JPH06309899A - Semiconductor memory and testing method - Google Patents

Semiconductor memory and testing method

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JPH06309899A
JPH06309899A JP9918993A JP9918993A JPH06309899A JP H06309899 A JPH06309899 A JP H06309899A JP 9918993 A JP9918993 A JP 9918993A JP 9918993 A JP9918993 A JP 9918993A JP H06309899 A JPH06309899 A JP H06309899A
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JP
Japan
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bit lines
data
precharge
semiconductor memory
circuit
Prior art date
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Application number
JP9918993A
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Japanese (ja)
Inventor
敏文 ▲濱▼口
Toshifumi Hamaguchi
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Publication date
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Publication of JPH06309899A publication Critical patent/JPH06309899A/en
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Abstract

PURPOSE:To reduce the pretesting time of each memory cell by providing a precharging means, potential state control means, and Y-decoders for a plurality of bit lines and, especially, means which hold the potential states of the bit lines to each bit line. CONSTITUTION:When a precharge (Pc) signal 300 turns on the transistor (Tr) 4a of a Pc circuit 4, precharging is performed by storing charges in bit lines 101-104 from a power source 4a. The signal 300 then turns off the Tr 4a of the circuit 4 and data are settled by setting the bit lines to 'L' or 'H' levels by or without discharging the charges by means of a memory cell array 1 on a word line selected from among word lines 211-214. After a charge holding circuit 5 maintains the 'H' level by replenishing the bit lines 101-104 with charges by means of an inverter 5c and Tr 5b, a Y-decoder 3 successively selects the word lines 211-214. Then, word decoders 3 respectively installed to the word lines 211-214 test output data 100 by successively selecting the bit lines 101-104. Therefore, the pretesting time of all memory cells can be shortened.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は集積回路、特にマイクロ
コンピュータやマイクロコントローラに内蔵される半導
体メモリに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an integrated circuit, and more particularly to a semiconductor memory built in a microcomputer or a microcontroller.

【0002】[0002]

【従来の技術】マイクロコンピュータやマイクロコント
ローラの集積回路は通常の高速動作のほか、低速動作を
必要とする場合がある。たとえば、現在市販されている
磁気録画再生装置等において、コンセントを抜いたり停
電があったりしても、その録画予約等の記憶内容が消去
されてしまうようなことがない。これは補助電源が動作
して記憶内容を保持するためである。この補助電源の電
圧をできるだけ長持ちさせるためには消費電力を小さく
する必要があり、そのためにマイクロコンピュータ等を
低速モードで動作させている。
2. Description of the Related Art An integrated circuit of a microcomputer or a microcontroller may require a low speed operation in addition to a normal high speed operation. For example, in a magnetic recording / reproducing apparatus currently on the market, even if the outlet is unplugged or a power failure occurs, the stored contents such as the recording reservation will not be erased. This is because the auxiliary power supply operates and holds the stored contents. In order to keep the voltage of the auxiliary power source as long as possible, it is necessary to reduce the power consumption, and therefore the microcomputer and the like are operated in the low speed mode.

【0003】マイクロコンピュータ等の集積回路に内蔵
される半導体メモリでは、各メモリセルにリーク電流等
が発生するような欠陥があるか否かを事前にテストする
が、このテストを行なう場合、上述のように低速で動作
しうるマイクロコンピュータについては高速動作でテス
トしても低速動作時に生じる欠陥を的確に発見すること
ができないので、テストの場合も同様に低速動作(低速
でのプリチャージやディスチャージ)としなければなら
ない。
In a semiconductor memory built in an integrated circuit such as a microcomputer, it is tested in advance whether or not each memory cell has a defect that causes a leak current or the like. For a microcomputer that can operate at a low speed like this, even if it is tested at a high speed, it is not possible to accurately detect defects that occur during low speed operation, so in the case of testing as well, low speed operation (precharge or discharge at low speed) And have to.

【0004】従来の半導体メモリをテストする場合に
は、1アドレスごとすなわち一つのメモリセルごとに検
査を行っていた。以下、従来の半導体メモリとそのテス
ト方法について図面を用いて説明する。
When testing a conventional semiconductor memory, the test is performed for each address, that is, for each memory cell. A conventional semiconductor memory and its testing method will be described below with reference to the drawings.

