JPH06295856A - Ｈｅ圧力コントロール方法及び露光装置用圧力コントロール装置 - Google Patents
Ｈｅ圧力コントロール方法及び露光装置用圧力コントロール装置Info
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- JPH06295856A JPH06295856A JP5083296A JP8329693A JPH06295856A JP H06295856 A JPH06295856 A JP H06295856A JP 5083296 A JP5083296 A JP 5083296A JP 8329693 A JP8329693 A JP 8329693A JP H06295856 A JPH06295856 A JP H06295856A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ビームラインからマスクまでの間のみＨｅ雰
囲気にし、マルクをＨｅとのしきいとする方式におい
て、Ｈｅ側と大気側の圧力差を無くし、マスクの撓みを
抑える。 【構成】 Ｈｅチャンバ２６内にはＨｅ源４９からＨｅ
圧コントローラ３２によってＨｅが送られ、Ｈｅチャン
バ内圧ＰHeの圧力に保たれる。恒温チャンバ３０内には
圧縮機５０から空気圧コントローラ３４によって空気が
送られ、恒温チャンバ内圧Ｐinの圧力に保たれる。両者
の圧力を検出する第１及び第２の差圧センサ３６及び３
８はどちらも外気圧Ｐo との差圧ΔＰd を検出してい
る。したがって、両圧コントローラ３２及び３４のＰ
ref.HeとＰref.inとを等しく（Ｐref.He＝Ｐref.in＝Δ
Ｐ）設定すれば、ＰHe＝Ｐin＝Ｐo ＋ΔＰとなり、両チ
ャンバ２６及び３０の内圧力は等しくなる。
囲気にし、マルクをＨｅとのしきいとする方式におい
て、Ｈｅ側と大気側の圧力差を無くし、マスクの撓みを
抑える。 【構成】 Ｈｅチャンバ２６内にはＨｅ源４９からＨｅ
圧コントローラ３２によってＨｅが送られ、Ｈｅチャン
バ内圧ＰHeの圧力に保たれる。恒温チャンバ３０内には
圧縮機５０から空気圧コントローラ３４によって空気が
送られ、恒温チャンバ内圧Ｐinの圧力に保たれる。両者
の圧力を検出する第１及び第２の差圧センサ３６及び３
８はどちらも外気圧Ｐo との差圧ΔＰd を検出してい
る。したがって、両圧コントローラ３２及び３４のＰ
ref.HeとＰref.inとを等しく（Ｐref.He＝Ｐref.in＝Δ
Ｐ）設定すれば、ＰHe＝Ｐin＝Ｐo ＋ΔＰとなり、両チ
ャンバ２６及び３０の内圧力は等しくなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＳＲ（シンクロトロン
放射）Ｘ線露光におけるマスクの撓みを抑えるためのＨ
ｅチャンバ内の圧力コントロール方法に関するものであ
る。
放射）Ｘ線露光におけるマスクの撓みを抑えるためのＨ
ｅチャンバ内の圧力コントロール方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ＳＲＸ線露光装置（以下、ステッパと呼
ぶ）は、光源としてＳＲＸ線発生装置を使用したもので
ある。図２乃至図４に示されるように、ＳＲＸ線発生装
置（図示せず）から出射されたＳＲＸ線がビームライン
１０を介して露光位置であるマスク１２及びウエハ１４
へ導かれる。マスク１２はマスクステージ１６にマスク
チャック１８によって取り付けられている。マスク１２
は、例えば、メンブレン領域が２５ｍｍ角で厚さ２μｍ
である。ウエハ１４はウエハステージ２０に取り付けら
れている。ビームライン１０の末端にはベリリウム（Ｂ
ｅ）窓２２が取り付けられ、ここから露光位置へ向けて
ＳＲＸ線が出る。マスクステージ１６およびウエハステ
