JPH06308359A - Hermetically coated optical fiber and its production - Google Patents

Hermetically coated optical fiber and its production

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JPH06308359A
JPH06308359A JP5100972A JP10097293A JPH06308359A JP H06308359 A JPH06308359 A JP H06308359A JP 5100972 A JP5100972 A JP 5100972A JP 10097293 A JP10097293 A JP 10097293A JP H06308359 A JPH06308359 A JP H06308359A
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JP
Japan
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optical fiber
carbon
fiber
gas
coating layer
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Application number
JP5100972A
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Japanese (ja)
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Motonori Nakamura
元宣 中村
Haruhiko Aikawa
晴彦 相川
Toshio Danzuka
俊雄 彈塚
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the hermetically coated optical fiber and the process for production of this optical fiber. CONSTITUTION:The thin-film coating layer of an optical fiber 8 having the thin-film coating layer possessing hermeticity on its surface has the bond of carbon-silicon. A preform 2 for the optical fiber is melted and spun by a furnace 1 kept at a high temp. to form a bare fiber 20 and this bare fiber 10 is immediately introduced into a reaction vessel 3 for hermetic coating and gaseous raw materials 4, 5 are introduced into this reaction vessel 3 to form the thin-film coating layer by a chemical vapor deposition method on the bare fiber 10, by which the optical fiber is produced. The thin-film coating layer having the bond of the carbon-silicon is formed by using a gaseous mixture composed of the gaseous carbon 4 and the gaseous silane 5 at this time. As a result, the hermeticity and fatigue characteristic are compatibly obtd.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はハーメチックコート光フ
ァイバ及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hermetically coated optical fiber and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ファイバにハーメチックコートを施す
と、通常の光ファイバと比べて外部環境からの水及び水
素等を始めとする物質の侵入の速度を遅くすることがで
きる。特に、水や水素の侵入は、光ファイバの強度や光
伝送特性に悪影響を与えることが知られており、ハーメ
チックコーティングはこれらの特性を向上させるために
非常に有用である。通常、ハーメチックコーティングと
しては、炭素膜を用いている。これは、化学的安定性、
組織の緻密性などの面で優れているためである。また、
コーティング方法としては原料ガスを線引炉直下にて反
応管へ導入することにより、光ファイバの有する熱によ
り原料ガスが反応し、ファイバ表面に炭素膜を生成させ
る熱的化学気相析出法がとられている。従来、このよう
な技術として特開平3−15349号公報に示されてい
るように炭化水素及びハロゲン化炭化水素の混合ガスを
用い、熱的化学気相析出法により炭素膜をコーティング
している。このとき得られるカーボンコート光ファイバ
は高いハーメチック性、高い疲労特性を有している。
2. Description of the Related Art When a hermetic coating is applied to an optical fiber, the rate of penetration of substances such as water and hydrogen from the external environment can be slowed down as compared with a normal optical fiber. In particular, it is known that the penetration of water and hydrogen adversely affects the strength and optical transmission characteristics of the optical fiber, and the hermetic coating is very useful for improving these characteristics. Usually, a carbon film is used as the hermetic coating. It has chemical stability,
This is because it is excellent in terms of tissue fineness. Also,
As a coating method, by introducing the raw material gas into the reaction tube just below the drawing furnace, the raw material gas reacts due to the heat of the optical fiber, and a thermal chemical vapor deposition method for forming a carbon film on the fiber surface is used. Has been. Conventionally, as such a technique, a carbon film is coated by a thermal chemical vapor deposition method using a mixed gas of a hydrocarbon and a halogenated hydrocarbon as disclosed in JP-A-3-15349. The carbon-coated optical fiber obtained at this time has high hermetic properties and high fatigue properties.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来、上記のような方
法でハーメチックコート光ファイバを製造してきた。ハ
ーメチック性、疲労特性については、コーティングのな
い光ファイバと比べると優れているが、機械的強度が若
干弱くなることが知られている。また、強度が通常光フ
ァイバと同程度になるように条件を変化させると、ハー
メチックコーティングをしたにもかかわらず、通常の光
ファイバと同程度のハーメチック性しかないことがわか
った。そこで、強度とハーメチック性の両方の特性を満
足し得る必要性があった。本発明はこの点を課題とする
ものであり、ハーメチック性と疲労特性の両立したハー
メチックコート光ファイバ及びその製造方法を提供しよ
うと意図したものである。
Conventionally, the hermetically coated optical fiber has been manufactured by the method as described above. Hermetic properties and fatigue properties are superior to those of the uncoated optical fiber, but it is known that mechanical strength is slightly weakened. Moreover, it was found that when the conditions were changed so that the strength was almost the same as that of the ordinary optical fiber, it was only hermetically equivalent to that of the ordinary optical fiber, despite the hermetic coating. Therefore, it is necessary to satisfy both properties of strength and hermeticity. The present invention addresses this problem, and is intended to provide a hermetically coated optical fiber having both hermetic properties and fatigue properties, and a method for producing the same.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する手段
として、本発明は、ハーメチック性をもつ薄膜被覆層を
表面に有してなる光ファイバにおいて、該ハーメチック
性をもつ薄膜被覆層が炭素−ケイ素の結合を有してなる
ことを特徴とするハーメチックコート光ファイバを提供
する。更に本発明は光ファイバ用プリフォームを高温に
保った炉により溶融、紡糸し、裸ファイバとした直後に
該裸ファイバをハーメチックコーティング用反応容器内
へ導入しかつ該反応容器内に原料ガスを導入することに
より該裸ファイバ上に化学気相析出法により薄膜被覆層
を施すハーメチックコート光ファイバの製造方法におい
て、上記原料ガスとして炭素系ガスとシラン系ガスの混
合ガスを用いることにより炭素−ケイ素の結合を有する
薄膜被覆層を形成することを特徴とするハーメチックコ
ート光ファイバの製造方法を提供する。本発明におい
て、前記原料ガス混合比は、混合ガス中に含まれるケイ
素原子数が炭素原子数を越えないものであることが特に
好ましく、また、前記原料ガスが不活性ガスで希釈され
たものであることが特に好ましい。
As a means for solving the above problems, the present invention provides an optical fiber having a hermetic thin film coating layer on its surface, wherein the hermetic thin film coating layer is carbon-based. Provided is a hermetically-coated optical fiber having a bond of silicon. Further, according to the present invention, an optical fiber preform is melted and spun in a furnace kept at a high temperature, and immediately after the bare fiber is formed, the bare fiber is introduced into a hermetic coating reaction vessel and a raw material gas is introduced into the reaction vessel. In the method for producing a hermetically coated optical fiber in which a thin film coating layer is formed on the bare fiber by a chemical vapor deposition method, a mixed gas of carbon-based gas and silane-based gas is used as the raw material gas to produce carbon-silicon. Provided is a method for manufacturing a hermetically coated optical fiber, which comprises forming a thin film coating layer having a bond. In the present invention, the raw material gas mixing ratio is particularly preferably such that the number of silicon atoms contained in the mixed gas does not exceed the number of carbon atoms, and the raw material gas is diluted with an inert gas. It is particularly preferable that

