JPH06300707A - Foreign matter detection circuit of color filter - Google Patents

Foreign matter detection circuit of color filter

Info

Publication number
JPH06300707A
JPH06300707A JP10980893A JP10980893A JPH06300707A JP H06300707 A JPH06300707 A JP H06300707A JP 10980893 A JP10980893 A JP 10980893A JP 10980893 A JP10980893 A JP 10980893A JP H06300707 A JPH06300707 A JP H06300707A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
foreign matter
signal
section
peak value
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10980893A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaharu Kurimoto
正治 栗本
Noboru Kato
昇 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP10980893A priority Critical patent/JPH06300707A/en
Publication of JPH06300707A publication Critical patent/JPH06300707A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a foreign matter detection circuit that detects a foreign matter without missing and outputs the accurate peak value indicating the size thereof. CONSTITUTION:The apparatus consists of a first and a second foreign matter detection sections, a division signal generating circuit that supplies a division signal Ts for dividing each photodetection signal into intervals s and a reference determining circuit that sets a reference value K. Each of the foreign matter detection sections comprises a peak value selection part 61 that selectively outputs a maximum or a minimum peak value from a pattern waveform i of each pixel in the arbitrary divisional interval, a divisional signal hindering part 62 that hinders the divisional signal Ts, a signal detection part 63 wherein the reference value K is subtracted from or added to each of the peak values to form threshold values Ls(n+1) for next interval s(n+1) and the threshold values are compared with photodetection signal of the interval s(n+1) so that a foreign matter detection signal R is outputted therefrom when a foreign matter p is detected and a peak level calculation part 64 that calculates the difference between the photodetection signal and the selected peak level and outputs the difference as peak level data Hp indicating the size of the foreign matter by an foreign matter detection data R.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、液晶パネルに使用さ
れるカラーフィルタの異物検査装置における、異物検出
回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a foreign substance detection circuit in a foreign substance inspection device for color filters used in liquid crystal panels.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶とその制御技術の進歩により、小電
力でかなりの大きさの画面にカラー表示ができる液晶パ
ネルが開発され、これにはカラーフィルタが使用されて
いる。図4はカラーフィルタ1の一例を示し、(a) にお
いて、ガラス板11の表面にクロームの薄膜12が蒸着さ
れ、これに1辺が50μm程度の方形の3原色の画素13
(R,G,B)が一定の間隔で規則的に植設されてい
る。(b) はカラーフィルタ1の断面を示し、各画素13の
保護のためにカラーフィルタ1の全面に、ポリイミドや
アクリルなどの透明で微小な厚さの保護膜(トップコー
トという)14がコーティングされている。なお、図示を
省略するが、カラーフィルタ1に対して微小な厚さの配
向膜や液晶膜、薄膜トランジスタ(TFT)などが積層
されてカラー液晶パネルが構成される。
2. Description of the Related Art Due to advances in liquid crystal and its control technology, a liquid crystal panel capable of color display on a screen of considerable size with a small amount of power has been developed, and a color filter is used for this. FIG. 4 shows an example of the color filter 1. In FIG. 4 (a), a chrome thin film 12 is vapor-deposited on the surface of a glass plate 11, on which a pixel 13 of a square three primary colors having a side of about 50 μm is formed.
(R, G, B) are regularly planted at regular intervals. (b) shows a cross section of the color filter 1, and in order to protect each pixel 13, the entire surface of the color filter 1 is coated with a transparent and minute protective film (called top coat) 14 such as polyimide or acrylic. ing. Although illustration is omitted, a color liquid crystal panel is configured by stacking an alignment film, a liquid crystal film, a thin film transistor (TFT) and the like having a minute thickness on the color filter 1.

【0003】さて、上記のカラーフィルタ1に異物が存
在し、その大きさが例えば数μm以上のときは、画素自
身が不良となるばかりでなく、異物が配向膜や液晶膜を
連続的に突き破ってTFTを破損することがある。TF
Tは各画素に対応した個数が配列されているが、それぞ
れは回路的に独立せず、多数個が相互に接続されている
ので、1個のTFTの破損は1個のみにとどまらず、接
続された一連のTFTの動作不良を招き、製品の歩留ま
りが低下するので大きい問題となっている。図5により
カラーフィルタ1に存在する異物を説明する。(a) はト
ップコート14をコーティングする前の状態を示し、異物
をpとし、p1 は画素13の中間に、p2 は画素の表面に
それぞれ付着した付着異物、またp3 は画素の内部に埋
没した埋没異物である。ここで注目すべきは、p3 によ
り画素の表面が上方に盛り上がって山形の突起2を生じ
ていることである。次に、(b) は、トップコート14がコ
ーティングされた状態で、異物p1,p2,p3 はトップコ
ート中に埋没し、この場合もトップコートに山形突起2
が発生している。なお、異物p’はコーティングが終了
後、トップコート14に付着したものである。
When foreign matter is present in the color filter 1 and the size thereof is, for example, several μm or more, not only the pixel itself becomes defective, but also the foreign matter continuously breaks through the alignment film or the liquid crystal film. May damage the TFT. TF
Although T is arranged in the number corresponding to each pixel, each of them is not independent in the circuit and a large number of Ts are connected to each other. Therefore, the damage of one TFT is not limited to one, and the connection is not limited to one. This is a serious problem because it causes a series of malfunctions of the TFTs thus produced and lowers the product yield. The foreign matter existing in the color filter 1 will be described with reference to FIG. (a) shows the state before the top coat 14 is coated, where the foreign matter is p, p 1 is the middle of the pixel 13, p 2 is the foreign matter attached to the surface of the pixel, and p 3 is the inside of the pixel. It is a buried foreign object buried in. What should be noted here is that the surface of the pixel rises upward due to p 3 to form the mountain-shaped projection 2. Next, in (b), the foreign matter p 1 , p 2 , p 3 is buried in the top coat in a state where the top coat 14 is coated, and in this case also, the chevron projections 2 are formed on the top coat.
Is occurring. The foreign matter p ′ is attached to the top coat 14 after the coating is completed.