【0005】図2は従来の半導体メモリの回路構成を示
す。この回路は、メモリセルアレイ1,Yデコーダ2,
出力デコーダ3,プリチャージ回路4,電位保持回路5
0で構成されている。プリチャージ回路4には、プリチ
ャージ信号300が入力され、ビット線101〜104
に電荷を蓄積して電位を電源レベルにする。Yデコーダ
2には、上位のアドレス203,204が入力され、行
アドレス211〜214を出力する。ビット線101〜
104は、メモリセルアレイ1と出力デコーダ3とプリ
チャージ回路4に接続されている。出力デコーダ3に
は、下位のアドレス201,202が入力され、データ
100を出力する。データ100に電荷保持回路50が
接続されている。
FIG. 2 shows a circuit configuration of a conventional semiconductor memory. This circuit includes a memory cell array 1, a Y decoder 2,
Output decoder 3, precharge circuit 4, potential holding circuit 5
It consists of zero. The precharge signal 300 is input to the precharge circuit 4, and the bit lines 101 to 104 are input.
The electric charge is accumulated in and the potential becomes the power supply level. The upper addresses 203 and 204 are input to the Y decoder 2 and the row addresses 211 to 214 are output. Bit line 101-
104 is connected to the memory cell array 1, the output decoder 3, and the precharge circuit 4. The lower addresses 201 and 202 are input to the output decoder 3, and the data 100 is output. A charge holding circuit 50 is connected to the data 100.

【0006】以上のように構成された半導体メモリにつ
いて、そのテストを行う場合の動作を説明する。
The operation of the semiconductor memory having the above-described structure when performing a test will be described.

【0007】この回路の動作の1サイクルは、プリチャ
ージ動作とデータを確定する動作からなる。プリチャー
ジ動作はプリチャージ回路4からビット線101〜10
4に電荷を蓄積する動作であり、またデータ確定の動作
はビット線に蓄積された電荷をNチャンネルトランジス
タを介して放電することまたは放電しないことによって
データの0または1を確定する動作である。
One cycle of the operation of this circuit consists of a precharge operation and an operation of fixing data. The precharge operation is performed from the precharge circuit 4 to the bit lines 101 to 10
4 is an operation for accumulating electric charges, and a data fixing operation is an operation for fixing 0 or 1 of data by discharging or not discharging the charges accumulated in the bit line through the N-channel transistor.

【0008】プリチャージ動作では、プリチャージ信号
300がプリチャージ回路4のPチャンネルトランジス
タをオンさせることにより、ビット線101〜104に
電荷を蓄積する。前述の動作内にアドレス201〜20
4が確定する。Yデコーダ2は、アドレス203,20
4によって、ワード線211〜214のいずれかを選択
的にハイレベルとする。また、出力デコーダ3は、アド
レス201,202によってビット線101〜104の
いずれかをデータ100に選択的に接続する。
In the precharge operation, the precharge signal 300 turns on the P-channel transistor of the precharge circuit 4 to accumulate charges in the bit lines 101 to 104. Addresses 201-20 within the above operation
4 is fixed. The Y decoder 2 has addresses 203, 20
4, one of the word lines 211 to 214 is selectively set to the high level. Further, the output decoder 3 selectively connects any of the bit lines 101 to 104 to the data 100 by the addresses 201 and 202.

【0009】一方、データを確定する動作では、まずプ
リチャージ信号300がプリチャージ回路4のPチャン
ネルトランジスタをオフし、選択された行アドレスでド
ライブされるNチャンネルトランジスタによって、ビッ
ト線に蓄積された電荷を放電することまたは放電しない
ことを行い、ビット線をローレベルまたはハイレベルと
する。そして、選択されたビット線の出力がデータ10
0の出力となって得られる。この場合、ローレベル状態
を作り出すのはNチャンネルトランジスタを介して電荷
を放電することにより行い、ハイレベル状態を作り出す
のは電位保持回路50を働かせて、電荷を補給すること
によりプリチャージされた電位を保持して行う。
On the other hand, in the operation of determining the data, the precharge signal 300 first turns off the P channel transistor of the precharge circuit 4 and is accumulated in the bit line by the N channel transistor driven by the selected row address. The charge is discharged or not discharged, and the bit line is set to low level or high level. Then, the output of the selected bit line is the data 10
It is obtained as an output of 0. In this case, the low-level state is created by discharging the electric charge through the N-channel transistor, and the high-level state is created by operating the potential holding circuit 50 to replenish the electric charge to precharge the precharged potential. Hold.