【0005】[0005]

【作用】本発明を図1により詳細に説明する。ハーメチ
ックコーティングを施すとき、炭素系ガスのみを用いる
のではなく、シラン系ガスを混合して、そのガスを反応
容器3に通じ、そこへ抵抗炉1において光ファイバ母材
2から線引された裸ファイバ10を導入し、ハーメチッ
クコーティングを施す。シラン系ガスは炭素系ガス供給
系4とは別系統のシラン系ガス供給系5から供給され、
炭素系ガス、シラン系ガスはそれぞれ適当な不活性ガス
にて希釈された後、任意の混合比で混合される。この混
合ガスが裸ファイバ10の有する熱により熱的化学気相
析出法(熱CMD法)により反応し、ファイバはハーメ
チックコーティングされる。この際、各ガスの流量、混
合比、ファイバ温度を制御することにより、ハーメチッ
クコーティングの特性を制御できる。ハーメチックコー
ティング後に、ダイス6,7により有機系樹脂を塗布
し、ハーメチックコート光フアイバ8として巻き取り機
9にて巻き取る。
The present invention will be described in detail with reference to FIG. When applying a hermetic coating, not only a carbon-based gas is used, but a silane-based gas is mixed and the gas is passed through a reaction vessel 3 into which a bare fiber drawn from an optical fiber preform 2 in a resistance furnace 1 is drawn. The fiber 10 is introduced and a hermetic coating is applied. The silane-based gas is supplied from a silane-based gas supply system 5, which is a system different from the carbon-based gas supply system 4,
The carbon-based gas and the silane-based gas are each diluted with an appropriate inert gas and then mixed at an arbitrary mixing ratio. This mixed gas reacts by the heat of the bare fiber 10 by the thermal chemical vapor deposition method (thermal CMD method), and the fiber is hermetically coated. At this time, the characteristics of the hermetic coating can be controlled by controlling the flow rate of each gas, the mixing ratio, and the fiber temperature. After the hermetic coating, an organic resin is applied with dice 6 and 7 and wound as a hermetic coat optical fiber 8 by a winding machine 9.