【0004】上記の各異物を効率的に検出するために、
この特許出願人により、「特願平4-161952号、カラーフ
ィルタの異物検出光学系」が特許出願されている。図6
により上記の特許出願にかかる異物検出光学系を説明す
る。まず図6(a) により埋没異物pの検出原理を説明す
る。カラーフィルタ1の表面に対して投光角θT で白色
光束LT を投射する。表面が平滑であればその正反射光
R は投光角θT に等しい正反射角θR の方向をなす
が、山形突起2があると反射方向が変化して軸ズレ反射
光LR ′となる。これをCCDセンサにより受光して走
査すると、(b) に示す受光信号がえられ、各画素13のパ
ターンにより生ずる一定周期のパターン波形iの中に、
山形突起2に対するパルスpが突出しており、これを適
当な閾値で検出することにより埋没異物pが間接的に検
出される。なお、上記のトップコート14に付着した異物
p′も、ある程度以上の大きいものは検出することがで
きる。
In order to efficiently detect the above-mentioned foreign matters,
This patent applicant has applied for a patent for "Japanese Patent Application No. 4-161952, Optical system for detecting foreign matter of color filter". Figure 6
The foreign matter detection optical system according to the above patent application will be described below. First, the principle of detecting the buried foreign matter p will be described with reference to FIG. The white light flux L T is projected onto the surface of the color filter 1 at a projection angle θ T. If the surface is smooth, the specular reflection light L R has a direction of specular reflection angle θ R equal to the projection angle θ T , but if the chevron projection 2 is present, the reflection direction changes and the axially displaced reflection light L R ′. Becomes When this is received by the CCD sensor and scanned, the received light signal shown in (b) is obtained, and in the pattern waveform i of the constant period generated by the pattern of each pixel 13,
The pulse p with respect to the chevron projection 2 is projected, and the buried foreign matter p is indirectly detected by detecting this with a proper threshold value. It should be noted that the foreign matter p'attached to the above-mentioned top coat 14 can be detected if it is larger than a certain degree.

【0005】図7は、上記の異物検出光学系の一実施例
を示す。光学系は投光系3と受光系4とがカラーフィル
タ1の垂線Cに関して狭い角度で対称的に配置され、投
光系3の光源31よりの白色光が投光レンズ32とスリット
33とにより、例えば幅Wが約30mmで厚さdが約50
μmの光束LT とし、載置台5に載置されたカラーフィ
ルタ1の表面に投射される。受光系4においては、表面
の反射光は結像レンズ41を透過してハーフミラー42によ
り分割され、その一方は空間フィルタ43により軸ズレ光
R ′のみが抽出され、光束LT の範囲内の表面の映像
が第1のCCDセンサ(以下単にCCDという)44に結
像され、その走査により受光信号I1 が出力される。ま
た、分割された他方は空間フィルタ45により正反射光L
R のみが抽出され、やはり同様な表面の映像が第2のC
CD46に結像され、受光信号I2が出力される。なお、
第2のCCD46は、山形突起2により軸ズレしたため正
反射光LR の強度が低下するので、この低下により埋没
異物pが検出される。このように第1と第1のCCD4
4,46 の併用により、埋没異物のみでなく、前記した付
着異物p′に対しても検出感度が向上されている。
FIG. 7 shows an embodiment of the above-mentioned foreign matter detecting optical system. In the optical system, the light projecting system 3 and the light receiving system 4 are symmetrically arranged at a narrow angle with respect to the perpendicular C of the color filter 1, and the white light from the light source 31 of the light projecting system 3 is slit by the light projecting lens 32 and the slit.
33, for example, the width W is about 30 mm and the thickness d is about 50
A light beam L T of μm is projected on the surface of the color filter 1 mounted on the mounting table 5. In the light receiving system 4, the reflected light on the surface passes through the image forming lens 41 and is split by the half mirror 42, and one of them is extracted by the spatial filter 43 only the axially shifted light L R ′ within the range of the light flux L T. An image of the surface of is imaged on a first CCD sensor (hereinafter simply referred to as CCD) 44, and a light reception signal I 1 is output by the scanning. In addition, the other divided light is reflected regularly by the spatial filter 45.
Only R is extracted, and the same surface image is the second C
An image is formed on the CD 46, and the received light signal I 2 is output. In addition,
Since the second CCD 46 is off-axis by the chevron projection 2, the intensity of the specularly reflected light L R is reduced, and the embedded foreign matter p is detected by this reduction. Thus, the first and first CCD4
The combined use of 4,46 improves the detection sensitivity not only for the embedded foreign matter but also for the above-mentioned attached foreign matter p '.