【0010】従来では、一つのメモリセルからの出力を
得るごとに、すなわち、一つのメモリセルをテストする
ごとに、上記のプリチャージ動作とデータ確定動作の1
サイクルを行い、これらを繰り返すことで最終的に全て
のメモリセルについてのテストを完了していた。
Conventionally, one of the precharge operation and the data confirmation operation described above is performed every time an output from one memory cell is obtained, that is, every time one memory cell is tested.
By repeating the cycle, these tests were finally completed for all the memory cells.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の構成では半導体メモリの事前のテストにおい
て、一つのメモリセル(1アドレス)をテストするごと
に1回のプリチャージと1回のデータ確定を行なわなけ
ればならず、半導体メモリを構成する全てのメモリセル
(全アドレス)をテストするには、メモリセルの数と同
じ回数だけプリチャージ動作とデータ確定動作を行う必
要があった。特に、集積回路を低速で用いる場合には、
その動作を保証するためにテスト動作も低速で行なうた
め、1回のプリチャージやデータ確定に要する時間が長
くなり、テスト全体では非常に長い時間を要するという
問題があった。
However, in such a conventional configuration, in the preliminary test of the semiconductor memory, one precharge and one data confirmation are performed each time one memory cell (one address) is tested. In order to test all the memory cells (all addresses) that make up the semiconductor memory, it is necessary to perform the precharge operation and the data confirmation operation the same number of times as the number of memory cells. Especially when the integrated circuit is used at low speed,
Since the test operation is performed at a low speed to guarantee the operation, the time required for one precharge and data confirmation becomes long, and there is a problem that the entire test takes a very long time.

【0012】具体的には、高速動作であれば1回のテス
トサイクル(1回のプリチャージとデータ確定)に約
0.5×10-6秒しか要しないが、低速動作では1回の
テストサイクルに約125×10-6秒も要する。すなわ
ち、低速動作の場合、プリチャージとデータ確定を複数
回繰り返すと、いちじるしく長い時間を要することにな
る。
Specifically, one test cycle (one precharge and data confirmation) requires only about 0.5 × 10 −6 seconds for high speed operation, but one test cycle for low speed operation. The cycle takes about 125 × 10 −6 seconds. That is, in the case of low speed operation, if precharging and data confirmation are repeated a plurality of times, a remarkably long time is required.

【0013】本発明は従来の問題を解決するもので、テ
スト段階においてプリチャージとデータ確定の動作回数
を少なくし、テスト時間を短縮できる半導体メモリおよ
びそのテスト方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the conventional problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory and a test method thereof, which can reduce the number of precharge and data confirmation operations in the test stage and shorten the test time.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ
は、複数のビット線を高電位状態とするプリチャージ手
段と、これらのビット線の電位状態を制御する複数のト
ランジスタおよびYデコーダと、複数のビット線から1
本を選択する出力デコーダと、複数のビット線の各々に
各ビット線の電位状態を保持するための電位保持手段を
設けている。
A semiconductor memory of the present invention comprises a precharge means for bringing a plurality of bit lines into a high potential state, a plurality of transistors and a Y decoder for controlling the potential states of these bit lines, and a plurality of 1 from the bit line
An output decoder for selecting a book and a potential holding unit for holding the potential state of each bit line are provided in each of the plurality of bit lines.

【0015】また、本発明の半導体メモリのテスト方法
は、複数のビット線の各々に電位保持手段を設けた半導
体メモリにおいて、複数のビット線をプリチャージし、
これらのビット線の電位状態を保持またはディスチャー
ジしてデータを確定した後で、1本のワード線を選択し
て、選択したワード線上にある複数のビット線を1本ず
つ順に選択してそれぞれの確定データを順に出力しテス
トする。そして以上の動作を1回のテストサイクルと
し、このテストサイクルを全てのワード線について繰り
返して行うことにより全てのメモリセルをテストするも
のである。
Further, according to the semiconductor memory testing method of the present invention, a plurality of bit lines are precharged in a semiconductor memory in which a potential holding means is provided for each of the plurality of bit lines.
After holding or discharging the potential states of these bit lines to determine the data, one word line is selected, and a plurality of bit lines on the selected word line are sequentially selected one by one. Definite data is output in order and tested. Then, the above operation is set as one test cycle, and all memory cells are tested by repeating this test cycle for all word lines.