ージ２０は除振台２４上に搭載されている。
ぶ）は、光源としてＳＲＸ線発生装置を使用したもので
ある。図２乃至図４に示されるように、ＳＲＸ線発生装
置（図示せず）から出射されたＳＲＸ線がビームライン
１０を介して露光位置であるマスク１２及びウエハ１４
へ導かれる。マスク１２はマスクステージ１６にマスク
チャック１８によって取り付けられている。マスク１２
は、例えば、メンブレン領域が２５ｍｍ角で厚さ２μｍ
である。ウエハ１４はウエハステージ２０に取り付けら
れている。ビームライン１０の末端にはベリリウム（Ｂ
ｅ）窓２２が取り付けられ、ここから露光位置へ向けて
ＳＲＸ線が出る。マスクステージ１６およびウエハステ
ージ２０は除振台２４上に搭載されている。
【０００３】このような構造を有するステッパにおい
て、ＳＲＸ線が露光位置に達するまでの減衰を極力防ぐ
ために、ビームライン１０末端から露光位置までの間を
Ｘ線に対する減衰効果の小さいヘリウム（Ｈｅ）で満た
す必要がある。その際、Ｈｅの満たし方として以下の３
つの方法が考えられている。
て、ＳＲＸ線が露光位置に達するまでの減衰を極力防ぐ
ために、ビームライン１０末端から露光位置までの間を
Ｘ線に対する減衰効果の小さいヘリウム（Ｈｅ）で満た
す必要がある。その際、Ｈｅの満たし方として以下の３
つの方法が考えられている。
【０００４】図２に示すように、ステッパをＨｅチャ
ンバ２６ａで囲い、全体をＨｅ雰囲気にする。
ンバ２６ａで囲い、全体をＨｅ雰囲気にする。
【０００５】図３に示すように、ビームライン１０か
らマスク１２近傍までの間のみをＨｅチャンバ２６で囲
んでＨｅ雰囲気にし、マスク１２をＨｅと大気のしきい
にする。
らマスク１２近傍までの間のみをＨｅチャンバ２６で囲
んでＨｅ雰囲気にし、マスク１２をＨｅと大気のしきい
にする。
【０００６】図４に示すように、ビームライン１０か
らマスク１２近傍までの間をＨｅチャンバ２６ｄで囲ん
でＨｅ雰囲気にし、Ｈｅと大気を隔てるしきい窓（Ｈｅ
仕切窓）２８を別に設ける。
らマスク１２近傍までの間をＨｅチャンバ２６ｄで囲ん
でＨｅ雰囲気にし、Ｈｅと大気を隔てるしきい窓（Ｈｅ
仕切窓）２８を別に設ける。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記の方法は、マス
ク１２の撓みの発生に関しては大きな問題がないが、ウ
エハ１４の交換時にＨｅが漏れる等のウエハ１４の交換
がやっかいとなる問題がある。
ク１２の撓みの発生に関しては大きな問題がないが、ウ
エハ１４の交換時にＨｅが漏れる等のウエハ１４の交換
がやっかいとなる問題がある。
【０００８】また、上記の方法では、の方法と同様
にマスク１２の撓みの発生に関しては大きな問題がない
が、Ｈｅ仕切窓２８からマスク１２までの間でＸ線の減
衰が起きるという欠点と、Ｈｅによるマスク冷却効果が
期待できないという問題等がある。
にマスク１２の撓みの発生に関しては大きな問題がない
が、Ｈｅ仕切窓２８からマスク１２までの間でＸ線の減
衰が起きるという欠点と、Ｈｅによるマスク冷却効果が
期待できないという問題等がある。
【０００９】上記の方法では、及びの方法におけ
るような欠点が無いが、次に述べるような欠点がある。
Ｈｅチャンバ２６内にＨｅを満たすために、外気圧Ｐo
よりも若干高い圧力（Ｐo ＋ΔＰ）でＨｅチャンバ２６
にＨｅを供給する必要がある。この差圧ΔＰによって膜
厚１〜２μｍのマスクメンブレンが大気側に撓むという
問題がある。これに関連して、本発明者は内圧を一定値
で圧力コントロールしているときの内圧変動とメンブレ
ン中央部での撓み変動を計測した。これによると、圧力
コントロール中の内圧の安定性は０．１ｍｍＨ2 Ｏ前
後、撓み変動はメンブレン中央部で０．８μｍ前後であ
ることが分かった。マスク１２が撓むことによって露光
における転写誤差が発生し、また大気側に撓むのでマス