【0006】図8(a) により、上記の異物検出光学系に
おけるカラーフィルタ1の検査手順を説明する。カラー
フィルタ1の表面はX方向に、光束LT の幅Wに対応し
た複数の領域Sに分割され、領域Sに対して投射された
光束LT の反射光が、それぞれ第1と第2のCCD44,4
6 に結像されて検査される。XY移動機構5a により、
カラーフィルタ1をY方向に光束LT の厚さdづつ順次
に移動し、各Y位置に対する検査がなされ、この領域S
の検査が終了すると、次の領域に順次に移動してカラー
フィルタ1の全面が検査される。図8(b) は各CCD4
4,46 の受光信号I1,I2 に生ずる異物pのパルスを例
示するもので、いま、領域S中に埋没異物(以下単に異
物という)pa,pb があるとし、例えば、異物pa が第
1のCCD44に結像されたとすると、そのパルスpa
パターン波形iの上方に突出するので、これが閾値La
により検出される。また、異物pb が第2のCCD46に
結像されたとすると、そのパルスpb はパターン波形i
の下方に突出し、これが閾値Lb により検出される。各
異物はその検出とともに、その波高値が求められ、この
波高値はデータ処理部において異物の大きさに換算され
る。
A procedure for inspecting the color filter 1 in the above-mentioned foreign matter detecting optical system will be described with reference to FIG. The surface of the color filter 1 in the X direction, is divided into a plurality of areas S corresponding to the width W of the light beam L T, the reflected light of the projected light beam L T relative area S, the first and second, respectively CCD44,4
Imaged on 6 and inspected. By the XY movement mechanism 5a,
The color filter 1 is sequentially moved in the Y direction by the thickness d of the light flux L T , and the inspection is performed for each Y position.
When the inspection is completed, the entire area of the color filter 1 is inspected by sequentially moving to the next area. Figure 8 (b) shows each CCD4
The pulse of the foreign matter p generated in the light receiving signals I 1 and I 2 of 4,46 is illustrated, and it is assumed that there are buried foreign matter (hereinafter simply referred to as foreign matter) p a and p b in the region S. If a is imaged on the first CCD 44, the pulse p a thereof projects above the pattern waveform i, and this is the threshold L a.
Detected by. If the foreign matter p b is imaged on the second CCD 46, its pulse p b is the pattern waveform i.
Below, which is detected by the threshold value L b . The crest value of each foreign substance is determined together with its detection, and the crest value is converted into the size of the foreign substance in the data processing unit.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】さて、上記の各CCD
44,46 の受光信号I1,I2 は領域S内でレベルが緩慢に
変化する。その理由は、光束LT の強度分布が必ずしも
一様でなく、また結像レンズ41には光軸に対して周辺の
明るさが低下する特性があることに起因する。図9はレ
ベルが緩慢に変化した受光信号の例を示し、(イ) に示す
信号I1 の場合は、パターン波形iが領域Sの両端を裾
として上方に湾曲しており、その頂上付近に異物パルス
a が上方に突出している。また(ロ) の信号I2 のパタ
ーン波形iは同一であるが、異物パルスpb は反対に下
方に突出している。このようにレベルが変化する受光信
号を、固定された一定の閾値で検出すると異物の検出ミ
スが生じ、たとえ検出されたとしても波高値が正確でな
いため、換算された異物の大きさにはエラーが生ずる欠
点がある。これに対して、閾値を一定値とせずパターン
波形iのレベル変化に追従させれば、上記の欠点を解消
することができる。ただし、受光信号に異物パルスが含
まれていると、このパルスが邪魔して追従が不正確とな
って正しい閾値がえられない。そこで異物パルスを回避
する手段が必要である。この発明は以上の考えにより、
異物パルスを回避する手段を有し、各画素のパターン波
形iのレベル変化に追従して適切な閾値を設定し、カラ
ーフィルタの異物をミスなく検出するとともに、その大
きさを示す正確な波高値データを出力する異物検出回路
を提供することを目的とする。
The above-mentioned CCDs will be described below.
The levels of the light reception signals I 1 and I 2 of 44 and 46 change slowly in the region S. The reason is that the intensity distribution of the light flux L T is not always uniform, and the imaging lens 41 has a characteristic that the peripheral brightness is lowered with respect to the optical axis. FIG. 9 shows an example of the received light signal whose level changes slowly. In the case of the signal I 1 shown in (a), the pattern waveform i is curved upward with the both ends of the region S as the hem, and near the top thereof. The foreign matter pulse p a projects upward. The pattern waveform i of the signal I 2 in (b) is the same, but the foreign matter pulse p b is projected downward in the opposite direction. If a light receiving signal whose level changes in this way is detected with a fixed fixed threshold value, a foreign object detection error will occur, and even if it is detected, the peak value will not be accurate, so there will be an error in the converted foreign object size. Has a drawback. On the other hand, if the threshold value is not set to a constant value and the level change of the pattern waveform i is followed, the above-mentioned drawback can be solved. However, if the received light signal contains a foreign substance pulse, the pulse interferes and inaccurate tracking makes it impossible to obtain a correct threshold value. Therefore, a means for avoiding the foreign matter pulse is necessary. This invention is based on the above idea.
It has a means for avoiding foreign matter pulses, sets an appropriate threshold value by following the level change of the pattern waveform i of each pixel, detects foreign matter on the color filter without error, and has an accurate crest value indicating its magnitude. An object is to provide a foreign matter detection circuit that outputs data.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明はカラーフィル
タの異物検出回路であって、前記の異物検出受光系の、
第1および第2のCCDセンサの受光信号がそれぞれ入
力する第1および第2の異物検出部と、各異物検出部に
対してそれぞれ、領域S内における各受光信号を、適当
な長さの区間sに区分する区分信号Ts を供給する区分
信号発生回路、および異物の検出閾値Ls に対する基準
値Kを供給する基準値設定回路とよりなる。第1または
第2の異物検出部は、区分信号Ts により区分された任
意の区間sn の受光信号に含まれる、各画素によるパタ
ーン波形より、最大または最小の波高値を選択して出力
する波高値選択部と、選択された各波高値に対して基準
値Kを加算または減算し、次位の区間s(n+1) に対する
閾値Ls(n+1)を作成し、閾値Ls(n+1)と区間s(n+1) の
受光信号とを比較し、異物パルスが検出されたとき異物
検出信号Rを出力する検出信号部と、入力した受光信号
と選択された各波高値との差分を算出し、異物検出信号
Rの出力時点における差分を、異物パルスの波高値Hp
として出力する波高値算出部、ならびに、波高値選択部
の出力側に設けられ、異物検出信号Rにより区分信号T
s を阻止し、閾値Ls の更新を一時停止する区分信号阻
止部とにより構成される。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a foreign matter detection circuit for a color filter, comprising:
The first and second foreign matter detectors to which the light-reception signals of the first and second CCD sensors are respectively input, and the respective light-reception signals in the area S to the respective foreign matter detectors are divided into sections of appropriate lengths. It comprises a classification signal generation circuit for supplying a classification signal T s for classifying into s , and a reference value setting circuit for supplying a reference value K for the detection threshold value L s of foreign matter. The first or second foreign matter detection unit selects and outputs the maximum or minimum crest value from the pattern waveform of each pixel included in the received light signal of the arbitrary section s n divided by the division signal T s. A reference value K is added to or subtracted from the peak value selection unit and each selected peak value to create a threshold value L s (n + 1) for the next section s (n + 1) and a threshold value L s. (n + 1) is compared with the light receiving signal in the section s (n + 1), and a detection signal unit that outputs a foreign material detection signal R when a foreign material pulse is detected, and the input light receiving signal and each selected wave The difference from the high value is calculated, and the difference at the output time of the foreign matter detection signal R is calculated as the peak value H p of the foreign matter pulse.
Is provided on the output side of the crest value calculating section and the crest value selecting section, and outputs the sorting signal T according to the foreign object detection signal R.
prevents s, constituted by a division signal blocking portion to suspend the updating of the threshold value L s.