【0016】[0016]

【作用】これらの構成により、半導体メモリのテスト時
において、1回のプリチャージとデータの確定で複数の
メモリセルのテストが行え、より少ないプリチャージ等
の回数で半導体メモリ全体のテストが行える。
With these configurations, when a semiconductor memory is tested, a plurality of memory cells can be tested by one precharge and data confirmation, and the entire semiconductor memory can be tested with a smaller number of precharges.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の半導体メモリおよびそのテス
ト方法の実施例について、図面を参照しながら説明す
る。
Embodiments of the semiconductor memory and the test method therefor according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】図1は本発明の半導体メモリの回路構成を
示す。同図において、1はメモリセルアレイであり複数
のNチャンネルMOSトランジスタ(メモリセル)がマ
トリックス状に並んでいる。2は各メモリセルのワード
線を制御するYデコーダであり、このYデコーダ2に
は、上位のアドレス203,204が入力され、行アド
レス211〜214を出力する。また、3はメモリセル
の各ビット線を制御する出力デコーダであり、下位のア
ドレス201,202が入力され、データ100を出力
する。また、4は電力を供給することで各ビット線を高
電位状態にするプリチャージ回路であり、各ビット線ご
とに設けられている。このプリチャージ回路4は、Pチ
ャンネルMOSトランジスタ4aのゲート電極にプリチ
ャージ信号300を入力して、ビット線101〜104
に電荷を蓄積し、各ビット線の電位を電源4bのレベル
にする。また、5は電源5aとPチャンネルMOSトラ
ンジスタ5bとインバータ5cから構成された電位保持
回路であり、プリチャージされた各ビット線の電位が下
がらないように電力を供給し続けて電位状態を保持す
る。従来では、図2にも示したようにこの電位保持回路
を出力端子に一つだけ設けていたが、本発明では各ビッ
ト線ごとに設けている。また、ビット線101〜104
は、メモリセルアレイ1と出力デコーダ3とプリチャー
ジ回路4と電位保持回路5とに接続されている。
FIG. 1 shows a circuit configuration of a semiconductor memory of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a memory cell array in which a plurality of N-channel MOS transistors (memory cells) are arranged in a matrix. Reference numeral 2 denotes a Y decoder for controlling the word line of each memory cell. The Y decoder 2 receives the upper addresses 203 and 204 and outputs the row addresses 211 to 214. Reference numeral 3 is an output decoder for controlling each bit line of the memory cell, which inputs the lower addresses 201 and 202 and outputs the data 100. Reference numeral 4 is a precharge circuit that brings each bit line into a high potential state by supplying electric power, and is provided for each bit line. The precharge circuit 4 inputs the precharge signal 300 to the gate electrode of the P-channel MOS transistor 4a and outputs the bit lines 101 to 104.
Electric charge is accumulated in the memory cell and the potential of each bit line is set to the level of the power supply 4b. Reference numeral 5 is a potential holding circuit composed of a power supply 5a, a P-channel MOS transistor 5b and an inverter 5c, which keeps the potential state by continuously supplying power so that the potential of each precharged bit line does not drop. . Conventionally, only one potential holding circuit is provided at the output terminal as shown in FIG. 2, but in the present invention, it is provided for each bit line. In addition, the bit lines 101 to 104
Are connected to the memory cell array 1, the output decoder 3, the precharge circuit 4, and the potential holding circuit 5.

【0019】以上のように構成された半導体メモリのテ
ストを行う場合の動作について説明する。
The operation of testing the semiconductor memory configured as described above will be described.

【0020】この回路の動作の1サイクルは、プリチャ
ージ動作とデータの確定動作とからなる。すなわち、プ
リチャージ動作はビット線に電荷を蓄積することにより
行い、データの確定は、ビット線に蓄積された電荷を放
電し(ディスチャージし)、あるいは放電しないでデー
タを0あるいは1に確定することによって行う。
One cycle of the operation of this circuit consists of a precharge operation and a data fixing operation. That is, the precharge operation is performed by accumulating charges in the bit line, and the data is determined by discharging (discharging) the charges accumulated in the bit line or by fixing the data to 0 or 1 without discharging. Done by.