ク１２がウエハ１４と接触してマスク１２を破損する虞
がある。
るような欠点が無いが、次に述べるような欠点がある。
Ｈｅチャンバ２６内にＨｅを満たすために、外気圧Ｐo
よりも若干高い圧力（Ｐo ＋ΔＰ）でＨｅチャンバ２６
にＨｅを供給する必要がある。この差圧ΔＰによって膜
厚１〜２μｍのマスクメンブレンが大気側に撓むという
問題がある。これに関連して、本発明者は内圧を一定値
で圧力コントロールしているときの内圧変動とメンブレ
ン中央部での撓み変動を計測した。これによると、圧力
コントロール中の内圧の安定性は０．１ｍｍＨ2 Ｏ前
後、撓み変動はメンブレン中央部で０．８μｍ前後であ
ることが分かった。マスク１２が撓むことによって露光
における転写誤差が発生し、また大気側に撓むのでマス
ク１２がウエハ１４と接触してマスク１２を破損する虞
がある。
【００１０】したがって、本発明の目的は、上記の方
法において、Ｈｅ側と大気側との圧力差を無くし、マス
クの撓みを抑えることができるＨｅ圧力コントロール方
法を提供することにある。
法において、Ｈｅ側と大気側との圧力差を無くし、マス
クの撓みを抑えることができるＨｅ圧力コントロール方
法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明によるＨｅ圧力コ
ントロール方法は、マスクとウエハとを収容する恒温チ
ャンバと、この恒温チャンバ内に配置されて、Ｘ線のビ
ームラインからマスクまでの間のみＨｅを充填してマス
クがＨｅと恒温チャンバ内の空気とを隔てるしきい窓と
なるＨｅチャンバとを有する露光装置における、Ｈｅチ
ャンバ内のＨｅの圧力をコントロールする方法であっ
て、Ｈｅチャンバ内圧と恒温チャンバ内圧とをそれぞれ
別々にコントロールし、両者の圧力を等しく保つことに
よってマスクの撓みを抑えることを特徴とする。
ントロール方法は、マスクとウエハとを収容する恒温チ
ャンバと、この恒温チャンバ内に配置されて、Ｘ線のビ
ームラインからマスクまでの間のみＨｅを充填してマス
クがＨｅと恒温チャンバ内の空気とを隔てるしきい窓と
なるＨｅチャンバとを有する露光装置における、Ｈｅチ
ャンバ内のＨｅの圧力をコントロールする方法であっ
て、Ｈｅチャンバ内圧と恒温チャンバ内圧とをそれぞれ
別々にコントロールし、両者の圧力を等しく保つことに
よってマスクの撓みを抑えることを特徴とする。
【００１２】本発明による露光装置用圧力コントロール
装置は、マスクとウエハとを収容する恒温チャンバと、
この恒温チャンバ内に配置されて、Ｘ線のビームライン
からマスクまでの間のみＨｅを充填してマスクがＨｅと
恒温チャンバ内の空気とを隔てるしきい窓となるＨｅチ
ャンバとを有する露光装置における、Ｈｅチャンバ内の
Ｈｅの圧力と恒温チャンバ内の空気の圧力とをコントロ
ールする装置であって、恒温チャンバ外に配置されたＨ
ｅ源と、Ｈｅチャンバ内のＨｅの外気圧との差圧を検出
する第１の差圧センサと、恒温チャンバ外に配置され、
Ｈｅ源から供給されたＨｅを、第１の差圧センサで検出
された差圧が所定の指令値と等しくなるように、Ｈｅチ
ャンバに供給するＨｅ圧コントローラと、恒温チャンバ
外に配置された圧縮機と、恒温チャンバ内の空気の外気
圧との差圧を検出する第２の差圧センサと、恒温チャン
バ外に配置され、圧縮機から供給された圧縮空気を、第
２の差圧センサで検出された差圧が所定の指令値と等し
くなるように、恒温チャンバに供給する空気圧コントロ
ーラとを有することを特徴とする。
装置は、マスクとウエハとを収容する恒温チャンバと、
この恒温チャンバ内に配置されて、Ｘ線のビームライン
からマスクまでの間のみＨｅを充填してマスクがＨｅと
恒温チャンバ内の空気とを隔てるしきい窓となるＨｅチ
ャンバとを有する露光装置における、Ｈｅチャンバ内の
Ｈｅの圧力と恒温チャンバ内の空気の圧力とをコントロ