【0009】[0009]

【作用】上記の異物検出回路の第1または第2の異物検
出部においては、各波高値選択部に入力した第1および
第2のCCDセンサよりの受光信号は、区分信号発生回
路よりの区分信号Ts により適当な長さの区間sに区分
され、任意の区間sn の受光信号に含まれる各画素によ
るパターン波形より、最大または最小の波高値が選択さ
れ出力される。各検出信号部においては、選択された各
波高値に対して、基準設定回路より供給される基準値K
が加算または減算され、次位の区間s(n+1) に対する閾
値Ls(n+1)が作成され、この閾値と区間s(n+1) の受光
信号とが比較され、異物が検出されたとき異物検出信号
Rが出力される。一方、各波高値算出部においては、入
力した受光信号と選択された各波高値との差分がそれぞ
れ逐次に算出され、異物検出信号Rが出力された時点で
は、この差分が異物パルスの波高値Hp を示すので、こ
れが出力される。さらに、各区分信号阻止部において
は、異物検出信号Rにより区分信号Ts が阻止されるの
で、閾値の更新が一時停止され、区間s(n+1) に対する
閾値Ls(n+1)が次の区間s(n+2) に適用される。これに
より、異物パルスによる閾値の変化が回避され、閾値L
s がパターン波形に正しく追従するので、異物パルスの
検出が良好になされるとともに、その正確な波高値Hp
が出力される。以上において、区分信号Ts の長さを領
域Sの幅に比べて小さく、例えば数十分の1とすれば、
隣接した区間sにおけるパターン波形iのレベル変化は
微小となるので、上記のように閾値Ls を次またはその
次の区間sに適用しても異物の検出ミスや、検出された
異物の大きさにエラーが生じないものである。
In the first or second foreign matter detecting section of the foreign matter detecting circuit described above, the light receiving signals from the first and second CCD sensors inputted to the respective peak value selecting sections are classified by the dividing signal generating circuit. The signal T s is divided into sections of appropriate length s, and the maximum or minimum peak value is selected and output from the pattern waveform of each pixel included in the light receiving signal of an arbitrary section s n . In each detection signal section, for each selected peak value, the reference value K supplied from the reference setting circuit
Is added or subtracted to create a threshold value L s (n + 1) for the next section s (n + 1), and this threshold value is compared with the received light signal in the section s (n + 1) to detect a foreign substance. When this is done, the foreign matter detection signal R is output. On the other hand, in each crest value calculation unit, the difference between the received light receiving signal and each selected crest value is sequentially calculated, and at the time when the foreign matter detection signal R is output, this difference is the crest value of the foreign matter pulse. This is output because it indicates H p . Further, in each section signal blocking unit, since the section signal T s is blocked by the foreign object detection signal R, the updating of the threshold value is temporarily stopped, and the threshold value L s (n + 1) for the section s (n + 1) is set. It applies to the next interval s (n + 2). As a result, the threshold value change due to the foreign matter pulse is avoided, and the threshold value L
Since s correctly follows the pattern waveform, the foreign matter pulse can be detected well, and its accurate peak value H p
Is output. In the above, if the length of the divided signal T s is smaller than the width of the region S, and is, for example, several tens of minutes,
Since the level change of the pattern waveform i in the adjacent section s becomes minute, even if the threshold value L s is applied to the next section s or the next section s as described above, a foreign matter detection error or the size of the detected foreign matter is detected. There is no error.

