸カリウム 5g 亜硫酸カルウム 2g 水 903g 現像液No.2; JIS 3号ケイ酸ナトリウム 25g 水酸化カリウム 15g アモーゲンK(第1工業製薬株式会社製) 1g 水 1kg 続いて、アラビアガム8度ボーメ液にてガム引きを行な
い、次のテストを行なった。その結果を表1に示す。 (1) インキ着肉性;刷り出しから画像部に均一にイ
ンキが着肉しているかを観察し、次の基準で評価した。 ○:初刷りから数千枚印刷してもインキ着肉性に問題な
し。 △:初刷りはインキ着肉するが、数枚刷ると着肉不良を
起こす。 ×:初刷りから部分的着肉不良箇所が出る。 (2) 現像性テスト;上記現像液No.1およびN
o.2を水で2倍希釈して、現像した場合(25℃で3
0秒)の非画像部の汚れの有無を調べた。
In the photosensitive lithographic printing plate thus obtained,
Negative film and Kodak step tablet N
o. 2 was vacuum-adhered and irradiated with ultraviolet rays for 30 seconds at a distance of 1 m using a 2 kW high-pressure mercury lamp, and then a developer No. 2 having the following composition was used. 1 or No. 2 was used for immersion at 25 ° C. for 30 seconds for development to obtain a lithographic printing plate sample. Developer No. 1; potassium silicate 20% aqueous solution 50 g phenyl glycol 40 g isopropyl potassium naphthalene sulfonate 5 g calcium sulfite 2 g water 903 g developer No. 1; 2; JIS No. 3 sodium silicate 25 g Potassium hydroxide 15 g Amogen K (manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 1 g Water 1 kg Subsequently, gumming was carried out with gum arabic 8 degree Baume liquid, and the following test was conducted. The results are shown in Table 1. (1) Ink receptivity: Whether or not the ink was uniformly adhered to the image area after printing was evaluated and evaluated according to the following criteria. ○: There is no problem in ink receptivity even when printing several thousand sheets from the first printing. Δ: Ink is deposited on the first printing, but defective deposition occurs after printing several sheets. X: Partial defective inking occurs from the first printing. (2) Developability test; the developer No. 1 and N
o. When 2 is diluted with water twice and developed (3 at 25 ° C
The presence or absence of stains on the non-image area at 0 second) was examined.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】表1に示す結果から明かなように、本発明
の感光性印刷版はインキ着肉性および現像性が著しく改
良されている。
As is clear from the results shown in Table 1, the photosensitive printing plate of the present invention has markedly improved ink receptivity and developability.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版は、初期イン
キ着肉性および現像性に優れており、ガム負け現象を引
き起こさず、特に多数枚印刷を行った場合の印刷インキ
の着肉性、すなわち耐刷力が優れているという顕著な効
果を奏するものである。さらに本発明の感光性平版印刷
版は、現像安定性に優れている。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The photosensitive lithographic printing plate of the present invention is excellent in initial ink receptivity and developability, does not cause a gum loss phenomenon, and particularly the receptivity of printing ink when a large number of sheets are printed. That is, it has a remarkable effect that the printing durability is excellent. Furthermore, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has excellent development stability.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ジアゾ樹脂、高分子化合物および感脂化
剤を含む感光層を有する感光性平版印刷版において、上
記感脂化剤としてt−ブチル置換ポリビニルフェノール
樹脂を0.05〜20重量%含有していることを特徴と
する感光性平版印刷版。
1. A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a diazo resin, a polymer compound and an oil sensitizer, wherein 0.05 to 20% by weight of t-butyl-substituted polyvinylphenol resin is used as the oil sensitizer. A photosensitive lithographic printing plate characterized by containing it.
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