ールする装置であって、恒温チャンバ外に配置されたＨ
ｅ源と、Ｈｅチャンバ内のＨｅの外気圧との差圧を検出
する第１の差圧センサと、恒温チャンバ外に配置され、
Ｈｅ源から供給されたＨｅを、第１の差圧センサで検出
された差圧が所定の指令値と等しくなるように、Ｈｅチ
ャンバに供給するＨｅ圧コントローラと、恒温チャンバ
外に配置された圧縮機と、恒温チャンバ内の空気の外気
圧との差圧を検出する第２の差圧センサと、恒温チャン
バ外に配置され、圧縮機から供給された圧縮空気を、第
２の差圧センサで検出された差圧が所定の指令値と等し
くなるように、恒温チャンバに供給する空気圧コントロ
ーラとを有することを特徴とする。
【００１３】
【作用】Ｈｅチャンバ内にはＨｅ源からＨｅ圧コントロ
ーラによって、恒温チャンバ内には圧縮機から空気圧コ
ントローラによって、それぞれＨｅと空気が送られ、そ
れぞれＨｅチャンバ内圧ＰHe、恒温チャンバ内圧Ｐinの
圧力が保たれる。両者の圧力を検出する第１及び第２の
差圧センサはどちらも外気圧Ｐo との差圧ΔＰdを検出
している。
ーラによって、恒温チャンバ内には圧縮機から空気圧コ
ントローラによって、それぞれＨｅと空気が送られ、そ
れぞれＨｅチャンバ内圧ＰHe、恒温チャンバ内圧Ｐinの
圧力が保たれる。両者の圧力を検出する第１及び第２の
差圧センサはどちらも外気圧Ｐo との差圧ΔＰdを検出
している。
【００１４】したがって、両圧コントローラの指令値Ｐ
ref.HeとＰref.inとを等しく（Ｐre f.He＝Ｐref.in＝Δ
Ｐ）設定すれば、ＰHe＝Ｐin＝Ｐo ＋ΔＰとなり、両チ
ャンバの内圧力は等しくなる。これによって、Ｈｅと恒
温チャンバ内の大気とを仕切っているマスクの撓みを抑
えることができる。
ref.HeとＰref.inとを等しく（Ｐre f.He＝Ｐref.in＝Δ
Ｐ）設定すれば、ＰHe＝Ｐin＝Ｐo ＋ΔＰとなり、両チ
ャンバの内圧力は等しくなる。これによって、Ｈｅと恒
温チャンバ内の大気とを仕切っているマスクの撓みを抑
えることができる。
【００１５】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１６】図１を参照すると、本発明の一実施例によ
るＨｅ圧力コントロール方法が適用されるステッパは、
基本的には図３に示すものと同様の構成を有し、マスク
ステージ１６側とウエハステージ２０側に分けられてい
る。マスクステージ２９側のみＨｅチャンバ２６に覆わ
れている。Ｈｅチャンバ２６は、後述するように圧力コ
ントロールされたＨｅで充填されている。マスク１２が
Ｈｅチャンバ２６のしきい窓となっている。ステッパ全
体は恒温チャンバ（クリーンブース）３０内に設置され
ている。この恒温チャンバ３０は、周知の技術で温度・
湿度がコントロールされると共に、後述するように圧力
もコントロールされる。
るＨｅ圧力コントロール方法が適用されるステッパは、
基本的には図３に示すものと同様の構成を有し、マスク
ステージ１６側とウエハステージ２０側に分けられてい
る。マスクステージ２９側のみＨｅチャンバ２６に覆わ
れている。Ｈｅチャンバ２６は、後述するように圧力コ
ントロールされたＨｅで充填されている。マスク１２が
Ｈｅチャンバ２６のしきい窓となっている。ステッパ全
体は恒温チャンバ（クリーンブース）３０内に設置され
ている。この恒温チャンバ３０は、周知の技術で温度・
湿度がコントロールされると共に、後述するように圧力
もコントロールされる。
【００１７】Ｈｅチャンバ２６内のＨｅ及び恒温チャン
バ３０内の空気の圧力をコントロールするために、それ
ぞれ、Ｈｅ圧コントローラ３２及び空気圧コントローラ
３４が恒温チャンバ３０外に設置されている。また、両
チャンバ２６及び３０内のそれぞれの圧力を検出する第