【0010】[0010]

【実施例】図1は、この発明の一実施例における異物検
出回路10のブロック構成を、図2は図1の第1の異物
検出部6Aのブロック構成をそれぞれ示し、図3は異物
検出部6Aの異物検出動作の説明図である。図1 に示す
異物検出回路10は、第1および第2の異物検出部6
A,6Bと、領域Sの幅を適切な間隔に区分する区分信
号Ts を発生し、各異物検出部に供給する区分信号発生
回路7、および、異物検出閾値Ls に対する基準値Kを
設定し、これを各異物検出部に供給する基準値設定回路
8よりなる。各異物検出部6A,6Bの出力側はデータ
処理部9に接続される。図2に示す異物検出部6Aは、
比較回路611 、OR回路612 およびラッチ回路613 より
なる波高値選択部61と、AND回路621 、ラッチ回路62
2 および位相反転器632 よりなる区分信号阻止部62と、
加算回路631 と比較回路632 よりなる検出信号部63、な
らびに、差分回路641 とラッチ回路642 よりなる波高値
算出部64とにより構成される。なお、図示を省略するが
第2の異物検出部6Bの構成も、第1のそれとほぼ同一
である。以下、図2と図3により第1の異物検出部6A
について説明する。
1 is a block diagram of a foreign matter detecting circuit 10 according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of a first foreign matter detecting section 6A in FIG. 1, and FIG. 3 is a foreign matter detecting section. It is explanatory drawing of 6 A of foreign substance detection operations. The foreign matter detection circuit 10 shown in FIG. 1 includes the first and second foreign matter detection units 6
A, 6B, a division signal T s for dividing the width of the region S into appropriate intervals, and a division signal generation circuit 7 for supplying to each foreign matter detection unit, and a reference value K for the foreign matter detection threshold L s are set. The reference value setting circuit 8 supplies this to each foreign matter detecting section. The output side of each foreign matter detector 6A, 6B is connected to the data processor 9. The foreign matter detection unit 6A shown in FIG.
A peak value selection unit 61 including a comparison circuit 611, an OR circuit 612, and a latch circuit 613, an AND circuit 621, and a latch circuit 62.
2 and the phase inverter 632 and the divided signal blocker 62,
The detection signal unit 63 includes an adder circuit 631 and a comparison circuit 632, and the peak value calculation unit 64 includes a difference circuit 641 and a latch circuit 642. Although not shown, the configuration of the second foreign matter detection unit 6B is almost the same as that of the first foreign matter detection unit 6B. Hereinafter, referring to FIGS. 2 and 3, the first foreign matter detection unit 6A
Will be described.