【0006】本発明によれば、線引され、裸ファイバそ
のものが有する熱により、原料である炭素系ガス、シラ
ン系ガスの混合ガスが反応し、炭素−炭素の結合に加え
て炭素−ケイ素結合を有する構造をとるハーメチック被
覆が生成する。ここで原料ガス中の炭素系ガスとして
は、例えばエチレン、アセチレン、クロロホルム等の炭
化水素、ハロゲンカーボン炭化水素を用いる。また、シ
ラン系ガスとしてはSiH4 ,SiHCl3 ,SiCl
4 等のケイ素、水素、ハロゲン等から成る化合物を用い
る。これら原料となる物質は気体であることが望ましい
が、液体であってもよい。なぜなら適当な不活性ガスを
用い気化させることが可能だからである。炭素−ケイ素
の結合を有する化合物のうち、この系で生成する炭化ケ
イ素は閃亜鉛鉱型,ウルツ鉱型の2種類の構造をとるの
であるが、いずれも緻密な構造をとっており、かつ高強
度であるので、この構造を有する膜を被覆することによ
り、強度、ハーメチック性に優れたハーメチックコート
光ファイバを製造することができる。
According to the present invention, the heat of the drawn bare fiber itself reacts with the mixed gas of the carbon-based gas and the silane-based gas, which is a raw material, and in addition to the carbon-carbon bond, the carbon-silicon bond. A hermetic coating is formed which has a structure with. Here, as the carbon-based gas in the raw material gas, for example, hydrocarbons such as ethylene, acetylene and chloroform, and halogen carbon hydrocarbons are used. Further, as the silane-based gas, SiH 4 , SiHCl 3 , SiCl
A compound consisting of silicon, hydrogen, halogen, etc. such as 4 is used. It is desirable that these raw materials are gases, but they may be liquids. This is because it is possible to vaporize using an appropriate inert gas. Among the compounds having a carbon-silicon bond, the silicon carbide produced in this system has two types of structures, a sphalerite type and a wurtzite type, both of which have a dense structure and a high structure. Since it has high strength, by coating a film having this structure, it is possible to manufacture a hermetically coated optical fiber having excellent strength and hermeticity.