１及び第２の差圧センサ３６及び３８は外気（恒温チャ
ンバ３０の外）の圧力Ｐo との圧力差ΔＰd1及びΔＰd2
を検出している。すなわち、両差圧センサ３６及び３８
ともリファレンス（基準）が外気圧Ｐo であり共通であ
る。
バ３０内の空気の圧力をコントロールするために、それ
ぞれ、Ｈｅ圧コントローラ３２及び空気圧コントローラ
３４が恒温チャンバ３０外に設置されている。また、両
チャンバ２６及び３０内のそれぞれの圧力を検出する第
１及び第２の差圧センサ３６及び３８は外気（恒温チャ
ンバ３０の外）の圧力Ｐo との圧力差ΔＰd1及びΔＰd2
を検出している。すなわち、両差圧センサ３６及び３８
ともリファレンス（基準）が外気圧Ｐo であり共通であ
る。
【００１８】Ｈｅ圧コントローラ３２にはＨｅ源４０か
らＨｅが圧力調整弁４２およびルブリケータ４４を介し
て供給される。また、Ｈｅ圧コントローラ３２には指令
値Ｐref が供給されると共に第１の差圧センサ３６から
圧力差ΔＰd1が供給される。また、Ｈｅ圧コントローラ
３２からはＨｅが供給用比例電磁弁４６を介してＨｅチ
ャンバ２６に供給され、Ｈｅチャンバ２６内のＨｅは排
気用比例電磁弁４８を介して排出される。Ｈｅ圧コント
ローラ３２は、圧力差ΔＰd1が指令値Ｐref.Heに等しく
なるように、供給用比例電磁弁４６及び排気用比例電磁
弁４８を制御する。
らＨｅが圧力調整弁４２およびルブリケータ４４を介し
て供給される。また、Ｈｅ圧コントローラ３２には指令
値Ｐref が供給されると共に第１の差圧センサ３６から
圧力差ΔＰd1が供給される。また、Ｈｅ圧コントローラ
３２からはＨｅが供給用比例電磁弁４６を介してＨｅチ
ャンバ２６に供給され、Ｈｅチャンバ２６内のＨｅは排
気用比例電磁弁４８を介して排出される。Ｈｅ圧コント
ローラ３２は、圧力差ΔＰd1が指令値Ｐref.Heに等しく
なるように、供給用比例電磁弁４６及び排気用比例電磁
弁４８を制御する。
【００１９】空気圧コントローラ３４には圧縮機５０か
ら圧縮空気が圧力調整弁５２およびルブリケータ５４を
介して供給される。また、空気圧コントローラ３４にも
指令値Ｐref が供給されると共に第２の差圧センサ３８
から圧力差ΔＰd2が供給される。また、空気圧コントロ
ーラ３４から圧縮空気が供給用比例電磁弁５６を介して
恒温チャンバ３０に供給され、恒温チャンバ３０内の空
気は排気用比例電磁弁５８を介して排気される。空気圧
コントローラ３４は、圧力差ΔＰd2が指令値Ｐref.inに
等しくなるように、供給用比例電磁弁５６及び排気用比
例電磁弁５８を制御する。
ら圧縮空気が圧力調整弁５２およびルブリケータ５４を
介して供給される。また、空気圧コントローラ３４にも
指令値Ｐref が供給されると共に第２の差圧センサ３８
から圧力差ΔＰd2が供給される。また、空気圧コントロ
ーラ３４から圧縮空気が供給用比例電磁弁５６を介して
恒温チャンバ３０に供給され、恒温チャンバ３０内の空
気は排気用比例電磁弁５８を介して排気される。空気圧
コントローラ３４は、圧力差ΔＰd2が指令値Ｐref.inに
等しくなるように、供給用比例電磁弁５６及び排気用比
例電磁弁５８を制御する。
【００２０】このような構成のもとで、両圧コントロー
ラ３２及び３４の指令値Ｐref.HeとＰref.inとを同じ値
（Ｐref.He＝Ｐref.in＝ΔＰ）に設定すれば、Ｈｅは外
気との差圧ΔＰによってＨｅチャンバ２６内に供給され
たうえで、Ｈｅチャンバ内圧ＰHeと恒温チャンバ内圧Ｐ
inとが等しくなり（ＰHe＝Ｐin＝Ｐo ＋ΔＰ）、しきい
となっているマスク１２は撓まないことになる。尚、Ｐ
ref は、例えば、１ｍｍＨ2 Ｏ±０．２ｍｍＨ2 Ｏの範
囲に設定される。
ラ３２及び３４の指令値Ｐref.HeとＰref.inとを同じ値
（Ｐref.He＝Ｐref.in＝ΔＰ）に設定すれば、Ｈｅは外