【0011】図2において、前記の第1のCCD44の受
光信号は、波高値選択部61の比較回路611 に逐次に入力
する。一方、区分信号発生回路7より供給される区分信
号Ts がOR回路611 を経てラッチ回路613 をトリガ
し、図3に示す任意の区間snのパターン波形iの最初
の波形ia の波高値(以下波高値を省略)がラッチさ
れ、これが比較回路611 に転送されて次の波形ib と比
較される。ia <ib のとき選択信号Qが出力され、O
R回路611 を経てラッチ回路613 をトリガして波形ic
がラッチされ、波形ib とic が比較される。このよう
な比較選択が各波形ごとに繰り返されて、区間sn にお
ける最大の波形imax がラッチ回路613 にラッチされ
る。波形imax は、波高値阻止部62のAND回路621 に
供給された区分信号Ts により、そのラッチ回路622 に
ラッチされ、ついで、検出信号部63の加算回路631 に転
送され、基準値設定回路8より供給される基準値Kが加
算されて、区間s(n+1) に対する閾値Ls(n+1)が作成さ
れ、これが比較回路632 に与えられる。なお、基準値K
を加算する理由は、波形imax の波高値をそのまま閾値
s とするとパターン波形i自身が検出されるので、こ
れを防ぐためになされる。ただし、基準値Kが過大であ
ると波高値の小さい異物パルスを見逃す恐れがあり、過
小のときはパターン波形iが変化すると検出されるの
で、これらを勘案して適切な値とする。比較回路632 に
おいては、閾値Ls(n+1)と次位の区間s(n+1) の受光信
号I1が比較され、I1 >Ls(n+1)のときは異物パルス
pが検出されたとして異物検出信号Rが出力される。一
方、波形imax と信号I1 は波高値算出部64の差分回路
641 に入力し、両者の差分が算出される。上記の異物検
出信号Rが出力されたときは、この差分が異物パルスp
の波高値Hp を正確に示すので、信号Rをトリガとして
ラッチ回路642 にラッチされる。ただし異物検出信号R
が出力されないときは、差分は無意味であるので無視さ
れる。次に区分信号阻止部62であるが、区間s(n+1) の
受光信号I1 には異物パルスpがあるため、この区間の
最大値はpの波高値となり、区間s(n+2) に対する正し
い閾値Ls がえられない。これに対して、異物検出信号
Rを位相反転器65により位相反転してAND回路623 に
与え、区分信号Ts の入力を阻止し、ラッチ回路622 に
対する区間s(n+1) のパルスpのラッチが停止される。
従って、閾値Ls(n+1)が更新されず区間s(n+2) に対し
て適用され、閾値Ls に対する異物パルスpの影響が回
避される。以上により検出された異物検出信号Rとラッ
チされた波高値Hp のデータは、ともにデータ処理部9
に転送され、波高値Hp が異物の大きさに換算されて適
当な出力装置に出力される。
In FIG. 2, the received light signals of the first CCD 44 are sequentially input to the comparison circuit 611 of the peak value selection unit 61. On the other hand, the division signal T s supplied from the division signal generation circuit 7 triggers the latch circuit 613 via the OR circuit 611, and the peak value of the first waveform i a of the pattern waveform i in the arbitrary section s n shown in FIG. (Hereinafter, the peak value is omitted) is latched, transferred to the comparison circuit 611 and compared with the next waveform i b . When i a <i b, the selection signal Q is output and O
Trigger the latch circuit 613 through the R circuit 611 to generate the waveform i c
Are latched and the waveforms i b and i c are compared. Such comparison selection is repeated for each waveform, the maximum of the waveform i max in the interval s n is latched by the latch circuit 613. The waveform i max is latched by the latch circuit 622 by the division signal T s supplied to the AND circuit 621 of the peak value blocking unit 62, and then transferred to the adder circuit 631 of the detection signal unit 63, and the reference value setting circuit 631. The reference value K supplied from 8 is added to create a threshold value L s (n + 1) for the section s (n + 1), which is given to the comparison circuit 632. The reference value K
Is added to prevent the pattern waveform i itself from being detected when the peak value of the waveform i max is used as the threshold value L s as it is. However, if the reference value K is too large, there is a risk of missing a foreign matter pulse having a small crest value, and if the reference value K is too small, it is detected that the pattern waveform i changes. In the comparison circuit 632, the threshold value L s (n + 1) is compared with the received light signal I 1 in the next section s (n + 1), and when I 1 > L s (n + 1), the foreign matter pulse p Is detected, the foreign matter detection signal R is output. On the other hand, the waveform i max and the signal I 1 are the difference circuit of the peak value calculation unit 64.
Input into 641 and the difference between the two is calculated. When the foreign matter detection signal R is output, this difference is the foreign matter pulse p.
Since the peak value H p of the signal is accurately indicated, it is latched in the latch circuit 642 with the signal R as a trigger. However, the foreign matter detection signal R
If is not output, the difference is meaningless and is ignored. Next, regarding the division signal blocking unit 62, since the light receiving signal I 1 in the section s (n + 1) has the foreign matter pulse p, the maximum value of this section becomes the peak value of p, and the section s (n + 2) ), The correct threshold L s cannot be obtained. On the other hand, the foreign matter detection signal R is phase-inverted by the phase inverter 65 and applied to the AND circuit 623 to block the input of the division signal T s , and the pulse p of the section s (n + 1) of the pulse s (n + 1) to the latch circuit 622 is blocked. The latch is stopped.
Therefore, the threshold L s (n + 1) is not updated and is applied to the section s (n + 2), and the influence of the foreign matter pulse p on the threshold L s is avoided. The foreign object detection signal R detected as described above and the latched peak value H p data are both data processing unit 9
And the peak value H p is converted into the size of the foreign matter and output to an appropriate output device.

【0012】上記は第1の異物検出部6Aの説明である
が、第2の異物検出部6Bは次の点が異なる。すなわ
ち、異物検出部6Bにおいては、検出すべき異物パルス
pが下方に突出しているので、波高値選択部61の比較回
路611 による比較選択は、上記と逆にia >ib のとき
選択信号Qが出力され、ラッチ回路613 には波高値が最
小の波形imin がラッチされる。また、加算回路631 の
代わりに減算回路を使用し、波形imin より基準値Kを
差し引いて閾値Ls が作成されるもので、他の部分の動
作は前記と同様である。
The above description is for the first foreign matter detection unit 6A, but the second foreign matter detection unit 6B is different in the following points. That is, in the foreign matter detection unit 6B, since the foreign matter pulse p to be detected is projected downward, the comparison selection by the comparison circuit 611 of the peak value selection unit 61 is the selection signal when i a > i b contrary to the above. Q is output and the latch circuit 613 latches the waveform i min having the minimum peak value. Further, by using a subtraction circuit in place of the adder circuit 631, in which the threshold L s is created by subtracting the reference value K from the waveform i min, the operation of other portions are the same as those described above.

【0013】[0013]

【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明によるカ
ラーフィルタの異物検出回路においては、異物パルスの
影響を回避して、各画素のパターン波形のレベル変化に
正しく追従する閾値Ls が設定されて異物がミスなく検
出され、異物検出信号Rとともに、異物パルスの正確な
波高値Hp のデータがえられるもので、カラー液晶パネ
ル用のカラーフィルタ検査の信頼性が向上される効果に
は大きいものがある。
As described above, in the foreign substance detecting circuit for a color filter according to the present invention, the threshold L s is set so as to avoid the influence of the foreign substance pulse and correctly follow the level change of the pattern waveform of each pixel. The foreign matter is detected without any mistake, and the accurate crest value H p of the foreign matter pulse is obtained together with the foreign matter detection signal R, and the effect of improving the reliability of the color filter inspection for the color liquid crystal panel is great. There is something.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の一実施例における異物検出回路1
0のブロック構成図を示す。
FIG. 1 is a foreign matter detection circuit 1 according to an embodiment of the present invention.
The block block diagram of 0 is shown.