【0021】プリチャージ動作では、プリチャージ信号
300がプリチャージ回路4のPチャンネルMOSトラ
ンジスタ4aをオンさせることにより、電源4bからビ
ット線101〜104に電荷を蓄積する。
In the precharge operation, the precharge signal 300 turns on the P-channel MOS transistor 4a of the precharge circuit 4, whereby charges are accumulated in the bit lines 101 to 104 from the power supply 4b.

【0022】次に、データを確定する動作では、まずプ
リチャージ信号300がプリチャージ回路4のPチャン
ネルトランジスタをオフにする。211〜214のうち
選択されたワード線上でドライブされるNチャンネルト
ランジスタによって、ビット線に蓄積された電荷を放電
することまたは放電しないことを行い、ビット線をロー
レベルまたはハイレベルとする。たとえば、ワード線2
11を選択した場合、Nチャンネルトランジスタ(メモ
リセル)1aはビット線102に接続されているのでビ
ット線102は放電してローレベルになり、また、Nチ
ャンネルトランジスタ1bの場合ではビット線103に
接続されていないので、ビット線103は放電されるこ
となくハイレベル状態を保つ。このハイレベル状態にお
いて、電荷保持回路5が働く。すなわち、電位保持回路
5のインバータ5cにハイレベルの信号が入力される
と、Pチャンネルトランジスタ5bのゲート電極にはロ
ウレベルの信号が入力されてオン状態になり、電源5a
からビット線に電荷が補給される。このためビット線は
ハイレベル状態の電位を保持することができる。
Next, in the operation of determining the data, the precharge signal 300 first turns off the P-channel transistor of the precharge circuit 4. The N-channel transistor driven on the selected word line of 211 to 214 discharges or does not discharge the charge accumulated on the bit line, and sets the bit line to the low level or the high level. For example, word line 2
When 11 is selected, since the N-channel transistor (memory cell) 1a is connected to the bit line 102, the bit line 102 is discharged to the low level, and in the case of the N-channel transistor 1b, connected to the bit line 103. Since it has not been discharged, the bit line 103 is maintained in a high level state without being discharged. In this high level state, the charge holding circuit 5 operates. That is, when a high-level signal is input to the inverter 5c of the potential holding circuit 5, a low-level signal is input to the gate electrode of the P-channel transistor 5b and the P-channel transistor 5b is turned on to turn on the power supply 5a.
The charge is replenished to the bit line from. Therefore, the bit line can hold the high-level potential.

【0023】一方、上記のプリチャージ動作中に、アド
レス201〜204を確定する。Yデコーダ2は、アド
レス203,204のハイ・ロウの組合せによって、行
アドレス(ワード線)211〜214のいずれか1本を
選択的にハイレベルとする。また、出力デコーダ3は、
アドレス201,202のハイ・ロウの組合せによって
ビット線101〜104のいずれか1本をデータ100
に選択的に接続する。そして、選択されたビット線につ
いての確定したデータがデータ100の出力となって得
られる。
On the other hand, the addresses 201 to 204 are determined during the above precharge operation. The Y decoder 2 selectively sets any one of the row addresses (word lines) 211 to 214 to a high level by a combination of high and low of the addresses 203 and 204. Further, the output decoder 3 is
Depending on the combination of high and low of the addresses 201 and 202, one of the bit lines 101 to 104 is used as the data 100.
Selectively connect to. Then, the fixed data for the selected bit line is obtained as the output of the data 100.

【0024】このようにして一つのメモリセルについて
データの出力を行い、この出力が正常か否かで欠陥の有
無を判断しメモリのテストとしている。
In this way, the data is output for one memory cell, and the presence or absence of a defect is judged depending on whether the output is normal or not to perform a memory test.