気との差圧ΔＰによってＨｅチャンバ２６内に供給され
たうえで、Ｈｅチャンバ内圧ＰHeと恒温チャンバ内圧Ｐ
inとが等しくなり（ＰHe＝Ｐin＝Ｐo ＋ΔＰ）、しきい
となっているマスク１２は撓まないことになる。尚、Ｐ
ref は、例えば、１ｍｍＨ2 Ｏ±０．２ｍｍＨ2 Ｏの範
囲に設定される。
【００２１】以上、本発明を露光装置に適用した場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定せず、例えば、
ある容器の中に空気以外の気体を満たしつつ外気との圧
力差を無くしたい場合にも適用できる。
ついて説明したが、本発明はこれに限定せず、例えば、
ある容器の中に空気以外の気体を満たしつつ外気との圧
力差を無くしたい場合にも適用できる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、Ｈｅチャ
ンバ内圧と恒温チャンバ内圧とをそれぞれ別々にコント
ロールし、両者の圧力を等しく保つことによって、回路
パターンの原画であるマスクの撓みを抑えることができ
る。これにより、次のような効果を奏する。
ンバ内圧と恒温チャンバ内圧とをそれぞれ別々にコント
ロールし、両者の圧力を等しく保つことによって、回路
パターンの原画であるマスクの撓みを抑えることができ
る。これにより、次のような効果を奏する。
【００２３】露光における転写誤差を抑えることがで
きる。
きる。
【００２４】ウエハ側との接触の可能性が低下し、マ
スク破損の危険性が減る。
スク破損の危険性が減る。
【図１】本発明の一実施例によるＨｅ圧力コントロール
方法が適用されるステッパの構成を示す概略図である。
方法が適用されるステッパの構成を示す概略図である。
【図２】第１の従来のＨｅ圧力コントロール方法が適用
されるステッパの構成を示す概略図である。
されるステッパの構成を示す概略図である。
【図３】第２の従来のＨｅ圧力コントロール方法が適用
されるステッパの構成を示す概略図である。
されるステッパの構成を示す概略図である。
【図４】第３の従来のＨｅ圧力コントロール方法が適用
されるステッパの構成を示す概略図である。
されるステッパの構成を示す概略図である。
【符号の説明】 １０ ビームライン １２ マスク １４ ウエハ １６ マスクステージ １８ マスクチャック ２０ ウエハステージ ２２ ベリリウム（Ｂｅ）窓 ２４ 除振台 ２６ Ｈｅチャンバ ３０ 恒温チャンバ ３２ Ｈｅ圧コントローラ ３４ 空気圧コントローラ ３６，３８ 差圧センサ ４０ Ｈｅ源 ４２ 圧力調整弁 ４４ ルブリケータ ４６ 供給用比例電磁弁 ４８ 排気用比例電磁弁 ５０ 圧縮機 ５２ 圧力調整弁 ５４ ルブリケータ ５６ 供給用比例電磁弁 ５８ 排気用比例電磁弁
Claims (2)
- 【請求項１】 マスクとウエハとを収容する恒温チャン
バと、該恒温チャンバ内に配置されて、Ｘ線のビームラ
インから前記マスクまでの間のみＨｅを充填して前記マ
スクがＨｅと前記恒温チャンバ内の空気とを隔てるしき
い窓となるＨｅチャンバとを有する露光装置における、
前記Ｈｅチャンバ内のＨｅの圧力をコントロールする方
法であって、 前記Ｈｅチャンバ内圧と前記恒温チャンバ内圧とをそれ
ぞれ別々にコントロールし、両者の圧力を等しく保つこ
とによって前記マスクの撓みを抑えることを特徴とする
Ｈｅ圧力コントロール方法。 - 【請求項２】 マスクとウエハとを収容する恒温チャン
バと、該恒温チャンバ内に配置されて、Ｘ線のビームラ
インから前記マスクまでの間のみＨｅを充填して前記マ
スクがＨｅと前記恒温チャンバ内の空気とを隔てるしき
い窓となるＨｅチャンバとを有する露光装置における、
前記Ｈｅチャンバ内のＨｅの圧力と前記恒温チャンバ内
の空気の圧力とをコントロールする装置であって、 前記恒温チャンバ外に配置されたＨｅ源と、 前記Ｈｅチャンバ内のＨｅの外気圧との差圧を検出する