【0007】原料組成比については、ケイ素−ケイ素の
結合が生じないように原料ガスの混合比を調節すること
が好ましい。具体的には、混合ガス中に含まれるケイ素
原子数が炭素原子数を越えないようにすることが特に好
ましい。好適な混合比としては、炭素原子数10に対し
てケイ素原子数1〜2が好ましい。ケイ素原子数が炭素
原子数を越えると局所的にケイ素−ケイ素結合が形成さ
れ、強度劣化、ハーメチック性の劣化を引き起こす。こ
れは、ケイ素結晶はすき間の多い構造をとっており、ハ
ーメチックコート性が悪くなるからである。なお、結合
間距離は炭素−炭素結合1.42Å、ケイ素−炭素結合
1.89Å、ケイ素−ケイ素結合2.35Åである。ま
た、原料は適当な不活性ガスで希釈することが好まし
い。これはある程度希釈してある方が、ファイバ表面の
Si−O−Si結合を切る反応の起こることがなく、ク
ラック発生もなく、ガラスそのものの強度低下が少なく
ファイバ強度劣化がないからである。ガラス表面との反
応を完全に防ぐことは不可能であるが、原料ガス濃度を
下げることでその発生頻度を下げることは可能であり、
強度劣化を抑えることができる。希釈の程度は原料ガス
の濃度が10〜50%の範囲になるようにする。特に好
ましい範囲としては、25〜35%である。本発明のハ
ーメチックコート層の厚さは特に限定されるところはな
いが、通常は30〜50μm程度で十分に有効である。
Regarding the raw material composition ratio, it is preferable to adjust the mixing ratio of the raw material gases so that the silicon-silicon bond does not occur. Specifically, it is particularly preferable that the number of silicon atoms contained in the mixed gas does not exceed the number of carbon atoms. As a suitable mixing ratio, 1 to 2 silicon atoms are preferable to 10 carbon atoms. When the number of silicon atoms exceeds the number of carbon atoms, silicon-silicon bonds are locally formed, which causes deterioration of strength and hermeticity. This is because the silicon crystal has a structure with a lot of gaps and the hermetic coating property is deteriorated. The inter-bond distances are carbon-carbon bond 1.42Å, silicon-carbon bond 1.89Å, and silicon-silicon bond 2.35Å. Further, the raw material is preferably diluted with a suitable inert gas. This is because when it is diluted to a certain extent, the reaction for breaking the Si—O—Si bond on the fiber surface does not occur, cracks do not occur, and the strength of the glass itself does not decrease and the fiber strength does not deteriorate. It is impossible to completely prevent the reaction with the glass surface, but it is possible to reduce the frequency of occurrence by reducing the concentration of the raw material gas,
Strength deterioration can be suppressed. The degree of dilution is such that the concentration of the raw material gas is in the range of 10 to 50%. A particularly preferable range is 25 to 35%. The thickness of the hermetic coat layer of the present invention is not particularly limited, but usually about 30 to 50 μm is sufficiently effective.

【0008】[0008]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるところはない。ま
た以下の実施例、比較例における初期強度は、光ファイ
バを300mm/分の定速度で破断に至るまで引張り、
破断したときの値のワイブルプロットから求められる破
断確率50%値をいう。水素試験は、80℃に保った炉
の中に光ファイバを入れ、そこに1atmの水素を吹き
流しつつ、20時間放置した後の、該光フアイバの波長
1.24μmでの光伝送ロスを測定する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. The initial strength in the following Examples and Comparative Examples is as follows: the optical fiber is pulled at a constant speed of 300 mm / min until it is broken,
The 50% value of the breaking probability obtained from the Weibull plot of the value at the time of breaking. In the hydrogen test, an optical fiber was placed in a furnace kept at 80 ° C., 1 atm of hydrogen was blown into the furnace, and the optical fiber was allowed to stand for 20 hours, and then the optical transmission loss of the optical fiber at a wavelength of 1.24 μm was measured. .

【0009】〔比較例1〕図1に示した装置を用いて、
カーボンコート光ファイバを製造した。この際、原料ガ
スとして炭素系ガスのみを用いて線引きした。炭素系ガ
スとしては、エチレン、クロロホルムをそれぞれ100
ml/分,150ml/分を流し、線引速度は200m
/分であった。このカーボンコート光ファイバの特性
は、初期強度は5.8kgとまずまずの値を示したのに
対し、80℃,1atm,20時間の水素試験後の波長
1.24μmでのロス増△α1.24は0.21dB/km
とかなり悪いものであった。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 Using the apparatus shown in FIG.
A carbon coated optical fiber was manufactured. At this time, drawing was performed using only a carbon-based gas as a raw material gas. As carbon-based gas, ethylene and chloroform are 100
Flowing ml / min, 150ml / min, drawing speed is 200m
/ Min. Regarding the characteristics of this carbon-coated optical fiber, the initial strength showed a reasonable value of 5.8 kg, while the loss increase at the wavelength of 1.24 μm after the hydrogen test at 80 ° C. for 1 atm for 20 hours was Δα 1.24 0.21 dB / km
And it was pretty bad.