【図2】 図1の第1の異物検出部6Aのブロック構成
図を示す。
FIG. 2 shows a block configuration diagram of a first foreign matter detection unit 6A in FIG.

【図3】 異物検出部6Aの異物検出動作の説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a foreign matter detection operation of a foreign matter detection unit 6A.

【図4】 カラーフィルタ1の一例を示し、(a) は3原
色の画素13の説明図、(b) はカラーフィルタ1の断面図
である。
4A and 4B show an example of a color filter 1, FIG. 4A is an explanatory view of a pixel 13 of three primary colors, and FIG. 4B is a sectional view of the color filter 1.

【図5】 カラーフィルタ1に存在する異物pの説明図
である。
5 is an explanatory diagram of a foreign substance p existing in the color filter 1. FIG.

【図6】 特許出願にかかる異物検出光学系の検出原理
の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the detection principle of the foreign matter detection optical system according to the patent application.

【図7】 特許出願にかかる異物検出光学系の一実施例
を示す。
FIG. 7 shows an example of a foreign matter detection optical system according to a patent application.

【図8】 (a) は図7の異物検出光学系におけるカラー
フィルタ1の検査手順の説明図、(b) は受光信号に含ま
れる各画素のパターン波形iと、異物pa,pb のパルス
に対する閾値La,Lb の説明図である。
8 (a) is an explanatory view of a test procedure of the color filter 1 in the foreign matter detecting optical system in FIG. 7, (b) is a pattern waveform i of each pixel included in the received signal, the foreign matter p a, the p b threshold L a with respect to the pulse, an illustration of L b.

【図9】 受光信号I1,I2 のレベル変化の例を示す波
形図である。
FIG. 9 is a waveform diagram showing an example of level changes of the received light signals I 1 and I 2 .