第１の差圧センサと、 前記恒温チャンバ外に配置され、前記Ｈｅ源から供給さ
れたＨｅを、前記第１の差圧センサで検出された差圧が
所定の指令値と等しくなるように、前記Ｈｅチャンバに
供給するＨｅ圧コントローラと、 前記恒温チャンバ外に配置された圧縮機と、 前記恒温チャンバ内の空気の外気圧との差圧を検出する
第２の差圧センサと、 前記恒温チャンバ外に配置され、前記圧縮機から供給さ
れた圧縮空気を、前記第２の差圧センサで検出された差
圧が前記所定の指令値と等しくなるように、前記恒温チ
ャンバに供給する空気圧コントローラとを有することを
特徴とする露光装置用圧力コントロール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5083296A JPH06295856A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | Ｈｅ圧力コントロール方法及び露光装置用圧力コントロール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5083296A JPH06295856A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | Ｈｅ圧力コントロール方法及び露光装置用圧力コントロール装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06295856A true JPH06295856A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=13798443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5083296A Withdrawn JPH06295856A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | Ｈｅ圧力コントロール方法及び露光装置用圧力コントロール装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06295856A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19717363A1 (de) * | 1997-04-24 | 1998-10-29 | Siemens Ag | Herstellverfahren für eine Platinmetall-Struktur mittels Lift-off-Prozesses |
-
1993
- 1993-04-09 JP JP5083296A patent/JPH06295856A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19717363A1 (de) * | 1997-04-24 | 1998-10-29 | Siemens Ag | Herstellverfahren für eine Platinmetall-Struktur mittels Lift-off-Prozesses |
| DE19717363C2 (de) * | 1997-04-24 | 2001-09-06 | Siemens Ag | Herstellverfahren für eine Platinmetall-Struktur mittels eines Lift-off-Prozesses und Verwendung des Herstellverfahrens |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000704 |