【0025】さらに次のメモリセルをテストするために
は、出力デコーダ3のアドレス201、202のハイ・
ロウの組合せを変更して、同一ワード線上での次のビッ
ト線の確定データを出力する。このように、順次、出力
デコーダ3のアドレス201、202の組合せの変更、
データの出力を繰り返して、同一ワード線上の全てのメ
モリセルについてテストを行う。本発明では、最初に1
回だけプリチャージとデータの確定を行い、後は出力デ
コーダの切り替えだけで同一ワード線上のメモリセルを
全てテストできる。このようにして1回のテストサイク
ルが完了する。
In order to test the next memory cell, the addresses 201 and 202 of the output decoder 3 are set to the high level.
The row combination is changed and the definite data of the next bit line on the same word line is output. In this way, the combination of the addresses 201 and 202 of the output decoder 3 is sequentially changed,
Data output is repeated to test all memory cells on the same word line. In the present invention, first 1
All the memory cells on the same word line can be tested only by switching the output decoder after precharging and confirmation of data only once. In this way, one test cycle is completed.

【0026】そして、次のサイクルで2本目のワード線
上のメモリセルについて同様にテストを行い、順次テス
トサイクルを繰り返して、全てのメモリセルについての
テストを終了する。すなわち、本発明では、プリチャー
ジ、データの確定という動作1回につき、同一ワード線
上にある複数個のメモリセルのテストを行うことができ
る。
Then, in the next cycle, the same test is performed on the memory cells on the second word line, and the test cycle is sequentially repeated to complete the test for all the memory cells. That is, according to the present invention, a plurality of memory cells on the same word line can be tested for each operation of precharging and data confirmation.

【0027】図1を用いて具体的に説明すると、たとえ
ば、1回目のプリチャージとデータ確定の後で、Yデコ
ーダによってワード線211を選択し、出力デコーダ3
によってビット線101〜104を順次選択してデータ
を出力してテストする。次に、2回目のプリチャージと
データ確定動作を行い、Yデコーダによってワード線2
12を選択し、出力デコーダ3によってビット線101
〜104を順次選択して出力しデータをテストする。こ
のような動作を繰り返して全てのメモリセルについての
テストを行う。
More specifically, referring to FIG. 1, for example, after the first precharge and data confirmation, the word line 211 is selected by the Y decoder and the output decoder 3 is selected.
The bit lines 101 to 104 are sequentially selected to output data for testing. Next, a second precharge and data confirmation operation are performed, and the word line 2 is read by the Y decoder.
12 is selected, and the bit line 101 is selected by the output decoder 3.
To 104 are sequentially selected and output to test the data. This operation is repeated to test all memory cells.

【0028】以上のように、本実施例によれば、ビット
線の各々に電位保持回路を設けることでビット線ごとに
データを確定しているので、少ない回数のプリチャージ
やデータ確定で数多くのメモリセルのテストを行えるた
め、より短時間で半導体メモリのテストを行うことがで
きる。なお、本発明では従来例に比べてプリチャージ等
の動作回数が少なくなった代わりに、ビット線を選択す
る出力デコーダを切り換える動作が余分に増えることに
なるが、集積回路の低速モードでは、ビット線の切り替
えに要する時間がプリチャージ動作に要する時間やデー
タ確定に要する時間に比べていちじるしく短いので、テ
スト時間全体に及ぼす影響はほとんどない。
As described above, according to the present embodiment, since the data is determined for each bit line by providing the potential holding circuit for each bit line, a large number of data can be determined by a small number of precharges and data determination. Since the memory cell can be tested, the semiconductor memory can be tested in a shorter time. Note that in the present invention, the number of operations such as precharging and the like is reduced as compared with the conventional example, but the operation of switching the output decoder for selecting the bit line is additionally increased. Since the time required to switch lines is much shorter than the time required for precharge operation and the time required for data confirmation, there is almost no effect on the entire test time.

【0029】なお、上記の実施例では半導体メモリを構
成する回路中に電位保持回路を設けたが、本発明は特に
これに限られるものではなく、なんらかの形で各ビット
線ごとに電位保持手段が設けられていればよく、たとえ
ば従来の回路構成においてビット線の各々に外部端子を
設けて電位保持回路を接続して用いるような構成であっ
てもよい。
Although the potential holding circuit is provided in the circuit which constitutes the semiconductor memory in the above embodiment, the present invention is not limited to this, and the potential holding means may be provided for each bit line in some way. It suffices to provide them. For example, in the conventional circuit configuration, an external terminal may be provided for each bit line and a potential holding circuit may be connected and used.