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…カラーフィルタ、13…画素、2…山形突起、3…投
光系、31…光源、4…受光系、41…結像レンズ、42…ハ
ーフミラー、43,45 …空間フィルタ、44…第1のCCD
センサ、46…第2のCCDセンサ、6A…第1の異物検
出部、6B…第2の異物検出部、61…波高値選択部、61
1 …比較回路、612 …OR回路、613 …ラッチ回路、62
…区分信号阻止部、621 …AND回路、 622 …ラッチ
回路、623 …位相反転器、63…検出信号部631 …加算回
路、632 …比較回路、64…波高値算出部、641 …差分回
路、642 …ラッチ回路、7…区分信号発生回路、8…基
準値設定回路、9…データ処理部、10…この発明の異
物検出回路、I1,I2 …第1と第2のCCDセンサの受
光信号、i…画素のパターン波形、imax,imin …区間
s内のパターン波形iの最大値、最小値、p…異物また
はそのパルス、Ts …区分信号、Q…選択信号、K…基
準値、R…異物検出信号、Hp …波高値データ。
1 ... Color filter, 13 ... Pixel, 2 ... Angle projection, 3 ... Projection system, 31 ... Light source, 4 ... Light receiving system, 41 ... Imaging lens, 42 ... Half mirror, 43, 45 ... Spatial filter, 44 ... 1 CCD
Sensor, 46 ... Second CCD sensor, 6A ... First foreign matter detecting section, 6B ... Second foreign matter detecting section, 61 ... Crest value selecting section, 61
1 ... Comparison circuit, 612 ... OR circuit, 613 ... Latch circuit, 62
... Classification signal blocking unit, 621 ... AND circuit, 622 ... Latch circuit, 623 ... Phase inverter, 63 ... Detection signal unit 631 ... Addition circuit, 632 ... Comparison circuit, 64 ... Crest value calculation unit, 641 ... Difference circuit, 642 ... Latch circuit, 7 ... Differential signal generating circuit, 8 ... Reference value setting circuit, 9 ... Data processing unit, 10 ... Foreign matter detection circuit of the present invention, I 1 , I 2 ... Light receiving signals of first and second CCD sensors , I ... Pixel pattern waveform, i max , imin ... Maximum value, minimum value of pattern waveform i in section s, p ... Foreign matter or its pulse, T s ... Classification signal, Q ... Selection signal, K ... Reference value , R ... Foreign matter detection signal, Hp ... Crest value data.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 3原色の画素が配列された液晶用カラー
フィルタの表面を複数の領域Sに分割し、該領域Sに対
して白色光束を投射する投光系と、該領域Sの反射光を
ハーフミラーにより分割し、該分割された一方の正反射
光を除去して軸ズレ反射光を受光する第1のCCDセン
サ、および該分割された他方の正反射光のみを受光する
第2のCCDセンサよりなる異物検出受光系を具備し、
前記カラーフィルタの異物を検査する異物検査装置にお
いて、 前記第1および第2のCCDセンサの各受光信号がそれ
ぞれ入力する第1の異物検出部および第2の異物検出部
と、該各異物検出部に対してそれぞれ、前記領域Sの各
受光信号を、適当な長さの区間sに区分する区分信号T
s を供給する区分信号発生回路、および前記異物の検出
閾値Ls に対する基準値Kを供給する基準値設定回路と
よりなり、 前記第1の異物検出部または第2の異物検出部は、前記
区分信号Ts により区分された任意の区間sn の受光信
号に含まれる、前記各画素によるパターン波形より、最
大または最小の波高値を選択して出力する波高値選択部
と、該選択された各波高値に対して前記基準値Kを加算
または減算して次位の区間s(n+1) に対する閾値Ls(n+
1)を作成し、該閾値Ls(n+1)と該区間s(n+1) の受光信
号とを比較し、前記異物のパルスが検出されたとき異物
検出信号Rを出力する検出信号部と、入力した前記受光
信号と前記選択された各波高値との差分を算出し、前記
異物検出信号Rの出力時点における該差分を、前記異物
パルスの波高値Hp として出力する波高値算出部、なら
びに、前記波高値選択部の出力側に設けられ、前記異物
検出信号Rにより前記区分信号Ts を阻止し、前記閾値
s の更新を一時停止する区分信号阻止部とにより構成
されたことを特徴とする、カラーフィルタの異物検出回
路。
1. A light projecting system for dividing a surface of a liquid crystal color filter in which pixels of three primary colors are arranged into a plurality of regions S, and projecting a white light beam to the regions S, and reflected light of the regions S. Is divided by a half mirror, one of the divided specularly reflected lights is removed to receive the axially displaced reflected light, and the second CCD sensor to receive only the other specularly reflected light is divided. Equipped with a foreign matter detection light receiving system consisting of a CCD sensor,
A foreign matter inspection device for inspecting a foreign matter of the color filter, comprising: a first foreign matter detecting section and a second foreign matter detecting section to which respective light receiving signals of the first and second CCD sensors are inputted; and the respective foreign matter detecting sections. On the other hand, a division signal T for dividing each received light signal in the area S into a section s having an appropriate length.
division signal generating circuit for supplying a s, and more becomes a reference value setting circuit for supplying a reference value K for the detection threshold L s of the foreign substance, the first foreign object detector or the second foreign object detection section, said section A peak value selecting section that selects and outputs the maximum or minimum peak value from the pattern waveform of each pixel included in the light receiving signal of the arbitrary section s n divided by the signal T s , and each of the selected peak values. The reference value K is added to or subtracted from the peak value to obtain a threshold value L s (n +) for the next section s (n + 1).
1) is created, the threshold value L s (n + 1) is compared with the light receiving signal in the section s (n + 1), and a detection signal for outputting a foreign matter detection signal R when the pulse of the foreign matter is detected Section and a peak value calculation for calculating a difference between the received light receiving signal and each of the selected peak values and outputting the difference at the time of outputting the foreign object detection signal R as a peak value H p of the foreign object pulse. And a section signal blocking section which is provided on the output side of the peak value selecting section, blocks the section signal T s by the foreign object detection signal R, and temporarily stops the update of the threshold value L s . A foreign matter detection circuit for a color filter, comprising:
JP10980893A 1993-04-14 1993-04-14 Foreign matter detection circuit of color filter Pending JPH06300707A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10980893A JPH06300707A (en) 1993-04-14 1993-04-14 Foreign matter detection circuit of color filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10980893A JPH06300707A (en) 1993-04-14 1993-04-14 Foreign matter detection circuit of color filter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06300707A true JPH06300707A (en) 1994-10-28

Family

ID=14519729

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10980893A Pending JPH06300707A (en) 1993-04-14 1993-04-14 Foreign matter detection circuit of color filter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06300707A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016031302A (en) * 2014-07-29 2016-03-07 Nsウエスト株式会社 Inspection device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016031302A (en) * 2014-07-29 2016-03-07 Nsウエスト株式会社 Inspection device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5309222A (en) Surface undulation inspection apparatus
US6175645B1 (en) Optical inspection method and apparatus
US7295301B2 (en) Dual stage defect region identification and defect detection method and apparatus
JP3258385B2 (en) Optical board inspection system
US20080304734A1 (en) Alignment correction prio to image sampling in inspection systems
US20020037099A1 (en) Pattern inspection apparatus and pattern inspection method
JP3105702B2 (en) Optical defect inspection equipment
US6433353B2 (en) Method and apparatus for inspecting surface irregularities of transparent plate
TWI222690B (en) Sensitivity adjusting method for pattern inspection apparatus
US4123170A (en) Apparatus for detecting defects in patterns
JPH11271038A (en) Painting defect inspection device
JP3185599B2 (en) Surface defect inspection equipment
JP3519813B2 (en) Defect detection method and defect detection device
JPH0875542A (en) Method for measuring quantity of light for display pixel, and method and apparatus for inspecting display screen
JPH06300707A (en) Foreign matter detection circuit of color filter
JP2000146537A5 (en)
JPH0511257B2 (en)
JPH07128032A (en) Method and apparatus for inspecting surface waviness of plate-shaped material
KR100416497B1 (en) Pattern Inspection System
JP2653853B2 (en) Inspection method of periodic pattern
JPH0682381A (en) Foreign matter inspection device
JPH1130590A (en) Foreign matter and defect inspecting device, and manufacture of semiconductor device
JP3013693B2 (en) Defect detection method and device
JP2987007B2 (en) Foreign matter detection optical system of color filter
JP4657700B2 (en) Calibration method for measuring equipment