【0010】〔実施例1〕比較例1と同様に図1に示し
た装置を用いて、本発明に従い原料ガスとしては炭素系
ガスに加えてシラン系ガスを用いてハーメチックコート
光ファイバを製造した。炭素系ガスとしてはエチレン1
00ml/分、クロロホルム130ml/分、シラン系
ガスとしては四塩化ケイ素を20ml/分流し、線引速
度200m/分にて線引した。このハーメチックコート
光ファイバの特性は初期強度6.0kg,80℃,1a
tm,20時間の水素試験後の波長1.24μmでのロ
ス増△α1.24は0.04dB/kmと、強度、耐水素特
性ともに優れたハーメチックコート光ファイバを得るこ
とができた。該光フアイバの有機系樹脂を除去してハー
メチックコート層のみを有するファイバとした後、その
ファイバの電子スピン共鳴スペクトル(ESR)を測定
したところ、図2に示すスペクトルが得られた。小さな
ピークは標準試料の信号であり、中央の大きなピークが
本実施例によるファイバから得られた信号であるが、こ
れはSiCと同じスペクトルであり、このファイバのコ
ーティングにSiCの結合が含まれていることを示して
いる。なお、ハーメチックコートをしていないファイバ
ではこの領域にスペクトルが見られない。
Example 1 Using the apparatus shown in FIG. 1 as in Comparative Example 1, a hermetically coated optical fiber was manufactured according to the present invention by using a silane-based gas in addition to a carbon-based gas as a raw material gas. . Ethylene 1 as carbon-based gas
00 ml / min, chloroform 130 ml / min, and silane-based gas of 20 ml / min of silicon tetrachloride were flown, and drawing was performed at a drawing speed of 200 m / min. The characteristics of this hermetically coated optical fiber are as follows: initial strength 6.0 kg, 80 ° C, 1a
The loss increase Δα 1.24 at the wavelength of 1.24 μm after the hydrogen test for 20 hours at tm was 0.04 dB / km, and it was possible to obtain a hermetically coated optical fiber excellent in both strength and hydrogen resistance. After removing the organic resin of the optical fiber to form a fiber having only the hermetic coat layer, the electron spin resonance spectrum (ESR) of the fiber was measured, and the spectrum shown in FIG. 2 was obtained. The small peak is the signal of the standard sample and the large peak in the center is the signal obtained from the fiber according to this example, which has the same spectrum as SiC and the coating of this fiber contains SiC bonds. It indicates that It should be noted that no spectrum can be seen in this region in the fiber that is not hermetically coated.

【0011】〔実施例2〕実施例1と同様に、図1の装
置を用いるが原料ガスを実施例3の場合の1/3にヘリ
ウムで希釈して他の条件は実施例3と全く同じにしてハ
ーメチックコート光フアイバを製造した。即ち反応管に
導入する原料ガスの量は変えずに濃度だけを変化させ
て、エチレン:ヘリウム(1:2)混合ガス300ml
/分、クロロホルム:ヘリウム(1:2)混合ガス15
0ml/分、四塩化ケイ素:ヘリウム(1:2)60m
l/分を流した。この例でもケイ素原子数は炭素原子数
を越えていない。このとき得られたハーメチックコート
光フアイバの特性は、初期強度が5.9kg、80℃、
1atm、20時間の水素試験後の波長1.24μmで
のロス増△α1.24は0.03dB/kmと両特性とも優
れたハーメチックコート光フアイバを得ることができ
た。
[Embodiment 2] As in Embodiment 1, the apparatus of FIG. 1 is used, but the source gas is diluted to 1/3 of that in Embodiment 3 with helium, and the other conditions are exactly the same as in Embodiment 3. To produce a hermetically coated optical fiber. That is, changing only the concentration without changing the amount of raw material gas introduced into the reaction tube, 300 ml of ethylene: helium (1: 2) mixed gas
/ Min, mixed gas of chloroform: helium (1: 2) 15
0 ml / min, silicon tetrachloride: helium (1: 2) 60 m
Flowed at 1 / min. Also in this example, the number of silicon atoms does not exceed the number of carbon atoms. The characteristics of the hermetically coated optical fiber obtained at this time were that the initial strength was 5.9 kg, 80 ° C,
A loss increase Δα 1.24 at a wavelength of 1.24 μm after a hydrogen test at 1 atm for 20 hours was 0.03 dB / km, and a hermetic coated optical fiber excellent in both characteristics could be obtained.