【0030】また、本発明は広く半導体メモリ全般に適
用できるものであり、上記実施例で示したOR型のRO
Mのほか、たとえば、AND型のROMや、RAMにも
適用できる。
Further, the present invention can be widely applied to semiconductor memories in general, and the OR type RO shown in the above embodiment.
In addition to M, it can be applied to, for example, AND type ROM and RAM.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明は、出力デコーダで選択されるビ
ット線の各々に電位保持回路を設けることで、1回のプ
リチャージ動作とデータを確定する動作の間に複数のビ
ット線の上のデータを得ることが可能であり、短時間で
半導体メモリのテストを行うことができる。
According to the present invention, the potential holding circuit is provided for each of the bit lines selected by the output decoder, so that a plurality of bit lines on a plurality of bit lines can be placed between one precharge operation and data fixing operation. Data can be obtained, and a semiconductor memory can be tested in a short time.

【0032】特に低速での保証が必要な集積回路では、
そのテスト時にプリチャージ・データ確定の1サイクル
を低速で行い、出力デコーダの切り換えを高速で行うこ
とで、低速での動作を保証した上で、検査時間を短縮す
ることができる。
Particularly in an integrated circuit which requires a guarantee at a low speed,
By performing one cycle of precharge / data confirmation at a low speed during the test and switching the output decoder at a high speed, the inspection time can be shortened while guaranteeing the operation at a low speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例における半導体メモリの回路構
成図
FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a semiconductor memory according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来の半導体メモリの回路構成図FIG. 2 is a circuit configuration diagram of a conventional semiconductor memory.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 Yデコーダ 3 出力デコーダ 4 プリチャージ回路 5 電位保持回路 100 出力データ 101〜104 ビット線 201〜204 アドレス 211〜214 ワード線 300 プリチャージ信号 1 Memory Cell Array 2 Y Decoder 3 Output Decoder 4 Precharge Circuit 5 Potential Holding Circuit 100 Output Data 101 to 104 Bit Lines 201 to 204 Address 211 to 214 Word Line 300 Precharge Signal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 W 7630−4M 27/108 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 21/66 W 7630-4M 27/108

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のビット線と、前記複数のビット線に
電荷を供給して高電位状態とするプリチャージ手段と、
前記複数のビット線の各々に蓄積された電荷の放電を制
御する複数のトランジスタおよびYデコーダと、前記複
数のビット線から1本を選択する出力デコーダと、前記
複数のビット線の各々に設けられ各ビット線の電位状態
を保持する電位保持手段を有する半導体メモリ。
1. A plurality of bit lines, and precharge means for supplying charges to the plurality of bit lines to bring them into a high potential state.
A plurality of transistors and a Y decoder for controlling discharge of charges accumulated in each of the plurality of bit lines, an output decoder for selecting one from the plurality of bit lines, and a plurality of bit lines are provided for each of the plurality of bit lines. A semiconductor memory having potential holding means for holding the potential state of each bit line.
【請求項2】複数のビット線の各々に電位保持手段を設
けた半導体メモリにおいて、前記複数のビット線をプリ
チャージする工程と、前記ビット線の電位状態を保持ま
たはディスチャージしてデータを確定する工程と、1本
のワード線を選択する工程と、前記選択したワード線上
にある複数のビット線を1本ずつ順に選択して前記確定
データを順にテストする工程とからなるテストサイクル
を、全てのワード線について繰り返して行うことにより
全てのメモリセルをテストする半導体メモリのテスト方
法。
2. In a semiconductor memory having a potential holding means for each of a plurality of bit lines, precharging the plurality of bit lines and holding or discharging the potential state of the bit lines to determine data. All test cycles including a step, a step of selecting one word line, and a step of sequentially selecting a plurality of bit lines on the selected word line one by one and testing the defined data in sequence. A semiconductor memory test method in which all memory cells are tested by repeating the operation for word lines.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100390939B1 (en) * 2000-12-18 2003-07-10 주식회사 하이닉스반도체 Test pattern for semiconductor device
KR100513797B1 (en) * 1998-12-30 2006-05-11 주식회사 하이닉스반도체 Compression test circuit of semiconductor device having the same data path as normal operation

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