【0012】[0012]

【発明の効果】以上説明したように、ハーメチックコー
ティング用ガスとして炭素系ガスだけでなく、シラン系
ガスを混合して用いることにより製造したハーメチック
コート光ファイバは、初期強度、ハーメチック性に優れ
ており、長期的な強度低下を招かない。さらに、水蒸気
や水酸基が裸ファイバに侵入することもないので、伝送
特性を良好な状態に保つことができる。このため、本発
明により得られる光ファイバは、例えば、海底ケーブル
として使用された状態のように水や水素の雰囲気におい
て応力が加えられた状態での使用に非常に好適である。
As described above, the hermetically coated optical fiber produced by mixing not only the carbon-based gas but also the silane-based gas as the hermetic coating gas is excellent in initial strength and hermeticity. , Does not cause long-term deterioration in strength. Furthermore, since water vapor and hydroxyl groups do not enter the bare fiber, the transmission characteristics can be maintained in a good state. Therefore, the optical fiber obtained by the present invention is very suitable for use in a state where stress is applied in an atmosphere of water or hydrogen, such as a state where it is used as a submarine cable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】は本発明のハーメチックコート光フアイバ製造
方法の概略説明図である。
FIG. 1 is a schematic explanatory view of a method for producing a hermetically coated optical fiber of the present invention.

【図2】は本発明の実施例1において製造された本発明
のハーメチックコート光フアイバの電子スピン共鳴(E
SR)スペクトル図である。
FIG. 2 is an electron spin resonance (E) of the hermetically-coated optical fiber of the present invention manufactured in Example 1 of the present invention.
(SR) spectrum diagram.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 抵抗炉、 2 光ファイバ母材、 3 反応容
器、 4 炭素系ガス供給装置、 5 シラン系ガ
ス供給装置、 6 ダイス、 7 ダイス、8 ハ
ーメチックコート光ファイバ、 9 巻き取り機、
10 裸ファイバ。
1 resistance furnace, 2 optical fiber base material, 3 reaction vessel, 4 carbon-based gas supply device, 5 silane-based gas supply device, 6 dice, 7 dice, 8 hermetic coat optical fiber, 9 winder,
10 Bare fiber.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ハーメチック性をもつ薄膜被覆層を表面
に有してなる光ファイバにおいて、該ハーメチック性を
もつ薄膜被覆層が炭素−ケイ素の結合を有してなること
を特徴とするハーメチックコート光ファイバ。
1. An optical fiber having a hermetic thin-film coating layer on its surface, wherein the hermetic thin-film coating layer has a carbon-silicon bond. fiber.
【請求項2】 光ファイバ用プリフォームを高温に保っ
た炉により溶融、紡糸し、裸ファイバとした直後に該裸
ファイバをハーメチックコーティング用反応容器内へ導
入しかつ該反応容器内に原料ガスを導入することにより
該裸ファイバ上に化学気相析出法により薄膜被覆層を施
すハーメチックコート光ファイバの製造方法において、
上記原料ガスとして炭素系ガスとシラン系ガスの混合ガ
スを用いることにより炭素−ケイ素の結合を有する薄膜
被覆層を形成することを特徴とするハーメチックコート
光ファイバの製造方法。
2. Immediately after melting and spinning an optical fiber preform in a furnace kept at a high temperature to form a bare fiber, the bare fiber is introduced into a hermetic coating reaction vessel and a raw material gas is introduced into the reaction vessel. In the method for producing a hermetically coated optical fiber, wherein a thin film coating layer is formed on the bare fiber by a chemical vapor deposition method by introducing,
A method for producing a hermetically coated optical fiber, comprising forming a thin film coating layer having a carbon-silicon bond by using a mixed gas of a carbon-based gas and a silane-based gas as the raw material gas.
【請求項3】 前記原料ガス混合比は、混合ガス中に含
まれるケイ素原子数が炭素原子数を越えないものである
ことを特徴とする請求項2記載のハーメチックコート光
ファイバの製造方法。
3. The method for producing a hermetically coated optical fiber according to claim 2, wherein the raw material gas mixing ratio is such that the number of silicon atoms contained in the mixed gas does not exceed the number of carbon atoms.
【請求項4】 前記原料ガスが不活性ガスで希釈された
ものであることを特徴とする請求項2記載のハーメチッ
クコート光ファイバの製造方法。
4. The method for producing a hermetically coated optical fiber according to claim 2, wherein the raw material gas is diluted with an inert gas.
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